JPH09324230A - 高導電線材 - Google Patents
高導電線材Info
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- JPH09324230A JPH09324230A JP14425396A JP14425396A JPH09324230A JP H09324230 A JPH09324230 A JP H09324230A JP 14425396 A JP14425396 A JP 14425396A JP 14425396 A JP14425396 A JP 14425396A JP H09324230 A JPH09324230 A JP H09324230A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 導電率に優れ、強度、耐熱性、屈曲性等にも
優れ、電子機器用配電線、コイル用巻線、放電加工用電
極線等に好適な高導電線材を提供する。 【解決手段】 Ｃｒを10〜30wt％含み、残部Ｃｕ及び不
可避不純物からなることを特徴とする高導電線材。 【効果】 大量のＣｒが長手方向に繊維状に引き延ばさ
れて均一に析出した銅合金で、導電率に優れ、強度、耐
熱性、屈曲性等にも優れるので、電子機器用配電線、コ
イル用巻線、放電加工用電極線等に好適である。
優れ、電子機器用配電線、コイル用巻線、放電加工用電
極線等に好適な高導電線材を提供する。 【解決手段】 Ｃｒを10〜30wt％含み、残部Ｃｕ及び不
可避不純物からなることを特徴とする高導電線材。 【効果】 大量のＣｒが長手方向に繊維状に引き延ばさ
れて均一に析出した銅合金で、導電率に優れ、強度、耐
熱性、屈曲性等にも優れるので、電子機器用配電線、コ
イル用巻線、放電加工用電極線等に好適である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子機器用配電
線、コイル用巻線、放電加工用電極線等に好適な高導電
線材に関する。
線、コイル用巻線、放電加工用電極線等に好適な高導電
線材に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子機器、計測機器、医療機器、情報通
信機器、自動車電装部品等に用いられる配電線には、そ
の細径化に伴って高い導電率が要求され、この為タフピ
ッチ銅や無酸素銅等の純銅系材料が多用されてきた。と
ころが、機器の小型化に伴い高密度配線が進んで電線全
体に高負荷が掛かるようになり、その結果、可動部等に
は強度と耐屈曲性に優れたＣｕ−Ｓｎ系合金が使用され
るようになった。又医療機器や自動車電装部品のような
高度の信頼性が要求される用途には、コストや導電率を
犠牲にしてでも高性能のベリリウム銅が使用されてい
る。
信機器、自動車電装部品等に用いられる配電線には、そ
の細径化に伴って高い導電率が要求され、この為タフピ
ッチ銅や無酸素銅等の純銅系材料が多用されてきた。と
ころが、機器の小型化に伴い高密度配線が進んで電線全
体に高負荷が掛かるようになり、その結果、可動部等に
は強度と耐屈曲性に優れたＣｕ−Ｓｎ系合金が使用され
るようになった。又医療機器や自動車電装部品のような
高度の信頼性が要求される用途には、コストや導電率を
犠牲にしてでも高性能のベリリウム銅が使用されてい
る。
【０００３】一方コイル用巻線には、電気効率の面から
高導電率が要求されるが、特に導電率が 50%IACS以下で
は使用時の発熱が大きくなり特性が劣化することがあ
る。又巻線は、近年、エナメル被覆したまま自動半田付
けされるようになり、この際の苛酷な条件に耐え得る強
度と耐熱性も要求されている。このようなコイル用巻線
にはＣｕ−Ｓｎ系合金が用いられていたが、特性が不十
分な為、現在は高価なＣｕ−Ａｇ系合金も使われてい
る。
高導電率が要求されるが、特に導電率が 50%IACS以下で
は使用時の発熱が大きくなり特性が劣化することがあ
る。又巻線は、近年、エナメル被覆したまま自動半田付
けされるようになり、この際の苛酷な条件に耐え得る強
度と耐熱性も要求されている。このようなコイル用巻線
