JPH0935534A - 透明電極基板 - Google Patents
透明電極基板Info
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- JPH0935534A JPH0935534A JP20843095A JP20843095A JPH0935534A JP H0935534 A JPH0935534 A JP H0935534A JP 20843095 A JP20843095 A JP 20843095A JP 20843095 A JP20843095 A JP 20843095A JP H0935534 A JPH0935534 A JP H0935534A
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- Japan
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- undercoat layer
- transparent electrode
- silicon dioxide
- glass substrate
- electrode substrate
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
- C03C2217/948—Layers comprising indium tin oxide [ITO]
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶表示素子などに用いられるガラス基板か
らのナトリウムイオンの溶出、拡散をより確実に減少さ
せる。 【解決手段】 ガラス基板上に二酸化ケイ素を主材とす
るアンダーコート層を介して酸化インジウム系の透明導
電膜を形成してなる透明電極基板において、アンダーコ
ート層にバリウムなどのアルカリ土類金属を含ませる。
らのナトリウムイオンの溶出、拡散をより確実に減少さ
せる。 【解決手段】 ガラス基板上に二酸化ケイ素を主材とす
るアンダーコート層を介して酸化インジウム系の透明導
電膜を形成してなる透明電極基板において、アンダーコ
ート層にバリウムなどのアルカリ土類金属を含ませる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は透明電極基板に関
し、さらに詳しく言えば、ガラス基板から溶出されるナ
トリウムイオンの拡散を阻止するバリヤーとしてのアン
ダーコート層を有する、特に液晶表示素子に用いられる
透明電極基板に関するものである。
し、さらに詳しく言えば、ガラス基板から溶出されるナ
トリウムイオンの拡散を阻止するバリヤーとしてのアン
ダーコート層を有する、特に液晶表示素子に用いられる
透明電極基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子においては、透明なガラス
基板上に酸化インジウム系の透明導電膜（透明電極）を
形成した透明電極基板の一対を、それらの間にシール材
を介在させて張り合わせ、そのセル内に例えばツィスト
ネマティックなどの液晶を封入するようにしている。
基板上に酸化インジウム系の透明導電膜（透明電極）を
形成した透明電極基板の一対を、それらの間にシール材
を介在させて張り合わせ、そのセル内に例えばツィスト
ネマティックなどの液晶を封入するようにしている。
【０００３】ところで、ソーダライムガラスに代表され
るガラス基板にはナトリウムが含まれているため、同ガ
ラス基板からナトリウムイオンが溶出し、これが液晶を
劣化させることが知られている。これを防止する意味
で、従来ではガラス基板上に透明導電膜を形成するに先
だって、ガラス基板上にナトリウムイオンの拡散を防止
するためのバリヤーとして、同ガラス基板上に二酸化ケ
イ素からなるアンダーコート層を形成するようにしてい
る。
るガラス基板にはナトリウムが含まれているため、同ガ
ラス基板からナトリウムイオンが溶出し、これが液晶を
劣化させることが知られている。これを防止する意味
で、従来ではガラス基板上に透明導電膜を形成するに先
だって、ガラス基板上にナトリウムイオンの拡散を防止
するためのバリヤーとして、同ガラス基板上に二酸化ケ
イ素からなるアンダーコート層を形成するようにしてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】確かに、二酸化ケイ素
のアンダーコート層によれば、ガラス基板から溶出する
ナトリウムイオンの拡散が防止されるのであるが、その
拡散防止効果をより充分なものとするためには、膜厚を
厚くすることで対処せざるを得ない。しかしながら、ア
ンダーコート層の膜厚を厚くすることは、生産性の低下
をもたらすばかりか、特に液晶表示素子においては、光
