JPH0943852A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インターフェースユニット（ＩＦユニット）
と露光ユニットの間で搬送される基板が外部雰囲気にさ
らされるのを防止する。 【解決手段】 スピンコーターやベーキングユニット、
スピンディベロッパーなどをインライン化した処理ユニ
ットと、露光機などを備えた露光ユニットと、処理ユニ
ットと露光ユニットとの間で基板の搬送を行なうＩＦユ
ニット３を備えた基板処理装置において、ＩＦユニット
３の露光ユニット側の基板搬入出用の開口３５と、露光
ユニットのＩＦユニット３側の基板搬入出用の開口との
間の基板搬送路の周囲に外部雰囲気の流入を防止するカ
バー５を設け、かつ、上記ＩＦユニット３の基板搬入出
用の開口３５と、前記露光ユニットの基板搬入出用の開
口との間でカバー５をスライド自在に構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示器用のガラス基板などの基板に対してフォトリソ
グラフィ工程の各処理（レジスト塗布、プリベーク、露
光、現像、ポストベークなど）を行なうための基板処理
装置に係り、特には、レジスト塗布、プリベーク、現
像、ポストベークなどの各工程を行なうための各種の処
理装置をインライン化した処理ユニットと、露光工程を
行なうための露光ユニットと、前記処理ユニットと前記
露光ユニットとの間で基板の搬送を行なうインターフェ
ースユニットを備えた基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板処理装置は、処理ユ
ニットと、露光ユニットと、インターフェースユニット
（以下、「ＩＦユニット」と略す）などを備えて構成さ
れている。

【０００３】処理ユニットは、レジスト塗布、プリベー
ク、現像、ポストベークなどの各工程を行なうためのス
ピンコーター、スピンディベロッパー、ホットプレー
ト、クールプレートなどの各種装置と搬送ロボットなど
を一体的にユニット化（インライン化）して構成されて
いる。

【０００４】露光ユニットは、露光を行なうための、例
えば、縮小投影露光機（ステッパ）などの露光機と、露
光機による露光処理のための位置決めを行なうためのア
ライメント機構などをユニット化して構成されている。

【０００５】ＩＦユニットは、処理ユニットと露光ユニ
ットとの間に設置され、処理ユニットと露光ユニットと
の間で基板の搬送を行なうための搬送ロボットなどをユ
ニット化して構成されている。

【０００６】また、上記処理ユニットには、インデクサ
や搬入出テーブルなどを備えた搬入出ユニットも付設さ
れている。

【０００７】上記構成の装置の動作は以下のとおりであ
る。本装置による一連の処理（レジスト塗布からポスト
ベークまでの処理）を受ける前の処理前基板は、搬送用
のキャリアに複数枚が収納され、キャリアの自動搬送装
置（Auto Guided Vehicle ：以下「ＡＧＶ」という）に
よって前工程から搬送されてきて搬入出ユニットに備え
られた搬入出テーブルにセットさせる。

【０００８】インデクサは、このキャリアから処理前基
板を１枚ずつ取り出し、処理ユニット内の搬送ロボット
に受け渡す。処理ユニット内の搬送ロボットは、受け取
った処理前基板をレジスト塗布、プリベークを行なう各
装置に順次搬入／搬出し、プリベークが終了した基板を
順次ＩＦユニット内の搬送ロボットに受け渡す。

【０００９】ＩＦユニット内の搬送ロボットは、プリベ
ークが終了した基板を順次露光ユニットに受け渡す。露
光ユニットではプリベークが終了した基板に露光処理を
施し、露光された基板をＩＦユニット内の搬送ロボット
に受け渡す。ＩＦユニット内の搬送ロボットは、露光さ
れた基板を順次処理ユニット内の搬送ロボットに受け渡
す。

【００１０】処理ユニット内の搬送ロボットは、露光さ
れた基板を現像、ポストベークを行なう各装置に順次搬
入／搬出し、ポストベークが終了した基板は順次インデ
クサに受け渡され、インデクサによって、搬入出テーブ
ルに待機されている搬送用のキャリアに収納されてい
く。そして、本装置による一連の処理が終了した基板が
所定枚数キャリアに収納されると、そのキャリアは、Ａ
ＧＶによって後工程への搬送されていく。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記基板処
理装置を設置する場合には、各ユニットの設置場所を予
め決め、その設置位置に従って各ユニットが設置され
る。この際、搬入出ユニットや処理ユニット、ＩＦユニ
ットを提供するメーカーと、露光ユニットを提供するメ
ーカーが異なるなどの理由によって、搬入出ユニットや
処理ユニット、ＩＦユニットの設置と露光ユニットの設
置とが独立して行なわれる場合がある。