にはＣｕ−Ｓｎ系合金が用いられていたが、特性が不十
分な為、現在は高価なＣｕ−Ａｇ系合金も使われてい
る。
【０００４】他方、放電加工用電極線には純銅線が用い
られていたが、強度が低い為張力を十分に掛けられず、
その為放電加工を高速で行うと電極線が振動して、加工
精度が低下し又加工中に電極線が断線して高い生産性が
得られないという問題があった。又純銅線では被加工物
に銅が付着して放電加工性が悪化するという問題があ
り、銅が付着し難いＣｕ−Ｚｎ系合金線が使用されるよ
うになったが、やはり強度が不十分であった。尚、放電
加工は、電極線と被加工物との間でパルス放電を起こし
て被加工物を局部的に溶融させながら加工する方法で、
プレス金型等の精密加工に広く用いられている。
られていたが、強度が低い為張力を十分に掛けられず、
その為放電加工を高速で行うと電極線が振動して、加工
精度が低下し又加工中に電極線が断線して高い生産性が
得られないという問題があった。又純銅線では被加工物
に銅が付着して放電加工性が悪化するという問題があ
り、銅が付着し難いＣｕ−Ｚｎ系合金線が使用されるよ
うになったが、やはり強度が不十分であった。尚、放電
加工は、電極線と被加工物との間でパルス放電を起こし
て被加工物を局部的に溶融させながら加工する方法で、
プレス金型等の精密加工に広く用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このように、電子機器
用配電線、コイル用巻線、放電加工用電極線には、強度
や耐熱性等の他に、導電率にも優れることが要求されて
いる。本発明の目的は電子機器用配電線、コイル用巻
線、放電加工用電極線等に好適な、強度や耐熱性等に加
えて、導電率にも優れる高導電線材を提供することにあ
る。
用配電線、コイル用巻線、放電加工用電極線には、強度
や耐熱性等の他に、導電率にも優れることが要求されて
いる。本発明の目的は電子機器用配電線、コイル用巻
線、放電加工用電極線等に好適な、強度や耐熱性等に加
えて、導電率にも優れる高導電線材を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決する為の手段】請求項１記載の発明は、Ｃ
ｒを10〜30wt％含有し、残部Ｃｕ及び不可避不純物から
なることを特徴とする高導電線材である。
ｒを10〜30wt％含有し、残部Ｃｕ及び不可避不純物から
なることを特徴とする高導電線材である。
【０００７】請求項２記載の発明は、Ｃｒを10〜30wt
％、Ｂ、Ｎ、Ｃのうちの少なくとも１元素を総計で 0.0
05〜 0.5wt％含有し、残部Ｃｕ及び不可避不純物からな
ることを特徴とする高導電線材である。
％、Ｂ、Ｎ、Ｃのうちの少なくとも１元素を総計で 0.0
05〜 0.5wt％含有し、残部Ｃｕ及び不可避不純物からな
ることを特徴とする高導電線材である。
【０００８】請求項３記載の発明は、請求項１又は２記
載の銅合金にＳｉ、Ｐ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ａｇ、Ｂｅ、Ａ
ｌ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒのうちの少なくとも
１元素が総計で 0.5wt％以下、個々に0.005wt%以上含有
されていることを特徴とする高導電線材である。
載の銅合金にＳｉ、Ｐ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ａｇ、Ｂｅ、Ａ
ｌ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒのうちの少なくとも
１元素が総計で 0.5wt％以下、個々に0.005wt%以上含有
されていることを特徴とする高導電線材である。
【０００９】請求項４記載の発明は、高導電線材の表面
にＺｎ層が形成されていることを特徴とする請求項１乃
至請求項３のいずれかに記載の高導電線材である。
にＺｎ層が形成されていることを特徴とする請求項１乃
至請求項３のいずれかに記載の高導電線材である。
