JPH09329892A - 樹脂組成物、そのフィルム及びその硬化物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】有機溶剤で現像ができ、パターン精度が良好
で、加熱焼成後の有機物の残渣が少なく、密着性に優れ
た抵抗体、蛍光体ね隔壁及び導体パターン用等の樹脂組
成物、フィルム及びその硬化物を提供する。 【解決手段】光重合可能な樹脂組成物（Ａ）及び／又は
非反応性樹脂（Ａ’）、希釈剤（Ｂ）光重合開始剤
（Ｃ）及び金属粉、金属酸化物又はガラスの中から選択
される１種又は２種以上（Ｆ）を含有することを特徴と
する樹脂組成物、フィルム及びその硬化物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イ、蛍光表示管及び電子部品等に用いる抵抗体パター
ン、導体回路パターン又は螢光体パターンあるいは隔壁
等の製造工程において好適に用いられ、紫外線による露
光、有機溶剤による現像後に４００〜１０００℃で焼成
することにより電流を安定的に流す為の良好な抵抗体パ
ターン、優れた導電性を有する回路パターン、螢光体パ
ターンあるいは隔壁等を形成する樹脂組成物、そのフィ
ルム、その硬化物及び焼成成型物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プラズマディスプレイ用の抵抗
体、螢光体及び隔壁、あるいは回路用導体は、抵抗体ペ
ースト（抵抗体をペースト状にしたもの）、螢光体ペー
スト（螢光体をペースト状にしたもの），隔壁ペースト
（隔壁用物質をペースト状にしたもの）及び導体ペース
ト（銅粉、銀粉等の導電物質をペースト状したもの）を
スクリーン印刷等によりパターン印刷し、次いで焼成す
ることにより抵抗体パターン、螢光体パターン及び隔壁
パターン、あるいは導体回路パターンを形成するものが
知られている。しかし、これらは近年の抵抗体パター
ン、螢光体パターン、隔壁パターン、あるいは導体回路
パターンの高密度、細線パターン化には対応できない。
さらに、従来の水を用いた現像法では、水がフィラーに
悪影響を及ぼし、好ましくない場合がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の樹脂組成物
は、上記の欠点を改良し、細密なパターン作成が可能で
紫外線で硬化後、有機溶剤で現像し、良好な抵抗体パタ
ーン、螢光体パターン、隔壁パターンあるいは導体回路
パターンを形成する樹脂組成物及びその硬化物を提供す
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、［１］光重合
可能な樹脂化合物（Ａ）及び／又は非反応性樹脂
（Ａ’）、希釈剤（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）及び金属
粉、金属酸化物又はガラスの中から選択される１種又は
２種以上（Ｆ）を含有し、有機溶剤で現像が可能な樹脂
組成物、［２］光重合可能な樹脂化合物（Ａ）及び／又
は非反応性樹脂（Ａ’）、希釈剤（Ｂ）、光重合開始剤
（Ｃ）、紫外線吸収剤（Ｄ）及び／又は着色剤（Ｅ）及
び金属粉、金属酸化物又はガラスの中から選択される１
種又は２種以上（Ｆ）を含有し有機溶剤で現像が可能な
樹脂組成物、［３］抵抗体パターン、導体パターン、螢
光体パターン又は隔壁パターン用の上記［１］及び
［２］記載の樹脂組成物、［４］上記［１］、［２］及
び［３］記載の組成物から成るフィルム、［５］上記
［１］、［２］、［３］及び［４］記載の組成物の硬化
物、［６］上記［５］記載の硬化物を焼成して得られる
抵抗体、導体、蛍光体及び隔壁、に関する。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で用いる樹脂（Ａ）は、１分子中に２個以上のエ
ポキシ基を有する化合物と１分子中に不飽和２重結合と
カルボキシル基を１つずつ有する化合物を反応させ、必
要に応じて多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られる
樹脂であり、具体例としては、特開平７−２５９５２８
記載の脂肪族グリシジルエーテルの（メタ）アクリレー
ト、特開平７−２８８１９４記載の不飽和基含有ポリカ
ルボン酸樹脂、特開平７−３１４８９０、特開平８−１
９２８３、特開平８−１９２８４及び特開平８−３３０
９９記載のポリ（メタ）アクリレート樹脂等が挙げられ
る。

