JP2001272526A - Color filter and its manufacturing method - Google Patents

Color filter and its manufacturing method

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JP2001272526A
JP2001272526A JP2000088591A JP2000088591A JP2001272526A JP 2001272526 A JP2001272526 A JP 2001272526A JP 2000088591 A JP2000088591 A JP 2000088591A JP 2000088591 A JP2000088591 A JP 2000088591A JP 2001272526 A JP2001272526 A JP 2001272526A
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photocatalyst
color filter
containing layer
light
pixel portion
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Hironori Kobayashi
弘典 小林
Masahito Okabe
将人 岡部
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter which is free from any inconvenience such as color mixing and comprised a pixel part formed on a photocatalyst containing layer with an inkjet method. SOLUTION: The color filter is characterized by having a transparent substrate, light shielding parts arranged at positions on the boundaries of the pixel part on the transparent substrate, a primer layer formed on the light shielding parts and the transparent substrate with the protrusions and recessions of the surface falling within ±10,000 Å, the photocatalyst-containing layer formed on the primer layer, containing at least a photocatalyst and a binder and being a layer with the wettability varied by exposure so as to lower the contact angle with a liquid and the pixel part formed by the inkjet method on the photocatalyst containing layer with plural colors in a pattern specified by the position between the light shielding parts.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、画素部をインクジ
ェット方式で着色することにより得られる、カラー液晶
表示装置に好適なカラーフィルタおよびその製造方法に
関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a color filter suitable for a color liquid crystal display device, which is obtained by coloring a pixel portion by an ink jet method, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナルコンピューターの発
達、特に携帯用パーソナルコンピューターの発達に伴
い、液晶表示装置、とりわけカラー液晶表示装置の需要
が増加する傾向にある。しかしながら、このカラー液晶
表示装置が高価であることから、コストダウンの要求が
高まっており、特にコスト的に比重の高いカラーフィル
タに対するコストダウンの要求が高い。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of personal computers, especially portable personal computers, the demand for liquid crystal display devices, especially color liquid crystal display devices, has been increasing. However, since the color liquid crystal display device is expensive, there is an increasing demand for cost reduction, and in particular, there is a high demand for cost reduction for a color filter having a high specific gravity in terms of cost.

【0003】このようなカラーフィルタにおいては、通
常赤(R)、緑(G)、および青(B)の3原色の着色
パターンを備え、R、G、およびBのそれぞれの画素に
対応する電極をON、OFFさせることで液晶がシャッ
タとして作動し、R、G、およびBのそれぞれの画素を
光が通過してカラー表示が行われるものである。
Such a color filter usually has three primary color patterns of red (R), green (G), and blue (B), and has electrodes corresponding to respective pixels of R, G, and B. Is turned on and off, the liquid crystal operates as a shutter, and light passes through each pixel of R, G, and B to perform color display.

【0004】従来のカラーフィルタの製造方法は、一般
に、R、G、およびBの3色を着色するために同一の工
程を3回繰り返して行っていたため、コスト高になると
いう問題や、工程を繰り返すため歩留まりが低下すると
いう問題があった。このような問題を回避して、カラー
フィルタを安価に得る方法として、インクジェット方式
で着色インクを吹き付けして着色層(画素部)を形成す
る方法が種々提案されている(特開昭59−75205
号公報、特開平9−203803号公報、特開平8−2
30314号公報、および特開平8−227012号公
報)。しかしながら、いずれの方法も工程面および得ら
れるカラーフィルタの品質面で必ずしも満足し得るもの
ではなかった。
In the conventional method of manufacturing a color filter, the same process is generally repeated three times in order to color R, G, and B colors. There is a problem that the yield is reduced due to repetition. As a method of avoiding such a problem and obtaining a color filter at low cost, various methods of forming a colored layer (pixel portion) by spraying a colored ink by an inkjet method have been proposed (JP-A-59-75205).
JP, JP-A-9-203803, JP-A-8-2803
30314, and JP-A-8-227012). However, none of these methods is necessarily satisfactory in terms of the process and the quality of the obtained color filter.

