JPH0948171A - 部分的に透明な機密保護要素を製造する方法 - Google Patents
部分的に透明な機密保護要素を製造する方法Info
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Abstract
拡散して散乱させる面エレメントを有する部分的に透明
な視認可能な面パターンを安価に製造する。 【解決手段】 支持箔2と、透明な塗膜層1と、両層を
付着させる中間層5からなるベース箔が用いられる。微
視的に細かい回折効果のある凹凸構造6を塗膜層1に設
ける前または後に塗膜層の露出表面が反射層3で全面的
に被覆される。次にエッチング剤が所定の印刷画像で反
射層3上に印刷され、反射層が除去される。続いて透明
な保護層19により被覆が行なわれ、凹凸構造6と反射
層のない付着部22がプラスチックラミネート1、19
内に埋め込まれる。ベース箔がクレジットカード等に取
り付けられた場合、透明な保護層19、付着部22、塗
膜層1を介してカード上の模様を観察できるとともに、
凹凸構造6のパターンが回折効果により観察できる。
Description
密保護要素を製造する方法、更に詳細には、分離した反
射層を有する回折光学的に作用する光学的なマーキング
と透明な付着部からなる視認可能な面パターンをプラス
チックラミネート内に埋め込んだ部分的に透明な機密保
護要素を製造する方法に関する。即ち、本発明は、請求
項1と2のおいて書きに記載の光を回折させる反射性格
子構造(凹凸構造)を有する面と透明な部分面とからな
る部分的に金属化された面パターンを製造する方法に関
する。
は、ホログラムのような光を回折させる特性を備えた凹
凸構造、回折格子を有する面エレメントから構成された
二次元の画像などを有し、紙幣、文書並びに全ての種類
の商品の偽造防止を向上させるために使用される。
イス特許公報CH−PS670904から知られてい
る。光を回折させる凹凸構造は多層の文書内に埋め込ま
れている。2つの保護層により光を回折する凹凸構造が
封入され、その場合、所定の部分面では光学的に作用す
る中間層により2つの保護層の境界面が形成される。部
分面は中間層を持たない面によって分離されており、そ
の面内では2つの保護層は互いに直接結合されている。
ブリッジ部においては2つの保護層間の結合部は特に良
好な付着力を有する。
用する中間層で覆われていない部分面は透明である。製
造時には、光を回折させる刻印された凹凸構造を有する
プラスチック箔の、光学的に作用する中間層を形成しな
い面のところが洗い流し可能な層で印刷される。光学的
に作用する中間層が、プラスチック箔の印刷された面と
印刷されない面に塗布される。洗浄プロセスによって洗
い流し可能な層とその上に付着している中間層が除去さ
れる。乾燥後に第2の保護層が塗布される。従ってこの
保護層は光を回折させる凹凸構造のみを被覆する。光学
的に作用する中間層を有する所定の部分面においての
み、凹凸構造により白色光の回折による典型的な輝く色
彩が得られ、一方光学的に作用する中間層を持たない面
の凹凸構造においては回折効果は観察されない。
プラスチック箔に回折する凹凸構造を刻印し、その全面
を反射する中間層で覆うことが知られている。次に光を
回折させるように予め定められている面を保護マスクで
覆って、露出している中間層をエッチング剤を用いて除
去して、それによって部分的に金属化された面パターン
を得るようにしている。
らは、蒸着された金属層上に印刷技術で塗布され、プラ
スチック基板には作用しないエッチング剤の製法が知ら
れている。
は、回折光学的な凹凸構造を有するプラスチックラミネ
ートを形成するのに使用することのできる、ほとんど全
てのプラスチックと反射層用の材料がリストアップされ
ている。
で挙げた種類の部分的に金属化された面パターンを製造
する簡単で安価な方法を提供することである。
れば、分離した反射層(3)を有する回折光学的に作用
する光学的なマーキングと透明な付着部(22)からな
る視認可能な面パターンをプラスチックラミネート
(1、19)内に埋め込んだ部分的に透明な機密保護要
素を製造する方法において、ベース箔(4)に微視的に
細かい凹凸構造(6)が型取りされ、このように凹凸に
されたベース箔(4)の塗膜層(1)が反射層(3)で