【００１０】請求項５記載の発明は、Ｃｒを10〜30wt
％、Ｚｎを20〜30wt％含有し、残部Ｃｕ及び不可避不純
物からなることを特徴とする高導電線材である。
％、Ｚｎを20〜30wt％含有し、残部Ｃｕ及び不可避不純
物からなることを特徴とする高導電線材である。
【００１１】請求項６記載の発明は、Ｃｒを10〜30wt
％、Ｚｎを20〜30wt％、Ｂ、Ｎ、Ｃのうちの少なくとも
１元素が総計で 0.005〜 0.5wt％含有し、残部Ｃｕ及び
不可避不純物からなることを特徴とする高導電線材であ
る。
％、Ｚｎを20〜30wt％、Ｂ、Ｎ、Ｃのうちの少なくとも
１元素が総計で 0.005〜 0.5wt％含有し、残部Ｃｕ及び
不可避不純物からなることを特徴とする高導電線材であ
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】請求項１記載の発明の高導電線材
は、例えば、Ｃｕ−Ｃｒ系合金鋳塊に熱間加工、溶体化
処理、一次冷間加工、時効処理、二次冷間加工の諸工程
を施して製造される。前記鋳塊中のＣｒは、時効処理で
ファイバー状に析出し、二次冷間加工で長手方向に繊維
状に引き延ばされる。この繊維状に引き延ばされたＣｒ
析出物が強度及び耐熱性を向上させる。又Ｃｒは析出す
るのでマトリックスの純度が向上して導電率及び屈曲性
が高まる。
は、例えば、Ｃｕ−Ｃｒ系合金鋳塊に熱間加工、溶体化
処理、一次冷間加工、時効処理、二次冷間加工の諸工程
を施して製造される。前記鋳塊中のＣｒは、時効処理で
ファイバー状に析出し、二次冷間加工で長手方向に繊維
状に引き延ばされる。この繊維状に引き延ばされたＣｒ
析出物が強度及び耐熱性を向上させる。又Ｃｒは析出す
るのでマトリックスの純度が向上して導電率及び屈曲性
が高まる。
【００１３】この発明において、Ｃｒは、前述のように
強度及び耐熱性の向上に寄与する。その量を10〜30wt％
に限定した理由は、10wt％未満では強度及び耐熱性が十
分に向上せず、30wt％を超えてはその効果が飽和する
上、冷間加工性が低下する為である。
強度及び耐熱性の向上に寄与する。その量を10〜30wt％
に限定した理由は、10wt％未満では強度及び耐熱性が十
分に向上せず、30wt％を超えてはその効果が飽和する
上、冷間加工性が低下する為である。
【００１４】請求項２記載の発明で含有させるＣ、Ｂ、
Ｎは、鋳造の際の結晶核の生成頻度を高めて鋳塊組織を
微細にする。これに伴いＣｒのファイバー状析出物がよ
り均一に分散し、強度、耐熱性、屈曲性の各特性が向上
する。その含有量を総計で 0.005〜 0.5wt％以下に限定
した理由は、0.005 wt％未満ではその効果が十分に発現
されず、 0.5wt％を超えるとＢ、Ｎ、ＣとＣｒとの間で
化合物が生成して加工性が低下する為である。
Ｎは、鋳造の際の結晶核の生成頻度を高めて鋳塊組織を
微細にする。これに伴いＣｒのファイバー状析出物がよ
り均一に分散し、強度、耐熱性、屈曲性の各特性が向上
する。その含有量を総計で 0.005〜 0.5wt％以下に限定
した理由は、0.005 wt％未満ではその効果が十分に発現
されず、 0.5wt％を超えるとＢ、Ｎ、ＣとＣｒとの間で
化合物が生成して加工性が低下する為である。
【００１５】請求項３記載の発明で含有させるＳｉ、
Ｐ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ａｇ、Ｂｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔ
ｉ、Ｓｎ、Ｚｒの12元素について説明する。Ｓｉは強度
向上に寄与する。その含有量が 0.5wt％を超えては導電
率及び加工性が低下する。Ｐは焼入れ性を高め、強度向
上に寄与する。その含有量が 0.5wt％を超えると粒界に
偏析して耐食性及び導電率が低下する。Ｍｇは不可避的
に混入するＳをＭｇＳ化合物としてトラップしてマトリ
ックス中に固溶し強度向上に寄与する。その含有量が
0.5wt％を超えるとＭｇＣｕ2 の共晶化合物が生成して
722℃以上での熱間加工性が悪化する。ＣｏはＣｒの析
