JPH09321013A - Foreign matter removing device - Google Patents

Foreign matter removing device

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JPH09321013A
JPH09321013A JP13521896A JP13521896A JPH09321013A JP H09321013 A JPH09321013 A JP H09321013A JP 13521896 A JP13521896 A JP 13521896A JP 13521896 A JP13521896 A JP 13521896A JP H09321013 A JPH09321013 A JP H09321013A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
foreign matter
substrate
stage
work
Prior art date
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Pending
Application number
JP13521896A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junichi Ono
順一 小野
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP13521896A priority Critical patent/JPH09321013A/en
Publication of JPH09321013A publication Critical patent/JPH09321013A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the foreign matter removing device by which a foreign matter on a work face is surely removed without causing hindrance to the efficiency in the manufacture and inspection of a work. SOLUTION: A clean air is jetted from a nozzle 31 of an air jet section 3 provided to an end of a stage 1 on which a substrate 2 is mounted along a face of the substrate 2 on the stage 1. Then, an air-section section 4 provided to the end of the stage 1 opposite to the air jet section 3 with the substrate 2 in its inside absorbs dust on the face of the substrate 3 together with clean air.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ワーク面に付着し
たゴミなどの異物を除去するための異物除去装置に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a foreign matter removing device for removing foreign matter such as dust adhering to a work surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、半導体素子や液晶パネルの製造や
検査の工程の自動化、無人化が進んでおり、このため対
象となる基板(ワーク)上に付着した異物の形状・大き
さによっては、これらの存在に気付くことなくそれぞれ
の工程を実行されることが多々ある。
2. Description of the Related Art Recently, the process of manufacturing and inspecting semiconductor elements and liquid crystal panels has been automated and unmanned. Therefore, depending on the shape and size of foreign matter adhered on a target substrate (workpiece), Each process is often performed without noticing their existence.

【0003】ところが、例えば、液晶パネルにおいて微
細パターンをガラス基板上に形成するためフォトマスク
のパターンをフォトレジストが塗布された基板上に露光
するような場合には、ガラス基板上にゴミなどの異物が
存在していると、このままの状態でパターン形成を実行
すると、その部分のパターン形状に異常が発生するなど
製造上の欠陥が発生し、また、ガラス基板上に形成され
たパターン形状を光学顕微鏡などにより観察や測定など
の検査を行うような場合も、この検査対象点にゴミなど
の異物が存在していると、その部分のパターン形状を正
確に確認することができずに、検査結果異常が発生する
ことがある。
However, for example, in a liquid crystal panel, when a pattern of a photomask is exposed on a substrate coated with a photoresist to form a fine pattern on the glass substrate, a foreign substance such as dust on the glass substrate. If a pattern is formed in this state, manufacturing defects such as abnormalities in the pattern shape of that part will occur, and the pattern shape formed on the glass substrate will be examined by an optical microscope. Even when conducting inspections such as observation and measurement, if foreign matter such as dust is present at this inspection target point, the pattern shape of that part cannot be confirmed accurately and the inspection result will be abnormal. May occur.

【0004】そこで、従来、これらの不都合を除去する
ため、前工程として、基板(ワーク)を純水により洗浄
したり、クリーンエアーなどを噴出するノズルを設け、
このノズルからのクリーンエアーを基板上の対象点に吹
き付けてゴミなどの異物を除去するようなことが行われ
ている。
Therefore, conventionally, in order to eliminate these inconveniences, as a pre-process, a substrate (workpiece) is washed with pure water, or a nozzle for ejecting clean air is provided.
Clean air from this nozzle is blown onto a target point on the substrate to remove foreign matters such as dust.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、基板を純水
により洗浄するものでは、製造や検査工程のそれぞれの
前工程として、その度に、基板の洗浄工程が入るため、
これら製造や検査の作業効率が著しく低下するという問
題点があった。
However, in the case of cleaning the substrate with pure water, the cleaning process of the substrate is performed each time as a pre-process of the manufacturing or inspection process.
There is a problem in that the work efficiency of these manufacturing and inspections is significantly reduced.

【0006】また、クリーンエアーを噴出するノズルを
設けたものでは、基板上の対象点にクリーンエアーを吹
き付けるためには、基板を載置したステージを移動させ
て基板上の対象点をノズルによるエアー吹き付け範囲に
位置させるなどしなければならないため、かかる作業の
度に製造や検査の工程が中断されることとなり、この場
合もこれら製造や検査の作業効率が著しく低下し、さら
には、クリーンエアーの吹き付けにより舞い上がったゴ
ミなどがその周囲に浮遊して止まり、再び基板上に付着
するという問題点もあった。
Further, in the case where the nozzle for ejecting clean air is provided, in order to blow the clean air to the target point on the substrate, the stage on which the substrate is placed is moved so that the target point on the substrate is aired by the nozzle. Since it has to be positioned within the spraying range, the manufacturing and inspection processes are interrupted each time such work is performed, and in this case also, the manufacturing and inspection work efficiency is significantly reduced, and further, clean air There is also a problem that dust and the like flying up due to the spraying float around the area and stop, and then adhere to the substrate again.