全面被覆され、エッチング剤(8)が部分面(7)から
なる所定の印刷画像で印刷技術により反射層(3)上に
塗布され、反射層(3)が部分面(7)のところでエッ
チング剤(8)によって除去されて、塗膜層(1)の表
面が露出され、部分面(7)のところの塗膜層(1)並
びに残った反射層(3)の面が少なくとも1つの透明な
保護層(19)によって被覆されてプラスチックラミネ
ート(1、19)が形成され、その場合部分面(7)の
ところで塗膜層(1)が保護層(19)と直接結合する
ことによって透明な付着部(22)が形成されることを
特徴とする部分的に透明な機密保護要素を製造する方法
により解決される。
を有する回折光学的に作用する光学的なマーキングと透
明な付着部(22)からなる視認可能な面パターンをプ
ラスチックラミネート(1、19)内に埋め込んだ部分
的に透明な機密保護要素を製造する方法において、反射
層(3)によって被覆されたベース箔(4)に微視的に
細かい凹凸構造(6)が刻印され、エッチング剤(8)
が部分面(7)からなる所定の印刷画像で印刷技術によ
り反射層(3)上に塗布され、反射層(3)が部分面
(7)のところでエッチング剤(8)によって除去され
て、塗膜層(1)の表面が露出され、部分面(7)のと
ころの塗膜層(1)並びに残った反射層(3)の面が少
なくとも1つの透明な保護層(19)によって被覆され
てプラスチックラミネート(1、19)が形成され、そ
の場合部分面(7)のところで塗膜層(1)が保護層
(19)と直接結合することによって透明な付着部(2
2)が形成されることを特徴とする部分的に透明な機密
保護要素を製造する方法によっても解決される。
が異なる少なくとも2つの凹凸構造が型取られる。ま
た、部分面からなる印刷画像が、光学的なマーキングか
らなる面パターンに位置合わせされて形成される。
パターンの回りに分離せずつながった付着部が形成され
る。
の間に付着媒介層が塗布され、支持箔に透明な箔が使用
されて、光学的なマーキングが保護層並びに支持箔を通
して視認される。
が最大で0.1しか相違しない材料が使用され、また、
好ましくは保護層として、塗膜層と同一の材料が塗布さ
れる。
用いられ、またアルカリ性のエッチング剤が使用され
る。
おり、この実施の形態に基づいて本発明を以下で詳細に
説明する。
ッカー等の塗料層)、2は透明な塗膜層1でコーティン
グされた支持箔を示している。塗膜層1の露出した表面
は反射層3で被覆される。このようにコーティングされ
た支持箔2は、反射層3を持つ、あるいは持たない種々
の幅のロールに巻かれた帯状のベース箔4として市販さ
れている。
製造するためのベース箔4の層構造については、種々の
変形例が知られている。ベース箔4は、例えば10から
50マイクロメートル厚みのポリエステルバンドから形
成された支持箔2と、1から10マイクロメートル、好
ましくは1から3マイクロメートル厚みでアクリルラッ
カーを用いて塗布された塗膜層1と、支持箔2と塗膜層
1との間に配置された0.1から0.4マイクロメート
ル厚さの中間層5とを有する。支持箔2により塗膜層1
には、それ以降の製造ステップに必要な機械的強度が与
えられる。証明カードまたは有価カードの場合には支持
箔2は直接カードベースとして用いられる。その場合に
は、支持箔2の厚みは0.1mmから1mmまたはそれ
以上の範囲にある。
には、中間層5は分離層として機能する。熱を使用すれ
ば、支持箔2は塗膜層1から容易に剥がれる。それに対
して支持箔2を製造プロセス後も透明な保護部材として
塗膜層1と分離できないように結合させておこうとする
場合には、中間層5は、例えばポリウレタンベースで形
成された塗料、いわゆる付着媒介剤(=プライマー(p
rimer))から形成される。支持箔2はコロナ放電
によって前処理し、塗膜層1が支持箔2自体の上に良好
に付着するようにさせることができる。その場合には中
間層5は必要ない。
る。好ましくは特に反射層3にアルミニウムが使用され
る。というのはアルミニウムは極めて大きな光学的反射
性を有し、かつ安価な製造プロセスを可能にするからで
ある。特に光学的な色彩効果を出す場合には、冒頭で挙
げたEP−201323A2に記載されている他の金属
材料または誘電材料、特にクロム、鉄、金、銅、マグネ