出を促進して導電率を向上させ、又結晶粒の粗大化を防
止して耐熱性を向上させる。その含有量が 0.5wt％を超
えるとその効果が飽和し不経済である。又加工性が低下
する。Ａｇは耐熱性向上に寄与する。その含有量が 0.5
wt％を超えると導電率が低下し、又融点が下がって熱間
加工性が悪化する。又不経済でもある。Ｂｅは強度向上
に寄与する。その含有量が 0.5wt％を超えて含有させる
とその効果が飽和し不経済である。又加工性が低下す
る。Ａｌ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎは強度向上に寄与す
る。その含有量が 0.5wt％を超えるといずれの場合も導
電率の低下が顕著になる。Ｚｒはマトリックス中にＣｕ
3 Ｚｒ化合物として微細に析出し強度及び耐熱性向上に
寄与する。その含有量が 0.5wt％を超えてはその効果が
飽和する上、導電率が低下する。前記Ｓｉ、Ｐ、Ｍｇ等
の12元素は、個々の含有量が 0.005wt％未満では、各々
の効果が十分に発現されない。又前記12元素の総含有量
が 0.5wt％を超えると加工性、熱伝導性、耐食性、経済
性等が低下する。従って前記12元素の総含有量を0.5wt
％以下、個々に 0.005wt％以上に限定する。
Ｐ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ａｇ、Ｂｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔ
ｉ、Ｓｎ、Ｚｒの12元素について説明する。Ｓｉは強度
向上に寄与する。その含有量が 0.5wt％を超えては導電
率及び加工性が低下する。Ｐは焼入れ性を高め、強度向
上に寄与する。その含有量が 0.5wt％を超えると粒界に
偏析して耐食性及び導電率が低下する。Ｍｇは不可避的
に混入するＳをＭｇＳ化合物としてトラップしてマトリ
ックス中に固溶し強度向上に寄与する。その含有量が
0.5wt％を超えるとＭｇＣｕ2 の共晶化合物が生成して
722℃以上での熱間加工性が悪化する。ＣｏはＣｒの析
出を促進して導電率を向上させ、又結晶粒の粗大化を防
止して耐熱性を向上させる。その含有量が 0.5wt％を超
えるとその効果が飽和し不経済である。又加工性が低下
する。Ａｇは耐熱性向上に寄与する。その含有量が 0.5
wt％を超えると導電率が低下し、又融点が下がって熱間
加工性が悪化する。又不経済でもある。Ｂｅは強度向上
に寄与する。その含有量が 0.5wt％を超えて含有させる
とその効果が飽和し不経済である。又加工性が低下す
る。Ａｌ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎは強度向上に寄与す
る。その含有量が 0.5wt％を超えるといずれの場合も導
電率の低下が顕著になる。Ｚｒはマトリックス中にＣｕ
3 Ｚｒ化合物として微細に析出し強度及び耐熱性向上に
寄与する。その含有量が 0.5wt％を超えてはその効果が
飽和する上、導電率が低下する。前記Ｓｉ、Ｐ、Ｍｇ等
の12元素は、個々の含有量が 0.005wt％未満では、各々
の効果が十分に発現されない。又前記12元素の総含有量
が 0.5wt％を超えると加工性、熱伝導性、耐食性、経済
性等が低下する。従って前記12元素の総含有量を0.5wt
％以下、個々に 0.005wt％以上に限定する。
【００１６】
【実施例】以下に、本発明を実施例により詳細に説明す
る。 （実施例１）比較的酸素量の少ない銅地金を真空溶解炉
にて溶解し、この銅溶湯中にＣｒを添加し、この合金溶
湯を十分に攪拌して金型に鋳込み円柱状鋳塊を得た。次
にこの鋳塊に 900℃で１時間の溶体化処理、減面率21％
の引抜加工、 500℃で1.5 時間の時効処理、減面率99.9
％の引抜加工を順に施して0.35mmφの線材を製造した。
Ｃｒ量は種々に変化させた。
る。 （実施例１）比較的酸素量の少ない銅地金を真空溶解炉
にて溶解し、この銅溶湯中にＣｒを添加し、この合金溶
湯を十分に攪拌して金型に鋳込み円柱状鋳塊を得た。次
にこの鋳塊に 900℃で１時間の溶体化処理、減面率21％