【0005】本発明者等は、インクジェット方式で着色
インクを吹き付けして着色層(画素部)を形成する方法
として、光触媒含有層を用いる方法を提案した(特開平
11−337726号公報)。この方法は、露光により
容易に濡れ性の異なるパターンを形成することが可能で
あり、ここに着色層(画素部)を形成することにより、
安価でかつ高品質なカラーフィルタを提供することがで
きるものである。
The present inventors have proposed a method using a photocatalyst-containing layer as a method for forming a colored layer (pixel portion) by spraying a colored ink by an ink jet method (Japanese Patent Laid-Open No. 11-337726). According to this method, it is possible to easily form a pattern having different wettability by exposure, and by forming a colored layer (pixel portion) thereon,
An inexpensive and high-quality color filter can be provided.

【0006】このような光触媒含有層を用いてカラーフ
ィルタを製造する場合、通常、例えば図3に示すよう
に、透明基板1上に遮光部2を形成し(図3(a))、こ
の遮光部2上の全面にわたって光触媒含有層3を塗布し
(図3(b))、フォトマスク4等を用いてパターン露光
を行って画素部形成部5を親液性の領域とし(図3
(c))、この親液性の領域である画素部形成部5にイン
クジェット装置6を用いて画素部形成用インク7を付着
させる(図3(d))。この際、画素部形成用インク7
は、露光された画素部形成部5内に均一に広がると共
に、露光されていない部分、すなわち撥液性の部分には
広がらず、画素部形成部5のみに精度良く塗布される。
この画素部形成用インク7を硬化させて画素部8とする
ことにより、精度の高い高品質のカラーフィルタ9が形
成されるのである(図3(e))。
When a color filter is manufactured using such a photocatalyst-containing layer, usually, for example, as shown in FIG. 3, a light-shielding portion 2 is formed on a transparent substrate 1 (FIG. 3A). The photocatalyst-containing layer 3 is applied over the entire surface of the portion 2 (FIG. 3B), and pattern exposure is performed using a photomask 4 or the like to make the pixel portion forming portion 5 a lyophilic region (FIG.
(c)) The pixel portion forming ink 7 is attached to the pixel portion forming portion 5 which is the lyophilic region using the ink jet device 6 (FIG. 3 (d)). At this time, the pixel portion forming ink 7
Is uniformly spread in the exposed pixel portion forming portion 5 and does not spread to a non-exposed portion, that is, a lyophobic portion, and is precisely applied to only the pixel portion forming portion 5.
By curing the pixel portion forming ink 7 to form the pixel portion 8, a high-precision and high-quality color filter 9 is formed (FIG. 3E).

【0007】しかしながら、上記光触媒含有層は、光触
媒含有層形成用の塗工液を調製し、これを通常のスピン
コート等の方法により塗布するものであり、透明性等の
関係から通常1000〜2000Åという薄い層とされ
る。一方、ガラス基板上に形成されている遮光部(ブラ
ックマトリックス)の厚みは、金属クロム膜で形成され
ている場合であっても1000〜2000Å程度であ
り、さらに樹脂製の遮光部とした場合は厚みがその10
倍以上となってしまう。このような遮光部が透明基板上
に形成された状態で上記薄い層である光触媒含有層を形
成する場合は、以下のような問題が生じる。
However, the photocatalyst-containing layer is prepared by preparing a coating solution for forming the photocatalyst-containing layer and applying the coating solution by a usual method such as spin coating. It is said to be a thin layer. On the other hand, the thickness of the light-shielding portion (black matrix) formed on the glass substrate is about 1000 to 2000 mm even when formed of a metal chromium film. The thickness is 10
More than double. When the photocatalyst-containing layer, which is the thin layer, is formed with such a light-shielding portion formed on a transparent substrate, the following problems occur.