シウム、ニッケル、銀などの金属も使用することができ
る。
くは厚みがそれぞれ材料に応じて1nmから50nmの
反射層3をすでに有している。この極めて薄い反射層の
露出した表面から微視的に細かい回折効果がある凹凸構
造(レリーフ構造)6が凹凸構造6のネガを有する不図
示の母型によって塗膜層1内に型取られる。凹凸構造6
は、ライン間隔、アジマス(方位)並びに凹凸形状、す
なわち格子パラメータが異なる、回折効果のある微視的
に細かい凹凸構造を有する図柄で構成された面エレメン
トまたはホログラムである。格子パラメータにより凹凸
構造6の光学特性が決定される。型取りの後にベース箔
4には塗膜層1上に凹凸構造6からなる凹凸パターンが
形成される。この凹凸パターンは回折の際に種々の格子
パラメータを有する面エレメントから構成される二次元
面の画像を発生させる。
極端な凹凸構造6として、完全に平坦な、鏡のように滑
らかな構造、または光を散乱させるマットな構造を有す
る。凹凸パターンはグラフィックな面エレメントまたは
ピクセル(=画素)から構成され、従って性質上多数の
面エレメントに分割されている。凹凸パターンはベース
箔4上に規則的な配置、例えば帯を横切る方向に多数の
凹凸パターンを有し、これが帯の延びる方向に所定間隔
隔てて繰り返される。凹凸構造6の高低差は予め定めら
れたその回折特性に関係し、塗膜層1の厚みに比べて小
さい。例えば塗膜層1の塗布厚みが1000nmである
場合に、最大の高低差は約400nmである。EP−3
92085A1に記載されているように、好ましくはベ
ース箔4上に凹凸パターンを型取るのと同時に、連続す
る処理プロセスで正確に位置合わせするために印刷技術
において通常用いられるマークと同様な位置合わせ補助
マークを長手方向に周期的な間隔で一緒に刻印すること
ができる。型取りして造られた凹凸構造6を有するベー
ス箔4は再び巻かれて一時的に保管される。
定の部分面7のところにある反射層3が除去される状態
が図示されている。従って部分面7は凹凸構造6にもか
かわらず透明であって、この箇所では回折効果は発生せ
ず、あるいは部分面7外の回折効果より本質的に弱い回
折効果となる。
ば印刷シリンダ9と塗布ローラ10を有する回転印刷装
置9、10によって、あるいは安価なインクジェットプ
リンタを用いて、またはスクリーン印刷によって反射層
7上の部分面7のところにエッチング剤8が塗布され
る。部分面7により、幾何学的な面エレメント、グラフ
ィックシンボル、アルファベット記号またはパターン画
像から形成される印刷画像が発生する。印刷画像の部分
面7はそれ自体凹凸構造6からなる凹凸パターンの面エ
レメントとは関係なく選択することができる。印刷画像
と凹凸パターンが一緒になって機密保護要素の視認可能
な画像または面パターンを形成する。印刷画像と凹凸パ
ターンの中心は好ましくは一致し、同一の位置合わせ距
離を有する。印刷の版に比べて高価な同一の凹凸構造6
のネガの母型を使用し、種々の印刷画像を同一の凹凸パ
ターンと組み合せれば、種々の視認可能な面パターンを
有する機密保護要素を安価に造ることができる。凹凸パ
ターンの領域における部分面7の面積割合は所望の透明
度によって決定される。
グ剤が適しており、その場合にNaOHまたはKHOに
よって満足できる結果が得られる。
刷画像に対応する隆起したメサ構造として形成された印
刷版を有する。書籍印刷におけるインクのように、この
印刷装置9、10においてエッチング剤8がローラ10
からメサ構造11上に層12になって塗布される。印刷
シリンダ9が回転すると、エッチング剤8の層12が部
分面7のところで反射層3上に転写される。このエッチ
ング剤8は、必要な場合には、冒頭で述べたUS−PS
3647508に記載されているように、穀粉ないし
糊、疎水化されたケイ酸、および他の融剤などの濃化剤
を用いて印刷に適した粘稠度に調節される。印刷パター
ンのメサ構造11は印刷シリンダ9が回転する毎にベー
ス箔4上で転動されて、エッチング剤8が刻印されてい
る凹凸構造6に位置合わせされて連続印刷法で塗布され
る。
材料と反応して、反射層を化学的に溶解する。反射層3
は通常50nmより小さい厚みを有するので、反射材の
溶解は極めて急速に行なわれ、それもエッチング剤が部
