JPH0949711A - 寸法測定装置 - Google Patents

寸法測定装置

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JPH0949711A
JPH0949711A JP19975095A JP19975095A JPH0949711A JP H0949711 A JPH0949711 A JP H0949711A JP 19975095 A JP19975095 A JP 19975095A JP 19975095 A JP19975095 A JP 19975095A JP H0949711 A JPH0949711 A JP H0949711A
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JP
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light
measurement
frame
emission
frame portion
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JP19975095A
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Satoshi Suzuki
敏 鈴木
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PARUSUTETSUKU KOGYO KK
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PARUSUTETSUKU KOGYO KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、高い精度で被測定物の外寸を測定
できる寸法測定装置を提供することを目的とする。 【構成】 被測定物10を搬送する搬送手段20と、こ
の搬送手段20の搬送経路中に設けられて、被測定物1
0の外寸を測定する測定ゲート30とを備え、測定ゲー
ト30は、測定光を発生させる光源40,50と、測定
光の光路上に順次配置された複数のビームスプリッタ4
2〜47,52〜57とを内蔵して、複数の測定光を出
射窓31dから出射させる出射枠部31,33と、複数
の測定光を受光して、測定光の遮断を検出する入射枠部
32,34とを備えている。そして、複数のビームスプ
リッタ42〜47,52〜57は、光源から離れるにつ
れて、光線の反射率を高くしたことを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数本の測定光が
ライン状に並んだ光束を被測定物に照射して、被測定物
で遮光される測定光を測定することによって、被測定物
の外寸を測定する寸法測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、このような分野の技術としては、
特開平6−50721号公報のものが知られている。こ
の文献に記載された従来の寸法測定装置は、図6に示す
ように、ローラーコンベヤ200と、ローラーコンベヤ
200の上方に設置され、複数本の測定光がライン状に
並んだ光束を出射する投光器201と、ローラーコンベ
ヤ200のローラー200aとローラー200bの間に
設置され、投光器201を出射した光束のそれぞれの測
定光を受光する受光器202とを備えている。そして、
投光器201の投光面には、複数の発光素子201aが
配置され、これらの発光素子を均等に発光させることに
より、投光面からライン状の光束を出射させることがで
きる。
【0003】直方体の被測定物203がローラーコンベ
ヤ200上を搬送されて、投光器201を出射した光束
を横切った状態では、光束の一部の測定光が被測定物2
03で遮光され、これらの測定光は受光器202まで到
達しない。本装置では、このように、受光器202で受
光されない測定光の本数を検出することによって、被測
定物203の幅を測定することができる。また、この測
定を被測定物203が一定距離移動する毎に行うことに
よって、被測定物203の長さを測定することができ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
