JPH09327615A - 排気処理装置 - Google Patents

排気処理装置

Info

Publication number
JPH09327615A
JPH09327615A JP8149273A JP14927396A JPH09327615A JP H09327615 A JPH09327615 A JP H09327615A JP 8149273 A JP8149273 A JP 8149273A JP 14927396 A JP14927396 A JP 14927396A JP H09327615 A JPH09327615 A JP H09327615A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning liquid
liquid
gas
impurities
swirl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8149273A
Other languages
English (en)
Inventor
Kentaro Uchiyama
健太郎 内山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP8149273A priority Critical patent/JPH09327615A/ja
Publication of JPH09327615A publication Critical patent/JPH09327615A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 気液接触処理型の排気処理装置において、気
液接触部の閉塞や排気処理効率の低下を招くという問題
点があった。また、洗浄液を多量に消費するという問題
点を有していた。 【解決手段】 処理塔2内に滞留する洗浄液5に渦を発
生させ、渦の中心の不純物の多い処理液を処理塔外へ排
出させ、渦の周辺部の不純物の少ない処理液を洗浄液と
して再循環させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、排気処理装置に関
し、特に洗浄液を循環させて使用する排気処理装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】工場排気、例えば化学気液成長処理後の
工場排気は、有害成分を含有する。その有害成分を除去
するための排気処理装置が、実開平6ー12476号公
報に記載されている。その従来の排気処理装置を図6を
用いて説明する。処理塔32には前工程で生じた工場排
気を導入する排風機31が設けられている。その塔32
内に吸い込まれた工場排気はノズル38、40から噴出
される洗浄液と気液接触部36で接触されて、工場排気
の不純物が取り除かれる。清浄になった工場排気は、処
理塔32の上部から排出され、一方、洗浄液に溶けない
粉体や反応生成物等の不純物を含む洗浄液は処理塔32
の底部に溜留する。滞留した洗浄液41はポンプ37で
汲み上げられ配管36を介してノズル38に送出され
る。すなわち、洗浄液41は強制的に処理塔の底部から
抜き取られ循環再利用される。また、処理塔32には、
新しい洗浄液を処理塔32に導入するためのノズル40
とポンプ39が設けられている。さらに、洗浄液41が
定水位を越えた場合に、その洗浄液41を排出するため
の配管33およびポンプ35が設けられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】気液接触部33で工場
排気と洗浄液が混合されると、反応生成物や粉体等の不
純物は、工場排気から分離され、処理液41内に存在す
る。この不純物42は、処理液41と一緒にポンプ37
により回収されてノズル38から噴出されるために、気
液接触部33の閉塞や排気処理効率の低下を招くという
問題点があった。
【0004】また、新洗浄液との置換についても、循環
再利用している洗浄液とほぼ同程度の純度の液をそのま
ま排水配管34から排出している。したがって、処理塔
内部の処理液の純度をある一定水準に保つために新しい
洗浄液を多量に消費しなければならないという問題点を
有していた。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、気液接
触部の閉塞しにくくすることにある。本発明の別の目的
は、排気処理効率の向上である。本発明の更なる目的
は、処理液の消費量を減らすことにある。
【0006】本発明の排気処理装置は、処理塔の底部に
滞留した洗浄液を回転させて渦を発生させる手段と、渦
の周辺部の洗浄液を抜き取り、処理塔の上部から放出さ
せる手段と、渦の中央部の洗浄液を抜き取り、処理塔外
へ排出させる手段を有するを特徴とする。
【0007】上記の特徴により、反応生成物や粉体等の
不純物は、洗浄液の回転により処理塔の中心に集中す
る。したがって、この不純物の濃度が高い洗浄液を排出
し、不純物の濃度が低い洗浄液を再利用することができ
る。
【0008】
【実施の形態】本発明の前記並びにその他の目的、特
徴、および効果をより明確にすべく、以下図面を用いて
本発明の実施の形態につき詳述する。
【0009】図1は、本発明の第1の実施形態の排気処
理装置の断面図である。
【0010】処理塔2には、工場排気、例えば、半導体
処理での化学気相成長処理(CVD)により発生した工
場排気を吸引して処理塔2の内部に導入する排風機1が
設けられている。処理塔2は、FRP(ファイバーレイ
ンフォースプラスチック)からなる。その工場排気は、
ノズル7、13から排出される洗浄液と気液接触部3で
気液接触される。洗浄液は、その工場排気の性質により
選択される。例えば、CVD処理により発生するガスに
対しては、シランの粉体等により酸性度が強いためNA
OH等のアルカリ溶液が用いられ、逆にアルカリ度が強
いガスに対しては硫酸等の酸性溶液が用いられ、PH度
が強くないガスに対しては水溶液が用いられる。気液接
触により、洗浄液には、溶解した工場排気に含まれる不
純物と、溶解しない粉体や気液接触で反応し生成した反
応生成物からなる不純物16が混合する。その不純物を
含有した洗浄液14は、処理塔2の底部に滞留する。一
方、気液接触部3により清浄化された工場排気は、一定
の濃度以下であることを確認後排突10により大気に放
出される。新洗浄液導入用のノズル13は、気液接触部
3の上側に設けられており、新しい洗浄液は処理液タン
ク(図示せず)から処理塔2内にポンプ11、配管12
により導入される。処理塔2の中央部の底部付近には排
水口18が設けられ、滞留した洗浄液14は、排水口1