【0007】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、ワークの製造や検査の作業効率を低下させることな
く、確実にワーク面の異物を除去することができる異物
除去装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a foreign matter removing apparatus capable of reliably removing foreign matter on the surface of a work without lowering the work efficiency of manufacturing and inspecting the work. With the goal.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
ワークを載置するステージと、このステージ端部に設け
られ該ステージ上のワーク面に沿って異物除去媒体を射
出する異物除去媒体射出手段と、前記ステージ端部に前
記ワークを挟んで前記異物除去媒体射出手段と相対向し
て設けられ、前記異物除去媒体とともに前記ワーク面上
の異物を吸入する異物除去媒体吸入手段とにより構成し
ている。
According to the first aspect of the present invention,
A stage on which a work is placed, a foreign matter removal medium ejecting unit that is provided at an end of the stage and ejects a foreign matter removal medium along a work surface on the stage, and the foreign matter is removed by sandwiching the work at the stage end. The foreign matter removing medium suction means is provided opposite to the medium ejecting means and sucks the foreign matter on the work surface together with the foreign matter removing medium.

【0009】請求項2記載の発明は、請求項1記載にお
いて、前記異物除去媒体射出手段は、前記異物除去媒体
の射出角度を任意に選択可能にしている。請求項3記載
の発明は、請求項1または2記載において、前記異物除
去媒体射出手段および前記異物除去媒体吸入手段のうち
少なくとも前記異物除去媒体射出手段を前記ワーク面に
沿って移動可能にしている。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the foreign matter removing medium ejecting means can arbitrarily select an ejection angle of the foreign matter removing medium. According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, at least the foreign matter removal medium ejection means of the foreign matter removal medium ejection means and the foreign matter removal medium suction means is movable along the work surface. .

【0010】この結果、請求項1記載の発明によれば、
ワークを載置するステージの一方端部に設けられた異物
除去媒体射出手段よりステージ上のワーク面に沿って異
物除去媒体を射出し、ステージの他方端部にワークを挟
んで異物除去媒体射出手段と相対向して設けられた異物
除去媒体吸入手段により、異物除去媒体とともにワーク
面上の異物を吸入している。これにより、ステージ上に
ワークを供給してワーク上の異物を除去した状態から、
続けてパターン形成などの製造やパターン形状の検査な
どの工程を実行できるので、従来のように不必要に製造
工程や検査工程を中断することがなくなり、これらの作
業効率を低下させるような事態を回避することができ
る。また、異物除去媒体の吹き付けにより舞い上がった
異物を異物除去媒体吸入手段により吸入しているので、
異物がワーク周囲に浮遊して止まり、再びワーク上に付
着するようなことも回避することができる。
As a result, according to the first aspect of the present invention,
A foreign matter removing medium ejecting means is provided on one side of the stage on which the work is placed, ejects the foreign matter removing medium along the work surface on the stage, and the work is sandwiched at the other end of the stage. The foreign matter removing medium suction means provided opposite to each other sucks the foreign matter on the work surface together with the foreign matter removing medium. As a result, from the state where the work is supplied on the stage and the foreign matter on the work is removed,
Since the manufacturing process such as pattern formation and the process of inspecting the pattern shape can be continuously performed, it is not necessary to interrupt the manufacturing process and the inspection process unnecessarily as in the conventional case, and the situation in which these work efficiency is deteriorated is avoided. It can be avoided. Further, since the foreign matter removed by the foreign matter removal medium is sucked in by the foreign matter removal medium suction means,
It is also possible to prevent foreign matter from floating around the work, stopping, and then reattaching to the work.

【0011】請求項2記載の発明によれば、ワーク面に
対し最適な角度から異物除去媒体を吹き付けるようにで
きるので、ワーク面での異物の除去をさらに効果的に行
うことができる。
According to the second aspect of the present invention, since the foreign matter removing medium can be sprayed onto the work surface from an optimum angle, the foreign matter on the work surface can be removed more effectively.

【0012】請求項3記載の発明によれば、異物除去媒
体射出手段のワーク面に沿っての移動により、ワーク面
に対し、近い位置から強力に異物除去媒体を吹き付ける
ようにできるので、ワーク面に強固に付着したような異
物は勿論、大き目で重量のある異物についても確実に除
去することができる。
According to the third aspect of the present invention, by moving the foreign matter removing medium ejecting means along the work surface, it is possible to strongly blow the foreign matter removing medium from a position close to the work surface. It is possible to reliably remove not only foreign matter that is strongly adhered to but also large and heavy foreign matter.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従い説明する。 (第1の実施の形態)図1は、第1の実施の形態にかか
る異物除去装置の概略構成を示している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (First Embodiment) FIG. 1 shows a schematic configuration of a foreign matter removing apparatus according to the first embodiment.