寸法測定装置においては、測定にあたって、投光器20
1が備える多数の発光素子201aを均等に発光させる
必要があり、各発光素子201aの発光量の調整が難し
く問題であった。
【0005】また、多数の発光素子201aの一つでも
故障すると、測定値が不正確になる。このため、測定に
あたって、全ての発光素子201aが正常に発光してい
るか否かを確認する必要があり、この作業に手間がかか
り問題であった。
【0006】さらに、多数の発光素子201aを備えて
いるため、発光素子201aに故障が発生する率も高
く、問題であった。
【0007】本発明は、このような問題を解決し、均等
な光強度の複数の測定光を被測定物に対して照射するこ
とにより、高い精度で且つ確実に被測定物の外寸を測定
できる寸法測定装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の寸法測定装置は、被測定物を搬送する搬送
手段と、搬送手段の搬送経路中に設けられて、被測定物
に複数の測定光を照射すると共に、被測定物によって遮
断される測定光を検出して、被測定物の外寸を測定する
枠形状の測定ゲートとを備える測定装置であって、測定
ゲートは、複数の測定光を出射窓から出射させる出射枠
部と、出射枠部を出射した複数の測定光を受光して、測
定光の遮断を検出する入射枠部とを備え、出射枠部の内
部には、この延在方向に沿って直進する測定光を発生さ
せる光源と、測定光の光路上に順次配置され、測定光の
一部の光を透過させると共に他の光を反射させて、各反
射光を出射窓からそれぞれ出射させる複数のビームスプ
リッタとを備え、各ビームスプリッタの反射率は、出射
窓から出射させる各測定光の光強度がほぼ等しくなるよ
うに、光源から離れるにつれて、順次高くなるように設
定されたことを特徴としている。
【0009】本発明の寸法測定装置によれば、光源から
出射した測定光は、出射枠部の内部を延在方向に沿って
直進し、光源に最も近いビームスプリッタに入射する。
ビームスプリッタは、測定光の一部の光を透過させると
共に他の光を反射させる。このため、ビームスプリッタ
で反射した測定光は、出射窓から外部に出射して、入射
枠部に向けて直進する。また、ビームスプリッタを透過
した測定光は、次のビームスプリッタに向けて直進す
る。
【0010】このように、測定光は、各ビームスプリッ
タに順次入射して、測定光の一部は、各ビームスプリッ
タで反射する。そして、各ビームスプリッタで反射した
複数の測定光が、入射枠部に向けて直進し、出射枠部と
入射枠部との間に、複数の測定光からなる光束が形成さ
れる。出射枠部を出射した各測定光は、入射枠部に到達
し、入射枠部では、測定光の入射が検出される。ここ
で、出射枠部と入射枠部との間を被測定物が通過する
と、一部の測定光が遮断される。よって、被測定物によ
る測定光の遮断を、入射枠部で検出することにより、被
測定物の外寸を測定できる。
【0011】特に、各ビームスプリッタの反射率は、光
源から離れるにつれて、反射率を高く設定している。こ
のため、出射枠部と入射枠部との間に形成される光束の
各測定光の光強度をほぼ等しくすることができ、入射枠
部での測定光の入射の検出が容易となる。また、各測定
光の間隔が狭ければ、測定光間の隙間は、光線の波動性
により相殺される。このため、光束は、幅の広い一本の
平行光となり、この平行光には、測定光間の隙間による
測定の死角が存在しないので、高い精度で被測定物の外
寸を測定することができる。
【0012】ここで、測定ゲートは、搬送経路を挟んで
起立する一対の縦枠と、縦枠の上端間及び下端間を架け
渡す一対の横枠とを備え、縦枠の一方と横枠の一方とが
別体をなす出射枠部であると共に、縦枠の他方と横枠の
他方とが別体をなす入射枠部であるとよい。
【0013】また、測定ゲートは、搬送手段の搬送面を
挟んで起立する一対の縦枠と、縦枠の上端間及び下端間
を架け渡す一対の横枠とを備え、縦枠の一方と横枠の一
方とで一体的なL字型の出射枠部を構成すると共に、縦
枠の他方と横枠の他方とで一体的なL字型の入射枠部を
構成し、L字型の出射枠部の一端には、光源が設けられ
ると共に、出射枠部のコーナー部には、光源から出射さ
せた測定光をL字型の出射枠部の他端に向けて直進させ
る反射鏡が設けられているとよい。
【0014】さらに、測定ゲートは、搬送手段の搬送面