【０００６】本発明で用いる非反応性樹脂（Ａ’）は、
例えば、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ールと多塩基酸又はその無水酸との反応物であるポリエ
ステル、アクリルポリマー、セルロース等が例示され、
好ましくは、特開平７−２５９５２６記載の水溶性ポリ
エーテル及び／又はポリエステル系化合物、特開平７−
２８８１９３記載のカルボキシル基含有ロジン及び／又
はフェノール系樹脂、特開平７−３１４８８８記載の水
溶性重合体及び特開平７−３１４８８９記載の部分けん
化ポリ酢酸ビニル等が例示される。

【０００７】本発明では希釈剤（Ｂ）を使用する。
（Ｂ）成分の具体例としては、例えば、２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル
（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ
（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレ
ート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有（メタ）ア
クリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレー
ト等）と多カルボン酸化合物の酸無水物（例えば、無コ
ハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等）の反応物
であるハーフエステル，ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキ
シトリ（メタ）アクリレート、グリセンポリプロポキシ
トリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオ
ペングリコールのε−カプロラクトン付加物のジ（メ
タ）アクリレート（例えば、日本化薬（株）製、ＫＡＹ
ＡＲＡＤ ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０、等）、ペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ
（メタ）アクリレート、モノ又はポリグリシジル化合物
（例えば、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシ
ジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、グリセリ
ンポリグリシジルエーテル、グリセリンポリエトキシグ
リシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシ
ジルエーテル、トリメチロールプロパンポリエトキシポ
リグリシジルエーテル、等）と（メタ）アクリル酸の反
応物であるエポキシ（メタ）アクリレート、等の反応性
希釈剤（Ｂ−１）、エチレングリコールモノアルキルエ
ーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、
ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類、エチレングリコールモノアリールエーテル類、ポリ
エチレングリコールモノアリールエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の
ケトン類、酢酸エステル、酢酸ブチル等のエステル類、
トルエン、キシレン、ベンジルアルコール等の芳香族炭
化水素類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、プ
ロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、
γ−ブチロラクトン、ソルベントナフサ等の有機溶剤類
（Ｂ−２）等を挙げることができる。希釈剤は、単独で
用いても良く、２種類以上を混合して用いても良い。

【０００８】光重合開始剤（Ｃ）の具体例としては、例
えば、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロク
チキキサントン、イソプロピルチオキサントン、２−メ
チル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モル
フォリノ−プロパン−１，２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタ
ノン、４−ベンゾイル−４′−メチルジフェニルスルフ
ィド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキサイド、ミヒラーズケトン、ベンジルジメ
チルケタール、２−エチルアンスラキノン等を挙げるこ
とができる。又、これら光重合開始剤（Ｂ）の促進剤と
しての光重合促進剤（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
安息香酸エチルエステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息
香酸イソアミルエステル等のアミン類）を併用すること
もできる。

【０００９】紫外線吸収剤（Ｄ）としては、ベンゾトリ
アゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、サリチル酸誘
導体及びシアノアクリレート誘導体が例示される。ベン
ゾトリアゾール誘導体としては、２−（２−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２
−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−
ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−３−（３，４，
５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキ
シ−３，５−ジ−ノニルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−５’−メタクリルオキシエ
チルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及びその共
重合物等、ベンゾフェノン誘導体としては、２，４−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシ
ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’
−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
トキシ−５−スルホベンゾン等、サリチル酸誘導体とし
ては、フェニルサリチレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニルサリチレート、ｐ−オクチルフェニルサリチレー
ト、２−エチルヘキシルサリチレート、ホモメンチルサ
リチレート等、シアノアクリレート誘導体としては、２
−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルア
クリレート、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニル
アクリレート等が例示される。