の引抜加工、 500℃で1.5 時間の時効処理、減面率99.9
％の引抜加工を順に施して0.35mmφの線材を製造した。
Ｃｒ量は種々に変化させた。
【００１７】このようにして得られた線材について引張
強さ、導電率、耐熱性、耐屈曲性を調べた。比較の為従
来材についても同様の調査を行った。引張強さはJIS-Z2
241 、導電率はJIS-H0505 にそれぞれ準じて測定した。
耐熱性は、50℃間隔で１時間加熱する焼鈍を行って軟化
曲線を求め、非焼鈍材と完全軟化材との平均強度となる
焼鈍温度（半軟化温度）で示した。耐屈曲性は、図１に
示すように25ＭＰa の荷重が掛かるように錘を付けた試
験線を曲げ治具間にセットして90度曲げを繰返し行い、
破断するまでの屈曲回数で表した。曲げ回数は左右への
１往復を１回と数えた。曲げ治具のＲは試験線の径の 1
00倍とした。結果を表１に示す。
強さ、導電率、耐熱性、耐屈曲性を調べた。比較の為従
来材についても同様の調査を行った。引張強さはJIS-Z2
241 、導電率はJIS-H0505 にそれぞれ準じて測定した。
耐熱性は、50℃間隔で１時間加熱する焼鈍を行って軟化
曲線を求め、非焼鈍材と完全軟化材との平均強度となる
焼鈍温度（半軟化温度）で示した。耐屈曲性は、図１に
示すように25ＭＰa の荷重が掛かるように錘を付けた試
験線を曲げ治具間にセットして90度曲げを繰返し行い、
破断するまでの屈曲回数で表した。曲げ回数は左右への
１往復を１回と数えた。曲げ治具のＲは試験線の径の 1
00倍とした。結果を表１に示す。
【００１８】
【表１】 （注）＃：破断までの屈曲回数、×103 回。
【００１９】表１より明らかなように、本発明例品は導
電率が75%IACS 以上、引張強さが830MPa以上、軟化温度
が 500℃以上、屈曲回数が11回以上といずれも高い値を
示した。これに対し、比較例のNo.5はＣｒ量が少ない為
強度、耐熱性、屈曲性が低下した。No.6はＣｒ量が多い
為冷間加工性が低下して欠陥が生じた。導電率や引張強
さ等はNo.4とほぼ同等で、飽和状態であった。又従来品
のNo.7は強度と屈曲性が低く、No.8は導電率と強度と屈
曲性が低く、No.9は導電率が著しく低かった。
電率が75%IACS 以上、引張強さが830MPa以上、軟化温度
が 500℃以上、屈曲回数が11回以上といずれも高い値を
示した。これに対し、比較例のNo.5はＣｒ量が少ない為
強度、耐熱性、屈曲性が低下した。No.6はＣｒ量が多い
為冷間加工性が低下して欠陥が生じた。導電率や引張強
さ等はNo.4とほぼ同等で、飽和状態であった。又従来品
のNo.7は強度と屈曲性が低く、No.8は導電率と強度と屈
曲性が低く、No.9は導電率が著しく低かった。
【００２０】（実施例２）比較的酸素量の少ない銅地金
を真空溶解炉にて溶解し、この銅溶湯中にＣｒを添加
し、更にＢ、Ｎ、ＣをそれぞれＣｒの炭化物、窒化物、
硼化物として添加した。次にこの合金溶湯を十分に攪拌
して金型に鋳込み円柱状鋳塊を得た。次にこの鋳塊に 9
00℃で１時間加熱の溶体化処理、減面率21％の引抜加
工、 500℃で 1.5時間加熱の時効処理、減面率99.9％の
引抜加工を順に施して0.35mmφの線材を製造した。Ｃ
ｒ、Ｂ、Ｎ、Ｃの各元素量は種々に変化させた。
を真空溶解炉にて溶解し、この銅溶湯中にＣｒを添加
し、更にＢ、Ｎ、ＣをそれぞれＣｒの炭化物、窒化物、
硼化物として添加した。次にこの合金溶湯を十分に攪拌
して金型に鋳込み円柱状鋳塊を得た。次にこの鋳塊に 9
00℃で１時間加熱の溶体化処理、減面率21％の引抜加
工、 500℃で 1.5時間加熱の時効処理、減面率99.9％の
引抜加工を順に施して0.35mmφの線材を製造した。Ｃ
ｒ、Ｂ、Ｎ、Ｃの各元素量は種々に変化させた。
【００２１】得られた線材について実施例１と同じ調査
を行った。結果を表２に示す。
を行った。結果を表２に示す。
【００２２】
【表２】 （注）＃：破断までの屈曲回数、×103 回。 ＊：No.21 は圧延割れが発生。
【００２３】表２より明らかなように、本発明例品(No.