透過率低下の原因ともなり、好ましいものではない。
のアンダーコート層によれば、ガラス基板から溶出する
ナトリウムイオンの拡散が防止されるのであるが、その
拡散防止効果をより充分なものとするためには、膜厚を
厚くすることで対処せざるを得ない。しかしながら、ア
ンダーコート層の膜厚を厚くすることは、生産性の低下
をもたらすばかりか、特に液晶表示素子においては、光
透過率低下の原因ともなり、好ましいものではない。
【０００５】本発明者は、このような問題を解決すべく
種々の研究、試験を重ねた結果、ことさらアンダーコー
ト層の膜厚を厚くしなくとも、ガラス基板から溶出する
ナトリウムイオンの拡散を効果的に防止し得る新たな技
術を開発するに至った。
種々の研究、試験を重ねた結果、ことさらアンダーコー
ト層の膜厚を厚くしなくとも、ガラス基板から溶出する
ナトリウムイオンの拡散を効果的に防止し得る新たな技
術を開発するに至った。
【０００６】
【課題を解決するための手段】これが本発明であり、そ
の構成上の特徴は、ガラス基板上に二酸化ケイ素を主材
とするアンダーコート層を介して酸化インジウム系の透
明導電膜を形成するにあたって、上記アンダーコート層
にアルカリ土類金属を含ませたことにある。
の構成上の特徴は、ガラス基板上に二酸化ケイ素を主材
とするアンダーコート層を介して酸化インジウム系の透
明導電膜を形成するにあたって、上記アンダーコート層
にアルカリ土類金属を含ませたことにある。
【０００７】適用されるアルカリ土類金属としては、バ
リヤー効果および取り扱い性の面からストロンチウム、
カルシウムおよび特にバリウムが好ましく採用される。
アルカリ土類金属の含有量としては、ケイ素１００原子
当たり、０．５〜５０原子の範囲とするのが好ましい。
リヤー効果および取り扱い性の面からストロンチウム、
カルシウムおよび特にバリウムが好ましく採用される。
アルカリ土類金属の含有量としては、ケイ素１００原子
当たり、０．５〜５０原子の範囲とするのが好ましい。
【０００８】上記アンダーコート層をスパッタ法により
形成する場合、そのターゲットには二酸化ケイ素とアル
カリ土類金属酸化物との焼結体、もしくは二酸化ケイ素
およびアルカリ土類金属酸化物を含むガラスなどが用い
られる。なお、上記アンダーコート層は二酸化ケイ素お
よびアルカリ土類金属酸化物の前駆体となる無機もしく
は有機化合物を含む溶液もしくは分散液を塗布焼成する
などの方法によっても形成することができる。
形成する場合、そのターゲットには二酸化ケイ素とアル
カリ土類金属酸化物との焼結体、もしくは二酸化ケイ素
およびアルカリ土類金属酸化物を含むガラスなどが用い
られる。なお、上記アンダーコート層は二酸化ケイ素お
よびアルカリ土類金属酸化物の前駆体となる無機もしく
は有機化合物を含む溶液もしくは分散液を塗布焼成する
などの方法によっても形成することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。本発明において透明電極基板は例えばソーダ石灰
ガラスからなるガラス基板と、その一方の面に形成され
たアンダーコート層および透明導電膜とを備えている。
この場合、アンダーコート層は二酸化ケイ素を主材と
し、これにバリウム、ストロンチウム、カルシウムなど
のアルカリ土類金属を含ませたもので、ガラス基板から
溶出してくるナトリウムイオンの拡散を防止するバリヤ
ーとして作用する。アンダーコート層の厚さは特に限定
されないが、バリヤー性と生産性などの面から、１００
〜３００オングストロームの範囲が好ましく採用され
る。
する。本発明において透明電極基板は例えばソーダ石灰
ガラスからなるガラス基板と、その一方の面に形成され
たアンダーコート層および透明導電膜とを備えている。
この場合、アンダーコート層は二酸化ケイ素を主材と
し、これにバリウム、ストロンチウム、カルシウムなど
のアルカリ土類金属を含ませたもので、ガラス基板から
溶出してくるナトリウムイオンの拡散を防止するバリヤ
ーとして作用する。アンダーコート層の厚さは特に限定
されないが、バリヤー性と生産性などの面から、１００
〜３００オングストロームの範囲が好ましく採用され
る。
【００１０】また、透明導電膜は、例えば酸化インジウ
ムと酸化スズの混合膜により形成されている。この透明
電極基板が液晶表示素子に適用される場合、透明導電膜
はその透明電極を形成するために用いられる。上記アン
ダーコート層および透明導電膜は、例えばスパッタリン
グによって形成される。その装置としては円筒状の真空
槽内にモータなどの駆動手段にて回転可能であり、かつ
複数の基板を装着可能な基板固定枠と、１８０度の間隔
をもって対向するように配置された２つのターゲットと
をそれぞれ同軸に配置したものが例示される。