【００１０】着色剤（Ｅ）としては、染料、顔料等が例
示される。染料としては、天然染料及び合成染料等が例
示され、天然染料としては古代紫及びコチニール等の動
物染料、アイ及びアカネ等の植物染料及びミネラルカー
キ等の鉱物染料等、合成染料としては、ニトロソ染料、
ニトロ染料、アゾ染料、スチルベン染料、ピラゾロン染
料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、アクリ
ジン染料、キノリン染料、チアゾール染料、キノンイミ
ン染料、アジン染料、オキサジン染料、チアジン染料、
トリアジン染料、硫化染料、アントラキノン染料、イン
ジゴイド染料、フタロシアニン染料及び酸化染料が例示
され、さらに具体的には、カヤセットフラビン ＦＮ、
カヤセット フラビン ＦＧ、カヤセット イエロー
ＳＦ−Ｇ、カヤセット オレンジ ＳＦ−Ｒ、カヤセッ
ト レッド ＳＦ−４Ｇ、カヤセット レッド ＳＦ−
Ｂ、 カヤセット ブルー ＦＲ、 カヤセット イエ
ロー ２Ｇ、カヤセット イエロー ＧＮ、カヤセット
オレンジ Ｇ、カヤセット レッド Ｇ、カヤセット
レッド１３０、カヤセット レッド Ｂ、カヤセット
ブルー Ｎ、カヤセット ブラック Ｇ、カヤセット
ブラック Ｂ、カヤセット ブラック Ａ−Ｎ、カヤ
セットグリーン Ａ−Ｂ、カヤセット ブルー Ａ−
Ｄ、カヤセット イエロー Ａ−Ｇ、カヤセット オレ
ンジ Ａ−Ｎ、カヤセット レッド Ａ−Ｇ、カヤセッ
ト レッド Ａ−２Ｇ、カヤセットレッド Ａ−ＢＲ、
カヤセット バイオレット Ａ−Ｒ、カヤセット ブル
ーＡ−２Ｒ、カヤセット イエロー Ｅ−Ｇ、カヤセッ
ト イエロー Ｅ−ＡＲ、カヤセット レッド Ｅ−Ｃ
Ｇ、カヤセット レッド Ｅ−ＢＧ、カヤセットブルー
ＡＲＣ、カヤライト Ｂ、カヤライト ＯＳ及びカヤ
ライト ＯＳＮ（いずれも日本化薬（株）製）等が例示
される。また、顔料としては、亜鉛華、鉛白、塩基性硫
酸鉛、硫酸鉛、リポトン、硫化亜鉛、酸化チタン、酸化
アンチモン、カーボンブラック、アセチレンブラック、
ランプブラック、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒、ミネラ
ルブラック、アニリンブラック、シアニンブラック、黄
鉛、亜鉛黄、クロム酸バリウム、カドミウムイエロー、
黄色酸化鉄、黄土、チタン黄、鉛シアナミド、鉛酸カル
シウム、ナフトールイエローＳ、ハンザエロー１０Ｇ、
ハンザエロー５Ｇ、ハンザエロー３Ｇ、ハンザエロー
Ｇ、ハンザエローＧＲ、ハンザエローＡ、ハンザエロー
ＲＮ、ハンザエローＲ、ピグメントエローＬ、ベンジジ
ンイロー、ベンジジンエローＧ、ベンジジンエローＧ
Ｒ、パーマネントエローンＣＧ、バルケンファストエロ
ー５Ｇ、タートラジンレーキ、キノリンエローレーキ、
アンスラゲンエロー６ＧＬ、パーマネントエローＦＧ
Ｌ、パーマネントエローＨ１０Ｇ、パーマネントエロー
ＨＲ、アンスラピリジンエロー、赤口黄鉛、クロムバー
ミリオン、スダーンＩ、パーマネントオレンジ、リソー
ルファストオレンジ３ＧＬ、パーマネントオレンジＧＴ
Ｒ、ハンザエロー３Ｒ、バルカンファストオレンジョＧ
Ｇ、ベンジジンオレンジＧ、ペルシアンオレンジ、イン
ダンスレンブリリアントオレンジＲＫ、インダンスレン
ブリリアントオレンジＧＲ、酸化鉄、アンバー、パーマ
ネントブラウンＦＧ、パラブラウン、べんがら、鉛丹、
銀朱、カドミウムレッド、カドミウムマーキュリレッ
ド、アンチモン朱、パーマネントレッド４Ｒ、パラレッ
ド、ファイヤーレッド、パラクロロオルトアニリンレッ
ド、リソールファストスカーレットＧ、ブリリアントフ
ァストスカーレット、洋朱、ブリリアントカーミンＢ
Ｓ、パーマネントレッドＦ２Ｒ、パーマネントレッドＦ
４Ｒ、パーマネントレッドＦＲＬ、パーマネントレッド
ＦＲＬＬ、パーマネントレッドＦ４ＲＨ、バルカンファ
ストルビンＢ、バルカンファストピンクＧ、ライトファ
ストレッドトーナーＲ、パーマネントカーミンＦＢ、ピ
ラゾロンレッド、リソールレッド、レーキレッドＣ、レ
ーキレッドＤ、アンソシンＢ、ブリリアントスカーレッ
トＧ、リソールルビンＧＫ、パーマネントレッドＦ５
Ｒ、ブリリアントカ０ミン６Ｂ、ピグメントスカーレッ
ト３Ｂ、ボルドー５Ｂ、トルイジンマルーン、パーマネ
ントボルドーＦ２Ｒ、ヘリオボルドーＢＬ、ボルドー１
０Ｂ、ボンマルーンライト、ボンマルーンメジアム、エ
オシンレーキ、ローダミンレーキＢ、ローダミンレーキ
Ｙ、アリザリンレーキ、チオインジゴレッドＢ、チオイ
ンジゴマルーン、パーマネントレッドＦＧＲ、ＰＶカー
ミンＨＲ、モノライトファストレッドＹＳ、パーマネン
トレッドＢＬ、コバルト紫、マンガン紫、ファストバイ
オレットＢ、メチルバイオレットレーキ、ジオキサジン
バイオレット、群青、紺青、コバルトブルー、セルリア
ンブルー、呉須、アルカリブルーレーキ、ピーコックブ
ルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、無金属フタロシ
アニンブルー、フタロシアニンブルー、ファストスカイ
ブルー、インダンスレンブルーＲＳ、インダンスレンブ
ルーＢＣ、インジゴ、クロムグリーン、ジンクグリー
ン、酸化クロム、ビリジアン、エメラルドグリーン、コ
バルトグリーン、ピグメントグリーンＢ、ナフトールグ
ルーンＢ、グリーンゴールド、アシッドグリーンレー
キ、マラカイトグリーンレーキ、フタロシアニングリー
ン、ポリブロム銅フタロシアニン、硫化亜鉛、珪酸亜
鉛、硫化亜鉛カドミウム、硫化カルシウム、硫化ストロ
ンチウム及びタングステン酸カルシウム等が例示され
る。