【0014】図において、1はステージで、このステー
ジ1には、パターン形成などの製造工程やパターン検査
などの検査工程に供される基板(ワーク)2を載置して
いる。この場合、ステージ1上の基板2は、手操作によ
る供給でもよいし、図示しない搬送装置により自動的に
供給するようにしてもよい。
In the figure, reference numeral 1 denotes a stage, on which a substrate (workpiece) 2 to be subjected to a manufacturing process such as pattern formation and an inspection process such as pattern inspection is placed. In this case, the substrate 2 on the stage 1 may be manually supplied, or may be automatically supplied by a transfer device (not shown).

【0015】ステージ1の端部には、基板2を挟んでエ
アー射出部3とエアー吸入部4を相対向して配置してい
る。ここで、エアー射出部3は、クリーンエアーを射出
する複数(図示例では4個)のノズル31をステージ1
側縁に沿って所定間隔をおいて配置していて、これらノ
ズル31よりステージ1上の基板2面に沿って均一にク
リーンエアーを射出するようにしている。また、エアー
吸入部4は、エアー射出部3の各ノズル31より基板2
面に均一に射出されたクリーンエアーを吸入口(図示せ
ず)から平均して吸入するようにしている。
At the end portion of the stage 1, an air injection portion 3 and an air suction portion 4 are arranged opposite to each other with the substrate 2 interposed therebetween. Here, the air injection unit 3 includes a plurality of (four in the illustrated example) nozzles 31 for injecting clean air in the stage 1.
The nozzles 31 are arranged at predetermined intervals along the side edges so that clean air is uniformly ejected from the nozzles 31 along the surface of the substrate 2 on the stage 1. Further, the air suction part 4 is connected to the substrate 2 from each nozzle 31 of the air injection part 3.
The clean air uniformly ejected onto the surface is sucked on average from a suction port (not shown).

【0016】この場合、エアー射出部3は、図2に示す
ようにステージ1上の基板2面に対してエアー射出方向
を所定角度に固定し、また、エアー吸入部4もエアー吸
い込み角度を所定角度に固定していて、エアー射出部3
より基板2面に対して所定角度からクリーンエアーを射
出することで、基板2面上のゴミ5を吹上げ、この吹き
上げられたゴミ5を吸い込みやすい角度で設けられたエ
アー吸入部4により吸い取るようになっている。
In this case, the air injection unit 3 fixes the air injection direction at a predetermined angle with respect to the surface of the substrate 2 on the stage 1 as shown in FIG. 2, and the air intake unit 4 also has a predetermined air intake angle. Fixed at an angle, the air injection part 3
The dust 5 on the surface of the substrate 2 is blown up by injecting clean air from the surface of the substrate 2 at a predetermined angle, and the dust 5 blown up is sucked by the air suction portion 4 provided at an angle that facilitates suction. It has become.

【0017】また、図1に戻って、エアー射出部3およ
びエアー吸入部4には、エアー配管6、7を接続すると
ともに、可動ダクト8を介して図示しないエアー圧縮源
およびエアー吸入(真空)源を接続している。ここでの
可動ダクト8は、ステージ1の移動に対しエアー配管
6、7の動きを追従させるためのものである。
Returning to FIG. 1, air pipes 6 and 7 are connected to the air injection unit 3 and the air suction unit 4, and an air compression source and an air suction (vacuum) not shown are provided via a movable duct 8. Connecting the source. The movable duct 8 here is for causing the movement of the air pipes 6 and 7 to follow the movement of the stage 1.

【0018】図3は、エアー射出部3でのエアー配管6
の配管図を示すもので、この場合、エアー圧縮源9で圧
縮されたクリーンエアーを共通配管61を通して分岐点
62に供給し、この分岐点62からエアー射出部3の各
ノズル31に分岐配管63を通してクリーンエアーを供
給するようにしている。ここで、エアー圧縮源9で圧縮
したクリーンエアーを分岐点62の1箇所に集めるの
は、エアー射出部3の各ノズル31より射出するクリー
ンエアーの量を一定にするためである。
FIG. 3 shows the air pipe 6 in the air injection part 3.
In this case, clean air compressed by the air compression source 9 is supplied to a branch point 62 through a common pipe 61, and from this branch point 62 to each nozzle 31 of the air injection part 3 a branch pipe 63. Clean air is supplied through. Here, the clean air compressed by the air compression source 9 is collected at one location of the branch point 62 in order to make the amount of clean air ejected from each nozzle 31 of the air ejecting unit 3 constant.

【0019】しかして、このように構成した異物除去装
置では、まず、ステージ1上に基板2が供給される。こ
のステージ1上の基板2の供給は、手操作、または自動
搬送装置による操作により実行される。
In the foreign matter removing apparatus thus constructed, the substrate 2 is first supplied onto the stage 1. The supply of the substrate 2 on the stage 1 is performed manually or by an operation by an automatic transfer device.

