JPH09318804A - Production of liquid crystal color filter - Google Patents
Production of liquid crystal color filterInfo
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- JPH09318804A JPH09318804A JP13023696A JP13023696A JPH09318804A JP H09318804 A JPH09318804 A JP H09318804A JP 13023696 A JP13023696 A JP 13023696A JP 13023696 A JP13023696 A JP 13023696A JP H09318804 A JPH09318804 A JP H09318804A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶カラーディス
プレーに用いられる液晶カラーフィルタの製造方法に関
し、より詳しくは、遮光層を有する液晶カラーフィルタ
の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal color filter used in a liquid crystal color display, and more particularly to a method of manufacturing a liquid crystal color filter having a light shielding layer.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶ディスプレーのカラー表示を実現す
るために用いられる液晶カラーフィルタは、通常、１画
素毎にパターン化されたレッド(R) 、グリーン(G) およ
びブルー(B) の３色の透明着色層と、一般にブラックマ
トリックスと呼ばれる遮光層とを透明基板上に設けたも
のである。2. Description of the Related Art A liquid crystal color filter used for realizing a color display of a liquid crystal display is usually composed of three colors of red (R), green (G) and blue (B) patterned for each pixel. A transparent colored layer and a light-shielding layer generally called a black matrix are provided on a transparent substrate.
【０００３】前記遮光層は、各透明着色層間または各画
素間の光を遮断するために形成されたものであって、近
年の液晶ディスプレーの高画質化に対応するため、微細
なパターンでもって、かつ極めて高い精度で形成されて
いることが要求される。そこで従来より、遮光層の作製
にはフォトリソグラフ法が用いられていたが、近年、液
晶カラーフィルタの低コスト化を図るため、製造工程が
簡単で量産性に優れた印刷法を用いることが検討されて
いる。The light-shielding layer is formed to block light between the transparent colored layers or between the pixels and has a fine pattern in order to cope with the recent high image quality of liquid crystal displays. In addition, it is required to be formed with extremely high accuracy. So far, the photolithographic method has been used for the production of the light-shielding layer, but in recent years, in order to reduce the cost of the liquid crystal color filter, it has been considered to use a printing method which has a simple manufacturing process and is excellent in mass productivity. Has been done.
【０００４】上記印刷法としては、一般に、水無し平版
オフセット印刷法または凹版オフセット印刷法が用いら
れる。このうち、凹版オフセット印刷法を用いる場合
は、例えば図３(a) に示すように、凹版１の凹部１１に
充填された遮光層用のインキ２をブランケット３の表面
に転移させる転写工程を行った後、同図(b) に示すよう
に、前記インキ２をブランケット３から透明基板４の表
面に転移させる印刷工程を行うことによって遮光層が形
成される。As the printing method, a waterless planographic offset printing method or an intaglio offset printing method is generally used. Among them, when the intaglio offset printing method is used, for example, as shown in FIG. 3A, a transfer step of transferring the ink 2 for the light shielding layer filled in the recess 11 of the intaglio 1 to the surface of the blanket 3 is performed. After that, as shown in FIG. 2B, a light-shielding layer is formed by performing a printing process of transferring the ink 2 from the blanket 3 to the surface of the transparent substrate 4.
【０００５】上記凹版オフセット印刷法は、前記水無し
平版オフセット印刷法に比べて印刷ラインの直線性やイ
ンキ膜厚の均一性などが優れている。また、凹版の凹部
の深さが３〜１５μｍ程度と深いため、遮光層や透明着
色層に必要なインキ膜の厚みが１回の印刷で得られると
ともに、凹部の深さを調整することでインキ膜の厚みを
任意に調節できる。The intaglio offset printing method is superior to the waterless planographic offset printing method in the linearity of the printing line and the uniformity of the ink film thickness. Moreover, since the depth of the recess of the intaglio plate is as deep as about 3 to 15 μm, the thickness of the ink film required for the light-shielding layer and the transparent coloring layer can be obtained by one printing, and the ink depth can be adjusted by adjusting the depth of the recess. The thickness of the film can be adjusted arbitrarily.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上記凹版オフセット印
刷法を用いた場合、インキがブランケットから透明基板
の表面に完全に転移されず、前記インキが分断されてそ
の一部がブランケットの表面に残存してしまうおそれが
ある。このような場合には、エッジがシャープな印刷ラ
インを形成できなくなったり、インキ膜の平坦性が低下
してしまうなどして、印刷品質が低下するといった問題
が生じる。When the above intaglio offset printing method is used, the ink is not completely transferred from the blanket to the surface of the transparent substrate, and the ink is divided and a part of the ink remains on the surface of the blanket. There is a risk that In such a case, there is a problem that a print line with sharp edges cannot be formed, the flatness of the ink film is deteriorated, and the print quality is deteriorated.
【０００７】そこで、ブランケットの表面ゴム層に、イ
ンキの離型性に優れたシリコーンゴムを用いることが試
みられている。表面がシリコーンゴムからなるブランケ
ットを用いたときは、その表面に転移されたインキが分
断されることなく透明基板の表面に完全に転移されるこ
とから、ラインの形状が非常にシャープで、平坦性に優
れたインキ膜を形成できる。[0007] Therefore, it has been attempted to use a silicone rubber having excellent releasability of ink for the surface rubber layer of the blanket. When a blanket whose surface is made of silicone rubber is used, the ink transferred to the surface is completely transferred to the surface of the transparent substrate without being divided, resulting in an extremely sharp line shape and flatness. An excellent ink film can be formed.
【０００８】しかしながら、表面がシリコーンゴムから
なるブランケットで印刷を繰り返すと、透明基板に印刷
されるインキの線幅が徐々に変化するという問題があ
る。特に、遮光層を形成する場合は、インキの線幅の変
化によって液晶カラーフィルタの開口率に影響がおよ
び、ひいては液晶ディスプレーの画像品質に悪影響が生
じるため、液晶カラーフィルタを実用に供することがで
きなくなる。However, when printing is repeated with a blanket whose surface is made of silicone rubber, there is a problem that the line width of the ink printed on the transparent substrate gradually changes. In particular, when forming the light-shielding layer, the change in the line width of the ink affects the aperture ratio of the liquid crystal color filter, which in turn adversely affects the image quality of the liquid crystal display, so that the liquid crystal color filter can be put to practical use. Disappear.
【０００９】従って、上記したようにインキの線幅が経
時的に変化する場合は、液晶カラーフィルタを量産する
ことができない。そこで本発明の目的は、遮光層を優れ
た印刷品質でもって形成でき、かつ量産が可能な液晶カ
ラーフィルタの製造方法を提供することである。Therefore, when the line width of the ink changes with time as described above, the liquid crystal color filter cannot be mass-produced. Therefore, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal color filter, which can form a light-shielding layer with excellent print quality and can be mass-produced.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決する過程において、印刷を繰り返すことによって
インキの線幅が変化するという現象が、ブランケットの
表面ゴム層にインキの溶剤が浸漬してブランケット表面
の濡れ性が変化することや、ブランケット表面でインキ
が凝集することに起因するという知見を得、さらに研究
を重ねた結果、紫外線硬化型インキをブランケットの表
面に転移させるとともに、このインキに紫外線を照射す
れば、ブランケット表面でのインキの形状の変化を防止
でき、繰り返し印刷を行っても優れた印刷品質でもって
遮光層を形成できるという新たな事実を見出し、本発明
を完成するに至った。Means for Solving the Problems In the course of solving the above-mentioned problems, the present inventors have found that the phenomenon that the line width of the ink is changed by repeating printing is caused by the solvent of the ink being immersed in the surface rubber layer of the blanket. We obtained the knowledge that the wettability of the blanket surface changes and that the ink aggregates on the blanket surface, and as a result of further research, we transferred the UV curable ink to the blanket surface and When the ink is irradiated with ultraviolet rays, it is possible to prevent the change of the shape of the ink on the surface of the blanket and to find a new fact that the light shielding layer can be formed with excellent printing quality even when the printing is repeated, and the present invention is completed. Came to.
【００１１】すなわち、本発明の液晶カラーフィルタの
製造方法は、複数色の透明着色層と遮光層とを透明基板
の表面に設ける液晶カラーフィルタの製造方法であっ
て、凹版表面の凹部に充填された紫外線硬化型インキを
ブランケットの表面に転移させるとともに、前記インキ
に紫外線を照射し、次いでこのインキをブランケットか
ら透明基板の表面に転移させることによって遮光層を形
成することを特徴とする。That is, the method for producing a liquid crystal color filter of the present invention is a method for producing a liquid crystal color filter in which a transparent colored layer of a plurality of colors and a light-shielding layer are provided on the surface of a transparent substrate, and is filled in the concave portion of the intaglio surface. The ultraviolet-curable ink is transferred to the surface of the blanket, the ink is irradiated with ultraviolet rays, and then the ink is transferred from the blanket to the surface of the transparent substrate to form a light-shielding layer.