【００１１】金属粉、金属酸化物又はガラス（Ｆ）の具
体例としては、例えば、好ましくは粒径が１０μｍ以下
である酸化ルテニウム、酸化イットリウム、酸化ユーロ
ピウム、酸化サマリウム、酸化セリウム、酸化ランタ
ン、酸化プラセオジム、酸化ネオジム、酸化ガドリニウ
ム、酸化テルビウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミ
ウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、等の金属酸化物
あるいは混合物、Ｙ₂ Ｏ₃ ：Ｅｕ、ＹＶＯ₄ ：Ｅｕ、
（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃ ：Ｅｕ、ＢａＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ、Ｚ
ｎ₂ ＳｉＯ₄ ：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ、Ｂａ
ＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₇：Ｅｕ、ＭｇＯ、ＬａＢ₆ 、Ａｌ、Ｌａ
_0.5 Ｓｒ_0.5 ＣｏＯ₃ 、Ｌａ_0.7 Ｓｒ_0.3 ：ＭｎＯ
₃ 等、銅粉、銀粉、パラジウム粉、銀とパラジウムの混
合粉、表面処理された金粉、ランタン、セリウム、サマ
リウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、ユウ
ロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウ
ム、ホルミウム、ツリウム、エルビウム、ルテニウム、
イットリウム、スカンジウム等の金属粉あるいは混合
物、ガラス粉、ガラスビーズ等、を挙げることができ
る。これらが有する特性により，抵抗体用組成物、導体
回路用組成物、螢光体用組成物、隔壁用組成物等に応用
することができる。