【００１２】ＩＦユニットの設置と露光ユニットの設置
とが独立して行なわれても、上述したように予め決めて
おいた各ユニットの設置場所に設置するのであれば、各
ユニットは隙間無く設置されるのであるが、搬入出ユニ
ットや処理ユニット、ＩＦユニットは、ＡＧＶの搬送経
路に従って設置されるので、ＩＦユニットと露光ユニッ
トとの間に隙間が生じていのが実情である。つまり、Ａ
ＧＶが搬入出ユニットの搬入出テーブルの所定の位置に
キャリアをセットしたり、所定の位置に待機さているキ
ャリアを取り出したりできるように、搬入出ユニットは
ＡＧＶの搬送経路に従って設置される。この実際の設置
場所は、上記予め決められた設置場所とずれるのが実情
である。また、処理ユニットは搬入出ユニットの実際の
設置場所に応じて搬入出ユニットと隙間無く設置され、
ＩＦユニットは処理ユニットの実際の設置場所に応じて
処理ユニットと隙間無く設置されるので、ＩＦユニット
の実際の設置場所は上記予め決められた設置場所とずれ
ている。一方で、露光ユニットは、搬入出ユニットや処
理ユニット、ＩＦユニットの実際の設置作業とは独立し
て予め決められた設置場所に設置される。従って、これ
ら各ユニットが実際に設置された状態では、ＩＦユニッ
トと露光ユニットとの間に隙間が生じていしまう。

【００１３】このようにＩＦユニットと露光ユニットと
の間に隙間ができると、ＩＦユニットと露光ユニットと
の間で基板を受け渡す際に、この隙間から流れ込んでく
るユニット外部の雰囲気に基板がさらされることにな
る。これらユニットはクリーンリーム内に設置されてい
るが、ＩＦユニットや露光ユニットなどのユニット内に
おける温度や湿度、アルカリ濃度などの環境は特に適正
に管理されているが、クリーンルーム内では、そのよう
な管理は特別に行なわれていない。従って、ＩＦユニッ
トと露光ユニットとの間で基板を受け渡す際に、基板は
温度や湿度、アルカリ濃度などが相違する環境にさらさ
れることになる。このような環境変化は、露光時のフォ
ーカスのずれを引き起こしたり、あるいは、露光パター
ンの高密度化に対応する高コントラスト対応のレジスト
が塗布されたものにあっては、露光後の線幅の不均一な
どの不都合を引き起こしている。

【００１４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、設置誤差によりインターフェースユニ
ットと露光ユニットとに隙間が生じても、これらユニッ
ト間で搬送される基板が外部の雰囲気にさらされないよ
うにした基板処理装置を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、本発明は、レジスト塗布、プリベーク、現像、ポス
トベークなどの各工程を行なうための各種の処理装置を
インライン化した処理ユニットと、露光工程を行なうた
めの露光ユニットと、前記処理ユニットと前記露光ユニ
ットとの間で基板の搬送を行なうインターフェースユニ
ット（以下、「ＩＦユニット」と略す）を備えた基板処
理装置において、前記ＩＦユニットの前記露光ユニット
側の基板搬入出用の開口と、前記露光ユニットの前記Ｉ
Ｆユニット側の基板搬入出用の開口との間の基板搬送路
の周囲に、前記ＩＦユニットおよび前記露光ユニットの
内部雰囲気とその外部雰囲気とを遮断するカバーを設
け、かつ、前記ＩＦユニットの前記露光ユニット側の基
板搬入出用の開口と、前記露光ユニットの前記ＩＦユニ
ット側の基板搬入出用の開口との間で前記カバーをスラ
イド自在または伸縮自在に構成したことを特徴とするも
のである。