【００１２】ブランケット表面でのインキの形状の変化
を防止する方法としては、例えば電子線硬化型インキを
用いてこのインキに電子線を照射する方法、赤外線硬化
型インキを用いてこのインキに赤外線を照射する方法、
ブランケットの表面に転移されたインキを加熱する方法
等が考えられる。しかし、インキの硬化速度を調整する
といった観点や、インキのコストを低下させる、作業環
境の悪化を防止する、インキの硬化による体積収縮を低
減させる、ブランケットの膨潤を防止するといった観点
から、紫外線硬化型インキを用いてこのインキに紫外線
を照射する本発明の方法を使用するのが最も好ましい。As a method of preventing the change of the shape of the ink on the surface of the blanket, for example, a method of irradiating the ink with an electron beam by using an electron beam curable ink or an infrared ray to the ink by using an infrared ray curable ink is used. How to irradiate,
A method of heating the ink transferred to the surface of the blanket can be considered. However, from the viewpoint of adjusting the curing speed of the ink, reducing the cost of the ink, preventing the deterioration of the working environment, reducing the volume shrinkage due to the curing of the ink, and preventing the swelling of the blanket, UV curing Most preferably, the method of the present invention is used in which a mold ink is used to irradiate the ink with ultraviolet light.
【００１３】本発明の液晶カラーフィルタの製造方法に
おいて、紫外線硬化型インキに紫外線を照射する手段と
しては、例えばブランケットおよび／または凹版の裏面
から紫外線を照射する方法が好適に用いられる。また、
本発明の液晶カラーフィルタの製造方法が、凹版表面の
凹部に充填された紫外線硬化型インキをブランケットの
表面に転移させる転写工程と、前記インキをブランケッ
トから透明基板の表面に転移させる印刷工程とからな
り、前記転写工程が、ブランケットを凹版の表面に接触
させた状態でこの凹版の表面に沿って相対移動させるこ
とによって行われ、かつ前記印刷工程が、前記ブランケ
ットを透明基板の表面に接触させた状態でこの透明基板
の表面に沿って相対移動させることによって行われると
ともに、前記凹版とブランケットとの相対移動と、前記
透明基板とブランケットとの相対移動とが、それぞれ１
つの移動手段を用いて、かつ移動の始点から終点までの
全工程が各相対移動のすべてについて同じになるように
構成されているときは、前記転写工程で発生するインキ
の転写位置についての誤差が前記印刷工程で発生するイ
ンキの転移位置についての誤差によって相殺されること
から、印刷精度の優れた遮光層を有する液晶カラーフィ
ルタを得ることができる。In the method for producing a liquid crystal color filter of the present invention, as a means for irradiating the ultraviolet curable ink with ultraviolet rays, for example, a method of irradiating ultraviolet rays from the back surface of the blanket and / or the intaglio is preferably used. Also,
The method for producing a liquid crystal color filter of the present invention comprises a transfer step of transferring the ultraviolet curable ink filled in the recesses of the intaglio surface to the surface of the blanket, and a printing step of transferring the ink from the blanket to the surface of the transparent substrate. The transfer step is performed by moving the blanket relative to the surface of the intaglio in a state where the blanket is in contact with the surface of the intaglio, and the printing step includes contacting the blanket with the surface of the transparent substrate. In this state, the relative movement along the surface of the transparent substrate is performed, and the relative movement between the intaglio and the blanket and the relative movement between the transparent substrate and the blanket are each 1
When two moving means are used and all steps from the start point to the end point of the movement are the same for all the relative movements, the error in the transfer position of the ink generated in the transfer step is The liquid crystal color filter having the light-shielding layer with excellent printing accuracy can be obtained because the ink transfer position is offset by the error generated in the printing process.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】本発明の液晶カラーフィルタの製
造方法において、紫外線が照射されるタイミングは、凹
版の凹部に充填された紫外線硬化型インキがブランケッ
トの表面に転移されたとき、すなわち、前記インキが凹
版の凹部を離れてブランケットの表面に転移されたとき
であるのが好ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the method for producing a liquid crystal color filter of the present invention, the timing of irradiating with ultraviolet rays is when the ultraviolet curable ink filled in the concave portions of the intaglio plate is transferred to the surface of the blanket, that is, It is preferred when the ink leaves the depressions of the intaglio and is transferred to the surface of the blanket.
【００１５】紫外線を照射する方法としては、例えば図
１に示すように、ブランケット胴３１の内部に設置され
た光源３２からブランケット胴３１およびブランケット
３を通じてインキ２に対して紫外線を照射する方法があ
げられる。この場合、ブランケット胴３１には、紫外線
を透過させる材質を使用する必要がある。図１中、白矢
印は紫外線の照射方向を示し、符号３３は紫外線を遮蔽
するカバーを示す。この場合、インキ２の硬化はブラン
ケット３との界面から進行するため、印刷工程において
インキ２がブランケット３の表面から剥離し易くなる。
従って、印刷工程の高速化を実現できる。As a method of irradiating ultraviolet rays, for example, as shown in FIG. 1, there is a method of irradiating the ink 2 with ultraviolet rays from a light source 32 installed inside a blanket cylinder 31 through the blanket cylinder 31 and the blanket 3. To be In this case, it is necessary to use a material that transmits ultraviolet rays for the blanket cylinder 31. In FIG. 1, white arrows indicate the irradiation direction of ultraviolet rays, and reference numeral 33 indicates a cover that blocks ultraviolet rays. In this case, the curing of the ink 2 proceeds from the interface with the blanket 3, so that the ink 2 easily peels from the surface of the blanket 3 in the printing process.
Therefore, the printing process can be speeded up.
【００１６】また、例えば図２に示すように、凹版１の
裏面側に設置された光源３２から凹版１を通じてインキ
２に紫外線を照射する方法であってもよい。この場合、
ブランケット３に転移されたインキ２の表面で硬化が進
行するため、インキが凹版の凹部を離れてからインキ表
面の硬化が進行するまでの時間が短く、インキの凝集を
防止してその形状を保持する効果がより優れている。な
お、図２中の符号３１、３３および白矢印は前記と同じ
である。Alternatively, for example, as shown in FIG. 2, a method of irradiating the ink 2 with ultraviolet rays through the intaglio 1 from a light source 32 installed on the back side of the intaglio 1 may be used. in this case,
Since the curing progresses on the surface of the ink 2 transferred to the blanket 3, the time from when the ink leaves the concave portion of the intaglio to the curing of the ink surface is short, and the aggregation of the ink is prevented to maintain its shape. The effect of doing is better. The reference numerals 31 and 33 and the white arrow in FIG. 2 are the same as above.
【００１７】図１または図２に示す光源３２は、ブラン
ケット３が凹版１からインキ２を受理する位置にのみ紫
外線を照射することができるように設定されている。す
なわち、図１に示す場合、光源３２から照射される紫外
線を遮蔽するためのカバー３３は、ブランケット３が凹
版１からインキ２を受理する位置にのみ紫外線が照射さ
れるように、その開口部の大きさおよび向きが調節され
ている。また、図２に示す場合、上記と同様に、カバー
３３の開口部の大きさおよび向きが調節されているとと
もに、図２中に黒矢印で示す方向にブランケット３が移
動するのに伴って、光源３２自体がブランケット３と同
じ方向に移動できるように設定されている。The light source 32 shown in FIG. 1 or 2 is set so that the blanket 3 can irradiate ultraviolet rays only to the position where the blanket 3 receives the ink 2 from the intaglio 1. That is, in the case shown in FIG. 1, the cover 33 for blocking the ultraviolet light emitted from the light source 32 is provided at the opening of the cover 33 so that the blanket 3 is irradiated with the ultraviolet light only at the position where the intaglio 1 receives the ink 2. Adjusted in size and orientation. In the case shown in FIG. 2, the size and orientation of the opening of the cover 33 are adjusted in the same manner as described above, and as the blanket 3 moves in the direction indicated by the black arrow in FIG. The light source 32 itself is set to be movable in the same direction as the blanket 3.