ムと酸化スズの混合膜により形成されている。この透明
電極基板が液晶表示素子に適用される場合、透明導電膜
はその透明電極を形成するために用いられる。上記アン
ダーコート層および透明導電膜は、例えばスパッタリン
グによって形成される。その装置としては円筒状の真空
槽内にモータなどの駆動手段にて回転可能であり、かつ
複数の基板を装着可能な基板固定枠と、１８０度の間隔
をもって対向するように配置された２つのターゲットと
をそれぞれ同軸に配置したものが例示される。
【００１１】この場合、第１のターゲットはアンダーコ
ート層を形成するためのもので、例えば二酸化ケイ素と
酸化バリウムとの焼結体あるいは二酸化ケイ素成分およ
び酸化バリウム成分を含むガラス（組成例：ＳｉＯ２／
ＢａＯ／ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３／Ａｌ２Ｏ３の重量％が４５
／４０／８／６／１）が用いられる。これに対して、第
２のターゲットは透明導電膜を形成するためのもので、
例えば酸化インジウムと酸化スズとの焼結体が用いられ
る。
ート層を形成するためのもので、例えば二酸化ケイ素と
酸化バリウムとの焼結体あるいは二酸化ケイ素成分およ
び酸化バリウム成分を含むガラス（組成例：ＳｉＯ２／
ＢａＯ／ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３／Ａｌ２Ｏ３の重量％が４５
／４０／８／６／１）が用いられる。これに対して、第
２のターゲットは透明導電膜を形成するためのもので、
例えば酸化インジウムと酸化スズとの焼結体が用いられ
る。
【００１２】この装置によれば、基板固定枠に複数のガ
ラス基板が取り付けられ、例えば真空度１×１０−５Ｔ
ｏｒｒ、ガラス基板温度２５０℃なるスパッタ条件のも
とで、各ガラス基板は同固定枠の回転に伴って、まず、
第１のターゲットからスパッタリングを受けて二酸化ケ
イ素と酸化バリウムとからなるアンダーコート層が形成
される。
ラス基板が取り付けられ、例えば真空度１×１０−５Ｔ
ｏｒｒ、ガラス基板温度２５０℃なるスパッタ条件のも
とで、各ガラス基板は同固定枠の回転に伴って、まず、
第１のターゲットからスパッタリングを受けて二酸化ケ
イ素と酸化バリウムとからなるアンダーコート層が形成
される。
【００１３】次に、第２のターゲットの位置に至った時
点で、同ターゲットよりスパッタリングを受けてアンダ
ーコート層上に例えば酸化インジウムと酸化スズの混合
膜からなる透明導電膜が形成される。
点で、同ターゲットよりスパッタリングを受けてアンダ
ーコート層上に例えば酸化インジウムと酸化スズの混合
膜からなる透明導電膜が形成される。
【００１４】
【実施例】次に、アンダーコート層にアルカリ土類金属
を含ませたことによるナトリウムイオン拡散防止効果を
確認するため、次のような実験を行なった。なお、以下
の各例においてナトリウムイオンの溶出量は、一対のガ
ラス基板の被測定面を対向させ、太さ３ｍｍ、直径３０
ｍｍのシリコンゴム製Ｏ−リングを介して圧着したとき
に形成される空間内を蒸留水で満たし、９０℃に２４時
間保持したときに、蒸留水中に溶出したナトリウムイオ
ンの濃度を分光法により測定し、被測定面の単位面積当
たりの溶出重量に換算した値であり、その単位はμｇ／
平方ｃｍである。
を含ませたことによるナトリウムイオン拡散防止効果を
確認するため、次のような実験を行なった。なお、以下
の各例においてナトリウムイオンの溶出量は、一対のガ
ラス基板の被測定面を対向させ、太さ３ｍｍ、直径３０
ｍｍのシリコンゴム製Ｏ−リングを介して圧着したとき
に形成される空間内を蒸留水で満たし、９０℃に２４時
間保持したときに、蒸留水中に溶出したナトリウムイオ
ンの濃度を分光法により測定し、被測定面の単位面積当
たりの溶出重量に換算した値であり、その単位はμｇ／
平方ｃｍである。
【００１５】〈比較例１〉何もコートしないソーダ石灰
ガラスについての上記試験によるナトリウムイオンの溶
出量は０．７μｇ／平方ｃｍであった。
ガラスについての上記試験によるナトリウムイオンの溶
出量は０．７μｇ／平方ｃｍであった。
【００１６】〈比較例２〉比較例１と同じソーダ石灰ガ
ラスに、スパッタ法により二酸化ケイ素を１５０オング
ストロームの厚さでコートしたもののナトリウムイオン
の溶出量は０．３μｇ／平方ｃｍであった。
ラスに、スパッタ法により二酸化ケイ素を１５０オング
ストロームの厚さでコートしたもののナトリウムイオン
の溶出量は０．３μｇ／平方ｃｍであった。
【００１７】〈比較例３〉コート層の厚さを２００オン
グストロームとすること以外は比較例２と同様にしたも
ののナトリウムイオンの溶出量は０．０２μｇ／平方ｃ
ｍであった。
グストロームとすること以外は比較例２と同様にしたも