10〜19) は、導電率、強度、耐熱性、屈曲性の諸特性
が、実施例１のNo.1〜4 を上回った。これはＢ、Ｎ、Ｃ
のうちの少なくとも１元素が適量添加されていて、Ｃｒ
析出物がより均一に分散した為である。これに対し、比
較例品のNo.20 はＢ量が少なかった為その効果が十分に
得られず、No.21 はＢ、Ｎ、Ｃの総含有量が多かった為
圧延割れが発生した。
10〜19) は、導電率、強度、耐熱性、屈曲性の諸特性
が、実施例１のNo.1〜4 を上回った。これはＢ、Ｎ、Ｃ
のうちの少なくとも１元素が適量添加されていて、Ｃｒ
析出物がより均一に分散した為である。これに対し、比
較例品のNo.20 はＢ量が少なかった為その効果が十分に
得られず、No.21 はＢ、Ｎ、Ｃの総含有量が多かった為
圧延割れが発生した。
【００２４】（実施例３）比較的酸素量の少ない銅地金
を真空溶解炉にて溶解し、この銅溶湯中にＣｒを添加
し、更に、Ｂ、Ｎ、Ｃ、Ｓｉ、Ｐ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ａｇ、
Ｎｉ、Ｂｅ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｚｒのうちの少
なくとも１元素を添加し、この合金溶湯を十分攪拌して
金型に鋳込み円柱状鋳塊を得た。次にこの鋳塊を 900℃
で１時間加熱の溶体化処理、減面率21％の引抜加工、 6
00℃で１時間加熱の時効処理、減面率99.9％の伸線加工
を順に施して0.35mmφの線材を製造した。各添加元素量
は種々に変化させた。
を真空溶解炉にて溶解し、この銅溶湯中にＣｒを添加
し、更に、Ｂ、Ｎ、Ｃ、Ｓｉ、Ｐ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ａｇ、
Ｎｉ、Ｂｅ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｚｒのうちの少
なくとも１元素を添加し、この合金溶湯を十分攪拌して
金型に鋳込み円柱状鋳塊を得た。次にこの鋳塊を 900℃
で１時間加熱の溶体化処理、減面率21％の引抜加工、 6
00℃で１時間加熱の時効処理、減面率99.9％の伸線加工
を順に施して0.35mmφの線材を製造した。各添加元素量
は種々に変化させた。
【００２５】得られた線材について実施例１と同じ調査
を行った。結果を表３に示す。
を行った。結果を表３に示す。
【００２６】
【表３】 （注）＃：破断までの屈曲回数、×103 回。
【００２７】表３より明らかなように、本発明例品のN
o.22 〜24は各々Ｓｉ、Ｐ、Ｍｇが添加されている為実
施例１のNo.1,3,4に較べてそれぞれ強度が向上した。N
o.25 〜33はＢ、Ｎ、Ｃが添加されている為全般に、導
電率、強度、耐熱性、屈曲性が向上した。更にＣｏが添
加されているNo.25 は導電率が、Ｂｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｚ
ｎ、Ｔｉ、Ｓｎが添加されているNo.27 〜32は強度が、
Ａｇ、Ｚｒが添加されているNo.26,33は耐熱性がそれぞ
れ一層向上した。尚、12元素個々の含有量が 0.005wt％
未満の場合は各々の特性が十分に発現されず、12元素の
総含有量が 0.5wt％を超えた場合は加工性等が低下し
た。
o.22 〜24は各々Ｓｉ、Ｐ、Ｍｇが添加されている為実
施例１のNo.1,3,4に較べてそれぞれ強度が向上した。N
o.25 〜33はＢ、Ｎ、Ｃが添加されている為全般に、導
電率、強度、耐熱性、屈曲性が向上した。更にＣｏが添
加されているNo.25 は導電率が、Ｂｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｚ
ｎ、Ｔｉ、Ｓｎが添加されているNo.27 〜32は強度が、
Ａｇ、Ｚｒが添加されているNo.26,33は耐熱性がそれぞ
れ一層向上した。尚、12元素個々の含有量が 0.005wt％
未満の場合は各々の特性が十分に発現されず、12元素の
総含有量が 0.5wt％を超えた場合は加工性等が低下し
た。
【００２８】（実施例４）実施例１〜３で製造した0.35
mmφの線材について、放電加工性を試験した。一部の線
材はＺｎを２μｍ電気めっきし、その後通電加熱により
Ｚｎを線材に拡散させた。
mmφの線材について、放電加工性を試験した。一部の線
材はＺｎを２μｍ電気めっきし、その後通電加熱により
Ｚｎを線材に拡散させた。
【００２９】放電加工性は、0.35mmφの線材を電極線に
用いて鋼製ブロックを放電加工し、そのときの最大加工
速度及び鋼製ブロックへの銅の付着量を調べることによ
り評価した。比較の為タフピッチ銅線、Ｃｕ−30wt％Ｚ
ｎ合金線についても同様の調査を行った。結果を表４に
示す。
用いて鋼製ブロックを放電加工し、そのときの最大加工
速度及び鋼製ブロックへの銅の付着量を調べることによ
り評価した。比較の為タフピッチ銅線、Ｃｕ−30wt％Ｚ
ｎ合金線についても同様の調査を行った。結果を表４に
示す。
【００３０】
【表４】 （注）＊純銅（タフピッチ銅）を 100としたときの比較値。
【００３１】表４より明らかなように、本発明例品(No.