【００１８】なお、本発明において、紫外線の照射方法
としては、図１および図２に示す方法を併用することも
可能である。紫外線の照射条件は、使用する紫外線硬化
型インキの種類やインキ膜の厚さ等によって異なるもの
の、前述したインキの硬化の程度に応じて設定される。
例えば、ブランケットの裏面から紫外線を照射する場合
には、インキとブランケットとの界面における紫外線の
露光量（積算光量）を、通常１００〜２０００ｍＪ／ｃ
ｍ2 、好ましくは３００〜１５００ｍＪ／ｃｍ2 とする
のが適当である。露光量が上記範囲を超えると、インキ
とブランケット表面との界面の近傍だけでなく、インキ
全体で硬化が進行してしまい、インキの粘着性が低下し
てしまうことから、透明基板の表面へのインキの転移が
不十分になるおそれがある。逆に、露光量が上記範囲を
下回ると、インキの形状の変化を防止するという本発明
の効果が得られなくなるおそれがある。In the present invention, the method shown in FIGS. 1 and 2 may be used in combination as the method of irradiating with ultraviolet rays. The conditions of UV irradiation vary depending on the type of UV curable ink used, the thickness of the ink film, etc., but are set according to the degree of curing of the ink described above.
For example, when the back surface of the blanket is irradiated with ultraviolet rays, the exposure amount (total light amount) of the ultraviolet rays at the interface between the ink and the blanket is usually 100 to 2000 mJ / c.
It is suitable to set m 2 , preferably 300 to 1500 mJ / cm 2 . If the amount of exposure exceeds the above range, not only in the vicinity of the interface between the ink and the blanket surface, but also in the ink as a whole, curing proceeds and the adhesiveness of the ink decreases, so that the surface of the transparent substrate Ink transfer may be insufficient. On the other hand, if the exposure amount is less than the above range, the effect of the present invention of preventing the change of the shape of the ink may not be obtained.
【００１９】一方、凹版の裏面から紫外線を照射する場
合には、ブランケットに転移されたインキの表面におけ
る露光量を、通常５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ2 、好まし
くは１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2 とするのが適当であ
る。露光量が上記範囲を超えると、インキの表面部分の
粘着性が低下しすぎて、透明基板の表面へのインキの転
移が不十分になり、印刷工程後にインキ２がブランケッ
ト３の表面に残存するいわゆるパイリングが起こるおそ
れがある。逆に、露光量が上記範囲を下回ると、インキ
の形状の変化を防止するという本発明の効果が得られな
くなるおそれがある。Meanwhile, in the case of irradiation with ultraviolet light from the back surface of the intaglio, the exposure amount at the surface of the ink that has been transferred to the blanket, usually 50~1500mJ / cm 2, preferably is given to the 100~1000mJ / cm 2 Appropriate. When the exposure amount exceeds the above range, the tackiness of the surface portion of the ink is excessively lowered, the transfer of the ink to the surface of the transparent substrate becomes insufficient, and the ink 2 remains on the surface of the blanket 3 after the printing process. So-called piling may occur. On the other hand, if the exposure amount is less than the above range, the effect of the present invention of preventing the change of the shape of the ink may not be obtained.
【００２０】次に、本発明に用いられる凹版、ブランケ
ット、透明基板、インキ等について詳細に説明する。本
発明に用いられる凹版の基板には、例えばソーダライム
ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス、低アルカリ
ガラス、低膨張ガラス等のガラス；フッ素樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリメタ
クリル樹脂等の樹脂；ステンレス、銅、低膨張合金アン
バー等の金属などが用いられる。なかでも、ソーダライ
ムガラス等の軟質ガラスを用いるのが、微細なパターン
を高精度で再現するうえで好ましい。Next, the intaglio, blanket, transparent substrate, ink and the like used in the present invention will be described in detail. The intaglio substrate used in the present invention includes, for example, glass such as soda lime glass, non-alkali glass, quartz glass, low alkali glass, low expansion glass; fluororesin, polycarbonate resin, polyether sulfone resin, polymethacryl resin, etc. Resin; metals such as stainless steel, copper, and low expansion alloy amber are used. Among them, it is preferable to use soft glass such as soda lime glass in order to reproduce a fine pattern with high accuracy.
【００２１】紫外線の照射を凹版の裏面から行う場合、
上記基板には、紫外線の透過性が高いことが要求され
る。具体的には、上記基板の紫外線透過率は５０％以上
であるのが好ましい。前記紫外線透過率は、２００〜４
００ｎｍの紫外線領域の全般にわたって上記範囲を満た
す必要はなく、照射される紫外線の波長領域において上
記範囲を満たしていればよい。紫外線透過率が上記範囲
を満たす基板としては、例えばソーダライムガラス、石
英ガラス、低アルカリガラス、アクリル樹脂等があげら
れる。When the ultraviolet irradiation is performed from the back surface of the intaglio plate,
The substrate is required to have a high transparency to ultraviolet rays. Specifically, the ultraviolet transmittance of the substrate is preferably 50% or more. The ultraviolet transmittance is 200 to 4
It is not necessary to satisfy the above range over the entire ultraviolet region of 00 nm, and it is sufficient that the above range is satisfied in the wavelength region of the irradiated ultraviolet light. Examples of the substrate having an ultraviolet transmittance in the above range include soda lime glass, quartz glass, low alkali glass, and acrylic resin.
【００２２】上記凹版の凹部は、遮光層のパターンに応
じて作製されたものである。凹部の深さは、通常１〜１
５μｍ、好ましくは５〜１０μｍの範囲で、遮光層の厚
みに応じて設定される。凹部の深さが前記範囲を下回る
と、遮光層に必要とされるインキ膜の厚みが１回の印刷
で得られなくなるため、好ましくない。一方、凹部の深
さが前記範囲を超えると、形成される遮光層が厚くなり
すぎて、遮光層自体および液晶カラーフィルタ表面の平
坦性が低下するおそれが生じる。The recesses of the intaglio plate are produced according to the pattern of the light shielding layer. The depth of the recess is usually 1-1.
The thickness is set to 5 μm, preferably 5 to 10 μm, depending on the thickness of the light shielding layer. If the depth of the recesses is less than the above range, the thickness of the ink film required for the light shielding layer cannot be obtained by one printing, which is not preferable. On the other hand, if the depth of the recess exceeds the above range, the light-shielding layer formed becomes too thick, and the flatness of the light-shielding layer itself and the surface of the liquid crystal color filter may deteriorate.
【００２３】上記パターンは、通常、格子状のパターン
またはストライプパターンとして形成される。前記パタ
ーンの幅（すなわち凹部の幅）は、液晶カラーフィルタ
の大きさによって異なるが、一般に、５〜７０μｍ、好
ましくは１０〜３０μｍの範囲で設定される。また、ブ
ランケットの表面ゴム層にシリコーンゴムを用いたとき
は、シリコーンゴムの表面張力が通常１５〜２５ｄｙｎ
／ｃｍと低く、凹版からのインキを受理しにくいことか
ら、凹版の凹部に表面処理を施して凹部の表面張力を５
〜２５ｄｙｎ／ｃｍ程度に低下させておくのが、インキ
を転移させやすくするという観点から好ましい。前記表
面処理としては、例えばシリコーンゴム等のシリコン系
コーティング層や、四フッ化エチレン、六フッ化プロピ
レン、フッ化ビニリデン等からなるフッ素系樹脂または
モノマー等のコーティング層を凹部の表面に形成する方
法、あるいはシリコン、フッ素等の表面張力を低下させ
る機能を有する蒸着膜を凹部の表面に形成する方法等が
あげられる。上記コーティング層および蒸着膜を形成す
る方法としては、従来公知の種々の方法が用いられる。The above pattern is usually formed as a grid pattern or a stripe pattern. The width of the pattern (that is, the width of the recess) varies depending on the size of the liquid crystal color filter, but is generally set in the range of 5 to 70 μm, preferably 10 to 30 μm. When silicone rubber is used for the surface rubber layer of the blanket, the surface tension of the silicone rubber is usually 15 to 25 dyn.
/ Cm is low and it is difficult to receive the ink from the intaglio.
It is preferable to lower it to about 25 dyn / cm from the viewpoint of facilitating the transfer of the ink. As the surface treatment, for example, a method of forming a silicon-based coating layer such as silicone rubber or a coating layer of a fluorine-based resin or monomer such as tetrafluoroethylene, propylene hexafluoride, or vinylidene fluoride on the surface of the recess. Alternatively, a method of forming a vapor-deposited film having a function of reducing the surface tension of silicon, fluorine or the like on the surface of the concave portion may be used. As a method of forming the coating layer and the vapor deposition film, various conventionally known methods are used.
