JPH09505390A - 加圧反応炉システムとその操作方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 圧力容器（３）内の温度を正確に制御し、凝縮を最小にし、損失になる程温度が高い水準に達するのを防ぎ、一方同時に開始時中急速な加熱を与えるため、加圧炉システム（１）につき方法装置が提供される。内部容積部の温度を制御するため、例えば熱交換器（８）、制御弁（９）、送風機（１０）及びそれに関連した圧縮機（１１）を有する外側の導管（７）を通ってガスを通過させるか、或いは完全に燃焼室内で熱交換器、流量制御弁または同等のものを収容した一つ或いはそれ以上の一般に垂直に延在したガス通路内に循環ガスの自然対流を起こさせることにより、ガスが内部容積部の一部から他へ循環する。好ましくは、不活性ガスが、循環ガスとして提供される。炉への反応ガス供給が断たれたとき、不活性ガスは、また緊急停止状況に於いて使用してもよく、そして不活性ガスは炉に導入される。

Description

【発明の詳細な説明】 加圧反応炉システムとその操作方法 本発明の背景と摘要 本発明は、加圧反応炉システムとその操作方法に関する。詳しくは、本発明は 、加圧反応炉の圧力容器内で熱発生反応（例えば燃焼又はガス化）が加圧反応炉 内で行なわれる条件を制御し、且つ同時に圧力容器内の条件を制御する方法と装 置に関する。 米国特許第５，２５１，３４３号は加圧流動床ボイラー発電プラントを開示し 、圧縮機からボイラーへ圧縮空気を運ぶためのダクト内に配置した空気冷却器を 有する。発電プラントの圧力容器は、又圧力容器内に熱絶縁シールドを有する。 冷却器により冷却された圧縮空気は、絶縁シールドと圧力容器の内側壁との間の 容積部（volume）と、更にシールドと反応炉との間の容積部とに導入される。空 気は、最後にその中で燃焼のためボイラーへ供給される。しかし乍ら、この解決 法は、圧力容器内の温度の十分有効な制御を与えないし、ガスの流れと温度は、 常に反応炉内のプロセス条件、即ち燃焼に依存する。 圧力容器へ圧縮空気を導入する前の圧縮空気の冷却は、又刊行物ＷＯ／９１／ １７３８９と米国特許第４，８５２，３４５号に提案されてきた。両方の文書は 、圧縮空気を圧力容器へ続いて反応室へ導入する前に、圧縮空気の冷却を示す。 又、反応壁の温度を一定水準に維持するため、反応室システムの壁構造内で水 の流れを供給する事が提案されてきた。しかし乍ら、この水準（level）は、通 常高すぎるので蒸発を避けて温度の制御性を維持するため、水は非常に高い圧力 、例えば、５bar までにする必要がある。そのような高圧構造は、高価で、大き くなり、通常好ましくない。 先行技術システムは、依然として特に圧力容器に於ける状態の有効な制御に関 して重大な欠点を有する。圧力容器の全体のガス容積部（gas volume）を通して 、プロセスガス流を供給することによる圧力容器の冷却は、不十分な制御を与え る。 本発明の一つの観点によれば、加圧反応炉システムを操作する方法を与える。 反応炉システムは、プロセス容器組立体を含み、圧力容器内に囲まれた反応室と 、加圧ガスを反応システムへ運ぶ第１の導管と、圧力容器の内部と反応室組立体 の外部との間に定められた圧力容器内の内部容積部（inner volume）と、プロセ ス容器組立体から圧力容器の外側へ吐出ガスを運ぶ第２の導管を有する。この方 法は、（ａ）第１の導管からプロセス容器組立体へ大気圧以上（super atomosph eric）の圧力ガスの導入、（ｂ）プロセス容器組立体の反応室内での熱発生反応 の維持、（ｃ）第２の導管を通じてプロセス容器組立体と圧力容器からのガス排 気、（ｄ）内部の容積部の温度を制御するため、内部の容積部の一部から他へガ スを循環させる段階を含む。 