【００１２】本発明の樹脂組成物は（Ａ）及び／又は
（Ａ’）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）及び／又は（Ｅ）及
び（Ｆ）の各成分を溶解、混合、混練することにより調
製することができる。本発明の樹脂組成物中、各成分の
使用割合は以下のようにすることができる（％は重量
％）。（Ａ）＋（Ｂ−１）＋（Ｃ）の合計した使用量は
組成物に対して５〜６０％が好ましく、特に好ましくは
１０〜５０％である。（Ｆ）成分は、組成物中、４０〜
９５％が好ましく、特に好ましくは５０〜９０％であ
る。（Ｄ）又は（Ｅ）成分の添加量は、（Ａ）＋（Ｂ−
１）に対して、０．０００１〜２０％が好ましく、特に
好ましくは０．００５〜１０％である。（Ａ）＋（Ｂ−
１）＋（Ｃ）の合計量の中に占める各成分の好ましい使
用量は、（Ａ）成分の使用量は、３０〜９０％、（Ｂ−
１）成分の使用量は、５〜６５％、（Ｃ）成分の使用量
は、５〜３０％である。有機溶剤（Ｂ−２）の使用量
は、本発明の組成物を使用するために適当な粘度調整等
の目的のために任意の割合で使用することができる。

【００１３】本発明の樹脂組成物には、その性能を阻害
しない範囲で、レベリング剤、消泡剤、カップリング
剤、重合禁止剤、ワックス類、その他等を使用すること
もできる。

【００１４】本発明の樹脂組成物は、前述のように抵抗
体用組成物、螢光体用樹脂組成物、隔壁用樹脂組成物、
導体回路用樹脂組成物として用いることができ、これら
は、スクリーン印刷、カーテンフローコート、スプレー
コート等の方法により、各種基板（例えば、ガラス、セ
ラミック及び金属等）上の全面に塗布される。塗布後、
必要に応じて遠赤外線又は温風により５０〜２５０℃程
度にプリベークし、有機溶剤を除去した後、パターニン
グしたい部分だけ紫外線を通すようにしたネガマスクを
用いて紫外線を露光する。紫外線の露光量としては１０
〜１００００mJ/cm²が好ましい。次に液温１０〜６０℃
の有機溶剤でスプレーなどの手段で現像を行ない、次い
で、例えば、４００〜１０００℃で１〜２４時間、焼成
しパターンを形成する。

【００１５】現像液として使用する有機溶剤としては、
プロパン、ｎ−ブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、
イソヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、イソオク
タン、ｎ−デカン、２，２−ジメチルブタン、石油エー
テル、石油ベンジン、リグロイン、ガソリン、ケロシ
ン、石油スピリット、石油ナフサ、エチレン、２−ペン
テン、混合ペンテン、シクロへキサン、メチルシクロへ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン、ジエチルベンゼン、イソプロピリベンゼン、アミル
ベンゼン、ジアミルベンゼン、トリアミルベンゼン、テ
トラアミルベンゼン、ドデシルベンゼン、ジドデシルベ
ンゼン、アミルトルエン、コールタールナフサ、ソルベ
ントナフサ等の炭化水素類、塩化メチル、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化エチル、塩化エチ
レン、塩化エチリデン、１，１，１−トリクロロエタ
ン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−
テトラツロロエタン、１，１，２，２，−テトラクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタ
ノール、イソブタノール、第二ブタノール、第三ブタノ
ール、ｎ−アミルアルコール、３−ペンタノール、フゼ
ル油、ｎ−ヘキサノール、メチルアミルアルコール、２
−エチルブタノール、ｎ−へプタノール、２−へプタノ
ール、３−へプタノール、ｎ−オクタノール、２−オク
タノール、２−エチルヘキサノール、３，３，５−トリ
メチルヘキサノール、ノナノール、ｎ−デカノール、ウ
ンデカノール、ｎ−ドデカノール、シクロヘキサノー
ル、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テト
ラヒドロフルフリルアルコール、α−テルピネオール等
のアルコール類、エチルエーテル、ジクロルエチルエー
テル、イソプロピルエーテル、ｎ−ブチルエーテル、メ
チルフェニルエーテル、エチルフェニルエーテル、ｎ−
ブチルフェニルエーテル、アミルフェニルエーテル、エ
チルベンジルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル及びアセタール類、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−ｎ−ア
ミルケトン、ジエチルケトン、シクロへキサノン、メチ
ルシクロへキサノン等のケトン類、ギ酸メチル、ギ酸メ
チル、ギ酸イソブチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチ
ル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸
メチル、酪酸エチル、乳酸エチル等のエステル類、エチ
レングリコール、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多
価アルコール類、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチ
ルアミン、エチレンジアミン、アニリン、シクロヘキシ
ルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ピリジン、モ
ルホリン、エチルモルホリン、フェニルモルホリン等の
窒素化合物、二硫化炭素、ジメチルスルホキシド等が例
示される。これら有機溶剤は、単独でも、二種類以上を
混合しても良く、必要に応じて、水を添加しても良い。