【００２４】上記凹版の凹部にインキを充填する方法と
しては、ドクターブレードを用いてスキージする方法、
スクリーン印刷を用いる方法、ディスペンサー（注入
器）で注入する方法、バブルジェットによって注入する
方法等があげられる。本発明に用いられるブランケット
としては、例えばプラスチックフィルム等の支持体の表
面にシリコーンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴ
ム（ＮＢＲ）等のゴムからなる表面ゴム層を担持させた
従来公知のものが使用できる。また、前記表面ゴム層と
支持体との間または前記支持体の裏面には、多孔質のス
ポンジ層を設けてもよい。前記スポンジ層の発泡率等は
ブランケットの印刷特性を考慮して設定される。As a method for filling the ink in the concave portion of the intaglio plate, a squeegee method using a doctor blade,
Examples of the method include a method using screen printing, a method using a dispenser (injector), and a method using a bubble jet. As the blanket used in the present invention, a conventionally known one having a surface rubber layer made of rubber such as silicone rubber or acrylonitrile-butadiene rubber (NBR) supported on the surface of a support such as a plastic film can be used. Further, a porous sponge layer may be provided between the surface rubber layer and the support or on the back surface of the support. The foaming rate and the like of the sponge layer are set in consideration of the printing characteristics of the blanket.
【００２５】上記ブランケットは、遮光層の表面の平坦
性をより良好なものとするため、表面ゴム層が平滑なも
のであるのが好ましい。例えばブランケットの表面粗さ
が０．５μｍ以下、特に０．３μｍ以下であるのが適当
である。表面ゴム層として、硬度（ＪＩＳ Ｋ ６２５
３-1988 所載のスプリング硬度ＨS ，ＪＩＳ Ａ）が２
０〜８０、特に４０〜６０であるシリコーンゴムを用い
たときは、インキの転移が良好であって、凹版から転移
されたインキを透明基板の表面に完全に転移させること
ができる。また、ブランケットと透明基板とでインキが
分断されないため、ラインのエッジがシャープになると
いう効果がある。この効果は、遮光層の印刷ように、パ
ターンの幅が５０μｍ以下であるファインパターンの印
刷において顕著である。The blanket preferably has a smooth surface rubber layer in order to improve the flatness of the surface of the light shielding layer. For example, it is appropriate that the blanket has a surface roughness of 0.5 μm or less, particularly 0.3 μm or less. As the surface rubber layer, hardness (JIS K 625
3-1988 spring hardness H S , JIS A) is 2
When a silicone rubber having a viscosity of 0 to 80, particularly 40 to 60 is used, the ink transfer is good, and the ink transferred from the intaglio plate can be completely transferred to the surface of the transparent substrate. Further, since the ink is not divided between the blanket and the transparent substrate, there is an effect that the edge of the line becomes sharp. This effect is remarkable in the printing of a fine pattern having a pattern width of 50 μm or less like the printing of the light shielding layer.
【００２６】上記シリコーンゴムとしては、例えばミラ
ブルシリコーンゴム、ＲＴＶシリコーンゴム、電子線硬
化型シリコーンゴム等を用いることができる。また、シ
リコーンゴムの硬度を前記範囲に調整するため、シリコ
ーンオイルやシリコーンゲル等を適宜配合してもよい。
ブランケットの支持体としては、表面が平坦であればよ
く、例えばポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカ
ーボネート（ＰＣ）等のプラスチックフィルム；アルミ
ニウム、ステンレス等の金属板が用いられる。As the above silicone rubber, for example, millable silicone rubber, RTV silicone rubber, electron beam curing type silicone rubber, etc. can be used. Further, in order to adjust the hardness of the silicone rubber to the above range, silicone oil, silicone gel or the like may be appropriately blended.
As the support for the blanket, a flat surface may be used, and for example, a plastic film such as polyethylene, polyethylene terephthalate (PET), polyether sulfone (PES) or polycarbonate (PC); a metal plate such as aluminum or stainless steel is used. .
【００２７】紫外線の照射をブランケットの裏面から行
う場合、ブランケットを構成する表面ゴム層、支持体お
よびスポンジ層と、ブランケットを巻き付けるブランケ
ット胴とには、紫外線の透過性が高いことが要求され
る。具体的には上記表面ゴム層、支持体およびスポンジ
層の紫外線透過率は５０％以上であるのが好ましい。前
記紫外線透過率は、２００〜４００ｎｍの紫外線領域の
全般にわたって上記範囲を満たす必要はなく、照射され
る紫外線の波長領域において上記範囲を満たしていれば
よい。When the ultraviolet ray is irradiated from the back surface of the blanket, the surface rubber layer, the support and the sponge layer forming the blanket and the blanket cylinder around which the blanket is wound are required to have high ultraviolet ray permeability. Specifically, the ultraviolet transmittance of the surface rubber layer, the support and the sponge layer is preferably 50% or more. The ultraviolet transmittance does not need to satisfy the above range over the entire ultraviolet region of 200 to 400 nm, and may satisfy the above range in the wavelength region of the irradiated ultraviolet light.
【００２８】紫外線透過率が上記範囲を満たすゴムとし
ては、例えばシリカ等の充填剤を全く含まないシリコー
ンゴム、ミラブルシリコーンゴム、ＲＴＶシリコーンゴ
ム、電子線硬化型シリコーンゴム等があげられる。紫外
線透過率が上記範囲を満たす支持体としては、例えばポ
リエチレン、ポリプロピレン、メタクリル酸メチル（Ｍ
ＭＡ）等のアクリル樹脂等のプラスチックフィルムがあ
げられる。Examples of the rubber having an ultraviolet transmittance in the above range include silicone rubber containing no filler such as silica, millable silicone rubber, RTV silicone rubber, and electron beam curable silicone rubber. Examples of the support whose ultraviolet transmittance satisfies the above range include polyethylene, polypropylene, methyl methacrylate (M
MA) and other plastic films such as acrylic resins.
【００２９】ブランケットを巻き付けるためのブランケ
ット胴には、通常、銅、アルミニウム、ステンレス等の
金属が用いられるが、上記のように、ブランケット胴に
紫外線の透過性が要求されるときには、例えばソーダラ
イムガラスや、ＭＭＡなどのアクリル樹脂といった硬質
のプラスチックフィルム等からなるブランケット胴を用
いればよい。The blanket cylinder around which the blanket is wound is usually made of metal such as copper, aluminum or stainless steel. When the blanket cylinder is required to transmit ultraviolet rays as described above, for example, soda lime glass is used. Alternatively, a blanket cylinder made of a hard plastic film such as an acrylic resin such as MMA may be used.
【００３０】本発明に用いられる透明基板としては、波
長４００〜７００ｎｍの光に対する透過率が高いものが
好ましく、例えばノンアルカリガラス、ソーダライムガ
ラス、低アルカリガラス等のガラス基板や、ポリエーテ
ル、ポリスルホン、ポリアリレート等のフィルムが好適
に用いられる。上記透明基板の表面はインキを受理し易
いように十分に洗浄されている必要がある。また、イン
キを転移し易くするために、透明基板の表面に透明でか
つ耐熱性の高い樹脂からなる粘着層を形成させることも
可能である。The transparent substrate used in the present invention preferably has a high transmittance for light having a wavelength of 400 to 700 nm. For example, glass substrates such as non-alkali glass, soda lime glass and low alkali glass, and polyether and polysulfone. Films of polyarylate, etc. are preferably used. The surface of the transparent substrate needs to be sufficiently washed so that ink can be easily received. Further, in order to facilitate the transfer of the ink, it is also possible to form an adhesive layer made of a transparent and highly heat-resistant resin on the surface of the transparent substrate.
【００３１】透明基板の表面に粘着層が形成されている
ときは、インキ表面の粘着性が低くても、透明基板の表
面にインキを十分に転移させることができる印刷工程後
にブランケットの表面にインキが残存するいわゆるパイ
リングが発生しない。上記粘着層に用いられる透明でか
つ耐熱性のある樹脂としては、具体的には、４００〜７
００ｎｍの波長に対して９０％以上の透過率を有し、２
２０℃で１時間加熱処理しても前記波長域における透過
率の減少率が１０％以下であるという条件を満たす必要
がある。上記の条件を満たす樹脂としては、例えばアク
リル樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ
樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂またはこれらの
混合物があげられる。樹脂のコーティング方法として
は、ディッピング、スピンコート、ロールコート等の従
来公知の種々のコーティング方法を使用することができ
る。粘着層の厚さは１〜１０μｍ、好ましくは３〜８μ
ｍであるのが適当である。粘着層の厚さが前記範囲を下
回ると、インキの転写にムラが生じるおそれがある。一
方、粘着層の厚さが前記範囲を超えると、樹脂の透過率
が低下し、表面の平坦性も低下するため、画像に悪影響
を及ぼすなど好ましくない。When an adhesive layer is formed on the surface of the transparent substrate, the ink can be sufficiently transferred to the surface of the transparent substrate even if the ink surface has low adhesiveness. There is no so-called piling that remains. The transparent and heat-resistant resin used for the adhesive layer is, specifically, 400 to 7
Has a transmittance of 90% or more for a wavelength of 00 nm, and
It is necessary to satisfy the condition that the reduction rate of the transmittance in the wavelength range is 10% or less even if the heat treatment is performed at 20 ° C. for 1 hour. Examples of the resin satisfying the above conditions include acrylic resin, polyester resin, melamine resin, epoxy resin, phenol resin, polyimide resin or a mixture thereof. As the resin coating method, various conventionally known coating methods such as dipping, spin coating and roll coating can be used. The thickness of the adhesive layer is 1 to 10 μm, preferably 3 to 8 μm
Suitably m. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than the above range, uneven transfer of ink may occur. On the other hand, if the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer exceeds the above range, the transmittance of the resin is reduced, and the flatness of the surface is also reduced.