段階（ｄ）は、好ましくは窒素又は炭酸ガスのような不活性ガス、を循環させ るか、又は代わりに空気を再循環させることにより実行される。又、好ましくは 段階（ｄ）の実行中、循環ガス流量を、（操作弁を自動的に制御するか、又はフ ァン或いは送風機の速度を制御することにより）更に制御する段階と、段階（ｄ ）の実行中、循環ガスの圧力を（循環ループに圧縮ガスを導入することにより） 増加させる更なる段階がある。加熱段階は、開始時実行してもよいし、それから 開始後循環ガスの加熱を終了し、その後段階（ｄ）の実行中循環ガスを冷却させ る更なる段階がある。 段階（ｄ）は、ガスを圧力容器の外側へ通すための最初の位置にある外側の容 積部からガスを引き出すことにより実行してもよく、圧力容器の外側の循環ガス の温度を変更し、圧力を上昇させ、且つ最初の位置から十分距離を隔てた第２の 位置にある内部の容積部へ循環ガスを戻す。更に、段階（ｄ）は、圧力容器の頂 部から循環ガスを引き出し、圧力容器の底部近くにガスを戻し（定常装作手順中 ）、或いは逆に（典型的には開始時中に）実行してもよい。代わりに、一つ又は それ以上の内側の一般に垂直な内部の容積部を持つ導管を設け、又内側の一般に 垂直な導管内で段階（ｄ）を実行することにより、圧力容器内の内部の容積部内 で本質的に完全に段階（ｄ）を実行してもよい。段階（ｄ）の実行中ガスは、自 然対流により内側の導管内で一般に上下に典型的に流れ、そしてガスの温度は、 ガスが内側の導管内を循環しているとき変更してもよい。 段階（ｃ）は、燃焼又は固体の流動床内の燃料のガス化によって典型的に実行 され、圧力容器組立体は、循環流動床炉を含み、そして段階（ａ）は、２〜１０ ０bar の圧力下でガスを導入するように典型的に実行される。またプロセス容器 組立体の休止に応じて又は前もって、ガスを内部のガス容積部から引き出し、燃 焼或いはその中でのガス化反応を停止するため循環流動床炉へ導入してもよい。 段階（ｄ）は、腐食性ガスの凝縮を防ぎ、また圧力容器とプロセス容器システ ム内で、好ましくない水準に温度が上昇するのを防ぐため、循環ガスの温度を変 えるように典型的に実行される。 本発明の別の観点によれば、加圧炉システムは、次の要素即ち圧力容器と、熱 発生反応が生じる反応室を有する圧力容器内のプロセス容器組立体と、圧力容器 の内側とプロセス容器組立体の外側との間に定められた内部のガス容積部と、圧 力容器の外側の大気圧以上の圧力ガス源と、ガス源からプロセス容器組立体内の 反応室へガスを運ぶ第１の導管と、反応室から圧力容器の外側へ吐出されたガス を運ぶ第２の導管と、内部の容積部の温度を制御するため内部の容積部の一部分 からほかへガスを循環させる手段とを含んで与えられる。 ガス循環装置は、ガス通路とガス通路内に収容されたガスを加熱したり或いは 冷却する手段を含んでもよい。ガス通路は、典型的には主に圧力容器の外側か、 或いは完全に圧力容器内に配置される。ガス通路が、圧力容器の主に外側に配置 された場合、圧力容器の第１の部分からガスを引き出し、そして最初の部分から 少し離れた圧力容器の第２の部分へ、少なくとも循環装置の所定した機能を十分 果すため、加熱或いは冷却後引き出したガスを再循環させるため、装置が設けら れている。 更に本システムは、ガス循環の流量を制御し、その循環を行なうためガスに作 用するように、圧力容器の外側の通路に配置したファンあるいは送風機を有する 。又圧縮機のような循環ガスの圧力を上昇させるための装置を設けてもよい。 プロセス容器組立体は、好ましくは循環流動床炉を含む。 好ましくは、制御弁を第１の導管に設けて、この制御弁は緊急の事態の場合、 流動床炉への反応ガスの供給を断つため自動的に操作してもよい。 循環装置は、完全に内部の容積部内に配置した一般に垂直に延在したガス通路 を含んでもよく、その底部分に近接した内側のガス容積部内にガスの入口或いは 出口用の開口部と、その頂部に近接した該通路からのガスの出口或いは入口用開 口部を有する。