【００１６】現像液には、界面活性剤を添加しても良
い。界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエ
ーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソ
ルビタンアルキルエステル類、ポリオキシエチレンソル
ビタンアルキルエステル類等が例示される。

【００１７】又、フィルムとして使用するときは本発明
の樹脂組成物を、例えば、ワイヤーバー方式、ディッピ
ング方式、スピンコート方式、グラビア方式及びドクタ
ーブレード方式等を用いて離型フィルム等に塗布し、必
要に応じて遠赤外線又は温風により５０〜２５０℃で乾
燥し、さらに、必要に応じて離型フィルム等を張り付け
る。使用時は、離型フィルムをはがして基板に転写し、
前記とのパターニングの方法と同様に露光、現像、焼成
によりパターンを形成する。

【００１８】

【実施例】以下、実施例１〜５により本発明を説明す
る。例中、部とは重量部を表す。表１に示す組成にした
がって隔壁及び蛍光体用樹脂組成物を調製した。得られ
た樹脂組成物をガイドを用いてガラス基板上の全面に膜
厚１３０μｍ（乾燥膜厚）で塗布し、８０℃で３０分間
プリベークした後、ネガフィルム（ライン／スペ−ス＝
１５０μｍ／１５０μｍ）を接触させ超高圧水銀灯によ
り１５００mJ/cm² 照射し、次いで未露光部を現像液
（４０℃）を用いてスプレー圧２kg/cm ² で２分間現像
した。現像後、空気中、５００℃で１時間焼成し、隔壁
及び蛍光体パターンを形成した。パターン中の残存樹脂
分、現像性、現像後のパターンの状態、焼成後のガラス
基板との密着性を評価した。

【００１９】（反応物（Ａ）の合成例） 合成例 かくはん装置及び冷却管のついた丸底フラスコに、共重
合型エポキシ樹脂（日本油脂（株）製、ブレンマーＣＰ
−５０Ｍ、エポキシ当量３１０、平均分子量６０００）
３１０部、アクリル酸７２部、トリフェニルホスフィン
１．８部、メチルハイドロキノン０．３部及びプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート４００部を
仕込み、６０℃に昇温、溶解した後、９５℃で３２時間
反応させ、平均分子量７０００、樹脂固形分５０％の不
飽和基含有樹脂を得た。

【００２０】

【表１】 表１ 実 施 例 １ ２ ３ ４ 合成例で得た重合体溶液 20.0 12.0 パオゲンＥＰ−１５ ＊１ 10.0 6.0 テトラエチレングリコールジグリシジル 5.0 3.0 エーテルのジアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＨＥ−３３０ ＊２ 5.0 2.5 ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＰＧＤＡ ＊３ 3.0 2.0 ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ ＊４ 0.25 0.1 0.5 0.5 ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＥＰＡ ＊５ 0.25 0.1 0.5 0.5 Ｉｒｇ−６５１ ＊６ 0.1 低融点ガラス粉末混合物 30 30 30 Ｙ₂ Ｏ₃ ：Ｅｕ 30 ＲＵＶＡ９３ ＊７ 0.01 0.01 カーボンブラック ＊８ 0.01 残存有機物（ｗｔ％） 0.2 0.3 0.1 0.15 現像性（ＭＥＫ） ○ ○ ○ ○ 現像後のパターンの状態 ○ ○ ○ ○ 密着性 ○ ○ ○ ○