【００３２】本発明に用いられるインキは、紫外線硬化
型インキに黒色の着色剤を混合してなる樹脂ワニスであ
る。上記紫外線硬化型インキは、光重合型のオリゴマー
（ＵＶプレポリマー）、光重合型モノマー（ＵＶモノマ
ー）、光重合開始剤および光増感剤からなる。ＵＶプレ
ポリマーとしては、例えばエポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエ
ーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、アルキ
ドアクリレート等が使用可能である。ＵＶモノマーとし
ては、例えば単官能アクリレート、２官能アクリレー
ト、３官能アクリレート、４官能アクリレート等のアク
リルモノマーが使用可能である。光重合開始剤として
は、例えばベンゾイン系、アセトフェノン系、パーオキ
サイド系、チオキサンソン系等の種々の光重合開始剤が
使用可能である。光増感剤としては例えばアミン系、キ
ノン系等の種々の光増感が使用可能である。The ink used in the present invention is a resin varnish prepared by mixing an ultraviolet curable ink with a black colorant. The ultraviolet curable ink comprises a photopolymerization type oligomer (UV prepolymer), a photopolymerization type monomer (UV monomer), a photopolymerization initiator and a photosensitizer. As the UV prepolymer, for example, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, alkyd acrylate and the like can be used. As the UV monomer, acrylic monomers such as monofunctional acrylate, bifunctional acrylate, trifunctional acrylate, and tetrafunctional acrylate can be used. As the photopolymerization initiator, various photopolymerization initiators such as benzoin-based, acetophenone-based, peroxide-based, and thioxanthone-based can be used. As the photosensitizer, various photosensitizers such as amine type and quinone type can be used.
【００３３】上記紫外線硬化型インキは、例えば接着性
などの遮光層に求められる諸特性を十分に満たしていれ
ばよい。また、耐熱性、耐薬品性、耐光性等に優れてい
ると、製造工程における取扱が容易になるなどの利点が
ある。上記黒色の着色剤としては、例えばカーボンブラ
ック、酸化鉄（鉄黒）、チタンブラック、硫酸鉄などの
黒色顔料があげられる。紫外線硬化型インキ中への上記
着色剤の含有量は、遮光層の光学濃度（ＯＤ値）に応じ
て適宜設定される。遮光層の光学濃度は、２．０以上
（可視光の透過率が１．０％以下）、好ましくは２．５
以上（可視光の透過率が約０．３％以下）であるのが適
当である。The above ultraviolet curable ink may sufficiently satisfy various properties required for the light shielding layer, such as adhesiveness. Further, when it is excellent in heat resistance, chemical resistance, light resistance and the like, there is an advantage that handling in the manufacturing process becomes easy. Examples of the black colorant include black pigments such as carbon black, iron oxide (iron black), titanium black, and iron sulfate. The content of the colorant in the ultraviolet curable ink is appropriately set according to the optical density (OD value) of the light shielding layer. The optical density of the light-shielding layer is 2.0 or more (visible light transmittance is 1.0% or less), preferably 2.5.
It is suitable that the above value (transmittance of visible light is about 0.3% or less).
【００３４】また、本発明に用いられるインキは低粘度
であるのが好ましい。具体的には、粘度が１０〜３０，
０００ポアズ、好ましくは５００〜１０，０００ポアズ
であるのが適当である。本発明における紫外線の光源と
しては、通常水銀灯が用いられるが、ハロゲンランプを
使用することも可能である。水銀灯、ハロゲンランプな
どの紫外線ランプの種類は、照射する紫外線の波長、強
度などの紫外線の照射条件に応じて選択される。例えば
紫外線ランプとして水銀灯を用いる場合、照射される紫
外線の波長が３６５ｎｍである高圧水銀灯と２５４ｎｍ
である低圧水銀灯のうち、紫外線硬化型インキを硬化さ
せるのに適したものを使用すればよい。The ink used in the present invention preferably has a low viscosity. Specifically, the viscosity is 10 to 30,
Suitably it is 000 poises, preferably 500-10,000 poises. A mercury lamp is usually used as a light source of ultraviolet rays in the present invention, but a halogen lamp can also be used. The type of ultraviolet lamp such as a mercury lamp or a halogen lamp is selected according to the ultraviolet irradiation conditions such as the wavelength and intensity of the ultraviolet to be irradiated. For example, when a mercury lamp is used as an ultraviolet lamp, a high-pressure mercury lamp with a wavelength of 365 nm and 254 nm
The low-pressure mercury lamp that is suitable for curing the UV-curable ink may be used.
【００３５】次に、本発明の液晶カラーフィルタの製造
に用いられるオフセット印刷機について、その一例を示
す図４(a) ，(b) を参照しつつ詳細に説明する。図４
(a),(b) に示すオフセット印刷機において、凹版１と透
明基板４とは台盤５上に所定の間隔で保持されており、
基台５１に布設されたレール５４上を移動でき、かつ任
意の位置に高精度で停止できる。ブランケット３は、ブ
ランケット胴３１の両端に取り付けられたピニオンギヤ
３０と、基台５１に固定された一対のラックギヤ６との
噛み合わせによって自転しつつ移動する。ブランケット
胴３１は、従来のものと同様に、その軸３４の両端がエ
アシリンダ３５の先端に回転自在に保持されている。Next, the offset printing machine used for manufacturing the liquid crystal color filter of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 4 (a) and 4 (b) showing an example thereof. FIG.
In the offset printing machine shown in (a) and (b), the intaglio 1 and the transparent substrate 4 are held on the base 5 at a predetermined interval,
It can be moved on the rail 54 laid on the base 51, and can be stopped at an arbitrary position with high accuracy. The blanket 3 moves while rotating by rotation of the pinion gears 30 attached to both ends of the blanket cylinder 31 and the pair of rack gears 6 fixed to the base 51. The blanket cylinder 31 has both ends of a shaft 34 rotatably held at the tip of an air cylinder 35, as in the conventional case.
【００３６】上記オフセット印刷機による印刷は、以下
に示すようにして行われる。まず、台盤５を移動させ
て、凹版１の中心線６３と、ラックギヤ６の自転開始位
置６１と自転終了位置６２との中間に位置する基準位置
６０とを一致させた後、自転開始位置６１にてピニオン
ギヤ３０とラックギヤ６とを噛み合わせて、ブランケッ
ト３を凹版１の表面に所定の圧力（ニップ圧）にて接触
させる。この状態でブランケット３を自転終了位置６２
まで移動させれば、前記両ギヤの噛み合わせによってブ
ランケット３が自転しつつ移動し、凹版１の凹部（図示
せず）に充填されたインキがブランケット３の表面に転
移される（転写工程）。Printing by the offset printing machine is performed as follows. First, the base 5 is moved to match the center line 63 of the intaglio 1 with the reference position 60 located between the rotation start position 61 and the rotation end position 62 of the rack gear 6, and then the rotation start position 61. The pinion gear 30 and the rack gear 6 are engaged with each other, and the blanket 3 is brought into contact with the surface of the intaglio plate 1 at a predetermined pressure (nip pressure). In this state, the blanket 3 is rotated at the rotation end position 62.
Then, the blanket 3 moves while rotating by the meshing of both gears, and the ink filled in the recess (not shown) of the intaglio plate 1 is transferred to the surface of the blanket 3 (transfer process).