【0008】すなわち、図4に示すように、透明基板1
上に遮光部2を形成し(図4(a))、この上に光触媒含
有層3を塗布した場合、上述したように光触媒含有層3
の膜厚は、光の透過率の関係で膜厚を薄くする必要があ
ることから、遮光部2の凹凸に対応できずに図4(b)
に示すように遮光部2上に光触媒含有層3が形成されな
いか、もしくは形成されても極めて薄い層となってしま
う可能性が生じるのである。
That is, as shown in FIG.
When the light shielding portion 2 is formed thereon (FIG. 4 (a)) and the photocatalyst containing layer 3 is applied thereon, the photocatalyst containing layer 3 is formed as described above.
4B cannot cope with the unevenness of the light-shielding portion 2 because it is necessary to reduce the film thickness in relation to the light transmittance.
As shown in (1), there is a possibility that the photocatalyst containing layer 3 is not formed on the light-shielding portion 2, or even if it is formed, it becomes an extremely thin layer.

【0009】このように、遮光部2上に光触媒含有層3
が形成されていない状態で、フォトマスク4を介したパ
ターン露光が行われ(図4(c))、インクジェット装置
6により画素部形成用インク7が塗布された場合(図4
(d))、遮光部2上に光触媒含有層2が形成されていな
いかもしくは極めて薄い層となってしまうので、通常で
あれば遮光部2上に形成される撥液性の領域が形成され
ないか、もしくは十分な撥液性を発現できない。したが
って、図4(e)に示すように、塗布された複数色の画素
部形成用インクは、境界部分Mで混じり合うことにな
り、品質の良好なカラーフィルタを得ることができない
という問題が生じるのである。
As described above, the photocatalyst containing layer 3
In the state where no is formed, pattern exposure is performed through the photomask 4 (FIG. 4C), and the pixel portion forming ink 7 is applied by the inkjet device 6 (FIG. 4C).
(d)) Since the photocatalyst-containing layer 2 is not formed on the light-shielding portion 2 or becomes a very thin layer, the liquid-repellent region normally formed on the light-shielding portion 2 is not formed. Or, sufficient liquid repellency cannot be exhibited. Therefore, as shown in FIG. 4E, the applied inks for forming the pixel portions of a plurality of colors are mixed at the boundary portion M, and a problem arises in that a high-quality color filter cannot be obtained. It is.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされたもので、光触媒含有層上にインクジェ
ット方式で画素部が形成されてなるカラーフィルタにお
いて、混色等の不具合の無いカラーフィルタを提供する
ことを主目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and is intended to provide a color filter in which a pixel portion is formed on a photocatalyst-containing layer by an ink-jet method without a defect such as color mixing. It is intended to provide a filter.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は請求項1において、透明基板と、この透明
基板上でかつ画素部の境界部分の位置に設けられた遮光
部と、この遮光部と前記透明基板上に形成され、その表
面の凹凸が±10000Åの範囲内となるように形成さ
れたプライマー層と、このプライマー層上に形成され、
かつ少なくとも光触媒とバインダとを含有し、露光によ
り液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層
である光触媒含有層と、この光触媒含有層上にインクジ
ェット方式により複数色を前記遮光部間の位置で定まる
所定のパターンに形成された画素部とを有することを特
徴とするカラーフィルタを提供する。
To achieve the above object, according to the present invention, a transparent substrate, a light-shielding portion provided on the transparent substrate and at a boundary portion of a pixel portion, and A primer layer formed on the light-shielding portion and the transparent substrate, and formed on the surface of the primer layer so that the unevenness of the surface is within ± 10000 °, and formed on the primer layer,
And a photocatalyst-containing layer that contains at least a photocatalyst and a binder and that changes wettability so that the contact angle with a liquid is reduced by exposure, and a plurality of colors formed on the photocatalyst-containing layer by an ink-jet method. And a pixel portion formed in a predetermined pattern determined at a position between them.

【0012】このように、本発明は、遮光部が形成され
た透明基板上に、その表面の凹凸が上記範囲内であるプ
ライマー層を有しているので、この上に形成される光触
媒含有層の膜厚を問題が生じない程度に均等に形成する
ことができる。したがって、遮光部上に直接光触媒含有
層を形成する場合の不具合、すなわち遮光部上に光触媒
含有層が形成されずに画素部の混色が生じるといった不
具合の無い、品質の良好なカラーフィルタとすることが
できる。
As described above, the present invention provides a photocatalyst-containing layer formed on a transparent substrate on which a light-shielding portion is formed, since the surface of the primer layer has irregularities within the above range. Can be formed so as not to cause a problem. Therefore, it is necessary to provide a color filter of good quality without the problem of forming the photocatalyst-containing layer directly on the light-shielding portion, that is, the problem of color mixing in the pixel portion without forming the photocatalyst-containing layer on the light-shielding portion. Can be.