循環装置を通るガス流の方向は、循環ガスの冷却或いは加熱によ る対流によって決まる。ガス通路内で循環するガスの加熱或いは冷却用装置は、 ガス通路内に配置してもよく、そのような装置は、例えば通路の一部を定める管 状型熱交換器或いはプレート熱交換器を含む。ガス通路は、好ましくはガスが自 然対流によってそこを循環するように、寸法を決め方向をあわせて組立てる。 圧力逃し弁は、緊急状態下でそこから圧力を逃がすため圧力容器に接続して設 けてもよい。又好ましくは、第３の導管は、内部の容積部から圧力容器の外側に 導き、それから反応室戻り、それから流動床炉へ導いて設けてもよいし、又自動 操作弁は、圧力容器の外側で第３の導管に設けてもよい。又好ましくは、自動操 作弁を圧力容器の外側でガス通路内に配置する。 圧力容器の内部に配置した循環装置は、全くガス容積部の内側に配置され、又 頂部と底部で開いたガス通路を定めるため、圧力容器の垂直壁から隔っているが 近接して配置した一般に垂直に延在した板を含んでもよい。流量制御弁は通路の 底部近くに設けてもよい。複数個の内側の管、或いはガス通路を限定する板を圧 力容器内に設けてもよい。 ガスが、循環導管の一方の端、例えば圧力容器の上部に導入され、ガスが例え ば冷却される時、ガスは、ガス濃度に依る圧力差の結果下方へ流れる。駆動力と しての圧力差は、従ってガスの冷却から生じる。よって、ガスの循環を機械的送 風機がなくても設けてもよい。最少必要条件は、容器内の二つの場所の間に流れ の管路(channel)を設けて、循環ガスの温度を左右するように熱伝達装置を接続 することである。即ち、もしガスが加熱される場合は、流れ方向は上向きで、冷 却される場合は下向きとなる。 循環ガスとして不活性ガスを使用することが好ましく、それによりガスの流れ を定めた表面の腐食の危険を最小限に減らす。不活性ガスは、Ｎ₂，ＣＯ₂或いは 他の入手できる不活性ガス、又はガス混合物でよい。不活性ガスの使用は、別の 利点がある。即ち循環ガスとして不活性ガスを使うことにより緊急停止のため循 環を利用することが可能となる。もし加圧流動床炉システムが、加圧ガス化或い は燃料物質の燃焼に、例えば発電機を駆動するガスタービン圧縮機と関連して 使用される時、プロセス容器システム内の反応を直ちに停止する必要がある。タ ービン負荷の急激な消失によるような直ちに停止する理由がある時、安全のため 炉内の燃焼反応を直ちに止めることが不可欠である。これは、循環不活性ガスを 反応室へ導入することにより非常に簡単に完結してもよい。この目的のため、ガ ス循環システムは、炉に通じる導管を経由して不活性ガスを炉に導くため迅速接 続導管を設けてもよい。 図面の簡単な説明 第１図は、本発明による加圧流動床炉の典型的な実施例を表わす概略的側面図 であり、そして第２図は、本発明の加圧流動床炉の別の典型的な実施例を表わす 概略的側面図である。 図面の詳細な説明 本発明の好ましい実施例に従った加圧流動床炉システムＩが、第１図に説明さ れる。このシステムは、圧力容器３により囲まれたプロセス容器組立体２（好ま しくは反応室付き循環流動床炉）を有する。内部のガス容積部６は、容器３の内 側表面と組立体４の外部との間に形成される。プロセス容器システム２は、反応 室４と固体分離器及び更に処理するため生成（排気）ガスを反応室外へ運ぶ導管 １５を有する循環流動床炉として示される。生成ガスは、例えば燃焼と関連して 煙道ガスでよいし、或いはガス化が反応室で行なわれるときは、可燃性の生成ガ スでもよい。内部のガス容積部６は、容積部６内の一つの領域から別の領域へガ スを循環させる装置に接続する。循環装置は、循環ガスを運ぶための導管(condu it)７を含んでもよい。