分面7の境界を越えて浸透する前に行われる。続く洗浄
プロセスによってエッチングプロセスの残滓が除去され
るので、部分面7には反射層3が完全になくなる。反射
層3は、印刷画像の部分面7外では、印刷技術において
は一般的な高い精度(約0.05mm)で刻印ベース箔
上に配置される明瞭な輪郭を有するアイランドを形成す
る。
ース箔4がすでに刻印されているか否かは重要ではな
い。というのは凹凸構造6内の1マイクロメートル以下
の僅かな高低差はエッチング剤8によって層12を塗布
する際に充填されてしまうからである。従って反射層3
は凹凸の底部でも確実に除去される。図2の左側には一
部エッチング剤8により印刷された凹凸構造6が、一方
図面の右側にはベース箔4の刻印されていない部分上へ
の印刷が図示されている。
ス後の図2のベース箔4を示すものである。斜線で示す
反射層3には、エッチング後部分面7のところに溝が形
成され、その溝から塗膜層1の表面が露出する。
508から知られているのと同様に、まずまだ刻印され
ていないベース箔4にエッチング剤8が印刷される(図
2)。洗浄プロセスに続いて、エッチングで除かれた部
分面7に位置合わせして凹凸構造6が刻印される。その
場合、部分面7並びに反射層3を有する領域の両方に凹
凸構造6が刻印される。
有する母型による型取りは塗膜層1を支持箔2上に塗布
する間に行われる。塗膜層1用の液状の塗料の硬化は紫
外線を用いて行われ、その場合に母型が硬化しつつあ
る、まだ柔らかい塗膜層1へ複写される。次に反射層3
が硬化した塗膜層1上に形成され、ベース箔が巻きとら
れる。それ以降の処理は上述したようにエッチング剤8
の印刷と洗浄によって行われる。
4に部分的に図示されているような構造が得られる。領
域13と14は、それぞれ凹凸形状(プロフィール)、
格子間隔並びにアジマスの格子パラメータが異なる凹凸
構造6を有する。反射層3は部分面7、7’において除
去されており、塗膜層1の表面が露出している。図示上
の理由から反射層3の表面は斜線が引かれている。反射
層3で覆われた無刻印の滑らかな面部分はミラーとして
作用する。
箔4は図5において左から右へ移動される。ベース箔4
には、印刷装置15において印刷シリンダ9によって反
射層3の側にエッチング剤8(図2)が印刷される。続
いてベース箔4はエッチングプロセスに最適な時間後洗
浄装置16へ達し、そこで例えば吹き付けられた水によ
って余分なエッチング剤8が反射層3の溶解された材料
と共にベース箔から洗い流される。ベース箔4の表面に
残留している水分は乾燥機17において蒸発されるの
で、ベース箔4は完全に乾燥して塗布装置18へ達し、
そこでドラムを用いて1μmから10μmの厚さの保護
層19がベース箔4のエッチングされた反射層3を有す
る側に全面的に塗布される。保護層19の材料は紫外線
によって硬化可能なラッカーないしワニス等の塗料、あ
るいは、従来のように溶剤によって乾燥するラッカーな
いしワニス等の塗料とすることができる。従って装置2
0の構造は保護層19の材料に関係する。前者の場合に
は装置20は硬化を開始させる紫外線照射装置を有し、
あるいは後者の場合には溶剤の蒸発を加速させる熱エネ
ルギを発生させる。
グされたベース箔4を乾燥機17を出た後に巻き取るこ
とも可能である。後の時点でエッチングされたベース箔
4がロールから塗布装置18へ供給され、保護層が塗布
され、乾燥される。
する反射層3と部分面7内のベース箔4(図4)の塗膜
層1の露出した表面の全面が、保護層19によってコー
ティングされ、それにより凹凸構造6と他の構造21上
の反射層3が保護される。保護層19の塗布によって凹
凸構造6ないしは構造21を有する反射層3がプラスチ
ックラミネート1、19内に埋め込まれ、このプラスチ
ックラミネートにより機密保護要素が製造される。一般
に部分面7における塗膜層1と保護層19間の付着力は
塗膜層1ないしは保護層19と反射層3間の付着力より
もかなり大きい。従って保護層は隣接する領域にある凹
凸構造6を破壊せずに除去することはできない。すでに
冒頭で挙げたスイス特許公報CH−PS670904と
一致するように、塗膜層1と保護層19によって形成さ
れる境界面は付着部(付着ブリッジ)22と呼ばれる。
屈折率を有する。というのは反射層3で覆われていない