【００１６】

【作用】本発明の作用は次のとおりである。基板処理装
置を構成する各ユニットが設置された状態でＩＦユニッ
トと露光ユニットとの間に隙間ができている場合、ＩＦ
ユニットの露光ユニット側の基板搬入出用の開口と、露
光ユニットのＩＦユニット側の基板搬入出用の開口との
間の基板搬送路の周囲に、ＩＦユニットおよび露光ユニ
ットの内部雰囲気とその外部のクリーンルーム内の雰囲
気とを遮断するカバーを配設する。このカバーはＩＦユ
ニットの露光ユニット側の基板搬入出用の開口と、露光
ユニットのＩＦユニット側の基板搬入出用の開口との間
でスライド自在または伸縮自在に構成したので、実際に
設置されたＩＦユニットと露光ユニットとの間に生じた
隙間の広狭に応じてカバーの配設を調節することができ
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は、本発明の一実施例に係る基
板処理装置の全体構成を示す斜視図であり、図２は、そ
の概略平断面図、図３（ａ）は、インターフェースユニ
ットの露光ユニット側から見た一部省略斜視図、図３
（ｂ）は、図３（ａ）のＡ−Ａ矢視断面図、図４は、露
光ユニットのインターフェースユニット側から見た側面
図である。

【００１８】なお、本実施例では、半導体ウエハの基板
処理装置を例に採り説明するが、その他の例えば液晶表
示器用のガラス基板などの基板処理装置にも本発明は同
様に適用することができる。

【００１９】本実施例装置は、搬入出ユニット１、処理
ユニット２、インターフェースユニット（以下、「ＩＦ
ユニット」と略す）３、露光ユニット４、カバー５など
を備えて構成されている。

【００２０】搬入出ユニット１は、ＡＧＶ６とのキャリ
アＣの受渡しを行なうための搬入出テーブル１１や、搬
入出テーブル１１に載置されているキャリアＣと後述す
る処理ユニット２内の搬送ロボット２５との間の基板の
受渡しを行なうためのインデクサ１２などを備えて構成
されている。

【００２１】また、処理ユニット２は、フォトリソグラ
フィ工程のうち、レジスト塗布、プリベーク、現像、ポ
ストベークなどの各工程を行なうためのユニットで、図
２に示すように、レジスト塗布を行なうためのスピンコ
ーター２１、２１、プリベークやポストベークを行なう
ためのベーキングユニット２２、現像を行なうためのス
ピンディベロッパー２３、２３、薬液温調ユニット２
４、このユニット２内における基板の搬送を行なう搬送
ロボット２５などを備えている。スピンコーター２１や
スピンディベロッパー２３は複数台（図２では、２台）
備えられていて複数枚の基板に対する各処理を並行して
行なえるように構成されている。また、ベーキングユニ
ット２２には、図示を省略しているが基板を所定温度に
加熱するホットプレートと加熱された基板を常温付近に
冷却するクールプレートを複数組備えており、このベー
キングユニット２２でも複数枚の基板に対する各ベーキ
ング処理（プリベーク、ポストベークなど）を並行して
行なえるように構成されている。なお、薬液温調ユニッ
ト２４は、レジスト液や現像液の温度を一定に保つため
の恒温水の温度管理を行い、装置内部に循環させるユニ
ットである。

【００２２】ＩＦユニット３は、処理ユニット２と後述
する露光ユニット４との間で基板の搬送を行なうための
ユニットで、搬送ロボット３１や基板受渡し部３２、基
板搬入部３３、基板搬出部３４などを備えて構成されて
いる。基板受渡し部３２は、処理ユニット２内の搬送ロ
ボット２５との間で基板の受渡しを行なうための場所で
ある。また、基板搬入部３３、基板搬出部３５は、露光
ユニット４内の搬送ロボット４３との間で基板の受渡し
を行なうための場所であり、図３、図４に示すようにＩ
Ｆユニット３と露光ユニット４との間の基板Ｗの受渡し
は、ＩＦユニット３の露光ユニット４側の側壁に設けら
れた開口３５と、露光ユニット４のＩＦユニット３側の
側壁に設けられた開口４４とを介して行なわれる。

【００２３】図１に示すようにＩＦユニット３の天井の
管３６からは、温度、湿度、アルカリ濃度などが適正に
管理された空気がフィルタ３７を介してＩＦユニット３
内にダウンフローで送り込まれるように構成されてい
る。また、ＩＦユニット３の露光ユニット４側の天井、
両側壁には後述するカバー５も付設されている。なお、
処理ユニット２による処理と、露光ユニット４による処
理とに処理時間の差が生じたときのために、基板を一時
待機させておくための図示しないバッファカセットもＩ
Ｆユニット３内に設けられている。