【0020】この状態から、図3に示すようにエアー圧
縮源9で圧縮されたクリーンエアーが共通配管61を通
して分岐点62に供給され、分岐点62からクリーンエ
アーを分岐配管63を通してエアー射出部3の各ノズル
31に供給される。
From this state, as shown in FIG. 3, clean air compressed by the air compression source 9 is supplied to the branch point 62 through the common pipe 61, and the clean air is branched from the branch point 62 through the branch pipe 63 to the air injection part 3 Is supplied to each of the nozzles 31.

【0021】すると、図2に示すようにノズル31から
ステージ1上の基板2面に対して所定角度を持ってクリ
ーンエアーが射出され、基板2面に沿って送られ、エア
ー吸入部4の図示しない吸入口(図示せず)により吸入
される。
Then, as shown in FIG. 2, clean air is ejected from the nozzle 31 at a predetermined angle with respect to the surface of the substrate 2 on the stage 1, is sent along the surface of the substrate 2, and the air suction portion 4 is illustrated. Not Inhaled through a suction port (not shown).

【0022】これにより、基板2面上に付着されている
ゴミ5は、ノズル31から射出されるクリーンエアーに
より吹上げられるとともに、この吹き上げられたゴミ5
は、エアー吸入部4により吸い取られつつ除去されるよ
うになる。
As a result, the dust 5 attached on the surface of the substrate 2 is blown up by the clean air ejected from the nozzle 31, and the dust 5 blown up.
Will be removed while being sucked by the air suction part 4.

【0023】従って、このようにすれば、基板2を載置
するステージ1端部に設けられたエアー射出部3のノズ
ル31よりステージ1上の基板2面に沿ってクリーンエ
アーを射出し、ステージ1端部に基板2を挟んでエアー
射出部3と相対向して設けられたエアー吸入部4によ
り、クリーンエアーとともに基板2面上のゴミ5を吸入
するようにしていて、ステージ1上に基板2を供給して
基板2上のゴミ5を除去した状態から、続けて基板2上
でのパターン形成などの製造やパターン形状の検査など
の工程を実行できるので、従来のように不必要に製造工
程や検査工程を中断することがなくなり、これらの作業
効率を低下させるような事態を回避することができる。
また、エアー射出部3のノズル31からのクリーンエア
ーの吹き付けにより基板2上に舞い上がったゴミ5をエ
アー吸入部4により吸入しているので、ゴミ5が基板2
周囲に浮遊して止まり、再び基板2上に付着するような
ことも回避することができる。 (第2の実施の形態)第1の実施の形態では、エアー射
出部3のステージ1上の基板2面に対するエアー射出方
向を所定角度に固定した場合を述べたが、この第2の実
施の形態では、エアー射出部3のエアー射出角度を任意
に選択できるようにしている。
Therefore, in this way, clean air is jetted along the surface of the substrate 2 on the stage 1 from the nozzle 31 of the air jetting unit 3 provided at the end of the stage 1 on which the substrate 2 is mounted, and the stage is cleaned. The dust 5 on the surface of the substrate 2 is sucked together with the clean air by the air suction portion 4 provided at the one end so as to face the air ejection portion 3 with the substrate 2 interposed therebetween. Since the manufacturing process such as the pattern formation on the substrate 2 and the inspection of the pattern shape can be continuously performed from the state in which 2 is supplied to remove the dust 5 on the substrate 2, the manufacturing process is unnecessary as in the conventional case. The process and the inspection process are not interrupted and it is possible to avoid such a situation that the work efficiency is reduced.
Further, since the dust 5 flying up onto the substrate 2 by blowing the clean air from the nozzle 31 of the air injection unit 3 is sucked by the air suction unit 4, the dust 5 is absorbed by the substrate 2.
It is also possible to avoid floating around, stopping, and adhering again to the substrate 2. (Second Embodiment) In the first embodiment, the case where the air injection direction of the air injection unit 3 with respect to the surface of the substrate 2 on the stage 1 is fixed at a predetermined angle has been described. In the form, the air injection angle of the air injection unit 3 can be arbitrarily selected.

【0024】この場合、図1で述べたこの第2の実施の
形態に援用するものとする。そして、このような異物除
去装置において、エアー射出部3を図4に示すように構
成している。
In this case, the second embodiment described with reference to FIG. 1 is used. Then, in such a foreign matter removing apparatus, the air injection unit 3 is configured as shown in FIG.

【0025】図において、32はエアー射出部本体で、
このエアー射出部本体32は、図1に示すステージ1の
側縁に沿ってエアー吸入部4を相対向して配置してい
る。このエアー射出部本体32には、エアー供給ブロッ
ク34を支持部33を介して回動自在に支持している。
このエアー供給ブロック34には、クリーンエアーを射
出する複数(図示例では4個)のノズル31を所定間隔
をおいて配置していて、エアー供給ブロック34の回動
角度を調整することで、各ノズル31よりステージ1上
の基板2面に対して所定のエアー射出角度で均一なクリ
ーンエアーを射出できるようにしている。
In the figure, reference numeral 32 is an air injection unit body,
In the air ejecting portion main body 32, the air suction portions 4 are arranged to face each other along the side edge of the stage 1 shown in FIG. An air supply block 34 is rotatably supported by the air ejection unit main body 32 via a support portion 33.
A plurality of (four in the illustrated example) nozzles 31 for injecting clean air are arranged at predetermined intervals in the air supply block 34, and each of the nozzles 31 is adjusted by adjusting the rotation angle of the air supply block 34. A uniform clean air can be ejected from the nozzle 31 to the surface of the substrate 2 on the stage 1 at a predetermined air ejection angle.