を挟んで起立する一対の縦枠と、縦枠の上端間及び下端
間を架け渡す一対の横枠とを備え、縦枠の一方及び横枠
の一方とで一体的なL字型の出射枠部を構成すると共
に、縦枠の他方及び横枠の他方とで一体的なL字型の入
射枠部を構成し、出射枠部のコーナー部には、光源と、
光源から出射させた測定光を出射枠部の両端に向けて分
岐して直進させる分岐用ビームスプリッタとが設けられ
ているとよい。
【0015】
【発明の実施の形態】
(第1の実施形態)以下、本発明の好適な実施形態につ
いて添付図面を参照して説明する。なお、説明において
同一要素には同一符号を用い、重複する説明は省略す
る。図1は、本発明の第1の実施形態に係る寸法測定装
置を示す斜視図である。図1に示すように、寸法測定装
置1は、被測定物10を搬送する搬送手段20と、搬送
手段20の搬送経路R中に設けられ、被測定物10の外
寸を測定する測定ゲート30とを備えている。搬送手段
20は、一対のベルトコンベヤ21,22を備えてお
り、各ベルトコンベヤ21,22は、端部21a,22
a同士を対向させて配置されている。そして、これらの
ベルトコンベヤ21,22の間に、測定ゲート30が配
置されている。
【0016】測定ゲート30は、内部が空洞の4本の四
角柱を組み合わせた枠形状を有しており、搬送手段20
の搬送経路Rを挟んで起立する左枠(縦枠)31と、右
枠(縦枠)32とを備えている。また、測定ゲート30
は、左枠31の上端31aと右枠32の上端32aとを
架け渡す上枠(横枠)33と、左枠31の下端31bと
右枠32の下端32bとを架け渡す下枠(横枠)34と
を備えている。そして、これらの枠31〜34が取り囲
む測定面Aを被測定物10が通過することにより、被測
定物10の外寸を測定することができる。なお、左枠3
1と上枠33とは、各々別体をなす出射枠部Bであり、
右枠32と下枠34とは、各々別体をなす入射枠部Cで
ある。
【0017】左枠31の下端31bには、左枠31の延
在方向に沿って直進する測定光を発生させる光源40が
内蔵されている。そして、光源40の光路D上には、コ
リメートレンズ41と複数のビームスプリッタ42〜4
7とが、光源40側から順次配置されている。各ビーム
スプリッタ42〜47の入射面42a〜47aと測定面
Aとは、交差させる関係を有しており、各ビームスプリ
ッタ42〜47は、光源40から出射させた測定光の光
路Dに対して約45度の角度で、且つ、入射面42a〜
47aが下枠34方向を向くように、傾けて固定されて
いる。
【0018】また、各ビームスプリッタ42〜47は、
入射光の一部の光を透過させると共に他の光を反射させ
るように機能する。さらに、右枠32に対向する側の左
枠31の側面31cには、透明ガラスで覆われた出射窓
31dが形成されている。このため、各ビームスプリッ
タ42〜47の入射面42a〜48aで反射した各測定
光は、出射窓31dを通過して、右枠32に向けて直進
する。左枠31に対向する側の右枠32の側面32cに
は、複数のホドダイオード(図示せず)が延在方向に沿
って5mm間隔で配置されている。そして、これらのホ
トダイオードの受光面には、外乱光の入射を防止するた
めのスリットとフィルタが取り付けられている。よっ
て、左枠31の出射窓31dを通過した各測定光は、測
定面Aに沿って直進し、右枠32の各ホトダイオードに
入射する。そして、各ホトダイオードは、各測定光の入
射を検出する。
【0019】同様に、右枠32の上端32aには、上枠
33の延在方向に沿った測定光を発生させる光源50が
内蔵されている。そして、光源50の光路E上には、コ
リメートレンズ51と複数のビームスプリッタ52〜5
7とが、光源50側から順次配置されている。各ビーム
スプリッタ52〜57の入射面52a〜57aと、測定
面Aとは、交差させる関係を有しており、各ビームスプ
リッタ52〜57は、光源50から出射させた測定光の
光路Eに対して約45度の角度で、且つ、入射面52a
〜57aが右枠32方向を向くように、傾けて固定され
ている。
【0020】また、各ビームスプリッタ52〜57は、
入射光の一部の光を透過させると共に他の光を反射させ
るように機能する。さらに、上枠33の下面33aに
は、透明ガラスで覆われた出射窓(図示せず)が形成さ
れている。このため、各ビームスプリッタ52〜57の