【００３７】次いで、透明基板４の中心線６４と基準位
置６０とを一致させた後、自転開始位置６１にてピニオ
ンギヤ３０とラックギヤ６とを噛み合わせて、ブランケ
ット３を透明基板４の表面に所定の圧力（ニップ圧）に
て接触させる。この際、前記両ギヤは転写工程の際と同
じ位置で噛み合う。この状態でブランケット３を自転終
了位置６２まで移動させれば、ブランケット３が転写工
程と全く同じ回転状態で自転しつつ移動して、ブランケ
ット３の表面に転移されたインキ（図示せず）が透明基
板４の表面に転移される（印刷工程）。Next, after the center line 64 of the transparent substrate 4 and the reference position 60 are aligned with each other, the pinion gear 30 and the rack gear 6 are meshed with each other at the rotation start position 61, and the blanket 3 is predetermined on the surface of the transparent substrate 4. Contact with the pressure (nip pressure). At this time, the two gears mesh at the same position as in the transfer step. If the blanket 3 is moved to the rotation end position 62 in this state, the blanket 3 moves while rotating in the same rotation state as in the transfer step, and the ink (not shown) transferred to the surface of the blanket 3 is transparent. Transferred to the surface of the substrate 4 (printing step).
【００３８】上記オフセット印刷機によれば、転写工程
と印刷工程との両工程において、ラックギヤ６とピニオ
ンギヤ３０とが同じ位置で噛み合うことから、転写工程
で発生する転移位置の誤差を印刷工程で発生する転移位
置の誤差によって相殺させることができ、高精度な印刷
が可能となる。具体的には、このオフセット印刷機によ
って印刷されたインキの転移位置と、当該インキに対応
する凹版の凹部の位置との誤差（印刷精度）は最大５μ
ｍであって、カラーフィルタに要求される印刷精度を十
分に満たしている。また、図４に示すオフセット印刷機
は、ラックギヤ６とピニオンギヤ３０とを製造する際の
精度のばらつきや連続印刷中のギヤの磨耗などによる印
刷精度の劣化が原理的に発生しない。従って、１０万枚
もの連続印刷を行ってもその印刷精度は十分に維持され
る。According to the above offset printing machine, since the rack gear 6 and the pinion gear 30 mesh with each other at the same position in both the transfer process and the printing process, an error in the transfer position generated in the transfer process occurs in the printing process. This can be offset by the error in the transfer position that occurs, and high-precision printing becomes possible. Specifically, the error (printing accuracy) between the transfer position of the ink printed by the offset printing machine and the position of the concave portion of the intaglio corresponding to the ink is a maximum of 5μ.
m, which sufficiently satisfies the printing accuracy required for the color filter. Further, the offset printing machine shown in FIG. 4 does not cause deterioration in printing accuracy due to variations in accuracy when manufacturing the rack gear 6 and the pinion gear 30 and wear of gears during continuous printing, in principle. Therefore, the printing accuracy is sufficiently maintained even when continuous printing of 100,000 sheets is performed.
【００３９】本発明の液晶カラーフィルタの製造方法に
おいて、透明基板の表面に印刷された遮光層用のインキ
は、さらに、透明基板が熱変形しない温度と時間（通
常、１８０〜２５０℃で３０〜１８０分間、好ましくは
２００〜２３０℃で５０〜８０分間）加熱乾燥させるこ
とによって完全に硬化する。このようにして、透明基板
の表面に遮光層が形成される。In the method for producing a liquid crystal color filter of the present invention, the ink for the light-shielding layer printed on the surface of the transparent substrate is further heated at a temperature and for a time (usually at 180 to 250 ° C. for 30 to 30 ° C.) so that the transparent substrate is not thermally deformed. It is completely cured by heating and drying for 180 minutes, preferably at 200 to 230 ° C. for 50 to 80 minutes. In this way, the light shielding layer is formed on the surface of the transparent substrate.
【００４０】なお、透明着色層の形成は遮光層の形成後
に行ってもよく、逆に透明着色層を形成した後で透明着
色層の表面に遮光層の形成を行ってもよい。The transparent colored layer may be formed after forming the light shielding layer, or conversely, after forming the transparent colored layer, the light shielding layer may be formed on the surface of the transparent colored layer.
【００４１】[0041]
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例に基づい
て説明する。 実施例１ 凹版１の凹部１１に遮光層用のインキ２を充填した後、
ブランケット３の表面に転移させるとともに、図１に示
すように、ブランケット胴３１に設置された紫外線の光
源３２からブランケット３およびブランケット胴３１を
通じて前記インキ２に紫外線（低圧水銀ランプ、波長２
５４ｎｍ、照度１５００ｍＷ／ｃｍ2 ）を照射した。次
いで、前記インキ２をブランケット３から透明基板４の
表面に転移させることにより、遮光層用インキの印刷を
行った。EXAMPLES The present invention will be described below based on Examples and Comparative Examples. Example 1 After filling the recess 11 of the intaglio 1 with the ink 2 for the light-shielding layer,
While being transferred to the surface of the blanket 3, as shown in FIG. 1, ultraviolet light (low-pressure mercury lamp, wavelength 2
Irradiation was performed at 54 nm and an illuminance of 1500 mW / cm 2 . Then, the ink 2 was transferred from the blanket 3 to the surface of the transparent substrate 4 to print the ink for the light shielding layer.
【００４２】上記印刷には図４に示すオフセット印刷機
を使用した。凹版１の基板にはソーダライムガラス（縦
３６０ｍｍ×横４６０ｍｍ）を使用した。凹版１の表面
に形成された凹部は、深さ１０μｍ、幅４０μｍであっ
て、基板の縦方向の間隔が３００μｍで、基板の横方向
の間隔が１００μｍである格子状のパターンであった。
ブランケット３には、厚さ０．３ｍｍのポリエチレンフ
ィルムからなる支持体上に硬度６０度（スプリング硬度
ＨS ，ＪＩＳ Ａ）のシリコーンゴムをコーティングし
て、総厚み１．０ｍｍとしたものを使用した。透明基板
４にはソーダライムガラス（縦３６０ｍｍ×横４６０ｍ
ｍ）を使用した。An offset printing machine shown in FIG. 4 was used for the above printing. As a substrate of the intaglio plate 1, soda lime glass (360 mm in length × 460 mm in width) was used. The recesses formed on the surface of the intaglio 1 had a depth of 10 μm, a width of 40 μm, a vertical gap between the substrates of 300 μm, and a horizontal gap between the substrates of 100 μm.
For the blanket 3, a support having a total thickness of 1.0 mm was used by coating a support made of a polyethylene film having a thickness of 0.3 mm with a silicone rubber having a hardness of 60 degrees (spring hardness H S , JIS A). . Soda lime glass (360 mm long × 460 m wide) on the transparent substrate 4.
m) was used.
【００４３】遮光層用のインキ２には、紫外線硬化型の
ビヒクル１００重量部に対してカーボンブラック３０重
量部を配合したものを使用した。なお、上記印刷におい
て、インキ２とブランケット３との界面における紫外線
の積算光量は、１０００ｍＪ／ｃｍ2 であった。遮光層
用インキが印刷された透明基板に、さらにレッド(R) 、
グリーン(G) 、ブルー(B) の３色の透明着色層用インキ
を印刷し、次いで、透明基板を２３０℃で６０分間加熱
乾燥して、遮光層用インキおよび透明着色層用インキを
完全に硬化させることにより、液晶カラーフィルタを作
製した。Ink 2 for the light-shielding layer was prepared by mixing 30 parts by weight of carbon black with 100 parts by weight of an ultraviolet curable vehicle. In the above printing, the integrated light amount of ultraviolet rays at the interface between the ink 2 and the blanket 3 was 1000 mJ / cm 2 . On the transparent substrate printed with the ink for the light-shielding layer, red (R),
The green (G) and blue (B) transparent colored layer inks are printed, then the transparent substrate is heated and dried at 230 ° C for 60 minutes to completely remove the light shielding layer ink and the transparent colored layer ink. A liquid crystal color filter was produced by curing.
【００４４】実施例２ 遮光層用インキの印刷において、以下に示す凹版および
ブランケットを用いたほかは、実施例１と同様にして液
晶カラーフィルタを作製した。凹版は、凹部の深さが７
μｍであるほかは、実施例１で使用したものと同様であ
る。ブランケットは、シリコーンゴムの硬度（ＨS ，Ｊ
ＩＳ Ａ）が４０度であるほかは、実施例１で使用した
ものと同様である。Example 2 A liquid crystal color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the intaglio and blanket shown below were used in printing the ink for the light shielding layer. The intaglio has a depth of 7
Other than μm, it is the same as that used in Example 1. Blanket, silicone rubber hardness (H S, J
It is the same as that used in Example 1 except that the IS A) is 40 degrees.