8、配管9を介して排水ポンプ8により処理塔2外へ強
制排水される。強制排気された処理液は排水処理プラン
ト(図示せず)へ転送される。この排水される液量は、
ノズル13により導入される液量とほぼ同一の量であ
り、処理塔2内の洗浄液の量はほぼ一定に保たれてい
る。処理塔2の底部の側面部には、洗浄液循環口6が設
けられ、ポンプ4により配管5を介して洗浄液循環用の
ノズル7に導入される。処理塔2の底部且つ中央部に
は、攪拌機17が設けられている。攪拌機17は滞留し
ている洗浄液14を回転させ、渦巻きを発生させる。こ
の渦巻きにより、渦の中央部には反応生成物や洗浄液に
溶解しなかった粉体等の不純物16が集中し、渦の周辺
部には比較的不純物の少ないクリーンな洗浄液となる。
このことより、渦の中央部の不純物の多く含む洗浄液
は、排水口18により処理塔2外に排出され、渦の周辺
部のクリーンな洗浄液は、洗浄液循環口6を介して再利
用される。
【0011】以上のことより、本発明の排気処理装置
は、不純物の少ない処理液が気液接触部3に導入される
ことより気液接触部3の閉塞の低減が可能である。ま
た、気液接触部3が閉塞することがないので、排気処理
効率低減を軽減できるという効果を奏する。さらに、本
発明の排気処理装置は、不純物の少ない洗浄液を効率的
に取り出すことをできるので、新しい処理液を多く導入
する必要が無く、洗浄液の消費を低減できるという効果
を奏する。
【0012】図2は、気液接触部3を示す図であって、
図2(a)、(b)は、それぞれ多孔板式気液接触部の
平面図および断面図、図2(c)、(d)は、充填物式
気液接触部の平面図および断面図である。多孔板式気液
接触部は、径が数mmの貫通孔19が設けられている。充
填物式気液接触部は、握り拳程度の樹脂製の充填剤20
で満たされた構成からなる。
【0013】図3は、本発明の第2の実施形態の排気処
理装置の断面図である。なお、図1と同一構成の物には
同一の番号を設けている。気液接触部3の一面には静圧
端子21が、他面には静圧端子22とが設けられ、夫々
の端子の出力を入力する差圧計23が設けられ、その差
圧計23は、気液接触部3の一面と他面側の差圧を計測
する。差圧は、不純物、ゴミなどが孔や充填剤に付着
し、その程度により発生する。その差圧計23から得ら
れた差圧は差圧発信器24にて差圧信号に変換され、そ
の差圧信号は制御器25に入力される。制御器25で
は、その差圧信号に応じて、攪拌機17の回転数を制御
する制御信号を出力する。この制御器25は、ある規定
レベルから第1のレベルの差圧信号までは、攪拌機17
の回転数を0とし、第1のレベルを超える差圧信号で
は、攪拌機17を第1の回転数で回転させ、さらに、第
1のレベルを超え第2のレベルに達する差圧信号に達す
ると、攪拌機17を第1の回転数よりも高い回転数で回
転させるさせる制御信号を発生させる。以上のことか
ら、平常時の攪拌機17は停止しており、洗浄液内の不
純物が増加し、気液接触部3から得られる差圧が第1の
レベルを超えたときに攪拌機を回転させ、さらに、洗浄
液内の不純物の量に応じて攪拌機の回転数を上げるとい
う機能を有している。
【0014】これにより、第2実施の形態の処理装置
は、洗浄液内の不純物が少ないときには攪拌機を運転さ
せるための電力消費量の削減が図れるという効果を奏す
る。
【0015】図4は、本発明の第3の実施形態の排気処
理装置の図面である。第4図(a)の断面図が示すとお
り、渦巻きを発生させる手段は、洗浄液循環口6から吸
い込まれた洗浄液を分水器26で分けた洗浄液のうち一
方をノズル7に送り、他方をノズル27、28へ送る手
段を有する。第4図(b)は、第4図(a)の平面図で
ある。吸水ノズル27、28が処理塔2の内壁面に対
し、一定の角度かつ同一方向に設けられている。この吸
水ノズル31、32から洗浄液が出力されることより、
洗浄液5には、渦巻きが発生する。
【0016】このことより、第1の形態のようにモータ
や攪拌機のようなメカニカルな装置は必要ないので故障
しにくいという効果を奏する。
【0017】図5は、本発明の第4の実施形態の排気処
理装置の断面図である。この実施の形態は、不純物に
は、洗浄液よりも重い比重の物、同程度の比重の物、軽
い比重の物があることに注目してなされたものである。
排液口18cは滞留した洗浄液の液面付近に設けられ、
排液口18aは滞留した洗浄液の液底付近に設けられ、
排液口18bは、排液口18a,18cの中間付近の高
さに設けられている。このことから、比重の重い底面に
滞留する不純物は、排出口18aから排出され、比重の
軽い処理液の上部に浮游する不純物は、排出口18cか
ら排出され、洗浄液と同程度の比重の不純物は排出口1
8bから排出される。
【0018】本発明の各実施の形態は、夫々の組み合わ
せを可能とする。
【0019】本願発明は、上記記載に限るわけではな
く、発明のスコープが変わらない限り、変更は可能であ
る。例えば、ノズルの高さを変化できるようにしても良
い。また、工場排気の導入口または排出口は一つに限る
必要は全然ない。また、気液接触部は一枚に限る必要は
ない。
【0020】
【発明の効果】以上のことより、本発明の排気処理装置
は、不純物の少ない処理液が気液接触部3に導入される
ことより気液接触部3の閉塞の低減が可能である。ま
た、気液接触部3が閉塞することがないので、排気処理
効率低減を軽減できるという効果を奏する。さらに、本
発明の排気処理装置は、一定の純度を保つために多くの
新しい処理液を導入する必要が無く、処理液の消費を低
減できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1形態の排気処理装置の断面図であ
る。
【図2】本発明の気液接触部の図面であって、図2
(a)、(b)は、それぞれ多孔板式気液接触部の平面
図および断面図、図2(c)、(d)は、それぞれ充填
物式気液接触部の平面図および断面図である。
【図3】本発明の第2形態の排気処理装置の断面図であ
る。
【図4】本発明の第3形態の排気処理装置であって、図
4(a)は、その排気処理装置の断面図、図4(b)
は、その排気処理装置の上面図である。
【図5】本発明の第4形態の排気処理装置の断面図であ
る。
【図6】従来の排気処理装置の断面図である。
【符号の説明】
1 排風機 2 処理塔 3 気液接触部 4、8、11 ポンプ 5、9、12 配管 6 洗浄液循環口 7、13、27、28 ノズル、 10 排突 14 洗浄液 15 モータ 16 不純物 17 攪拌機 18 排水口 19 貫通孔 20 充填剤 21、22 静圧端子 23 差圧計 24 差圧発信器 25 制御器 26 分水器