入射面52a〜57aで反射した各測定光は、上枠33
の下面33aに形成された出射窓を通過して、下枠34
に向けて直進する。下枠34の上面34aには、複数の
ホトダイオード60が下枠34の延在方向に沿って5m
m間隔で配置されている。そして、これらのホトダイオ
ード60の受光面には、外乱光の入射を防止するための
スリットとフィルタが取り付けられている。よって、上
枠33の出射窓を通過した各測定光は、測定面Aに沿っ
て直進し、下枠34の各ホトダイオード60に入射す
る。そして、各ホトダイオード60は、各測定光の入射
を検出する。
【0021】なお、上述した寸法測定装置1の各構成部
材としては、具体的には次のものが用いられている。ま
ず、光源40,50には、12V、20Wのハロゲン球
が用いられている。また、コリメートレンズ41,51
には、直径150mm、厚さ20mm、焦点距離350
mmのレンズが用いられている。さらに、ビームスプリ
ッタ42〜47,52〜57には、縦200mm、横2
0mm、厚さ1.5mm、中心波長680nmのスプリ
ッタが用いられている。
【0022】図2に示すように、ビームスプリッタ42
〜47の透過率及び反射率は、ビームスプリッタ42が
(90%、10%)、ビームスプリッタ43が(89
%、11%)、ビームスプリッタ44が(87.5%、
12.5%)、ビームスプリッタ45が(85.7%、
14.3%)、ビームスプリッタ46が(83.3%、
16.7%)、ビームスプリッタ47が(80.0%、
20.0%)である。
【0023】このように、各ビームスプリッタ42〜4
7の反射率は、光源40から離れるにつれて、高くなっ
ている。このため、各ビームスプリッタ42〜47にお
ける反射光の光強度は、ほぼ等しくなる。具体的には、
光源40での測定光の光強度を100とした場合、各ビ
ームスプリッタ42〜47で反射した測定光の光強度は
各々10となる。このように、ほぼ均一な光強度の測定
光が右枠32の各ホトダイオードに入射されるので、各
ホトダイオードは、測定光の入射を容易に検出すること
ができる。また、各測定光の光強度が均一なので、全て
のホトダイオードについて同一の受光感度の調整を行え
ばよく、各ホトダイオードの受光感度の調整が容易にな
る。
【0024】なお、各ビームスプリッタ52〜57の透
過率及び反射率は、各ビームスプリッタ42〜47と各
々同一であり、各ビームスプリッタ52〜57は、光源
50から離れるにつれて、光線の反射率を高くしてい
る。
【0025】図3に示すように、各ビームスプリッタ4
2〜47は、接近して配置されており、コリメートレン
ズ41によって平行光に変換された測定光は、各ビーム
スプリッタ42〜47で順次反射して、複数本の測定光
の光束が形成される。このように、各ビームスプリッタ
42〜47は、接近して配置されているため、各ビーム
スプリッタ42〜47で反射した測定光同士の間隔は、
非常に狭くなる。このため、ある程度の距離が離れたと
ころでは、光線の波動性によって、測定光間の隙間が相
殺され、光束全体が一本の幅の広い(900〜1100
mm)平行光となる。このように、本実施形態の寸法測
定装置1は、幅の広い平行光を用いて被測定物10の外
寸を測定しているので、死角となる領域が少なくなり、
高い精度で被測定物10の外寸を測定することができ
る。
【0026】なお、各ビームスプリッタ52〜57も、
各ビームスプリッタ42〜47と同様に、接近して配置
されている。このため、各ビームスプリッタ42〜47
で反射した各測定光によって一本の平行光が形成され
る。
【0027】(第2の実施形態)次に、本発明の第2の
実施形態に係る寸法測定装置を説明する。図4は、本発
明の第2の実施形態に係る寸法測定装置2を示す斜視図
である。この第2の実施形態が図1に示す第1の実施形
態と異なるのは、左枠31と上枠33とで一体的なL字
型の出射枠部Bを構成し、且つ、右枠32と下枠34と
で一体的なL字型の前記入射枠部Cを構成している点
と、左枠31の上端(コーナー部)31aに、反射鏡7
2が設けられている点である。なお、第1の実施形態と
同一又は同等な構成部分については同一符号を付し、そ
の説明は省略する。
【0028】図4に示すように、測定ゲート30の左枠
31の下端31bには、左枠31の延在方向に沿って直