【0013】上記請求項1に記載された発明において
は、請求項2に記載するように、上記プライマー層は、
上記遮光部の膜厚を基準として、±50%の範囲内の膜
厚を有することが好ましい。この範囲よりプライマー層
の膜厚が薄い場合は、プライマー層上に光触媒含有層を
形成した際に遮光部に起因する凹凸の影響によりプライ
マー層表面の凹凸が大きくなり、光触媒含有層が均一に
塗布されない可能性が生じることから好ましくなく、こ
の範囲より膜厚が厚いと最終的に得られるカラーフィル
タの膜厚が厚くなり過ぎるため、例えばカラー液晶表示
装置として使い難いという問題や、プライマー層の種類
によっては透明性に対する問題が生じる可能性がある等
の理由により好ましくない。
[0013] In the invention described in claim 1, as described in claim 2, the primer layer comprises:
It is preferable to have a thickness within a range of ± 50% based on the thickness of the light-shielding portion. If the thickness of the primer layer is thinner than this range, when the photocatalyst-containing layer is formed on the primer layer, the unevenness of the primer layer surface becomes large due to the unevenness caused by the light shielding portion, and the photocatalyst-containing layer is uniformly applied. It is not preferable because the possibility that the color filter is not formed is not preferable, and if the film thickness is larger than this range, the film thickness of the finally obtained color filter becomes too thick. For example, it is difficult to use the color filter as a color liquid crystal display device. It is not preferable for some reasons, for example, a problem with transparency may occur.

【0014】上記請求項1または請求項2に記載の発明
においては、請求項3に記載するように、上記遮光部に
より形成される開口の幅より、上記画素部の幅が大きく
なるように形成されていることが好ましい。最終的に得
られるカラー液晶表示装置において、色抜け等の不具合
の無い高品質なカラーフィルタとすることができるから
である。
According to the first or second aspect of the present invention, as described in the third aspect, the width of the pixel portion is formed to be larger than the width of the opening formed by the light shielding portion. It is preferred that This is because in the finally obtained color liquid crystal display device, a high-quality color filter free from defects such as color omission can be obtained.

【0015】上記請求項1から請求項3までのいずれか
の請求項に記載されたカラーフィルタにおいては、上記
光触媒含有層を構成する成分の一つである光触媒含有層
が、請求項4に記載するように、酸化チタン(Ti
2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、チ
タン酸ストロンチウム(SrTiO3)、酸化タングス
テン(WO3)、酸化ビスマス(Bi23)、および酸
化鉄(Fe23)から選択される1種または2種以上の
物質であることが好ましく、中でも請求項5に記載する
ように酸化チタン(TiO2)であることが好ましい。
これは、酸化チタンのバンドギャップエネルギーが高い
ため光触媒として有効であり、かつ化学的にも安定で毒
性もなく、入手も容易だからである。
[0015] In the color filter according to any one of the first to third aspects, the photocatalyst containing layer, which is one of the components constituting the photocatalyst containing layer, is described in the fourth aspect. As shown, titanium oxide (Ti
O 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), tungsten oxide (WO 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and iron oxide (Fe 2 O 3 ) Preferably, the material is one or two or more materials selected from the group consisting of titanium oxide (TiO 2 ).
This is because titanium oxide has a high band gap energy and is effective as a photocatalyst, and is chemically stable, has no toxicity, and is easily available.