凹凸構造6または塗膜層1の露出している滑らかな表面
は保護層19の塗布後見えなくなるからである。塗膜層
1と保護層19間には光学的に作用する境界面は形成さ
れない。従って付着部22のところでは光は観察者の方
向には回折ないしは反射されない。図面においては図示
上の理由から塗膜層1と保護層19間の過渡部は破線で
図示されている。
0.4の屈折率の差しかない。この差が0.1より大き
い場合には、塗膜層1と保護層19間にある境界面の付
着部22のところで反射が発生し、透明性を損なうこと
なくその反射をある視線角度で可視できる。この差が
0.1よりも小さい場合には、反射される、あるいは回
折される光の強度は極めて小さいので、反射ないし回折
効果を裸眼で知覚することはできない。
燥する接着剤からなり、ベース箔4を対象物の表面と結
合するように形成されている。接着層の厚みは接着すべ
き面の表面構造に従う。第2の例においてはまず非接着
性の保護用塗料、例えば塗膜層1と同一の塗料が塗布さ
れ、次に第2の塗布装置18(図5)と第2の乾燥装置
20(図5)からなるここには図示しない第2の装置を
用いて最も外側の層としての接着層が塗布される。接着
剤とは公知の熱接着剤または冷間接着剤を意味する。
ード用のベースとして用いられる場合には、中間層5に
は付着媒介剤が、そして保護層19には非接着性の透明
な保護用塗料が使用される。この第3の例においては凹
凸構造6の凹凸パターンは、保護層19並びにカードベ
ースが透明であれば、保護層とカードベースを通して見
ることができ、グラフィックな構成の場合優れた利点と
なる。有価カードまたはクレジットカードの場合には、
必要に応じて、従来のような印刷、切断並びに梱包等の
処理が行なわれる。
4上に多数の機密保護要素が並べて配置されている場合
には、ベース箔4はまず長手方向に機密保護要素の幅に
合わせて切断されて、巻き取られる。各ロールにはこの
前後して配置された多数の機密保護要素が設けられてい
る。
素が図7において対象物23上に接着される。図面の左
側では、保護層19は接着層24で覆われており、図面
の右側においては保護層19自体が接着材料から形成さ
れている。機密保護要素が対象物23上に付着した後
に、中間層5が分離層として形成されている場合には、
支持箔2を引き剥すことができる。
密保護要素の面パターンは、凹凸構造6と散乱または反
射する構造21上に反射層3を備えた光学マーキングと
して埋め込まれた領域と透明な付着部とをプラスチック
ラミネート1、19内に有している。面パターンは、反
射層3を腐食や他の環境の影響から保護するために、好
ましくは非分離でつながった付着部22によって包囲さ
れる。面パターンは光源25によって照射されて、観察
者26の裸眼で観察される。機密保護要素は部分的に透
明である。すなわち付着部22においては完全に透明で
あり、付着部22に隣接する反射層3で覆われた領域は
不透明である。というのは反射層3により入射光が直接
または回折されて、反射するからである。
文字並びに印刷画像、写真または一般的に機密保護要素
の下にある対象物23の表面の起伏27が観察される。
光を回折、散乱または反射する面パターンの種々の面エ
レメントは照明が貧弱な場合でも充分な明るさで見るこ
とができ、一方透明な付着部22においては場合によっ
ては屈折率に変化があって回折及び反射が発生し、これ
を良好な観察条件で見たとしても極めて弱い光の効果し
か観察できず、それによって対象物23上の起伏27の
識別が妨げられることはない。
ライン、彩紋、点、微細文字、多角形などであって、そ
れらから面パターンが形成される。面パターンの観察者
は、照明方向と機密保護要素の方位に従って知覚可能な
画像、すなわち色彩のある像を見ることができ、この像
は、機密保護要素の回転または揺動によって照明方向と
観察方向が変化したときには、それに応じて変化する。
というのは反射層3を有する領域により白色の入射光が
所定の方向に回折、反射または散乱されるからである。
観察者は、機密保護要素を回転または揺動させた場合に
は、起伏27の他にさらに、起伏27とは異なり瞬間的
な照明並びに観察方向に従って色、大きさ並びに形状が
変化する面パターンを観察する。
チング剤が部分面からなる所定の印刷画像で印刷技術に