進する測定光を発生させる光源70が内蔵されている。
そして、光源70の光路D上には、コリメートレンズ7
1と複数のビームスプリッタ73〜78と反射鏡72と
が、光源70側から順次配置されている。さらに、反射
鏡72で反射した測定光の光路E上にビームスプリッタ
79〜84が、反射鏡72側から順次配置されている。
【0029】各ビームスプリッタ73〜78の入射面7
3a〜78aと測定面Aとは、交差させる関係を有して
おり、各ビームスプリッタ73〜78は、光源70から
出射させた測定光の光路Dに対して約45度の角度で、
且つ、入射面73a〜78aが下枠34方向を向くよう
に、傾けて固定されている。また、各ビームスプリッタ
79〜84の入射面79a〜84aと測定面Aとは、交
差させる関係を有しており、各ビームスプリッタ79〜
84は、反射鏡72で反射した測定光の光路Eに対して
約45度の角度で、且つ、入射面79a〜84aが左枠
31方向を向くように、傾けて固定されている。
【0030】このため、光源70から出射させた測定光
の一部は、ビームスプリッタ73〜78を順次透過し
て、反射鏡72に入射する。そして、反射鏡72に入射
した測定光は、右枠32の上端32aに向けて反射し
て、測定光の一部がビームスプリッタ79〜84を順次
透過する。各ビームスプリッタ73〜84は、光源70
から離れるにつれて、反射率を順次高くしている。よっ
て、各ビームスプリッタ73〜84を反射して、出射窓
31dから外部に出射する各測定光の光強度は、ほぼ等
しくなり、各ホトダイオード60による測定光の入射の
検出が容易になる。
【0031】(第3の実施形態)次に、本発明の第3の
実施形態に係る寸法測定装置を説明する。図5は、本発
明の第3の実施形態に係る寸法測定装置3を示す斜視図
である。この第3の実施形態が図1に示す第1の実施形
態と異なるのは、左枠31と上枠33とで一体的なL字
型の出射枠部Bを構成し、且つ、右枠32と下枠34と
で一体的なL字型の入射枠部Cを構成している点と、左
枠31の上端(コーナー部)31aに、光源90、コリ
メートレンズ91、及び透過率と反射率が等しい分岐用
ビームスプリッタ92が設けられている点である。な
お、第1の実施形態と同一又は同等な構成部分について
は同一符号を付し、その説明は省略する。
【0032】図5に示すように、測定ゲート30の左枠
31の上端31aには、上枠33の延在方向に沿って直
進する測定光を発生させる光源90が内蔵されている。
そして、光源90の光路E上には、コリメートレンズ9
1と複数のビームスプリッタ92〜98が、光源90側
から順次配置されている。さらに、分岐用ビームスプリ
ッタ92で反射した測定光の光路D上にビームスプリッ
タ99〜104が、分岐用ビームスプリッタ92側から
順次配置されている。
【0033】各ビームスプリッタ93〜98の入射面9
3a〜98aと測定面Aとは、交差させる関係を有して
おり、各ビームスプリッタ93〜98は、光源90から
出射させた測定光の光路Dに対して約45度の角度で、
且つ、入射面93a〜98aが左枠31方向を向くよう
に、傾けて固定されている。また、各ビームスプリッタ
99〜104の入射面99a〜104aと測定面Aと
は、交差させる関係を有しており、各ビームスプリッタ
99〜104は、分岐用ビームスプリッタ92で反射し
た測定光の光路Eに対して約45度の角度で、且つ、入
射面99a〜104aが上枠33方向を向くように、傾
けて固定されている。
【0034】このため、光源90から出射させた測定光
の約50%が、分岐用ビームスプリッタ92を透過し
て、透過光の一部が更にビームスプリッタ93〜98を
順次透過する。また、光源90から出射させた測定光の
約50%が、分岐用ビームスプリッタ92で反射して、
反射光の一部が更にビームスプリッタ99〜104を順
次透過する。ビームスプリッタ93〜98は、光源90
から離れるにつれて、反射率を順次高くしている。同様
に、ビームスプリッタ99〜104は、光源90から離
れるにつれて、反射率を順次高くしている。よって、各
ビームスプリッタ93〜104を反射して、出射窓31
dから外部に出射する各測定光の光強度はほぼ等しくな
り、各ホトダイオード60による測定光の入射の検出が
容易になる。
【0035】なお、本発明は上記実施形態に限定される