【００２４】露光ユニット４は、プリベークが終了した
基板に所定の露光パターンを焼き付けるためのユニット
で、図２に示すように、露光機、例えば、縮小投影露光
機（ステッパ）４１や、基板の位置合わせを行ない露光
機４１にセットするためのアライメント機構４２、露光
ユニット４内での基板の搬送を行なう搬送ロボット４３
などを備えている。

【００２５】カバー５は、ＩＦユニット３の露光ユニッ
ト４側の天井、両側壁の３面を外囲するとともに、スラ
イド自在にＩＦユニット３に付設されている。ＩＦユニ
ット３の露光ユニット４側の天井、両側壁の３面には、
フッ素樹脂やバイトンなどの樹脂で構成されたパッキン
３８が付設されており、カバー５とＩＦユニット３の露
光ユニット４側の天井、両側壁の３面との間から外部雰
囲気が、ＩＦユニット３と露光ユニット４との間の隙間
ＢＷ内に流れ込まないようにしている。カバー５は、例
えば、アルミニウムやステンレス鋼（ＳＵＳ３０４な
ど）などで構成されている。また、カバー５の露光ユニ
ット４側の端面には、パッキン３８と同様の材質で構成
されているパッキン５１とその内側に磁石５２が付設さ
れており、磁力でカバー５のパッキン５１を露光ユニッ
ト４のＩＦユニット３側の側壁に密着させ、カバー５の
露光ユニット４側の端面と露光ユニット４のＩＦユニッ
ト３側の側壁との間から外部雰囲気が上記隙間ＢＷ内に
流れ込まないようにしている。なお、カバー５の端面の
パッキン５１と露光ユニット４のＩＦユニット３側の側
壁との密着箇所を図４に斜線で示す。

【００２６】図３に示すように、ＩＦユニット３の露光
ユニット４側の天井、両側壁の３面には複数個（図で
は、天井に３個、両側壁に各々２個ずつ）のネジ孔が予
め設けられており、カバー５に設けられた長孔５３の開
口に挿通された状態でカバー５の外側からネジ５４でネ
ジ止めすることでカバー５を所定の配設状態に固定する
ようにしている。すなわち、本実施例では長孔５３の長
手方向の開口の範囲内において、カバー５の配設を調節
できるようになっている。

【００２７】次に、本実施例装置の設置について説明す
る。従来技術でも説明したように、搬入出ユニット１、
処理ユニット２、ＩＦユニット３と、露光ユニット４と
は独立して設置される。露光ユニット４は、予め決めら
れた設置場所に設置される。一方、搬入出ユニット１、
処理ユニット２、ＩＦユニット３は、ＡＧＶ６の搬送経
路に応じて設置される。具体的には、ＡＧＶ６は、アル
ミニウムなどのテープ６ａに沿って移動するので、この
テープ６ａの敷設位置を基準として、ＡＧＶ６が搬入出
テーブル１１の所定位置にキャリアＣをセットしたり、
搬入出テーブル１１の所定位置からキャリアＣを取り出
したりできる位置に搬入出ユニット１が設置される。こ
のようにして実際に設置された搬入出ユニット１との間
に隙間がないように処理ユニット２は設置され、さら
に、上記のようにして実際に設置された処理ユニット２
との間に隙間がないようにＩＦユニット３が設置され
る。このようにして実際に設置されたＩＦユニット３と
露光ユニット４との間には隙間ＢＷが形成される。

【００２８】本実施例では、カバー５を露光ユニット４
側にスライドさせ、カバー５の端面のパッキン５１を磁
石５２の磁力で露光ユニット４のＩＦユニット３側の側
壁に密着固定させ、その状態でネジ５４でカバー５をＩ
Ｆユニット３に固定させる。これにより、ＩＦユニット
３の露光ユニット４側の側壁と、露光ユニット４のＩＦ
ユニット３側の側壁と、カバー５とで囲まれた空間（隙
間ＢＷによって形成される空間であって基板の搬送経路
が内包された空間）内は、外部雰囲気（クリーンルーム
内の雰囲気）と遮断され、ＩＦユニット３や露光ユニッ
ト４の内部雰囲気（温度や湿度、アルカリ濃度など）が
維持されることになる。なお、ネジ５４でカバー５をＩ
Ｆユニット３に固定させることによって、ＩＦユニット
３に付設されたパッキン３８とカバー５との間の密着度
を高めることができ、この間の遮断効果を高めることに
もなる。