ののナトリウムイオンの溶出量は０．０２μｇ／平方ｃ
ｍであった。
【００１８】《実施例１》比較例１と同じソーダ石灰ガ
ラスに、二酸化ケイ素と酸化バリウムとを４：１のモル
比で混合して成形した焼結体をターゲットとしたスパッ
タ法により、ターゲットとほぼ同じ割合で両成分を含有
するアンダーコート層を２００オングストロームの厚さ
で形成し、同様の試験を行なったところ、ナトリウムイ
オンの溶出量は０．０１μｇ／平方ｃｍであった。
ラスに、二酸化ケイ素と酸化バリウムとを４：１のモル
比で混合して成形した焼結体をターゲットとしたスパッ
タ法により、ターゲットとほぼ同じ割合で両成分を含有
するアンダーコート層を２００オングストロームの厚さ
で形成し、同様の試験を行なったところ、ナトリウムイ
オンの溶出量は０．０１μｇ／平方ｃｍであった。
【００１９】《実施例２》アンダーコート層の厚さを１
５０オングストロームとする以外は、実施例１と同様に
した場合のナトリウムイオンの溶出量は０．０２μｇ／
平方ｃｍであった。
５０オングストロームとする以外は、実施例１と同様に
した場合のナトリウムイオンの溶出量は０．０２μｇ／
平方ｃｍであった。
【００２０】《実施例３》ターゲットとして二酸化ケイ
素と酸化カルシウムとのモル比４：１の混合焼結体を使
用する以外は実施例１と同様にして、厚さ２００オング
ストロームのアンダーコート層を形成させた。この場合
のナトリウムイオンの溶出量は０．０１５μｇ／平方ｃ
ｍであった。
素と酸化カルシウムとのモル比４：１の混合焼結体を使
用する以外は実施例１と同様にして、厚さ２００オング
ストロームのアンダーコート層を形成させた。この場合
のナトリウムイオンの溶出量は０．０１５μｇ／平方ｃ
ｍであった。
【００２１】この結果、本発明によれば、比較例２と実
施例２との、あるいは比較例３と実施例１との対比から
明らかなように、同じ膜厚であればナトリウムイオンの
溶出量を大幅に少なくし得ることが確認された。
施例２との、あるいは比較例３と実施例１との対比から
明らかなように、同じ膜厚であればナトリウムイオンの
溶出量を大幅に少なくし得ることが確認された。
【００２２】また、比較例３と実施例２とを対比しても
分かるように、ナトリウムイオンの溶出量を同じとする
ならば、本発明の方がアンダーコート層の膜厚がより薄
くて済むことになる。なお、上記各比較例および各実施
例の比較を容易にするため、それらのデータを次表に示
す。
分かるように、ナトリウムイオンの溶出量を同じとする
ならば、本発明の方がアンダーコート層の膜厚がより薄
くて済むことになる。なお、上記各比較例および各実施
例の比較を容易にするため、それらのデータを次表に示
す。
【００２３】
【表１】
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ガラス基板上に二酸化ケイ素を主材とするアンダーコー
ト層を介して酸化インジウム系の透明導電膜を形成して
なる透明電極基板において、上記アンダーコート層にバ
リウム、カルシウムもしくはストロンチウムなどのアル
カリ土類金属を含ませたことにより、ガラス基板からの
ナトリウムイオンの溶出、拡散を二酸化ケイ素単独のア
ンダーコート層に比べて大幅に減少させることができ
る。
ガラス基板上に二酸化ケイ素を主材とするアンダーコー
ト層を介して酸化インジウム系の透明導電膜を形成して
なる透明電極基板において、上記アンダーコート層にバ
リウム、カルシウムもしくはストロンチウムなどのアル
カリ土類金属を含ませたことにより、ガラス基板からの
ナトリウムイオンの溶出、拡散を二酸化ケイ素単独のア
ンダーコート層に比べて大幅に減少させることができ
る。
【００２５】また、上記アルカリ土類金属を含むアンダ
ーコート層は、二酸化ケイ素とアルカリ土類金属酸化物
との焼結体、もしくは二酸化ケイ素成分とアルカリ土類
金属酸化物成分とを含むガラスをターゲットとするスパ
ッタ法などにより容易に形成することができるため、本
発明を実施するにあたって、特に新たな設備などを必要
としない。
ーコート層は、二酸化ケイ素とアルカリ土類金属酸化物
との焼結体、もしくは二酸化ケイ素成分とアルカリ土類
金属酸化物成分とを含むガラスをターゲットとするスパ
ッタ法などにより容易に形成することができるため、本
発明を実施するにあたって、特に新たな設備などを必要
としない。
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス基板上に二酸化ケイ素を主材とす
るアンダーコート層を介して酸化インジウム系の透明導
電膜を形成してなる透明電極基板において、上記アンダ
ーコート層にアルカリ土類金属が含まれていることを特
徴とする透明電極基板。 - 【請求項２】 上記アンダーコート層が二酸化ケイ素と