ことなく、種々の変形が可能である。例えば、最終段の
ビームスプリッタ47,57,84,98,104の代
わりに、反射鏡を用いてもよい。このように、最終段の
ビームスプリッタの代わりに反射鏡を用いれば、測定光
を無駄なく利用することができる。
【0036】また、上記実施形態では、複数のホトダイ
オード60を所定間隔に並べて、測定光を検出している
が、幅の広い一枚のライン状の光センサを用いてもよ
い。
【0037】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の寸
法測定装置は、被測定物を搬送する搬送手段と、この搬
送手段の搬送経路中に設けられて、被測定物の外寸を測
定する測定ゲートとを備え、測定ゲートは、測定光を発
生させる光源と、測定光の光路上に順次配置された複数
のビームスプリッタとを内蔵して、複数の測定光を出射
窓から出射させる出射枠部と、複数の測定光を受光し
て、測定光の遮断を検出する入射枠部とを備えている。
そして、複数のビームスプリッタは、光源から離れるに
つれて、光線の反射率を高くしたことを特徴としてい
る。
【0038】このため、出射枠部と入射枠部との間に形
成される光束の各測定光の光強度がほぼ等しくなり、入
射枠部での測定光の入射の検出が容易となる。また、各
測定光の間隔が狭ければ、測定光間の隙間は、光線の波
動性により相殺され、光束は、幅の広い一本の平行光と
なる。よって、この幅の広い平行光を用いて被測定物の
外寸を測定すれば、死角となる領域が少なくなり、高い
精度で被測定物の外寸を測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る寸法測定装置を
示す斜視図である。
【図2】各ビームスプリッタの透過率と反射率との関係
を示す図である。
【図3】各ビームスプリッタの配置を示す平面図であ
る。
【図4】本発明の第2の実施形態に係る寸法測定装置を
示す斜視図である。
【図5】本発明の第3の実施形態に係る寸法測定装置を
示す斜視図である。
【図6】従来の寸法測定装置を示す斜視図である。
【符号の説明】
10…被測定物、20…搬送手段、30…測定ゲート、
31,32…縦枠、31a…上端(コーナー部)、31
d…出射窓、33,34…横枠、40,50,70,9
0…光源、42〜47,52〜57,73〜84,93
〜104…ビームスプリッタ、72…反射鏡、92…分
岐用ビームスプリッタ、B…出射枠部、C…入射枠部、
R…搬送経路。
【手続補正書】
【提出日】平成7年8月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図6
【補正方法】変更
【補正内容】
【図6】

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被測定物を搬送する搬送手段と、前記搬
    送手段の搬送経路中に設けられて、前記被測定物に複数
    の測定光を照射すると共に、前記被測定物によって遮断
    される前記測定光を検出して、前記被測定物の外寸を測
    定する枠形状の測定ゲートとを備える寸法測定装置にお
    いて、 前記測定ゲートは、複数の前記測定光を出射窓から出射
    させる出射枠部と、前記出射枠部を出射した複数の前記
    測定光を受光して、前記測定光の遮断を検出する入射枠
    部とを備え、 前記出射枠部の内部には、この延在方向に沿って直進す
    る前記測定光を発生させる光源と、前記測定光の光路上
    に順次配置され、前記測定光の一部の光を透過させると
    共に他の光を反射させて、各反射光を前記出射窓からそ
    れぞれ出射させる複数のビームスプリッタとを備え、 前記各ビームスプリッタの反射率は、前記出射窓から出
    射させる前記各測定光の光強度がほぼ等しくなるよう
    に、前記光源から離れるにつれて、順次高くなるように
    設定されたことを特徴とする寸法測定装置。
  2. 【請求項2】 前記測定ゲートは、前記搬送経路を挟ん
    で起立する一対の縦枠と、前記縦枠の上端間及び下端間
    を架け渡す一対の横枠とを備え、 前記出射枠部は、前記縦枠の一方と前記横枠の一方とが
    別体をなし、前記入射枠部は、前記縦枠の他方と前記横
    枠の他方とが別体をなすことを特徴とする請求項1記載