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 工場排気の不純物を取り除くための排気
    処理装置であって、処理塔の底部に滞留した洗浄液を回
    転させて渦を発生させる手段と、前記渦の周辺部の洗浄
    液を抜き取り、前記処理塔の上部から前記処理塔内に放
    出させる手段と、前記渦の中央部の洗浄液を抜き取り、
    前記処理塔外へ排出させる手段を有するを特徴とする排
    気処理装置。
  2. 【請求項2】 処理塔と、前記処理塔の内部で洗浄液お
    よび工場排気とを気液接触させ前記工場排気から不純物
    を除き、前記気液接触により不純物を含んだ洗浄液を前
    記処理塔の底部に滞留する排気処理装置であって、滞留
    した洗浄液を回転させて渦を発生させ前記滞留した洗浄
    液に含まれている不純物を前記渦の中心付近に集める手
    段と、前記渦の中心付近の洗浄液を前記処理塔外に排出
    させ、前記渦の周辺部の洗浄液をくみ取り、前記気液接
    触させるための洗浄液として用いる手段とを有している
    ことを特徴とする排気処理装置。
  3. 【請求項3】 処理塔と、前記処理塔の内部に工場排気
    を入力させる排風機と、洗浄液を前記処理塔の内部に供
    給するバルブと、前記工場排気と前記洗浄液を気液接触
    させて前記工場排気が含有する不純物を抜き取る気液接
    触部と、前記気液接触部の前記気液接触により不純物の
    含んだ洗浄液を回転させて渦を発生させ、前記渦の中心
    部付近に前記不純物を集める攪拌機と、前記渦の中心部
    付近の洗浄液を前記処理塔外へ排出させる手段と、前記
    渦の周辺部付近の洗浄液を前記バルブに移送する手段と
    を備えることを特徴とする排気処理装置。
  4. 【請求項4】 前記気液接触部の第1の面および第2の
    面の静圧の差に応じて前記渦の回転を制御することを特
    徴とする請求項1、2、または3記載の排気処理装置。
JP8149273A 1996-06-11 1996-06-11 排気処理装置 Pending JPH09327615A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8149273A JPH09327615A (ja) 1996-06-11 1996-06-11 排気処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8149273A JPH09327615A (ja) 1996-06-11 1996-06-11 排気処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09327615A true JPH09327615A (ja) 1997-12-22