【0026】この場合、エアー供給ブロック34の回動
操作は、手動によってもよいし、あるいはエアー供給ブ
ロック34の回動支持部33に、図示しないモータなど
の駆動源を接続して、図5に示すように各ノズル31よ
りクリーンエアーを射出させながらエアー射出角度を頻
繁に変化させるようにしてもよい。
In this case, the rotation operation of the air supply block 34 may be performed manually, or a drive source such as a motor (not shown) may be connected to the rotation support portion 33 of the air supply block 34, as shown in FIG. As shown, the air injection angle may be changed frequently while injecting clean air from each nozzle 31.

【0027】なお、35はエアー配管を介してクリーン
エアーが供給されるエアー供給口である。このようにす
れば、エアー供給ブロック34の回動角度を、手動によ
り調整して、各ノズル31のステージ1上の基板2面に
対するエアー射出角度が最適な状態になるように設定す
ることにより、基板2面に対し最適な角度からクリーン
エアーを吹き付けるようにでき、基板2面でのゴミ5の
除去をさらに効果的に行うことができる。
Reference numeral 35 is an air supply port to which clean air is supplied through an air pipe. By doing so, the rotation angle of the air supply block 34 is manually adjusted to set the air ejection angle of each nozzle 31 with respect to the surface of the substrate 2 on the stage 1 to be in an optimum state. Clean air can be blown onto the surface of the substrate 2 from an optimum angle, and the dust 5 on the surface of the substrate 2 can be removed more effectively.

【0028】また、図5に示すように図示しないモータ
などの駆動源を用いて、エアー供給ブロック34の各ノ
ズル31よりクリーンエアーを射出させながら、エアー
供給ブロック34の回動角度を頻繁に変化させる。この
ようにすれば、基板2面に付着したゴミ5に対して強弱
な風圧が繰り返し作用するため、この風圧の変化に伴い
ゴミ5が基板2上で揺動し、この揺動によりゴミ5に対
する引き剥がし効果が増しゴミ5を効果的に除去するこ
とができる。この場合、図示斜線の範囲がノズル31よ
り射出されるクリーンエアーの範囲となり、この範囲に
おいて、基板2面上でのゴミ5の除去が行われる。 (第3の実施の形態)上述した第1および第2の実施の
形態では、エアー供給ブロック34を有するエアー射出
部3は、ステージ1側縁に固定されているが、この第3
の実施の形態では、エアー射出部3をエアー吸入部4の
対して移動可能にしている。
Further, as shown in FIG. 5, the rotation angle of the air supply block 34 is frequently changed while injecting clean air from each nozzle 31 of the air supply block 34 using a drive source such as a motor (not shown). Let By doing so, a strong and weak wind pressure repeatedly acts on the dust 5 attached to the surface of the substrate 2, so that the dust 5 swings on the substrate 2 in accordance with the change in the wind pressure, and this swing causes the dust 5 to move against the dust 5. The peeling effect is increased and the dust 5 can be effectively removed. In this case, the hatched area in the drawing is the area of clean air ejected from the nozzle 31, and the dust 5 on the surface of the substrate 2 is removed in this area. (Third Embodiment) In the above-described first and second embodiments, the air injection portion 3 having the air supply block 34 is fixed to the side edge of the stage 1.
In the embodiment, the air injection part 3 is movable with respect to the air suction part 4.

【0029】この場合、図6に示すように、エアー射出
部3は、図示しないモータなどの駆動源により、ノズル
31よりクリーンエアーを射出させながらエアー射出角
度を頻繁に変化させ、さらに、このようなエアー射出部
3を基板2面に沿って図示矢印方向に移動可能にしてい
る。
In this case, as shown in FIG. 6, the air injection unit 3 frequently changes the air injection angle while injecting clean air from the nozzle 31 by a drive source such as a motor (not shown). The air injection unit 3 is movable along the surface of the substrate 2 in the direction of the arrow shown.

【0030】このようにすれば、エアー射出部3の基板
2面に沿っての移動により、この基板2面に対し、近い
位置から強力にクリーンエアーを吹き付けることができ
るようになるので、風圧の強弱による効果と相俟って基
板2面に強固に付着したようなゴミ5も勿論、大き目で
重量のあるゴミ5なども確実に除去することができる。 (第4の実施の形態)図7、第4の実施の形態にかかる
異物除去装置の概略構成を示している。
In this way, the movement of the air injection part 3 along the surface of the substrate 2 makes it possible to strongly blow clean air to the surface of the substrate 2 from a position close to the surface of the substrate 2. In combination with the effect of strength, it is possible to surely remove not only the dust 5 firmly attached to the surface of the substrate 2 but also the large and heavy dust 5. (Fourth Embodiment) FIG. 7 shows a schematic configuration of a foreign matter removing apparatus according to the fourth embodiment.