【００４５】実施例３ 凹版１の凹部１１に遮光層用のインキ２を充填した後、
ブランケット３の表面に転移させるとともに、図２に示
すように、凹版１の裏面側に設置された紫外線の光源３
２から凹版１を通じて前記インキ２に紫外線を照射し
た。次いで、前記インキ２をブランケット３から透明基
板４の表面に転移させることにより、遮光層用インキの
印刷を行った。Example 3 After filling the concave portion 11 of the intaglio plate 1 with the ink 2 for the light shielding layer,
The ultraviolet light source 3 which is transferred to the surface of the blanket 3 and is installed on the back surface side of the intaglio 1 as shown in FIG.
The ink 2 was irradiated with ultraviolet rays from 2 through the intaglio 1. Then, the ink 2 was transferred from the blanket 3 to the surface of the transparent substrate 4 to print the ink for the light shielding layer.
【００４６】上記印刷に使用したオフセット印刷機、凹
版１、インキ２、ブランケット３および透明基板４は、
いずれも実施例１と同じである。紫外線の光源３２に
は、低圧水銀ランプ（波長２５４ｎｍ、照度１０００ｍ
Ｗ／ｃｍ2 ）を使用した。なお、上記印刷において、ブ
ランケット３に転移されたインキ２の表面における紫外
線の積算光量は、８００ｍＪ／ｃｍ2 であった。The offset printing machine, the intaglio 1, the ink 2, the blanket 3 and the transparent substrate 4 used for the above printing are
Both are the same as in Example 1. The ultraviolet light source 32 is a low pressure mercury lamp (wavelength 254 nm, illuminance 1000 m).
W / cm 2 ) was used. In the above printing, the integrated light amount of ultraviolet rays on the surface of the ink 2 transferred to the blanket 3 was 800 mJ / cm 2 .
【００４７】遮光層用インキを印刷した後、実施例１と
同様にして、透明着色層用インキの印刷および加熱乾燥
を行うことにより、液晶カラーフィルタを作製した。 実施例４ 遮光層用インキの印刷において、以下に示す凹版および
ブランケットを用いたほかは、実施例３と同様にして液
晶カラーフィルタを作製した。After printing the ink for the light-shielding layer, the transparent color layer ink was printed and dried by heating in the same manner as in Example 1 to produce a liquid crystal color filter. Example 4 A liquid crystal color filter was produced in the same manner as in Example 3 except that the intaglio and blanket shown below were used in the printing of the ink for the light shielding layer.
【００４８】凹版は、凹部の深さが５μｍであって、凹
部にポリ（四フッ化エチレン）のコーティングが施され
ており、その表面張力が１０ｄｙｎ／ｃｍであるほか
は、実施例１で使用したものと同様である。ブランケッ
トは実施例２で使用したのと同じである。上記実施例１
〜４について、遮光層用インキの印刷を１０，０００回
行い、印刷初期と、１０，０００回連続印刷後とのイン
キの線幅の変化率を電子顕微鏡で測定した。また、透明
基板に印刷されたインキの位置と、当該インキに対応す
る凹版の凹部の位置との誤差（印刷精度）の最大値を求
めた。The intaglio plate was used in Example 1 except that the depth of the depression was 5 μm, the depression was coated with poly (tetrafluoroethylene), and the surface tension was 10 dyn / cm. It is the same as what was done. The blanket is the same as that used in Example 2. Example 1 above
For Nos. 4 to 4, the ink for the light-shielding layer was printed 10,000 times, and the rate of change in the line width of the ink at the beginning of printing and after 10,000 times of continuous printing was measured by an electron microscope. Further, the maximum value of the error (printing accuracy) between the position of the ink printed on the transparent substrate and the position of the concave portion of the intaglio corresponding to the ink was determined.
【００４９】上記インキの線幅の変化率（％）および印
刷精度（μｍ）の結果を表１に示す。なお、インキの線
幅の変化率において、＋は線幅の増加、−は線幅の減少
を示している。Table 1 shows the results of the change rate (%) of the line width of the above ink and the printing accuracy (μm). In addition, in the change rate of the line width of the ink, + indicates an increase in the line width and-indicates a decrease in the line width.
【００５０】[0050]
【表１】 [Table 1]
【００５１】比較例１ 凹版１の凹部１１に遮光層用のインキ２を充填した後、
図３(a) に示すように、前記インキ２を凹版１の凹部１
１からブランケット３の表面に転移させ、次いで同図
(b) に示すように、インキ２をブランケット３から透明
基板の表面に転移させることにより、遮光層用インキの
印刷を行った。Comparative Example 1 After filling the concave portion 11 of the intaglio 1 with the ink 2 for the light shielding layer,
As shown in FIG. 3A, the ink 2 is applied to the recess 1 of the intaglio plate 1.
1 to the surface of the blanket 3, then the same figure
As shown in (b), the ink 2 was transferred from the blanket 3 to the surface of the transparent substrate to print the ink for the light shielding layer.
【００５２】上記印刷には通常の平台オフセット印刷機
を使用した。凹版１の基板にはステンレス板（縦３６０
ｍｍ×横４６０ｍｍ）を使用した。凹版１の表面に形成
された凹部のパターンは実施例１と同様であった。ブラ
ンケット３には、厚さ０．３ｍｍのＰＥＴフィルムから
なる支持体上に硬度５０度（スプリング硬度ＨS ，ＪＩ
Ｓ Ａ）のシリコーンゴムをコーティングして、総厚み
１．０ｍｍとしたものを使用した。透明基板は実施例１
で使用したのと同じものを使用した。A normal flatbed offset printing machine was used for the above printing. The stainless steel plate (vertical 360
mm × width 460 mm) was used. The pattern of the recesses formed on the surface of the intaglio 1 was the same as in Example 1. The blanket 3 has a hardness of 50 degrees (spring hardness H S , JI) on a support made of a PET film having a thickness of 0.3 mm.
The silicone rubber of S A) was coated to have a total thickness of 1.0 mm. Example 1 for the transparent substrate
I used the same one used in.
【００５３】遮光層用のインキ２には、ポリエステル−
メラミン樹脂１００重量部にカーボンブラック３０重量
部を添加し、ブチルカルビトールにて粘度を２００ポア
ズに調整したものを用いた。 比較例２ 遮光層用インキの印刷において、以下に示す版、インキ
およびブランケットを用いたほかは、比較例１と同様に
して液晶カラーフィルタを作製した。The ink 2 for the light-shielding layer contains polyester-
30 parts by weight of carbon black was added to 100 parts by weight of the melamine resin, and the viscosity was adjusted to 200 poise with butyl carbitol. Comparative Example 2 A liquid crystal color filter was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the following plate, ink and blanket were used in printing the ink for the light shielding layer.
【００５４】版としては、東レ（株）製の水無し平版
（商品名「ＴＡＮ」）を使用した。遮光層用のインキ２
は、粘度を５０００ポアズに調整したほかは、比較例１
と同様なものを使用した。ブランケット３には、表面ゴ
ム層がＮＢＲからなるブランケット（住友ゴム工業
（株）製の商品名「ＳＴ８００」、厚さ１．９ｍｍ）を
使用した。A waterless planographic plate (trade name "TAN") manufactured by Toray Industries, Inc. was used as a plate. Ink for light shielding layer 2
Comparative Example 1 except that the viscosity was adjusted to 5000 poise.
The same one was used. For the blanket 3, a blanket having a surface rubber layer made of NBR (trade name “ST800” manufactured by Sumitomo Rubber Industries, Ltd., thickness 1.9 mm) was used.
【００５５】比較例３ ステンレス製の４００メッシュのスクリーンを用いたス
クリーン印刷によって、遮光層用インキの印刷を行っ
た。上記印刷において、遮光層用インキには、エポキシ
樹脂１００重量部にカーボンブラック８０重量部を添加
し、ブチルセロソルブにて粘度を１００ポアズに調整し
たものを用いた。なお、上記スクリーンとしては、実施
例１で使用した凹版における凹部のパターンと同じパタ
ーンからなる画線部分が形成されたものを使用した。Comparative Example 3 The light-shielding layer ink was printed by screen printing using a 400 mesh screen made of stainless steel. In the above printing, the light-shielding layer ink used was one in which 80 parts by weight of carbon black was added to 100 parts by weight of an epoxy resin and the viscosity was adjusted to 100 poises with butyl cellosolve. The screen used was one in which an image portion having the same pattern as the pattern of the recesses in the intaglio plate used in Example 1 was formed.