【００２９】また、各ユニット１〜４の実際の設置にあ
たっては、上記隙間ＢＷの間隔に広狭が生じるが、本実
施例では、カバー５をスライド自在にし、また、長孔５
３の長手方向の開口の範囲内でネジ５４によるネジ止め
も行なえるようにしたので、実際に生じた隙間ＢＷの間
隔に応じて、カバー５の配設を調節することができる。

【００３０】次に、上述のように設置された実施例装置
の動作を説明する。本装置による一連の処理（レジスト
塗布からポストベークまでの処理）を受ける前の処理前
基板が複数枚収納された搬送用のキャリアＣがＡＧＶ６
によって前工程から搬送されてきて搬入出ユニット１に
備えられた搬入出テーブル１１の所定位置にセットさせ
る。

【００３１】インデクサ１２は、このキャリアＣから処
理前基板を１枚ずつ取り出し、処理ユニット２内の搬送
ロボット２５に順次受け渡す。処理ユニット内の搬送ロ
ボット２５は、受け取った処理前基板を順次スピンコー
ター２１に搬入する。スピンコーター２１では搬入され
た基板にレジストを塗布する。レジストが塗布された基
板は、搬送ロボット２５によって順次ベーキングユニッ
ト２２に搬入され、そこで、プリベークが行なわれる。
プリベークが終了した基板は、搬送ロボット２５によっ
て順次ＩＦユニット３内の基板受渡し部３２に載置され
る。

【００３２】ＩＦユニット３内の搬送ロボット３１は、
基板受渡し部３２に基板が載置されると、それを基板受
渡し部３２から基板搬入部３３に順次搬送する。基板搬
入部３３に基板が載置されると、露光ユニット４内の搬
送ロボット４３は基板搬入部３３に載置された基板を受
け取り、それをアライメント機構４２に搬送する。この
とき、基板は上記隙間ＢＷを通過するが、本実施例で
は、この隙間ＢＷはカバー５やパッキン５１、３８など
で密閉されているので、基板が外部雰囲気にさらされる
ことがない。

【００３３】露光ユニット４では、アライメント機構４
２で位置決めが行なわれ、露光機４１で所定の露光パタ
ーンが焼き付けられる。この露光処理が終了した基板
は、搬送ロボット４３によってＩＦユニット３内の基板
搬出部３４に載置される。このときも基板は上記隙間Ｂ
Ｗを通過するが、上述と同様にこの基板も外部雰囲気に
さらされない。

【００３４】基板搬出部３４に載置された露光済の基板
は、ＩＦユニット３内の搬送ロボット３１によって基板
搬出部３４から基板受渡し部３２に搬送され、そこに載
置される。基板受渡し部３２に載置された露光済の基板
は、処理ユニット２内の搬送ロボット２５によって取り
出され、現像するためにスピンディベロッパー２３に搬
送され、そこで現像処理が施される。

【００３５】なお、ＩＦユニット３の搬送ロボット３１
は、プリベークが終了した基板を基板受渡し部３２から
基板搬入部３３に搬送するとともに、露光済の基板を基
板搬出部３４から基板受渡し部３２に搬送する。ここ
で、例えば、露光ユニット４においてアライメント機構
４２による位置決め処理に時間がかかるなどして露光ユ
ニット４での処理時間が長くかかった場合、一定のタイ
ミングで基板受渡し部３２に基板が載置されても、基板
搬入部３３に前に載置されている基板が露光ユニット４
内に搬入されず、基板受渡し部３３に基板が載置された
状態であるので、基板受渡し部３２に載置された基板を
基板搬入部３３に搬送できない。また、基板受渡し部３
２にプリベークが終了した基板が載置された状態では、
基板搬出部３４に露光済の基板が載置されてもその基板
を基板受渡し部３２に搬送することができない。このよ
うに、処理ユニット２による処理時間と、露光ユニット
４による処理時間とに時間差が発生した場合には、ＩＦ
ユニット３における基板の搬送に待ち時間が生じてスル
ープットが低下することになる。そこで、ＩＦユニット
３内に基板を一時待機させておくためのバッファカセッ
トを設け、基板受渡し部３２に載置された基板が基板搬
入部３３に搬送できない場合や、基板搬出部３４に載置
された基板を基板受渡し部３２に搬送できない場合に
は、それら基板をバッファカセットに一時待機させ、基
板搬入部３３や基板受渡し部３２に基板が長く載置され
た状態がなくなるようにしている。