34〜47) は、従来品のいずれに較べても加工速度が高
く、又銅の付着量もタフピッチ銅に較べて少なかった。
特にＺｎをめっきしたものは優れた特性を示した。
34〜47) は、従来品のいずれに較べても加工速度が高
く、又銅の付着量もタフピッチ銅に較べて少なかった。
特にＺｎをめっきしたものは優れた特性を示した。
【００３２】（実施例５）比較的酸素量の少ない銅地金
を真空溶解炉にて溶解し、この銅溶湯中にＣｒ及びＺｎ
を添加し、この合金溶湯を十分に攪拌して金型に鋳込み
円柱状鋳塊を得た。次にこの鋳塊に 900℃で１時間の溶
体化処理、減面率21％の引抜加工、 500℃で1.5 時間の
時効処理、減面率99.9％の引抜加工を順に施して0.35mm
φの線材を製造した。ＣｒとＺｎの量は種々に変化させ
た。
を真空溶解炉にて溶解し、この銅溶湯中にＣｒ及びＺｎ
を添加し、この合金溶湯を十分に攪拌して金型に鋳込み
円柱状鋳塊を得た。次にこの鋳塊に 900℃で１時間の溶
体化処理、減面率21％の引抜加工、 500℃で1.5 時間の
時効処理、減面率99.9％の引抜加工を順に施して0.35mm
φの線材を製造した。ＣｒとＺｎの量は種々に変化させ
た。
【００３３】（実施例６）実施例５で、銅溶湯中にＣｒ
及びＺｎを添加し、更にＢ、Ｎ、Ｃを添加した他は、実
施例５と同じ方法により0.35mmφの線材を製造した。各
元素の添加量は種々に変化させた。
及びＺｎを添加し、更にＢ、Ｎ、Ｃを添加した他は、実
施例５と同じ方法により0.35mmφの線材を製造した。各
元素の添加量は種々に変化させた。
【００３４】実施例５、６で得られた各々の線材につい
て、実施例４と同じ調査を行った。結果を表５に示す。
て、実施例４と同じ調査を行った。結果を表５に示す。
【００３５】
【表５】 （注）＊純銅（タフピッチ銅）を 100としたときの比較
値。
値。
【００３６】表５より明らかなように、本発明例品(No.
50〜58) はいずれも、最高加工速度が大きく、又銅の付
着も少なかった。
50〜58) はいずれも、最高加工速度が大きく、又銅の付
着も少なかった。
【００３７】
【発明の効果】以上に述べたように、本発明の線材は、
大量のＣｒ析出物が長手方向に繊維状に引き延ばされて
均一に分散した銅合金で、導電率に優れ、且つ強度、耐
熱性、屈曲性等にも優れる。又これにＢ、Ｎ、Ｃを添加
したものはＣｒ析出物がより均一に分散し特性がより向
上する。又Ｓｉ、Ｐ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ａｇ、Ｂｅ、Ａｌ、
Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ等を添加したものは、強
度、導電率、耐熱性、加工性等の特性がより向上する。
従って、電子機器用配電線、コイル用巻線、放電加工用
電極線等に好適であり、工業上顕著な効果を奏する。
大量のＣｒ析出物が長手方向に繊維状に引き延ばされて
均一に分散した銅合金で、導電率に優れ、且つ強度、耐
熱性、屈曲性等にも優れる。又これにＢ、Ｎ、Ｃを添加
したものはＣｒ析出物がより均一に分散し特性がより向
上する。又Ｓｉ、Ｐ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ａｇ、Ｂｅ、Ａｌ、
Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ等を添加したものは、強
度、導電率、耐熱性、加工性等の特性がより向上する。
従って、電子機器用配電線、コイル用巻線、放電加工用
電極線等に好適であり、工業上顕著な効果を奏する。
【図１】屈曲試験方法の説明図である。
Claims (6)
- 【請求項１】 Ｃｒを10〜30wt％含有し、残部Ｃｕ及び
不可避不純物からなることを特徴とする高導電線材。 - 【請求項２】 Ｃｒを10〜30wt％、Ｂ、Ｎ、Ｃのうちの
少なくとも１元素を総計で 0.005〜 0.5wt％含有し、残
部Ｃｕ及び不可避不純物からなることを特徴とする高導
電線材。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の銅合金にＳｉ、
Ｐ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ａｇ、Ｂｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔ
ｉ、Ｓｎ、Ｚｒのうちの少なくとも１元素が総計で 0.5
wt％以下、個々に0.005wt%以上含有されていることを特
徴とする高導電線材。 - 【請求項４】 高導電線材の表面にＺｎ層が形成されて
いることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか
に記載の高導電線材。 - 【請求項５】 Ｃｒを10〜30wt％、Ｚｎを20〜30wt％含
有し、残部Ｃｕ及び不可避不純物からなることを特徴と
する高導電線材。 - 【請求項６】 Ｃｒを10〜30wt％、Ｚｎを20〜30wt％、
Ｂ、Ｎ、Ｃのうちの少なくとも１元素が総計で 0.005〜
0.5wt％含有し、残部Ｃｕ及び不可避不純物からなるこ
とを特徴とする高導電線材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14425396A JPH09324230A (ja) | 1996-06-06 | 1996-06-06 | 高導電線材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14425396A JPH09324230A (ja) | 1996-06-06 | 1996-06-06 | 高導電線材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09324230A true JPH09324230A (ja) | 1997-12-16 |