【0016】さらに上記請求項1から請求項5までのい
ずれかの請求項に記載されたカラーフィルタにおいて
は、上記光触媒含有層を構成する他の成分であるバイン
ダが、請求項6に記載するように、YnSiX(4-n)(こ
こで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル
基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、X
はアルコキシル基またはハロゲンを示す。nは0〜3ま
での整数である。)で示される珪素化合物の1種または
2種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物で
あるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。光
触媒含有層のバインダとしては、光触媒の作用により容
易に分解されないシロキサン結合を有する高分子化合物
が好ましいからであり、またこのようなオルガノポリシ
ロキサンを用いることにより、露光前の撥液性の設定が
容易に行え、かつ露光後の親液性も良好であるからであ
る。
Further, in the color filter according to any one of the first to fifth aspects, the binder as another component constituting the photocatalyst-containing layer may be as described in the sixth aspect. In the formula, Y n SiX (4-n) (where Y represents an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, a phenyl group or an epoxy group;
Represents an alkoxyl group or a halogen. n is an integer from 0 to 3. ) Is preferably an organopolysiloxane that is one or more hydrolytic condensates or cohydrolytic condensates of the silicon compound represented by the formula (1). As a binder for the photocatalyst-containing layer, a high molecular compound having a siloxane bond that is not easily decomposed by the action of the photocatalyst is preferable, and by using such an organopolysiloxane, the liquid repellency before exposure can be set. This is because it can be easily performed and has good lyophilicity after exposure.

【0017】上記請求項1から請求項6までのいずれか
の請求項に記載の発明においては、請求項7に記載する
ように、上記光触媒含有層上における表面張力40mN
/mの液体との接触角は、エネルギーが照射されていな
い領域の方がエネルギーが照射された領域より1度以上
大きいことが好ましい。少なくとも1度以上、接触角に
差があれば、画素部形成に際しての画素部形成用インク
をパターン状に塗布することが比較的容易にできるから
である。
In the invention described in any one of the first to sixth aspects, as described in the seventh aspect, the surface tension on the photocatalyst containing layer is 40 mN.
It is preferable that the contact angle with the liquid of / m is larger by 1 degree or more in the region not irradiated with energy than in the region irradiated with energy. This is because if there is a difference in the contact angle of at least one degree, it is relatively easy to apply the pixel portion forming ink in a pattern when forming the pixel portion.

【0018】また、本発明は、請求項8に記載するよう
に、(1)透明基板上に遮光部を形成する工程と、
(2)上記透明基板の遮光部が形成された側の面上に、
その表面の凹凸が±10000Åの範囲内となるように
形成されたプライマー層を形成する工程と、(3)上記
プライマー層上に、少なくとも光触媒とバインダとを含
有し、エネルギー照射により液体との接触角が低下する
ように濡れ性が変化する層である光触媒含有層を設ける
工程と、(4)この光触媒含有層上にエネルギーをパタ
ーン照射して、画素部用露光部を形成する工程と、
(5)この画素部用露光部にインクジェット方式でイン
クを付着させて画素部を形成する工程とを含むことを特
徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。
According to the present invention, (1) a step of forming a light-shielding portion on a transparent substrate;
(2) On the surface of the transparent substrate on which the light shielding portion is formed,
A step of forming a primer layer formed so that the surface irregularities are in the range of ± 10000 °; and (3) contacting the primer layer with the liquid by irradiating energy with at least a photocatalyst and a binder. Providing a photocatalyst-containing layer which is a layer whose wettability changes so as to reduce the angle; and (4) forming a pixel portion exposure portion by pattern-irradiating energy onto the photocatalyst-containing layer;
(5) a step of forming a pixel portion by applying ink to the exposed portion for the pixel portion by an ink-jet method to form a pixel portion.

【0019】透明基板上に遮光部を形成した後に光触媒
含有層を塗布する場合に、このように表面の凹凸が上記
範囲内となるプライマー層が形成された後に光触媒含有
層を形成することができるので、光触媒含有層が全面に
わたって比較的均一な膜厚で濡れ広がることができ、よ
って混色等の不具合が生じることがない。
When the photocatalyst-containing layer is applied after forming the light-shielding portion on the transparent substrate, the photocatalyst-containing layer can be formed after the primer layer having the surface irregularities within the above range is formed. Therefore, the photocatalyst-containing layer can be spread over the entire surface with a relatively uniform film thickness, and therefore, problems such as color mixing do not occur.