【００５６】遮光層用インキが印刷された透明基板に、
さらにレッド(R) 、グリーン(G) 、ブルー(B) の３色の
透明着色層用インキを印刷し、次いで、透明基板を２３
０℃で６０分間加熱乾燥して、遮光層用インキおよび透
明着色層用インキを完全に硬化させることにより、液晶
カラーフィルタを作製した。上記比較例１〜３につい
て、遮光層用インキの印刷を５００回行い、印刷初期
と、５００回連続印刷後とのインキの線幅の変化率を電
子顕微鏡で測定した。また、透明基板に印刷されたイン
キの位置と、当該インキに対応する版上でのパターン
（またはスクリーンの画線部分）の位置との誤差（印刷
精度）の最大値を求めた。On the transparent substrate on which the light-shielding layer ink is printed,
Furthermore, three colors of red (R), green (G), and blue (B) transparent colored layer inks are printed.
A liquid crystal color filter was produced by heating and drying at 0 ° C. for 60 minutes to completely cure the ink for the light shielding layer and the ink for the transparent colored layer. For the above Comparative Examples 1 to 3, printing of the light-shielding layer ink was performed 500 times, and the rate of change of the line width of the ink between the initial stage of printing and after 500 consecutive printings was measured with an electron microscope. Further, the maximum value of the error (printing accuracy) between the position of the ink printed on the transparent substrate and the position of the pattern (or the image area of the screen) on the plate corresponding to the ink was determined.
【００５７】上記インキの線幅の変化率（％）および印
刷精度（μｍ）の結果を表２に示す。インキの線幅の変
化率における符号＋および−は前記と同じである。Table 2 shows the results of the change rate (%) of the line width of the above ink and the printing accuracy (μm). The signs + and-in the rate of change of the ink line width are the same as above.
【００５８】[0058]
【表２】 [Table 2]
【００５９】表１〜２より明らかなように、実施例１〜
４では、１０，０００回連続印刷後においてもインキの
線幅の変化率が極めて小さく、印刷ラインのエッジがシ
ャープで、インキ膜の平坦性に優れているなど、優れた
印刷品質でもって遮光層を作製することができた。ま
た、図４に示すオフセット印刷機を用いたことから、遮
光層の印刷精度も優れていた。As is clear from Tables 1-2, Examples 1--1
In No. 4, the change rate of the line width of the ink is extremely small even after 10,000 times of continuous printing, the edges of the printing line are sharp, and the flatness of the ink film is excellent. Could be made. Further, since the offset printing machine shown in FIG. 4 was used, the printing accuracy of the light shielding layer was also excellent.
【００６０】これに対して、ブランケットの表面に転移
されたインキに紫外線を照射しなかった比較例１〜２で
は、５００回連続印刷後におけるインキの線幅の変化率
が極めて大きくなった。また、比較例２では、ブランケ
ットから透明基板へのインキの転移が不十分で、いわゆ
るパイリングが生じたため、インキの形状が乱れたり、
ラインの直進性が低くなった。On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2 in which the ink transferred to the surface of the blanket was not irradiated with ultraviolet rays, the rate of change of the line width of the ink after 500 times continuous printing was extremely large. In Comparative Example 2, the transfer of the ink from the blanket to the transparent substrate was insufficient and so-called piling occurred, so that the shape of the ink was disturbed,
The straightness of the line has decreased.
【００６１】一方、スクリーン印刷を用いた比較例３で
は、５００回連続印刷後におけるインキの線幅の変化率
が小さいものの、液晶カラーフィルタの遮光層を作製す
るには、その印刷精度が不十分であった。On the other hand, in Comparative Example 3 using screen printing, although the change rate of the line width of the ink is small after 500 times of continuous printing, the printing accuracy is insufficient for producing the light shielding layer of the liquid crystal color filter. Met.
【００６２】[0062]
【発明の効果】本発明によれば、遮光層を優れた印刷品
質でもって形成することができる。また、印刷を繰り返
しても優れた印刷品質を維持することができる。従っ
て、本発明の液晶カラーフィルタの製造方法によれば、
高画質化に対応した液晶カラーフィルタを量産すること
ができ、液晶カラーフィルタの低コスト化を実現でき
る。According to the present invention, the light shielding layer can be formed with excellent print quality. Further, it is possible to maintain excellent print quality even when printing is repeated. Therefore, according to the method for producing a liquid crystal color filter of the present invention,
Liquid crystal color filters compatible with high image quality can be mass-produced, and cost reduction of liquid crystal color filters can be realized.
【図１】本発明の液晶カラーフィルタの製造方法の一例
を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic view showing an example of a method for manufacturing a liquid crystal color filter of the present invention.
【図２】本発明の液晶カラーフィルタの製造方法の他の
例を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing another example of the method for manufacturing a liquid crystal color filter of the present invention.
【図３】凹版オフセット印刷法による遮光層の作製方法
を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a method for producing a light shielding layer by an intaglio offset printing method.
【図４】同図(a) は本発明に用いられるオフセット印刷
機の一例を示す断面図、同図(b) はその平面図である。FIG. 4 (a) is a sectional view showing an example of an offset printing machine used in the present invention, and FIG. 4 (b) is a plan view thereof.
１ 凹版 １１ 凹部 ２ インキ ３ ブランケット ４ 透明基板 1 Intaglio 11 Recess 2 Ink 3 Blanket 4 Transparent substrate
Claims (6)
の表面に設ける液晶カラーフィルタの製造方法であっ
て、凹版表面の凹部に充填された紫外線硬化型インキを
ブランケットの表面に転移させるとともに、前記インキ
に紫外線を照射し、次いでこのインキをブランケットか
ら透明基板の表面に転移させることによって遮光層を形
成することを特徴とする液晶カラーフィルタの製造方
法。1. A method of manufacturing a liquid crystal color filter comprising a transparent substrate having a transparent colored layer of a plurality of colors and a light-shielding layer, wherein an ultraviolet curable ink filled in a concave portion of an intaglio surface is transferred to a blanket surface. A method for producing a liquid crystal color filter, characterized in that the ink is irradiated with ultraviolet rays and then the ink is transferred from the blanket to the surface of the transparent substrate to form a light shielding layer.
凹版の裏面から照射する請求項１記載の液晶カラーフィ
ルタの製造方法。2. The method for producing a liquid crystal color filter according to claim 1, wherein the back surface of the blanket and / or the intaglio plate is irradiated with ultraviolet rays.
外線透過率が５０％以上である請求項２記載の液晶カラ
ーフィルタの製造方法。3. The method for producing a liquid crystal color filter according to claim 2, wherein the blanket and / or the intaglio plate has an ultraviolet transmittance of 50% or more.
Ａ）が２０〜８０のシリコーンゴムからなる請求項１
〜３のいずれかに記載の液晶カラーフィルタの製造方
法。4. The surface of the blanket has a hardness (JIS
A) is composed of 20-80 silicone rubber.
4. The method for manufacturing a liquid crystal color filter according to any one of 3 to 3.
ｍである請求項１〜４のいずれかに記載の液晶カラーフ
ィルタの製造方法。5. The surface tension of the recess is 5 to 25 dyn / c.
The method for producing a liquid crystal color filter according to any one of claims 1 to 4, wherein m is m.
インキをブランケットの表面に転移させる転写工程と、
前記インキをブランケットから透明基板の表面に転移さ
せる印刷工程とからなり、 前記転写工程が、ブランケットを凹版の表面に接触させ
た状態でこの凹版の表面に沿って相対移動させることに
よって行われ、かつ前記印刷工程が、前記ブランケット
を透明基板の表面に接触させた状態でこの透明基板の表
面に沿って相対移動させることによって行われるととも
に、 前記凹版とブランケットとの相対移動と、前記透明基板
とブランケットとの相対移動とが、それぞれ１つの移動
手段を用いて、かつ移動の始点から終点までの全工程が
各相対移動のすべてについて同じになるように構成され
る請求項１〜５のいずれかに記載の液晶カラーフィルタ
の製造方法。6. A transfer step of transferring the ultraviolet curable ink filled in the recesses on the surface of the intaglio plate to the surface of the blanket,
A printing step of transferring the ink from the blanket to the surface of the transparent substrate, wherein the transferring step is performed by relatively moving the blanket along the surface of the intaglio in a state where the blanket is in contact with the surface of the intaglio, and The printing step is performed by relatively moving the blanket along the surface of the transparent substrate while keeping the blanket in contact with the surface of the transparent substrate, the relative movement of the intaglio and the blanket, and the transparent substrate and the blanket. 6. The relative movement between and is configured such that all the relative movements are the same for all the relative movements by using one moving means and from the start point to the end point of the movement. A method for producing the liquid crystal color filter described.
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