【００３６】さて、スピンディベロッパー２３での現像
処理が終了した基板は、処理ユニット２内の搬送ロボッ
ト２５によってベーキングユニット２２に搬入され、そ
こで、ポストベークが施される。そして、ポストベーク
が終了した基板は、処理ユニット２内の搬送ロボット２
５によってインデクサ１２に受け渡され、インデクサ１
２はその基板を搬入出テーブル１１に待機されているキ
ャリアＣに順次収納していく。キャリアＣにポストベー
ク後の基板（本装置による一連の処理が終了した基板）
が所定枚数収納されると、そのキャリアＣはＡＧＶによ
って取り出され、後工程への搬送されていく。

【００３７】このように、本実施例によれば、各ユニッ
ト１〜４を設置したときに、ＩＦユニット３と露光ユニ
ット４との間に隙間ＢＷが形成されたとしても、実際の
基板処理にあたっては、この隙間ＢＷを基板が通過する
とき、基板が外部雰囲気にさられることがなく、露光時
のフォーカスのずれや、露光パターンの高密度化に対応
する高コントラスト対応のレジストが塗布された場合の
露光後の線幅の不均一さなどの不都合を解消することが
できる。

【００３８】次に、上記実施例装置に対する変形例をい
くつか紹介する。 ＜変形例１＞上記実施例では、カバー５の露光ユニット
４側の端面部分に磁石５２を設けたがこれを省略しても
よい。この場合、カバー５の露光ユニット４側の端面の
パッキン５１を露光ユニット４のＩＦユニット３側の側
壁に押しつけた状態で、カバー５をネジ５４にてＩＦユ
ニット３に固定させればよい。

【００３９】＜変形例２＞上記実施例では、長孔５３を
設けるとともにネジ５４でカバー５をＩＦユニット３に
ネジ止め固定するように構成したが、長孔５３やネジ５
４を省略してもよい。すなわち、図５（ａ）に示すよう
に、カバー５の露光ユニット４側の端面部分の磁石５２
でカバー５を固定させればよい。このとき、露光ユニッ
ト５のＩＦユニット３側の側壁と、カバー５の露光ユニ
ット４側の端面のパッキン５１とは密着されるし、ま
た、カバー５をパッキン３８を含むＩＦユニット３の外
形寸法に応じて形成していれば、カバー５とパッキン３
８とも密着されるので外部雰囲気との遮断効果は低下し
ない。

【００４０】＜変形例３＞ＩＦユニット３の露光ユニッ
ト４側の側壁と、露光ユニット４のＩＦユニット３側の
側壁との間の隙間ＢＷは、各ユニット１〜４の設置時の
状況によっては、図５（ａ）のように平行であるとは限
らない。このような場合に対応するためにパッキン３
８、５１を樹脂やゴムなどの変形自在な材質で構成する
ことで、図５（ｂ）に示すように、隙間ＢＷをカバー５
などで外部雰囲気から遮断することができる。図５
（ｂ）では、図の下側（隙間ＢＷの間隔が広い側）のパ
ッキン５１、３８と露光ユニット４の側壁およびカバー
５とが密着するようにカバー５をＩＦユニット３の側壁
に対して斜め方向にスライドさせている。このとき、図
の上側（隙間ＢＷの間隔が狭い側）のパッキン５１、３
８は変形（圧縮）されて露光ユニット４の側壁およびカ
バー５に密着することになる。