【0020】なお、上記請求項8に記載するカラーフィ
ルタの製造方法においては、請求項9に記載するよう
に、上記光触媒含有層に照射するエネルギーが、紫外光
を含む光であることが好ましい。光触媒含有層に用いら
れる光触媒として二酸化チタンが良好である関係で、照
射するエネルギーもこの二酸化チタンを活性化する紫外
線を含む光であることが好ましいのである。
In the method for manufacturing a color filter according to the present invention, it is preferable that the energy applied to the photocatalyst-containing layer is light including ultraviolet light. Since titanium dioxide is preferable as a photocatalyst used in the photocatalyst-containing layer, it is preferable that the irradiation energy be light containing ultraviolet rays for activating the titanium dioxide.

【0021】本発明においては、請求項10に記載する
ように、請求項1から請求項7までのいずれかの請求項
に記載のカラーフィルタと、これに対向する基板とを有
し、両基板間に液晶化合物を封入してなることを特徴と
するカラー液晶表示装置を提供する。このようなカラー
液晶表示装置は、上記本発明のカラーフィルタの有する
利点、すなわち混色等の不具合の無い高品質なものとす
ることができるという効果を奏するものである。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a color filter according to any one of the first to seventh aspects, and a substrate facing the color filter. Provided is a color liquid crystal display device characterized in that a liquid crystal compound is sealed therebetween. Such a color liquid crystal display device has an advantage of the color filter of the present invention, that is, an effect of achieving high quality without a problem such as color mixing.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明のカラーフィルタ、
カラーフィルタの製造方法、およびカラー液晶表示装置
について、それぞれ説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the color filter of the present invention,
A method for manufacturing a color filter and a color liquid crystal display device will be described.

【0023】1.カラーフィルタ まず、本発明のカラーフィルタについて、図面を用いて
詳しく説明する。図1は、本発明のカラーフィルタの一
例を示すものである。図1に示すカラーフィルタは、透
明基板1と、この透明基板1上に形成された遮光部2
と、この遮光部2および透明基板1を覆うように形成さ
れたプライマー層9と、このプライマー層9上に形成さ
れた光触媒含有層3と、この光触媒含有層3上において
露光により親液性領域とされた画素部形成部5上に形成
された画素部8とから概略構成されてなるものである。
1. First, the color filter of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows an example of the color filter of the present invention. The color filter shown in FIG. 1 includes a transparent substrate 1 and a light shielding portion 2 formed on the transparent substrate 1.
A primer layer 9 formed so as to cover the light-shielding portion 2 and the transparent substrate 1; a photocatalyst-containing layer 3 formed on the primer layer 9; And a pixel section 8 formed on the pixel section forming section 5 described above.

【0024】このように本発明のカラーフィルタは、遮
光部2上に遮光部2が形成されたことにより生じる凹凸
を緩和するためのプライマー層9が形成されており、そ
の上に光触媒含有層3が形成されている。したがって、
光触媒含有層3は凹凸が所定の範囲内のプライマー層上
に形成されているため、厚みを均一に形成することがで
きる。したがって、上述したような遮光部2上に光触媒
含有層5が形成されない等、光触媒含有層5が均一に形
成されないことに起因する不具合が生じる恐れがない。
As described above, in the color filter of the present invention, the primer layer 9 for alleviating unevenness caused by the formation of the light shielding portion 2 on the light shielding portion 2 is formed, and the photocatalyst containing layer 3 is formed thereon. Are formed. Therefore,
Since the photocatalyst-containing layer 3 has irregularities formed on the primer layer within a predetermined range, the photocatalyst-containing layer 3 can be formed to have a uniform thickness. Therefore, there is no possibility that a problem caused by the photocatalyst containing layer 5 not being formed uniformly, such as the photocatalyst containing layer 5 not being formed on the light shielding portion 2 as described above.

【0025】このような本発明のカラーフィルタについ
て、各構成をそれぞれ分けて説明する。
The structure of the color filter of the present invention will be described separately.