【0031】図において、41はステージで、このステ
ージ41には、パターン形成などの製造工程やパターン
検査などの検査工程に供される基板(ワーク)42を載
置している。
In the figure, reference numeral 41 denotes a stage on which a substrate (workpiece) 42 to be subjected to a manufacturing process such as pattern formation and an inspection process such as pattern inspection is placed.

【0032】そして、ステージ41の上方にV字状にエ
アー射出部43とエアー吸入部44を配置し、これらエ
アー射出部43とエアー吸入部44を一体にして基板4
2面に沿ってシリンダ45を駆動源として直線移動でき
るようにしている。
An air injection part 43 and an air suction part 44 are arranged in a V shape above the stage 41, and the air injection part 43 and the air suction part 44 are integrated into the substrate 4.
The cylinder 45 can be linearly moved along the two surfaces by using it as a drive source.

【0033】この場合、V字状に配置されたエアー射出
部43とエアー吸入部44は、エアー射出部43より基
板42上の局所部分にクリーンエアーを射出し、この局
所部分から舞い上がったゴミ5をエアー吸入部44によ
り吸い込むようにしている。
In this case, the air injection portion 43 and the air suction portion 44, which are arranged in a V shape, inject clean air from the air injection portion 43 to a local portion on the substrate 42, and the dust 5 rising from the local portion. Is sucked by the air suction portion 44.

【0034】ここでの、これらエアー射出部43とエア
ー吸入部44のV字角度は、基板2面のゴミ5の吹上げ
と、吸い込みに最適な角度に設定している。この角度
は、任意に調整できるようにしてもよいが、特に、エア
ー射出部43による基板42面への入射角度は、60°
の前後10°の範囲が好ましい。さらに、エアー射出部
43とエアー吸入部44でのクリーンエアーの射出と吸
入の効率を高めるため、それぞれカバーを設けるように
してもよい。この場合、エアー射出部43のカバー内に
短冊状のエアー射出口を形成し、それぞれにレギュレー
タを設けて、射出されるエアー圧力が一様になるように
してもよい。勿論、エアー吸入部44側にもレギュレー
タを設けて射出されるエアー圧力とバランスを取るよう
にしてもよい。
Here, the V-shaped angles of the air injection portion 43 and the air suction portion 44 are set to optimum angles for blowing up and sucking in the dust 5 on the surface of the substrate 2. This angle may be arbitrarily adjusted, but in particular, the incident angle of the air injection unit 43 on the surface of the substrate 42 is 60 °.
The range of 10 ° before and after is preferable. Further, in order to improve the efficiency of injecting and inhaling clean air in the air ejecting unit 43 and the air inhaling unit 44, respective covers may be provided. In this case, a strip-shaped air injection port may be formed in the cover of the air injection unit 43, and a regulator may be provided for each to make the pressure of the injected air uniform. Of course, a regulator may be provided on the side of the air suction portion 44 to balance the pressure of the air to be ejected.

【0035】このようにすれば、図8に示すようにエア
ー射出部43とエアー吸入部44を同時に基板42面に
近付け、基板2面に対し近い位置から強力にクリーンエ
アーを吹き付けるとともに、基板2面からのクリーンエ
アーをエアー吸入部44で吸い取ることができるので、
この場合も、基板2面に強固に付着したようなゴミ5も
勿論、大き目で重量のあるゴミ5なども確実に除去する
ことができる。
In this way, as shown in FIG. 8, the air injection portion 43 and the air suction portion 44 are simultaneously brought close to the surface of the substrate 42, and clean air is strongly blown from a position close to the surface of the substrate 2 and the substrate 2 Since the clean air from the surface can be sucked by the air suction portion 44,
Also in this case, it is possible to surely remove not only the dust 5 that is firmly attached to the surface of the substrate 2 but also the dust 5 that is large and heavy.

【0036】なお、上述では、エアー射出部43とエア
ー吸入部44をV字状に配置したが、例えば、これらエ
アー射出部43とエアー吸入部44を基板42面に対し
鉛直方向に並べて配置するようにしてもよい。また、エ
アー射出部43とエアー吸入部44の駆動源としては、
シリンダ45に代わって、モータとベルトを組み合わせ
たものを用いることもできる。 (第5の実施の形態)この第5の実施の形態では、第1
の実施の形態で述べた図3に示すエアー配管中のエアー
圧縮源9に接続される共通配管61に図示破線で示す弁
体10を挿入している。この弁体10は、例えば電磁弁
が用いられ、外部から与えられる制御信号により微小時
間間隔で開閉動作を繰り返すようになっている。
In the above description, the air injection part 43 and the air suction part 44 are arranged in a V shape, but for example, the air injection part 43 and the air suction part 44 are arranged vertically to the surface of the substrate 42. You may do it. In addition, as a drive source of the air injection unit 43 and the air suction unit 44,
Instead of the cylinder 45, a combination of a motor and a belt can be used. (Fifth Embodiment) In the fifth embodiment, the first
The valve element 10 shown by the broken line in the drawing is inserted into the common pipe 61 connected to the air compression source 9 in the air pipe shown in FIG. 3 described in the above embodiment. As the valve body 10, for example, an electromagnetic valve is used, and the opening / closing operation is repeated at a minute time interval by a control signal given from the outside.