【００４１】＜変形例４＞図６（ａ）に示すように、Ｉ
Ｆユニット３の３面（上記実施例でパッキン３８を付設
した３面）に断面形状が「Ｃ」の字型の枠６１を付設
し、カバー５をこの枠６１にスライド自在に嵌め付けて
もよい。枠６１の開口部分にはパッキン６２（パッキン
３８や５１と同様の材質）を付設してパッキン６２とカ
バー５とを密着させ、カバー５の露光ユニット４側の端
面には磁石５２とパッキン５１とを付設してパッキン５
１と露光ユニット４の側壁とを固定的に密着させている
ので、隙間ＢＷをカバー５で外部雰囲気から遮断するこ
とができる。なお、図では、カバー５の断面形状を
「Ｔ」の字型に形成して、カバー５の基端部が枠６１か
ら抜け出るのを防止している。また、図６（ｂ）に示す
ように、パッキン６２、５１を変形自在の材質のもので
構成し、カバー５をパッキン６２周りで揺動自在にし、
カバー５を枠６１に対して斜めにスライド自在に構成す
ることで、図５（ｂ）のように隙間ＢＷの間隔に広狭が
ある場合でも、図６（ｃ）に示すように、その隙間ＢＷ
を外部雰囲気から遮断することができる。

【００４２】＜変形例５＞図７に示すようにカバー５の
露光ユニット４側の部分に蛇腹部７１を設けてもよい。
このとき、蛇腹部７１の露光ユニット４側の端面には、
上記実施例と同様に磁石５２とパッキン５１（図７では
図示を省略）を設ける。この構成では、カバー５をＩＦ
ユニット３に対してスライドさせるようにして、蛇腹部
７１の端面のパッキン５１を露光ユニット４の側壁に密
着させてもよいし、カバー５をＩＦユニット３に固定さ
せ、隙間ＢＷの間隔の広狭に応じて蛇腹部７１を伸縮さ
せて蛇腹部７１の端面のパッキン５１を露光ユニット４
の側壁に密着させてもよい。また、図５（ｂ）に示すよ
うに、隙間ＢＷの間隔に広狭がある場合であっても、こ
の変形例では、図７（ｂ）に示すように、蛇腹部７１の
伸縮で対応することができる。

【００４３】＜変形例６＞図８（ａ）に示すように、カ
バー５は、少なくともＩＦユニット３の開口３５と露光
ユニット４の開口４４の間の隙間部分（基板Ｗが搬送さ
れる領域）に設けてあればよい。この場合には、図８
（ａ）に示すように、上下左右の４面にカバー５を設け
る。また、カバー５の支持手段としては、例えば、図８
（ｂ）や図８（ｃ）に示す手段で構成することができ
る。図８（ｂ）では、ＩＦユニット３の側壁から外側に
突出させた支持枠（４面に形成）８１をＩＦユニット３
の側壁に固設し、この支持枠８１に対してカバー５をス
ライド自在に支持させたものである。この支持枠８１の
外周面にはパッキン３８が付設されてカバー５と密着さ
れ、また、カバー５の露光ユニット４側の端面には、上
記実施例と同様に磁石５２とパッキン５１とが付設され
ている。また、図８（ｃ）では、上記変形例４と同様の
支持手段であって、断面形状が「Ｃ」の字型の支持溝８
２を有する支持枠８３をＩＦユニット３の内側に突出す
るように付設し、支持溝８２にカバー５をスライド自在
に支持させたものである。この構成でも、支持溝８２の
開口にパッキン６２が形成され、カバー５の露光ユニッ
ト４側の端面には、磁石５２とパッキン５１とが付設さ
れている。なお、図８（ｂ）、（ｃ）において、各パッ
キンを変形自在の材質で構成すれば、図５（ｂ）によう
に隙間ＢＷの間隔に広狭があってもそれに対応すること
ができる。また、この変形例においても変形例５のよう
な蛇腹部７１を設けてもよい。

【００４４】＜変形例７＞上記実施例や変形例１〜６で
は、カバー５をＩＦユニット３側に支持させたが、図９
（ａ）や図１０に示すように、カバー５を露光ユニット
４側に支持させてもよい。図９（ｂ）、（ｃ）は、図９
（ａ）の場合のカバー５の支持手段の一例の構成を示し
ており、図９（ｂ）では、図８（ｂ）と同様の支持枠８
１にカバー５を支持させたもので、図９（ｃ）では、図
８（ｃ）と同様の支持枠８３にカバー５を支持させたも
のである。なお、図９の場合には、カバー５のＩＦユニ
ット３側の端面のパッキン５１をＩＦユニット３の側壁
に当接させるように、支持枠８１、８３やカバー５の寸
法が採られる（図９（ｂ）、（ｃ）参照）。また、図１
０の場合のカバー５の支持手段は、上記変形例６と同様
の手段を適用できる。さらに、この変形例においても、
変形例５と同様にカバー５のＩＦユニット３側の部分に
蛇腹部７１を設けてもよい。