【0026】(プライマー層)本発明の特徴は、上記図
1にも示すように、遮光部2上にプライマー層9が形成
されたところにある。このプライマー層は、その表面の
凹凸が±10000Åの範囲内、好ましくは±5000
Åの範囲内、特に好ましくは±2000Åの範囲内とな
るように形成される必要がある。凹凸が上記範囲より大
きい場合は、その上に光触媒含有層を形成した際に、光
触媒含有層の膜厚が不均一となるため、露光による濡れ
性の差異を形成するという光触媒含有層特有の効果を奏
することができない領域が生じる可能性があり、画素部
を精度良く形成することができないといった不具合を生
じる可能性があるからである。
(Primer Layer) The feature of the present invention resides in that a primer layer 9 is formed on the light shielding portion 2 as shown in FIG. This primer layer has a surface unevenness in the range of ± 10000 °, preferably ± 5000 °.
Å, particularly preferably ± 2000Å. When the unevenness is larger than the above range, when the photocatalyst-containing layer is formed thereon, the thickness of the photocatalyst-containing layer becomes non-uniform. This is because there is a possibility that a region where the pixel portion cannot be obtained may occur, and a problem that the pixel portion cannot be formed with high accuracy may occur.

【0027】このようなプライマー層の具体的な膜厚
は、遮光部の膜厚との関係で決定されるものであり、プ
ライマー層を形成する材料やプライマー層形成用塗工液
の粘度等により変化するものであるため、特に限定され
るものではないが、一般的には遮光部の膜厚を基準とし
て、±50%の範囲内、好ましくは±20%の範囲内、
特に±5%の範囲内であることが好ましい。
The specific film thickness of such a primer layer is determined by the relationship with the film thickness of the light-shielding portion, and depends on the material for forming the primer layer, the viscosity of the coating liquid for forming the primer layer, and the like. Although it is variable, it is not particularly limited, but is generally within a range of ± 50%, preferably within a range of ± 20%, based on the film thickness of the light shielding portion.
In particular, it is preferable to be within the range of ± 5%.

【0028】上記範囲より膜厚が薄い場合は、遮光部に
起因する凹凸がプライマー層上に残り、均一な塗布がで
きない可能性が生じるからであり、一方、上記膜厚より
厚い場合は、機能的に十分であるためこれ以上厚くする
ことはコスト的に問題となり、さらにはカラーフィルタ
自体の厚みを増加させるものであるので、近年の小型化
等の要請に反することとなるため好ましくないからであ
る。
If the film thickness is smaller than the above range, unevenness due to the light-shielding portion remains on the primer layer, and there is a possibility that uniform coating may not be performed. Since the thickness of the color filter itself is increased, the thickness of the color filter itself is increased, which is not preferable because it is against the recent demand for downsizing or the like. is there.

【0029】上記プライマー層に用いることができる材
料としては、透明な材料であれば特に限定されるもので
はないが、通常保護層等の材料で用いられている材料、
例えば、UV硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等を用いること
ができる。これらの樹脂について、以下具体的に説明す
る。
The material that can be used for the primer layer is not particularly limited as long as it is a transparent material.
For example, a UV curable resin, a thermosetting resin, or the like can be used. These resins will be specifically described below.

【0030】 UV硬化性樹脂 本発明で用いられるUV硬化性樹脂としては、少なくと
も1個以上の官能基を有し、光重合開始剤に硬化エネル
ギー線を照射することにより発生するイオンまたはラジ
カルによりイオン重合、ラジカル重合を行い分子量の増
加や架橋構造の形成を行うモノマーやオリゴマーなどか
らなるものが用いられる。ここでいう官能基とは、ビニ
ル基、カルボキシル基、水酸基などの反応の原因となる
原子団または結合様式である。
UV Curable Resin The UV curable resin used in the present invention has at least one or more functional groups, and is formed by ion or radical generated by irradiating a photoinitiator with a curing energy ray. A polymer or a monomer that undergoes polymerization or radical polymerization to increase the molecular weight or form a crosslinked structure is used. The term "functional group" as used herein means an atomic group or a bonding mode that causes a reaction such as a vinyl group, a carboxyl group, and a hydroxyl group.

