JPH0936408A - 薄膜太陽電池の製造方法及びインジウム−セレン合金の製造方法 - Google Patents

薄膜太陽電池の製造方法及びインジウム−セレン合金の製造方法

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JPH0936408A
JPH0936408A JP7189127A JP18912795A JPH0936408A JP H0936408 A JPH0936408 A JP H0936408A JP 7189127 A JP7189127 A JP 7189127A JP 18912795 A JP18912795 A JP 18912795A JP H0936408 A JPH0936408 A JP H0936408A
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JP
Japan
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indium
mmol
selenium
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sulfuric acid
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Withdrawn
Application number
JP7189127A
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English (en)
Inventor
Takeshi Kamiya
武志 神谷
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Yazaki Corp
Original Assignee
Yazaki Corp
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Publication date
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/541CuInSe2 material PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電着されるインジウム量が正確に制御でき
るインジウム及びセレンの同時メッキ方法を提供するこ
と。 【解決手段】 インジウム(III )イオン、亜セレン
酸イオン、硫酸及びクエン酸三ナトリウムの存在下で、
硫酸第一水銀電極に対して−1.21Vの電圧で電気メ
ッキを行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、インジウム−セレ
ン合金の製造方法及び銅−インジウム−セレン合金層を
有する薄膜太陽電池の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、薄膜太陽電池の吸収層として好適
に用いることができるCuInSe2三元合金層を得る
方法としては次のような方法が知られていた。すなわ
ち、導電板上に銅層及びインジウム層をこの順で、スパ
ッタリング或いはメッキなどの手段によって積層して、
いわゆるプリカーサを得、その後このプリカーサをセレ
ン化水素ガス下で加熱処理し三元合金を得ていた。
【0003】ところが、この方法によると、Cu2
e、In2 Se3 、Cu2 In、Cu 11In9 等の中間
生成物が形成された後、CuInSe2 合金(以下「C
IS合金」と云う)が形成される。
【0004】ここで、上記の中間生成物は、それぞれ異
なった配向性を有し、それぞれが別経路でCIS合金へ
と成長していくため、最終的に得られるCIS合金膜中
の合金結晶の配向性は低く、また結晶自体の大きさも小
さいものとなっていた。そのため、その後の処理によっ
て薄膜太陽電池を形成した場合に、光電変換効率が低い
ものとなっていた。
【0005】また、この従来技術のように、熱処理中気
相からセレン成分を導入すると、三元合金形成時にこれ
らメッキ層の厚さが膨張するが、その際に変形が大きす
ぎて、形成されたCIS合金層に、ひび、剥離などの欠
点が生じ、工程歩留まりが低いものとなっていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記問題を解決するに
は、インジウムとセレンとを銅層上に積層することが可
能であればよい。ここで本発明者等は、これらインジウ
ム及びセレンを含む層を電気メッキ法によって、銅層上
に形成したプリカーサーを得て、これを用いて太陽電池
を作製した。しかし、得られた太陽電池は、満足できる
ものではなかった。
【0007】その理由を検討した結果、メッキ層におけ
るインジウム及びセレンの比率が制御できず、そのた
め、銅層内の銅との量的関係を定めることができないの
で良好なCIS合金結晶が得られないことが判った。す
なわち、良好なCIS合金結晶を得るためには、下層で
ある銅層の銅元素と等量のインジウム元素が必要で、ま
た、少なくとも半分程度のセレン元素が必要であること
が判った。
【0008】本発明は、上記問題点、すなわち、電着さ
れるインジウム量が正確に制御できるインジウム及びセ
レンの同時メッキ方法を提供し、それによって良好な薄
膜太陽電池の吸収層を得る方法を提供することを目的と
する。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のインジウムセレン合金の製造方法、請求項
1に記載の通り、インジウム(III )イオン、亜セレン
酸イオン、硫酸及びクエン酸ナトリウムの存在下で、硫
酸第一水銀電極に対して−1.21Vの電圧で電気メッ
キを行う構成を有する。
【0010】
【発明の実施の形態】上記インジウム(III )イオンの
濃度が40mmol/ l以上60mmol/ l以上、亜セレン酸
イオン8mmol/ l以上12mmol/ l以下、硫酸が600
mmol/ l以上700mmol/ l以下で、かつ、クエン酸三
ナトリウムが40mmol/ l以上60mmol/ l以下の濃度
であると良好なメッキ層が得られるので望ましく、特
に、インジウム(III )イオンの濃度が50mmol/ l、
亜セレン酸イオン10mmol/ l、硫酸が650mmol/ l
で、かつ、クエン酸三ナトリウムが50mmol/ lの濃度
であることがより望ましい。
【0011】
【実施例】メッキ浴を、硫酸インジウムを50mmol/
l、二酸化セレン10mmol/ l、硫酸500mmol/ l及
びクエン酸ナトリウム50mmol/ lとなるようイオン交
換水に溶解して調整した。
【0012】[実施例1]青色ガラス板に、導電層とし