導管７は、必要なら循環ガスを冷却し、或いは加熱する 熱交換器８のようなガスの処理装置を設けてもよい。好ましくは、循環ガスの冷 却或いは加熱は、熱交換器８内の二次熱伝達媒体の温度を調節して実行し、もし 循環ガスを例えば加熱する要がある場合、より熱い熱伝達媒体が熱交換器に供給 される。 システムＩの開始中、必要な開始時間を減らすため、熱交換器８を循環ガスの 加熱に使ってもよい。システムＩの通常操作に於いて、ガス容積部６の温度は、 容器３の周囲壁の表面を所定の温度に維持するため、特にガス中の腐食性ガス化 合物のどんな有害な凝縮も避けて、同時に周囲の構造物（３と４）が損害を起こ す程高温に至る可能性を除去するため、制御される。 更に導管７は、自動制御弁９と循環ガスの流量を制御するための送風機或いは ファン１０を含む。 反応室４に於いて、ガス化、或いは燃料物質の燃焼のような反応が生じる。反 応のためのガスは、大気圧力以上の(例えば２−１００bar)反応ガス源１３（例 えば圧縮機）から導管１２を通って直接反応室４へ運ばれる。第１図の実施例に 於いて、循環ガスは反応ガスと混合しない。従って、反応室４内の反応のガス要 求条件と独立して循環ガスを選ぶことが可能である。例えば、ガス化工程に於い て、Ｎ₂を循環ガスとして（容積部６内で）使用し、空気／蒸気を反応ガスとし て（導管１２を通って導入）使用してもよい。 第１図に於いて、これらの特徴のみを示し、これは本発明の理解に必要である が、必要ならどんな既知の他の装置を利用してもよいと理解すべきである。更に 、唯一つの熱交換器を表わしているが、必要なら数個としてもよいし、循環ガス の方向は、各々応用の特殊な要求条件及び処理する機器、例えばファン、弁等の 順序に従って選択してもよい。第１図に於いて、明確な循環と反応ガスを設けた 場合、圧縮機のような加圧装置１１があり、それにより圧力容器３（容積部６） 内の静圧は、希望通り調節してもよい。又、圧縮機１１は、ガス容積部６へ新し いガスを導入するために使用してもよいし、又圧力を所定の水準に保つため圧力 逃し装置（例えば、圧力逃し弁）１６をまた設けてもよく、それによりガスを容 器３から吐出してもよい。 容積部６内の不活性ガスの利用は、本発明に従って好ましい。Ｎ₂のような不 活性ガスは、ガス容積部６内の材料のいかなる腐食の危険を減じ、別の効果を有 する。システムＩの通常運転中循環する該循環ガス、例えばＮ₂は、ガス容積部 ６内の条件、特に露点腐食を防ぐため温度を制御するために使用してもよいし、 緊急停止に対して容易に利用できる。反応室内の反応を急いで止めなければなら ない場合、反応室４に循環ガスを導入するため装置１４を利用する。突然の停止 の場合、最も重要な懸念は、導管１２を通る反応ガスの供給が、直ちに停止され （自動制御弁２０を閉じるように）、ガス容積部６から不活性ガス反応室４へ導 入されることである。弁２０の閉止後、不活性ガスを導管７に導入して、又不活 性ガスを導管７を通じて供給してもよい。 各種プロセス機器から伝達された入力信号１８を処理するため、又好ましくは 制御装置１７を設けてもよい。上述した装置の全ては、伝送（例えば感知）装置 及び制御装置１７から出力信号１９を受ける受送器を設けてもよいし、そして第 １図の実施例と関連して述べた前述の段階は、制御システム１７として例えばコ ンピュータ化したコントローラ（controller）によって制御してもよい。 第１図のように、容器３の主に外側と代わって、第２図に表わしたように循環 回路を本質的に全く圧力容器３内に設けてもよいと理解されるべきである。第２ 図に表わした実施例は、容積部３０内の圧力容器３の内部ガス内での別の循環ガ スを示していないが、代わりに、別の不活性ガス循環回路がいくつかの場合好ま しい。 第２図は、本発明の好ましい実施例に従って加圧流動床炉システム２１を示し 、圧力容器２３内に囲まれたプロセス容器組立体２２を含む。