【００４５】＜変形例８＞搬入出ユニット１、処理ユニ
ット２、ＩＦユニット３、露光ユニット４の配置は図２
のものに限らず、例えば、図１１（ａ）、（ｂ）に示す
ように配置されることもあるが、これら各ユニット１〜
４の配置のいかんにかかわらず、本発明は同様に適用す
ることができる。

【００４６】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ＩＦユニットの露光ユニット側の基板搬入出
用の開口と、露光ユニットのＩＦユニット側の基板搬入
出用の開口との間の基板搬送路の周囲に、ＩＦユニット
および露光ユニットの内部雰囲気とその外部のクリーン
ルーム内の雰囲気とを遮断するカバーを設けるように構
成したので、ＩＦユニットと露光ユニットの設置誤差に
よりこれらユニット間に隙間が形成されていたとして
も、これらユニット間で搬送される基板は、カバーによ
って外部雰囲気にさらされることがなくなった。従っ
て、基板が本装置内において外部雰囲気にさらされるこ
とがなくなったので、露光時のフォーカスのずれや露光
後の線幅の不均一さなどの不都合を解消することができ
るようになった。

【００４７】また、ＩＦユニットの露光ユニット側の基
板搬入出用の開口と、露光ユニットのＩＦユニット側の
基板搬入出用の開口との間でカバーをスライド自在また
は伸縮自在に構成したので、これらユニット間のの隙間
の間隔に応じてカバーの配設を調節することができ、実
際に設置されたＩＦユニットと露光ユニットとの間に生
じた隙間に広狭があってもこの隙間を完全にカバーで遮
断することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る基板処理装置の全体構
成を示す斜視図である。

【図２】図１の概略平断面図である。

【図３】インターフェースユニットの露光ユニット側か
ら見た一部省略斜視図とそのＡ−Ａ矢視断面図である。

【図４】露光ユニットのインターフェースユニット側か
ら見た側面図である。

【図５】変形例２および変形例３の構成を示す要部平断
面図である。

【図６】変形例４の構成を示す要部平断面図である。

【図７】変形例５の構成を示す要部平断面図である。

【図８】変形例６の構成を示す要部斜視図と要部平断面
図である。

【図９】変形例７の構成を示す要部斜視図と要部平断面
図である。

【図１０】変形例７の構成を示す要部斜視図である。

【図１１】変形例８を説明するための概略平断面図であ
る。

【符号の説明】

１ … 搬入出ユニット ２ … 処理ユニット ３ … インターフェースユニット ４ … 露光ユニット ５ … カバー ６ … ＡＧＶ ２１ … スピンコーター ２２ … ベーキングユニット ２３ … スピンディベロッパー ２５ … 処理ユニット内の搬送ロボット ３１ … インターフェースユニット内の搬送ロボット ３５ … インターフェースユニットの露光ユニット側
の基板搬入出用の開口 ３８、５１ … パッキン ４１ … 露光機 ４３ … 露光ユニット内の搬送ロボット ４４ … 露光ユニットのインターフェースユニット側
の基板搬入出用の開口 ５３ … 長孔 ５４ … ネジ ＢＷ … インターフェースユニットと露光ユニットと
の間の隙間 Ｗ … 基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｄ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レジスト塗布、プリベーク、現像、ポス
   トベークなどの各工程を行なうための各種の処理装置を
   インライン化した処理ユニットと、露光工程を行なうた
   めの露光ユニットと、前記処理ユニットと前記露光ユニ
   ットとの間で基板の搬送を行なうインターフェースユニ
   ット（以下、「ＩＦユニット」と略す）を備えた基板処
   理装置において、 前記ＩＦユニットの前記露光ユニット側の基板搬入出用
   の開口と、前記露光ユニットの前記ＩＦユニット側の基
   板搬入出用の開口との間の基板搬送路の周囲に、前記Ｉ
   Ｆユニットおよび前記露光ユニットの内部雰囲気とその
   外部雰囲気とを遮断するカバーを設け、かつ、前記ＩＦ
   ユニットの前記露光ユニット側の基板搬入出用の開口
   と、前記露光ユニットの前記ＩＦユニット側の基板搬入
   出用の開口との間で前記カバーをスライド自在または伸
   縮自在に構成したことを特徴とする基板処理装置。