Family
ID=15357806
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14425396A Pending JPH09324230A (ja) | 1996-06-06 | 1996-06-06 | 高導電線材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09324230A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007094507A1 (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-23 | Jfe Precision Corporation | Cr-Cu合金、その製造方法、半導体用放熱板および半導体用放熱部品 |
| JP2009038366A (ja) * | 2007-07-09 | 2009-02-19 | Jfe Seimitsu Kk | 半導体用放熱部品およびそれを取付けた半導体用ケース、半導体用キャリア、ならびにそれを基体とするパッケージ |
| KR100958560B1 (ko) * | 2005-04-15 | 2010-05-17 | 제이에프이 세이미츠 가부시키가이샤 | 반도체 장치 방열용 합금재 및 그 제조 방법 |
| JP2013028839A (ja) * | 2011-07-28 | 2013-02-07 | Yazaki Corp | 電線用導体 |
| CN103456385A (zh) * | 2013-09-04 | 2013-12-18 | 江西理工大学 | 一种高强高导Cu-Cr-Ti合金导线及其制备方法 |
| US20140360869A1 (en) * | 2012-01-25 | 2014-12-11 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | High-purity copper-chromium alloy sputtering target |
-
1996
- 1996-06-06 JP JP14425396A patent/JPH09324230A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100958560B1 (ko) * | 2005-04-15 | 2010-05-17 | 제이에프이 세이미츠 가부시키가이샤 | 반도체 장치 방열용 합금재 및 그 제조 방법 |
| WO2007094507A1 (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-23 | Jfe Precision Corporation | Cr-Cu合金、その製造方法、半導体用放熱板および半導体用放熱部品 |
| US8557015B2 (en) | 2006-02-15 | 2013-10-15 | Jfe Precision Corporation | Cr-Cu alloy, method for producing the same, heat-release plate for semiconductor, and heat-release component for semiconductor |
| JP2009038366A (ja) * | 2007-07-09 | 2009-02-19 | Jfe Seimitsu Kk | 半導体用放熱部品およびそれを取付けた半導体用ケース、半導体用キャリア、ならびにそれを基体とするパッケージ |
| JP2013028839A (ja) * | 2011-07-28 | 2013-02-07 | Yazaki Corp | 電線用導体 |
| WO2013014904A3 (en) * | 2011-07-28 | 2013-04-04 | Yazaki Corporation | Conductor for electric wire |
| US20140138120A1 (en) * | 2011-07-28 | 2014-05-22 | Yazaki Corporation | Conductor for electric wire |
| CN103827329A (zh) * | 2011-07-28 | 2014-05-28 | 矢崎总业株式会社 | 电线用导体 |
| US20140360869A1 (en) * | 2012-01-25 | 2014-12-11 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | High-purity copper-chromium alloy sputtering target |
| US10297429B2 (en) | 2012-01-25 | 2019-05-21 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | High-purity copper-chromium alloy sputtering target |
| CN103456385A (zh) * | 2013-09-04 | 2013-12-18 | 江西理工大学 | 一种高强高导Cu-Cr-Ti合金导线及其制备方法 |
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