好ましくは、プロ セス容器組立体２２は、固体分離機２５と排気ガスを更に処理するため容器２３ 外へ運ぶ生成ガス出口導管２１５とを有する循環流動床炉２４である。大気圧以 上の圧力源２１３から導管２１２を経て圧力容器２３へ導かれた後、反応ガスは 、ガス容積部３０から入口２１６を通って反応室２４へ導入される。この場合、 反応ガスは、燃料物質の燃焼が反応室２４内で行なわれるとすれば空気でもよい 。 第２図に於いて、一つまたはそれ以上のガス循環装置２６と２６′を圧力容器 ２３内に組み立てる。ガス循環装置２６は、循環ガスを運ぶための一般に垂直な 導管（管）２７を含み、そして処理手順が導管内で行なわれる。好ましい処理手 順は、熱伝達エレメント２８と２８′を持つ通路２７を設けることにより実現す る。熱交換器２８は管束或いはプレート熱交換器を含んでもよく、一方熱交換機 ２８′は通路２７或いは２７′の壁構造の一部を形成するプレート熱伝達エレメ ントを含む。又、通路２７′は、循環ガスの流量を調節するため自動操作制御弁 ２９を設けてもよい。 通路２７と２７′内のガスの循環は、自然対流から生じ、即ち実質的には追加 の循環ファン或いは送風機なしで生じる。通路２７と２７′内のガスの冷却或い は加熱は、各々ガス濃度を増し或いは減じて、自然対流による運動を生じる。 循環装置２６′は、圧力容器２３の一般に垂直壁に近接した壁部材２１６を単 純に設けることにより形成された管路(chdnnel)或いは通路２７′を含む。これ は、単に典型的な説明図であり、容器２３内のどんな適切な構造物も、その近く に壁部材２１６を置くことにより管路２７′を形成するため使用してもよいと理 解すべきである。通路２７の場合のように、通路２７′は、熱伝達装置２８と２ ８′を設ける。熱交換機２８と２８′の数、型式の選択、或いは正確な位置は、 特定の応用に依る。 又好ましくは、各種のプロセス機器から伝送された入力信号２１８を処理する ため制御システム２１７を設ける。上述した機器の全ては、伝送特性及び制御シ ステム２１７から出力信号２１９を受ける受信特性を設けてもよい。従って、第 ２図と関連して前述した装置は、例えば制御システム２１７のコンピュータ化さ れたコントローラ（controller）によって制御してもよい。 第１図と第２図は、単に本発明の説明したものであり、第１図と第２図実施例 の各種の特徴は、互いに代用してもよい。例えば、個々の循環ガスと反応ガスは 、第２図に述べたように内側循環のあるシステムと関連して使用してもよく、従 って異なった反応ガス導入導管が、加圧ガス源から直接反応室２４へ、及び個々 の循環ガス供給源から圧力容器２３のガス容積部３０へ必要となる。そのような 変更に於いて、不活性ガスの使用は、第１図の装置１４と関連して述べたように 、突然の非常停止の場合、循環ガスをその中に導入して反応室内の反応を速く終 わらせる別の好ましい効果を与える。本発明は、現在最も実際的で好ましい実施 例と考えられるものと関連して述べたが、本発明は、公開した実施例に限定する のではなく、付加した請求の精神と範囲内に含まれる各種の変更と相当する設備 を包含する意図であると理解されるべきである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．プロセス容器組立体を含む加圧炉システムの操作方法において、圧力容器 内に囲まれた反応室と、加圧ガスを反応システムへ運ぶ第１の導管と、圧力容器 の内部と反応室組立体の外部との間に定められたプロセス容器内の内部容積部と 、プロセス容器組立体から圧力容器の外側へ吐出ガスを運ぶ第２の導管を有し、 次の段階即ち （ａ）第１の導管からプロセス容器組立体へ大気圧以上の圧力ガスを導入する こと、 （ｂ）プロセス容器組立体の反応室内での熱発生反応を維持すること、 （ｃ）第２の導管を通じてプロセス容器組立体と圧力容器とからのガスを排気 すること、 （ｄ）内部容積部の温度を制御するため、内部容積部の一部から他へのガスを 循環させることの諸段階を有する上記操作方法。 ２．請求項１に記載の方法に於いて、段階（ｄ）が不活性ガスを循環して実施 される上記方法。 ３．請求項１に記載の方法に於いて、段階（ｄ）が、窒素或いは炭酸ガスを循 環して実施される上記方法。 ４．請求項１に記載の方法に於いて、段階（ｄ）が、ガスを循環して実施され る上記方法。 ５．請求項１に記載の方法に於いて、段階（ｄ）の実施中循環ガスを冷却する 更なる段階を含む上記方法。 ６．請求項１に記載の方法に於いて、段階（ｄ）の実施中循環ガスを加熱する 更なる段階を含む上記方法。 ７．請求項１に記載の方法に於いて、段階（ｄ）の実施中循環ガスの流量を制 御する更なる段階を含む上記方法。 ８．請求項１に記載の方法に於いて、段階（ｄ）の実施中循環ガスの圧力を増 加する更なる段階を含む上記方法。 ９．請求項６に記載の方法に於いて、該加熱段階が、開始時中実施され、開始 が完了した後、循環ガスの加熱を停止し、その後循環ガスを冷却する更なる段階 を含む上記方法。 10．請求項９に記載の方法に於いて、段階（ｄ）の実施中循環ガスの流量を制 御し、且つ圧力を昇圧する更なる段階を含む上記方法。 11．請求項１に記載の方法に於いて、段階（ｄ）が、ガスを圧力容器の外側へ 通すため、最初の位置にある内部容積部からガスを引き出すことにより、圧力容 器の外側で循環ガスの温度を変更し圧力を昇圧させることにより、且つ最初の位 置から十分距離を隔てた第２位置にある内部容積部へ循環ガスを戻すことにより 実施される上記方法。 12．請求項１１に記載の方法に於いて、段階（ｄ）が、圧力容器の頂部から循 環ガスを引き出し、圧力容器の底部近くに戻すことにより更に実施される上記方 法。 13．請求項１に記載の方法に於いて、段階（ｄ）が、圧力容器内の内部容積内 で本質的に完全に実施される上記方法。 14．請求項１３に記載の方法に於いて、内側の一般に垂直な導管が、完全に内 部容積部内に設けられ、且つ段階（ｄ）が、内側の一般に垂直な導管内で実施さ れる上記方法。 15．請求項１４に記載の方法に於いて、段階（ｄ）の実施中ガスが、自然対流 により内側の導管内で一般に上向き或いは下向きに流れる上記方法。 16．請求項１５に記載した方法に於いて、ガスが内側の導管内を循環している 時、ガスの温度を変更する更なる段階を含む上記方法。 17．請求項１に記載した方法に於いて、段階（ｃ）が、燃焼或いは固体の流動 床内の燃料のガス化により実施され、プロセス容器組立体は循環する流動床炉を 含み、且つ段階（ａ）が、２−２００bar の圧力でガスを導入するように実施さ れる上記方法。 18．請求項１７に記載した方法に於いて、プロセス容器組立体の休止に応じて 或いは予想して、内部容積部からガスを引き出し、その中での燃焼或いはガス化 反応を止めるため循環流動床炉へ引き出したガスを導入する更なる段階を含む上 記方法。 19．請求項１８に記載した方法に於いて、段階（ｄ）が、腐食ガスの凝縮を避 け、そして圧力容器とプロセス容器システム内で温度が損害を与える水準に増加 するのを防ぐため、循環ガスの温度を変更するように実施される上記方法。 20．加圧炉システムに於いて、圧力容器と、熱発生反応が生じる反応室を有す る該圧力容器内のプロセス容器組立体と、該圧力容器の内側と該プロセス容器組 立体の外側との間に定められた内部のガス容積部と、該圧力容器の外側の大気圧 以上の圧力源と、該圧力源から該プロセス容器組立体内の該反応室へガスを運ぶ 第１の導管と、該反応室から該圧力容器の外側へ吐出されたガスを運ぶ第２の導 管と、そして該内部容積部の温度を制御するため該内部容積部の一部分から他へ ガスを循環するための装置とを含む上記加圧炉システム。 