【００２１】注 ＊１ パオゲンＥＰ−１５：ポリエーテルポリエステル
ポリマー（第一工業製薬（株）製） ＊２ ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＨＥ−３３０：ＥＯ変性トリ
メチロールプロパントリアクリレート（日本化薬（株）
製） ＊３ ＫＡＹＡＲＡＤ ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリ
コールジアクリレート（日本化薬（株）製） ＊４ ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ：２，４−ジエ
チルチオキサントン（日本化薬（株）製） ＊５ ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＥＰＡ：日本化薬（株）製、
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル ＊６ Ｉｒｇ−６５１：チバ−ガイギー（株）製、２，
２−ジメチキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン ＊７ ＲＵＶＡ９３：２−（２−’ヒドロキシ−５’−
メタクリルオキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾチア
ゾール（大塚化学（株）製） ＊８ カーボンブラック：

【００２２】実施例５ 実施例１の樹脂組成物を乾燥後の膜厚が１３０μｍにな
るように離型フィルムに塗布し、８０℃で３０分乾燥し
フィルムを得た。このフィルムをガラス基板に転写し、
ネガフィルムを接触させ超高圧水銀灯により１５００mJ
/cm ² 照射し、次いで、未露光部をＭＥＫ（４０℃）で
スプレー圧２kg/cm ² で２分間現像した。現像後、空気
中、５００℃で１時間焼成し、隔壁パターンを形成し
た。パターン中の残存樹脂分、現像性、現像後のパター
ンの状態、焼成後のガラス基板との密着性はすべて○で
あった。

【００２３】（残存有機分）：４５０または６００℃で
３０分加熱焼成後の重量減少分を測定 （現像性）：有機溶剤系現像液で、液温４０℃でスプレ
ー圧２kg/cm ² で２分間現 像し、以下の様
に評価した ○・・・・完全に現像できた △・・・・わずかに残渣がある ×・・・・現像されない部分がある （現像後のパターンので状態）： ○・・・・パターンは正確に維持されている △・・・・パターンの幅が細くなっている ×・・・・パターン部分の一部または、全部剥がれてい
る （密着性）：セロテープ剥離試験を行なった ○・・・・全く剥がれない △・・・・極一部剥がれがある ×・・・・剥がれの部分が多い

【００２４】実施例１〜５の結果から明らかなように、
本発明の樹脂組成物、フィルム及びその硬化物は、現像
性に優れ、現像後のパターン精度が良好で、焼成後の有
機物の残存が少なく、密着性に優れている。

【００２５】

【発明の効果】本発明の樹脂組成物及びフィルムは、パ
ターンを形成したフィルムを通して選択的に紫外線によ
り露光し、未露光部分を現像することによる抵抗体、螢
光体、隔壁あるいは導体回路のパターン形成において、
現像性に優れ、現像後のパターン精度が良好で、低温に
て焼成しても有機物の残存が少なく、密着性に優れてい
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 3/12 7511−4Ｅ Ｈ０５Ｋ 3/12 Ｂ // Ｃ０８Ｆ 2/48 ＭＤＨ Ｃ０８Ｆ 2/48 ＭＤＨ Ｃ０９Ｄ 4/00 ＰＤＱ Ｃ０９Ｄ 4/00 ＰＤＱ ＰＥＮ ＰＥＮ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光重合可能な樹脂化合物（Ａ）及び／又は
   非反応性樹脂（Ａ’）、希釈剤（Ｂ）、光重合開始剤
   （Ｃ）及び金属粉、金属酸化物又はガラスの中から選択
   される１種又は２種以上（Ｆ）を含有し、有機溶剤で現
   像が可能な樹脂組成物。
2. 【請求項２】光重合可能な樹脂化合物（Ａ）及び／又は
   非反応性樹脂（Ａ’）、希釈剤（Ｂ）、光重合開始剤
   （Ｃ）、紫外線吸収剤（Ｄ）及び／又は着色剤（Ｅ）及
   び金属粉、金属酸化物又はガラスの中から選択される１
   種又は２種以上（Ｆ）を含有し、有機溶剤で現像が可能
   な樹脂組成物。
3. 【請求項３】抵抗体パターン、導体パターン、螢光体パ
   ターン又は隔壁パターン用の請求項１及び２記載の樹脂
   組成物。
4. 【請求項４】請求項１、２及び３記載の樹脂組成物から
   成るフィルム。
5. 【請求項５】請求項１、２、３及び４記載の樹脂組成物
   の硬化物。
6. 【請求項６】請求項５記載の硬化物を焼成して得られる
   抵抗体、導体、蛍光体及び隔壁。