てモリブデンを2μmの厚さになるようスパッタリング
を行い、その上に銅を0.3μmの厚さにスパッタリン
グした。次いで、このものを正極とし上記メッキ浴中
で、参照電極である硫酸第一水銀電極に対して−121
0mVで、チタン/白金板を陰極として、電気量が3.
2C/cm2 となるよう電気メッキを行い、インジウム
−セレン層を形成した。
【0013】次いで、このインジウム−セレン層の解析
を行った。まず、エネルギー分散型X線分析装置(ED
X)によって、このインジウム−セレン層中のインジウ
ム原子とセレン原子の存在比を調べたところ38:62
であり、銅層中の銅原子とこのメッキ層におけるインジ
ウム原子との存在比はおよそ1:1であることが判っ
た。なお、X線回折分析を行ったところ、In2 Se3
の結晶に特徴的な2θ=25.9°付近(d=3.43
6)にピークが検出された。
【0014】[実施例2]実施例1と同様にして、青色
ガラス板上に、モリブデン層、銅層及びインジウム−セ
レン層をこの順番で形成し、このものをセレン蒸気雰囲
気下で25℃/分の昇温速度で550℃まで加熱して、
60分保持した後、室温まで自然放冷した。得られた試
料にはひび、及び剥離はなかった。
【0015】[実施例3]実施例2と同様にして、青色
ガラス板上に、モリブデン層、銅層及びインジウム−セ
レン層をこの順番で形成し、このものをセレン蒸気雰囲
気下で25℃/分の昇温速度で550℃まで加熱して、
60分保持した後、250℃まで自然放冷し、250℃
に1時間保った後、室温まで自然放冷した。得られた試
料にはひび、及び剥離等は観察されなかった。
【0016】[比較例]実施例と同様に、青色ガラス板
上に、モリブデン層、銅層をこの順番で形成し、このも
のを硫酸インジウムを50mmol/ l、硫酸500mmol/
l及びクエン酸ナトリウム50mmol/ lとなるようイオ
ン交換水に溶解して調整したメッキ浴中で、このものを
正極とし上記メッキ浴中で、参照電極である硫酸第一水
銀電極に対して−1210mVで、チタン/白金板を陰
極として、電気量が2.6C/cm2 となるよう電気メ
ッキを行い、インジウム層を形成した。
【0017】このものをセレン蒸気雰囲気下で25℃/
分の昇温速度で550℃まで加熱して、60分保持した
後、室温まで自然放冷した。得られた試料の表面には小
さなひびが生じており、また、一部には剥がれが生じて
いた。
【0018】上記、実施例2、実施例3及び比較例の処
理によって得られたサンプルについて、X線回折分析を
行った。その結果、これらにはCuInSe2 合金の結
晶が形成されており、その(112)面による回折強度
と、(204)面及び(220)面による回折強度との
比は、6.28(実施例2)、1.89(実施例3)及
び1.33(比較例)であり、本発明に係るCIS合金
層では、その結晶が大きく、また、充分に配向している
ことが明らかとなった。
【0019】
【発明の効果】本発明により、従来制御できなかったイ
ンジウム−セレン同時メッキにおける組成比が制御でき
るようになり、また、このインジウム−セレン層を用い
ることにより、結晶が大きく、ひびや剥がれがなく、配
向が充分な、極めて優れた薄膜太陽電池の吸収層を得る
ことができる。
【0020】これは、メッキ条件を特定のものにしたこ
とによって、インジウム原子の存在量とセレン原子の存
在量が2:3の比率の合金メッキが得られ、これによ
り、インジウム元素の量を銅層中の銅原子の存在量と同
量のすることが容易となり、従って、過剰のインジウム
や、過剰の銅が、或いはこれらとセレンとの化合物等
が、CIS合金結晶内に存在せず、また、これらを有効
に三元合金形成に用いることが可能となるので、大きく
成長した良好な結晶が得られる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 インジウム(III )イオン、亜セレン酸
    イオン、硫酸及びクエン酸三ナトリウムの存在下で、硫
    酸第一水銀電極に対して−1.21Vの電圧で電気メッ
    キを行うことを特徴とするインジウムセレン合金の製造
    方法。
  2. 【請求項2】 上記インジウム(III )イオンの濃度が
    40mmol/ l以上60mmol/ l以上、亜セレン酸イオン
    8mmol/ l以上12mmol/ l以下、硫酸が600mmol/
    l以上700mmol/ l以下で、かつ、クエン酸三ナトリ
    ウムが40mmol/ l以上60mmol/ l以下の濃度である
    ことを特徴とする請求項1に記載のインジウムセレン合
    金の製造方法。
  3. 【請求項3】 上記インジウム(III )イオンの濃度が
    50mmol/ l、亜セレン酸イオン10mmol/ l、硫酸が
    650mmol/ lで、かつ、クエン酸三ナトリウムが50
    mmol/ lの濃度であることを特徴とする請求項に2記載
    のインジウムセレン合金の製造方法。
  4. 【請求項4】 少なくとも表層が銅からなる導電体を正
    極として、インジウム(III )イオン、亜セレン酸イオ
    ン、硫酸及びクエン酸三ナトリウムの存在下で、硫酸第
    一水銀電極に対して−1.21Vの電圧で電気メッキを
    行い、銅層上にインジウムセレン合金を析出させ、その
    後、セレン含有雰囲気中で熱処理を行い銅−インジウム
    −セレン合金層を得ることを特徴とする薄膜太陽電池の
    製造方法。
JP7189127A 1995-07-25 1995-07-25 薄膜太陽電池の製造方法及びインジウム−セレン合金の製造方法 Withdrawn JPH0936408A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008300871A (ja) * 2008-08-18 2008-12-11 Watanabe Shoko:Kk 気化器、薄膜形成装置及びmocvd装置
JP2014502592A (ja) * 2010-12-27 2014-02-03 エヌウイクスセーイエス I−iii−vi2材料層とモリブデン基板間の改良された界面
US8679249B2 (en) 2007-10-18 2014-03-25 Lg Chem, Ltd. Process for preparation of compound containing 6A group element using reductant
CN105603475A (zh) * 2014-11-21 2016-05-25 北京有色金属研究总院 一种Ti-Ni基记忆合金表面镀铟方法

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