アルカリ土類金属との焼結体をターゲットとしてスパッ
タ法により形成されることを特徴とする請求項１に記載
の透明電極基板。 - 【請求項３】 上記アンダーコート層の厚さが１００〜
３００オングストロームであることを特徴とする請求項
１に記載の透明電極基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20843095A JPH0935534A (ja) | 1995-07-24 | 1995-07-24 | 透明電極基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20843095A JPH0935534A (ja) | 1995-07-24 | 1995-07-24 | 透明電極基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0935534A true JPH0935534A (ja) | 1997-02-07 |
Family
ID=16556090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20843095A Withdrawn JPH0935534A (ja) | 1995-07-24 | 1995-07-24 | 透明電極基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0935534A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013044975A1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Glas tube with infrared light reflective coating, method for manufacturing the glass tube, heat receiver tube with the glass tube, parabolic trough collector with the heat receiver tube and use of the parabolic trough collector |
-
1995
- 1995-07-24 JP JP20843095A patent/JPH0935534A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013044975A1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Glas tube with infrared light reflective coating, method for manufacturing the glass tube, heat receiver tube with the glass tube, parabolic trough collector with the heat receiver tube and use of the parabolic trough collector |
| AU2011377920B2 (en) * | 2011-09-30 | 2016-08-11 | Siemens Concentrated Solar Power Ltd. | Glass tube with infrared light reflective coating, method for manufacturing the glass tube, heat receiver tube with the glass tube, parabolic trough collector with the heat receiver tube and use of the parabolic trough collector |
| US10427976B2 (en) | 2011-09-30 | 2019-10-01 | Siemens Concentrated Solar Power Ltd. | Glass tube with infrared light reflective coating, method for manufacturing the glass tube, heat receiver tube with the glass tube, parabolic trough collector with the heat receiver tube and use of the parabolic trough collector |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021001 |