より反射層上に塗布され、反射層がこの部分面のところ
でエッチング剤によって除去され、部分面のところの塗
膜層並びに残った反射層の面が少なくとも1つの透明な
保護層によって被覆されてプラスチックラミネートが形
成されるので、簡単で安価な方法により部分的に金属化
された面パターンを製造することが可能になる。
す側断面図である。
る。
ある。
図である。
る。
Claims (9)
- 【請求項1】 分離した反射層(3)を有する回折光学
的に作用する光学的なマーキングと透明な付着部(2
2)からなる視認可能な面パターンをプラスチックラミ
ネート(1、19)内に埋め込んだ部分的に透明な機密
保護要素を製造する方法において、 ベース箔(4)に微視的に細かい凹凸構造(6)が型取
りされ、 このように凹凸にされたベース箔(4)の塗膜層(1)
が反射層(3)で全面被覆され、 エッチング剤(8)が部分面(7)からなる所定の印刷
画像で印刷技術により反射層(3)上に塗布され、 反射層(3)が部分面(7)のところでエッチング剤
(8)によって除去されて、塗膜層(1)の表面が露出
され、 部分面(7)のところの塗膜層(1)並びに残った反射
層(3)の面が少なくとも1つの透明な保護層(19)
によって被覆されてプラスチックラミネート(1、1
9)が形成され、その場合部分面(7)のところで塗膜
層(1)が保護層(19)と直接結合することによって
透明な付着部(22)が形成されることを特徴とする部
分的に透明な機密保護要素を製造する方法。 - 【請求項2】 分離した反射層(3)を有する回折光学
的に作用する光学的なマーキングと透明な付着部(2
2)からなる視認可能な面パターンをプラスチックラミ
ネート(1、19)内に埋め込んだ部分的に透明な機密
保護要素を製造する方法において、 反射層(3)によって被覆されたベース箔(4)に微視
的に細かい凹凸構造(6)が刻印され、 エッチング剤(8)が部分面(7)からなる所定の印刷
画像で印刷技術により反射層(3)上に塗布され、 反射層(3)が部分面(7)のところでエッチング剤
(8)によって除去されて、塗膜層(1)の表面が露出
され、 部分面(7)のところの塗膜層(1)並びに残った反射
層(3)の面が少なくとも1つの透明な保護層(19)
によって被覆されてプラスチックラミネート(1、1
9)が形成され、その場合部分面(7)のところで塗膜
層(1)が保護層(19)と直接結合することによって
透明な付着部(22)が形成されることを特徴とする部
分的に透明な機密保護要素を製造する方法。 - 【請求項3】 格子パラメータが異なる少なくとも2つ
の凹凸構造(6)が塗膜層(1)に型取られることを特
徴とする請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項4】 部分面(7)からなる印刷画像が、光学
的なマーキングからなる面パターンに位置合わせされて
形成されることを特徴とする請求項3に記載の方法。 - 【請求項5】 反射層(3)を腐食から保護するために
面パターンの回りに非分離の付着部(22)が形成され
ることを特徴とする請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 ベース箔(4)の塗膜層(1)と支持箔
(2)との間に付着媒介層(5)が塗布され、支持箔
(2)に透明な箔が使用されて、光学的なマーキングが
保護層(19)並びに支持箔(2)を通して視認できる
ことを特徴とする請求項1から5までのいずれか1項に
記載の方法。 - 【請求項7】 塗膜層(1)の材料とは屈折率が最大で
0.1しか相違しない材料が保護層(19)に使用され
ることを特徴とする請求項1から6までのいずれか1項
に記載の方法。 - 【請求項8】 保護層(19)として、塗膜層(1)と
同一の材料が塗布されることを特徴とする請求項1から
7までのいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項9】 反射層(3)としてアルミニウムが用い
られ、またアルカリ性のエッチング剤(8)が使用され
ることを特徴とする請求項1から8までのいずれか1項
に記載の方法。
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