    の寸法測定装置。
  3. 【請求項3】 前記測定ゲートは、前記搬送手段の搬送
    面を挟んで起立する一対の縦枠と、前記縦枠の上端間及
    び下端間を架け渡す一対の横枠とを備え、 前記縦枠の一方と前記横枠の一方とで一体的なL字型の
    前記出射枠部を構成すると共に、前記縦枠の他方と前記
    横枠の他方とで一体的なL字型の前記入射枠部を構成
    し、 前記L字型の出射枠部の一端には、前記光源が設けられ
    ると共に、前記出射枠部のコーナー部には、前記光源か
    ら出射させた前記測定光を前記L字型の出射枠部の他端
    に向けて直進させる反射鏡が設けられていることを特徴
    とする請求項1記載の寸法測定装置。
  4. 【請求項4】 前記測定ゲートは、前記搬送手段の搬送
    面を挟んで起立する一対の縦枠と、前記縦枠の上端間及
    び下端間を架け渡す一対の横枠とを備え、 前記縦枠の一方及び前記横枠の一方とで一体的なL字型
    の前記出射枠部を構成すると共に、前記縦枠の他方及び
    前記横枠の他方とで一体的なL字型の前記入射枠部を構
    成し、 前記出射枠部のコーナー部には、前記光源と、前記光源
    から出射させた前記測定光を前記出射枠部の両端に向け
    て分岐して直進させる分岐用ビームスプリッタとが設け
    られたことを特徴とする請求項1記載の寸法測定装置。
JP19975095A 1995-08-04 1995-08-04 寸法測定装置 Pending JPH0949711A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010217126A (ja) * 2009-03-19 2010-09-30 Teraoka Seiko Co Ltd 寸法測定装置
JP2011106967A (ja) * 2009-11-17 2011-06-02 Shinko Denshi Kk 寸法重量測定装置及び寸法重量測定方法
WO2012109143A2 (en) * 2011-02-08 2012-08-16 Quantronix, Inc. Object dimensioning system and related methods
US9435637B2 (en) 2011-02-08 2016-09-06 Quantronix, Inc. Conveyorized object dimensioning system and related methods

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010217126A (ja) * 2009-03-19 2010-09-30 Teraoka Seiko Co Ltd 寸法測定装置
JP2011106967A (ja) * 2009-11-17 2011-06-02 Shinko Denshi Kk 寸法重量測定装置及び寸法重量測定方法
WO2012109143A2 (en) * 2011-02-08 2012-08-16 Quantronix, Inc. Object dimensioning system and related methods
WO2012109143A3 (en) * 2011-02-08 2012-12-13 Quantronix, Inc. Object dimensioning system and related methods
US8928896B2 (en) 2011-02-08 2015-01-06 Quantronix, Inc. Object dimensioning system and related methods
US9435637B2 (en) 2011-02-08 2016-09-06 Quantronix, Inc. Conveyorized object dimensioning system and related methods
US9581432B2 (en) 2011-02-08 2017-02-28 Quantronix, Inc. Object dimensioning system and related methods

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