21．請求項２０に記載の加圧炉システムに於いて、循環用装置が、ガス通路と 該ガス通路内に収容されたガスを加熱或いは冷却する装置を含む上記加圧炉シス テム。 22．請求項２０に記載の加圧炉システムに於いて、該ガス通路が、該圧力容器 の主に外側に配置されて、該圧力容器の第１の部分からガスを引き出し、加熱或 いは冷却後該第１の部分から広く隔った該圧力容器の第２の部分へ引き出したガ スを再導入するための装置を設ける上記加圧炉システム。 23．請求項２２に記載の加圧炉システムに於いて、ガス循環の流量を制御し、 その循環を行なうようガスに作用するため、該圧力容器の外側の該通路に配置し たファン或いは送風機を更に含む上記加圧炉システム。 24．請求項２３に記載の加圧炉システムに於いて、更に循環ガスの圧力を昇圧 させる装置を含む上記加圧炉システム。 25．請求項２３に記載の加圧炉システムに於いて、該プロセス容器組立体が、 循環する流動床炉を含む上記加圧炉システム。 26．請求項２５に記載の加圧炉システムに於いて、更に該第１の導管内に制御 弁を含む上記加圧炉システム。 27．請求項２０に記載の加圧炉システムに於いて、該循環装置が、該内部容積 部内に完全に配置した一般に垂直に延在したガス通路を含み、その底部分の近く の該内部容積部内にガス入口の開孔穴と、その頂部近くの該通路からのガス出口 の開孔穴を有し、且つ該通路内に配置した該通路内で循環するガスを加熱或いは 冷却するための装置を含む上記加圧炉システム。 28．請求項２７に記載の加圧炉システムに於いて、該ガス通路が、自然対流で その中をガスが循環するように配列し、一定方向に向け、組立てられる上記加圧 炉システム。 29．加圧炉システム２８に於いて、該通路内でガスを加熱したり冷却する該装 置が、該通路の一部を定める管束熱交換器或いはプレート熱交換器を含む上記加 圧炉システム。 30．請求項２７に記載の加圧炉システムに於いて、該プロセス圧力組立体が、 循環流動床炉を含む上記加圧炉システム。 31．請求項２０に記載の加圧炉システムに於いて、更に該圧力容器に接続した 圧力逃し弁と、該内部容積部から該圧力容器の外側に導き、それから該プロセス 容器組立体内の該反応室へ戻る第３の導管と、該圧力容器の外側で該第３の導管 内の自動操作弁を含む上記加圧炉システム。 32．請求項２２に記載の加圧炉システムに於いて、更に該圧力容器の外側に該 ガス通路内に配置した自動制御弁を含む上記加圧炉システム。 33．請求項２２に記載の加圧炉システムに於いて、更に循環ガスの圧力を上昇 させるため該圧力容器の外側で該通路に接続した圧縮機を含む上記加圧炉システ ム。 34．請求項２０に記載の加圧炉システムに於いて、該循環装置が、全く該内部 容積部内でその頂部と底部で開いて配置された一般に垂直な管を含む上記加圧炉 システム。 35．請求項２０に記載の加圧炉システムに於いて、該循環装置が、ガス通路を 定めるため全く該内部容積部内に配置され、該圧力容器の垂直壁の近くに間隔を おいた一般に垂直に延在した板を含み、該通路はその頂部と底部で開いており、 自然対流によりその中でガスの通路を設けるように配列し、一定方向に向け組立 てられる上記加圧炉システム。 36．請求項３５に記載の加圧炉システムに於いて、更に該通路内で流れるガス を加熱或いは冷却するため、該通路内の管束熱交換器、或いは該通路部分を定め るプレート管熱交換器を含む上記加圧炉システム。 37．請求項３４に記載の加圧炉システムに於いて、更に中に流れるガスを加熱 したり或いは冷却するため、該管内に配置した管束熱交換器或いはプレート管熱 交換器を含む上記加圧炉システム。 38．請求項３５に記載の加圧炉システムに於いて、更に該通路内にガス流量制 御弁を含む上記加圧炉システム。