【0037】しかして、図2に示すようにエアー射出部
3よりクリーンエアーが射出されると、この時のクリー
ンエアーの射出力によりワーク2上のゴミ5は、ワーク
2上から引き離され除去される。ところが、ゴミ5によ
っては、ワーク2への付着が強力でクリーンエアーの射
出力程度では、ワーク2上から離れない場合もある。こ
のような場合、弁体10を微小時間間隔で開閉動作さ
せ、エアー射出部3からのクリーンエアーを断続的に与
える。すると、ワーク2上のゴミ5には、クリーンエア
ーによる風圧が微小時間間隔で断続して加えられること
から、ワーク2上で揺動するようになり、これによりワ
ーク2上に強力に付着していることがあっても、確実に
吹き飛ばすことができるようになる。
When clean air is ejected from the air ejecting section 3 as shown in FIG. 2, the dust 5 on the work 2 is separated and removed from the work 2 by the spray output of the clean air at this time. It However, depending on the dust 5, the adherence to the work 2 may be strong and the dust 5 may not be separated from the work 2 at a level of the clean air output. In such a case, the valve body 10 is opened / closed at minute time intervals, and the clean air from the air injection unit 3 is intermittently applied. Then, the dust pressure on the workpiece 2 is intermittently applied with the wind pressure by the clean air at minute time intervals, so that the dust 5 is swung on the workpiece 2 and is strongly attached to the workpiece 2. Even if there is, you will be able to reliably blow it away.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、テ
ージ上にワークを供給してワーク上の異物を除去した状
態から、続けてパターン形成などの製造やパターン形状
の検査などの工程を実行できるので、不必要に製造工程
や検査工程を中断することがなくなり、これらの作業効
率を低下させるような事態を回避することができる。ま
た、異物除去媒体の吹き付けにより舞い上がった異物を
異物除去媒体吸入手段により吸入しているので、異物が
ワーク周囲に浮遊して止まり、再びワーク上に付着する
ようなことも回避することができる。
As described above, according to the present invention, the steps such as the pattern formation and the pattern shape inspection are continuously performed from the state in which the work is supplied on the tage to remove the foreign matter on the work. Therefore, it is possible to prevent the manufacturing process and the inspection process from being interrupted unnecessarily, and it is possible to avoid such a situation that the work efficiency is lowered. Further, since the foreign matter removed by the foreign matter removal medium suction means is sucking the foreign matter that has risen up by blowing the foreign matter removal medium, it is possible to prevent the foreign matter from floating around the work, stopping, and adhering again to the work.

【0039】また、ワーク面に対し最適な角度から異物
除去媒体を吹き付けるようにできるので、ワーク面での
異物の除去をさらに効果的に行うことができる。さら
に、異物除去媒体射出手段のワーク面に沿っての移動に
より、ワーク面に対し、近い位置から強力に異物除去媒
体を吹き付けるようにできるので、ワーク面に強固に付
着したような異物は勿論、大き目で重量のある異物につ
いても確実に除去することができる。
Further, since the foreign matter removing medium can be sprayed from the optimum angle with respect to the work surface, the foreign matter on the work surface can be removed more effectively. Further, by moving the foreign matter removing medium ejecting means along the work surface, it is possible to strongly blow the foreign matter removing medium from a position close to the work surface. It is possible to reliably remove even large and heavy foreign matter.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の概略構成を示す
図。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a first embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施の形態を説明するための図。FIG. 2 is a diagram for explaining the first embodiment.

【図3】第1の実施の形態のエアー射出部でのエアー配
管を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing an air pipe in an air injection unit according to the first embodiment.

【図4】本発明の第2の実施の形態に用いられるエアー
射出部の概略構成を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of an air injection unit used in a second embodiment of the present invention.

【図5】第2の実施の形態を説明するための図。FIG. 5 is a diagram for explaining the second embodiment.

【図6】本発明の第3の実施の形態を説明するための
図。
FIG. 6 is a diagram for explaining a third embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第4の実施の形態の概略構成を示す
図。
FIG. 7 is a diagram showing a schematic configuration of a fourth embodiment of the present invention.