Family

ID=15471619

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8149273A Pending JPH09327615A (ja) 1996-06-11 1996-06-11 排気処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09327615A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015000379A (ja) * 2013-06-17 2015-01-05 株式会社荏原製作所 粉体排出システム
CN113856418A (zh) * 2021-11-05 2021-12-31 杭州青云新材料股份有限公司 一种dmac多级喷淋回收再利用系统及方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015000379A (ja) * 2013-06-17 2015-01-05 株式会社荏原製作所 粉体排出システム
CN113856418A (zh) * 2021-11-05 2021-12-31 杭州青云新材料股份有限公司 一种dmac多级喷淋回收再利用系统及方法
CN113856418B (zh) * 2021-11-05 2023-11-28 杭州青云新材料股份有限公司 一种dmac多级喷淋回收再利用系统及方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6277285B1 (en) Process for the clarification of liquids and suspensions
JPH01168984A (ja) 繊維物質懸濁液を脱インキする方法および装置
US4389376A (en) Apparatus for the preparation of slaked lime solution
KR101276405B1 (ko) 탈수성능이 향상된 진공 드럼 농축기
US20110259196A1 (en) Gaseous effluent treatment apparatus
JP3397096B2 (ja) 生物汚泥のオゾン処理装置および方法
AU2006236872A1 (en) Method and apparatus for treating lime slurry for grit removal
US20090039003A1 (en) Single-Cell Mechanical Flotation System
CN108176131A (zh) 一种纳米陶瓷过滤装置及其应用工艺
JPH09327615A (ja) 排気処理装置
JP3548105B2 (ja) 加圧浮上装置
CZ2004868A3 (cs) Způsob úpravy kapalin, zejména čištění kontaminované vody, a zařízení k provádění tohoto způsobu
KR20190103030A (ko) 습식 제해 장치
CN209531631U (zh) 一种罐体清洗装置
JPH10174979A (ja) 排水処理方法および装置
KR101803041B1 (ko) 가스 및 거품 제거식 액비화장치
WO2000066982A1 (en) Oxidative reactor for oxidation of salts
CN108905587A (zh) 脱硫系统、脱硫系统中除雾器的供水方法和供水设备
US3419491A (en) Water treatment apparatus and method
CN205528048U (zh) 超低排放湿式电除尘废水浓缩液处理系统
JP3743725B2 (ja) 活性炭スラリー製造装置および活性炭スラリーの製造方法
CN210057753U (zh) 卧式水幕除尘水循环一体化系统
JP4430758B2 (ja) 微細気泡発生装置
CN218794828U (zh) 一种烟气固废分流式处理塔及烟气处理系统
JP2845540B2 (ja) 生石灰消和装置

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19981208