【図8】第4の実施の形態を説明するための図。FIG. 8 is a diagram for explaining the fourth embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ステージ、 2…基板、 3…エアー射出部、 31…ノズル、 32…エアー射出部本体、 33…支持部、 34…エアー供給ブロック、 35…エアー供給口、 4…エアー吸入部、 5…ゴミ、 6、7…エアー配管、 61…共通配管、 62…分岐点、 63…分岐配管、 8…可動ダクト、 9…エアー圧縮源、 41…ステージ、 42…基板、 43…エアー射出部、 44…エアー吸入部、 45…シリンダ。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Stage, 2 ... Substrate, 3 ... Air injection part, 31 ... Nozzle, 32 ... Air injection part main body, 33 ... Support part, 34 ... Air supply block, 35 ... Air supply port, 4 ... Air suction part, 5 ... Dust, 6, 7 ... Air piping, 61 ... Common piping, 62 ... Branching point, 63 ... Branching piping, 8 ... Movable duct, 9 ... Air compression source, 41 ... Stage, 42 ... Substrate, 43 ... Air injection section, 44 … Air intake part, 45… Cylinder.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワークを載置するステージと、 このステージ端部に設けられ該ステージ上のワーク面に
沿って異物除去媒体を射出する異物除去媒体射出手段
と、 前記ステージ端部に前記ワークを挟んで前記異物除去媒
体射出手段と相対向して設けられ、前記異物除去媒体と
ともに前記ワーク面上の異物を吸入する異物除去媒体吸
入手段とを具備したことを特徴とする異物除去装置。
1. A stage on which a work is placed, foreign matter removal medium ejecting means for ejecting the foreign matter removal medium along the surface of the work on the stage, and the work at the end of the stage. A foreign matter removing device, comprising: a foreign matter removing medium suction means that is provided so as to face the foreign matter removing medium ejecting means, and that sucks the foreign matter on the work surface together with the foreign matter removing medium.
【請求項2】 前記異物除去媒体射出手段は、前記異物
除去媒体の射出角度を任意に選択可能にしたことを特徴
とする請求項1記載の異物除去装置。
2. The foreign matter removing apparatus according to claim 1, wherein the foreign matter removing medium ejecting means can arbitrarily select an ejection angle of the foreign matter removing medium.
【請求項3】 前記異物除去媒体射出手段および前記異
物除去媒体吸入手段のうち少なくとも前記異物除去媒体
射出手段を前記ワーク面に沿って移動可能にしたことを
特徴とする請求項1または2記載の異物除去装置。
3. The foreign matter removing medium ejecting means and the foreign matter removing medium suction means, at least the foreign matter removing medium ejecting means is movable along the work surface. Foreign matter removing device.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001194801A (en) * 2000-01-14 2001-07-19 Toshiba Corp Exposure device
JP2002049144A (en) * 2000-08-07 2002-02-15 Toppan Printing Co Ltd Substrate end face cleaning device
JP2007311757A (en) * 2006-05-15 2007-11-29 Ind Technol Res Inst Film removing method and film remover
US7552503B2 (en) 2003-07-17 2009-06-30 Sony Corporation Apparatus and method for cleaning a surface with high pressure air
WO2011111139A1 (en) * 2010-03-08 2011-09-15 シャープ株式会社 Cleaning instrument, and instrument having polarizing plate attached thereto
JP2012199458A (en) * 2011-03-23 2012-10-18 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd Foreign matter removal device and die bonder equipped with the same
KR101429545B1 (en) * 2013-04-19 2014-08-12 주식회사 아이엠텍 Apparatus for cleaning wireless antenna and equipment for manufacturing wireless antenna having the same
JP2019160948A (en) * 2018-03-12 2019-09-19 ファスフォードテクノロジ株式会社 Die bonding device and manufacturing method of semiconductor device

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001194801A (en) * 2000-01-14 2001-07-19 Toshiba Corp Exposure device
JP2002049144A (en) * 2000-08-07 2002-02-15 Toppan Printing Co Ltd Substrate end face cleaning device
US7552503B2 (en) 2003-07-17 2009-06-30 Sony Corporation Apparatus and method for cleaning a surface with high pressure air
JP2007311757A (en) * 2006-05-15 2007-11-29 Ind Technol Res Inst Film removing method and film remover
US8075790B2 (en) 2006-05-15 2011-12-13 Industrial Technology Research Institute Film removal method and apparatus
WO2011111139A1 (en) * 2010-03-08 2011-09-15 シャープ株式会社 Cleaning instrument, and instrument having polarizing plate attached thereto
JP2012199458A (en) * 2011-03-23 2012-10-18 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd Foreign matter removal device and die bonder equipped with the same
KR101429545B1 (en) * 2013-04-19 2014-08-12 주식회사 아이엠텍 Apparatus for cleaning wireless antenna and equipment for manufacturing wireless antenna having the same
JP2019160948A (en) * 2018-03-12 2019-09-19 ファスフォードテクノロジ株式会社 Die bonding device and manufacturing method of semiconductor device
CN110265318A (en) * 2018-03-12 2019-09-20 捷进科技有限公司 The manufacturing method of chip attachment device and semiconductor device

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