【0031】このようなモノマー、オリゴマーとして
は、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポ
リエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、
シリコンアクリレートなどのアクリル型、および不飽和
ポリエステル/スチレン系、ポリエン/スチレン系など
の非アクリル系が挙げられるが、中でも、硬化速度、物
性選択の幅の広さからアクリル型が好ましい。このよう
なアクリル型の代表例を以下に示す。
Examples of such monomers and oligomers include epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate,
Acrylic type such as silicon acrylate and non-acrylic type such as unsaturated polyester / styrene type and polyene / styrene type are exemplified. Among them, acrylic type is preferable in view of curing speed and a wide range of physical property selection. Representative examples of such an acrylic type are shown below.

【0032】まず、単官能基のものとしては、2−エチ
ルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルEO付加
物アクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシエチルア
クリレートのカプロラクトン付加物、2−フェノキシエ
チルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールア
クリレート、ノニルフェノールEO付加物アクリレー
ト、ノニルフェノールEO付加物にカプロラクトン付加
したアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプ
ロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート、フルフリルアルコールのカプロラクトン付加物ア
クリレート、アクリロイルモルホリン、ジシクロペンテ
ニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、
ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、イソボ
ルニルアクリレート、4,4−ジメチル−1,3−ジオ
キソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、3−
メチル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキソランのカ
プロラクトン付加物のアクリレート等を挙げることがで
きる。
First, monofunctional groups include 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl EO adduct acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and caprolactone addition of 2-hydroxyethyl acrylate. Product, 2-phenoxyethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, nonylphenol EO adduct, acrylate with caprolactone added to nonylphenol EO adduct, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, caprolactone adduct of furfuryl alcohol Acrylate, acryloyl morpholine, dicyclopentenyl acrylate, Cyclopentanyl acrylate,
Dicyclopentenyloxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, acrylate of a caprolactone adduct of 4,4-dimethyl-1,3-dioxolane, 3-
An acrylate of a caprolactone adduct of methyl-5,5-dimethyl-1,3-dioxolane and the like can be mentioned.

【0033】また、多官能基のものとしては、ヘキサン
ジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシ
ピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジアクリレ
ート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエ
ステルのカプロラクトン付加物ジアクリレート、1,6
−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルのアクリル
酸付加物、ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロー
ルプロパンのアセタール化合物のジアクリレート、2,
2−ビス[4−(アクリロイロキシジエトキシ)フェニ
ル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロイロキシ
ジエトキシ)フェニル]メタン、水添ビスフェノールエ
チレンオキサイド付加物のジアクリレート、トリシクロ
デカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、トリメチロールプロパンプロビレンオキサ
イド付加物トリアクリレート、グリセリンプロピレンオ
キサイド付加物トリアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートペンタアクリレート混合物、ジ
ペンタエリスリトールのカプロラクトン付加物アクリレ
ート、トリス(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレ
ート、2−アクリロイロキシエチルオスフェート等を挙
げることができる。
The polyfunctional groups include hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate,
Tripropylene glycol diacrylate, neopentyl glycol hydroxypivalate diacrylate, caprolactone adduct of neopentyl glycol hydroxypivalate diacrylate, 1,6
-Acrylic acid adduct of diglycidyl ether of hexanediol, diacrylate of acetal compound of hydroxypivalaldehyde and trimethylolpropane, 2,
2-bis [4- (acryloyloxydiethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloyloxydiethoxy) phenyl] methane, diacrylate of hydrogenated bisphenol ethylene oxide adduct, tricyclode Candimethanol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane propylene oxide adduct triacrylate, glycerin propylene oxide adduct triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate pentaacrylate mixture, dipentaerythritol caprolactone addition Acrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, 2-acryloyloxyethyl phosphate, and the like.

【0034】本発明に用いられるUV硬化性樹脂に含有
される光重合開始剤としては、特に限定されるものでは
なく、公知のものから選択して用いることができる。具
体的には、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ミヒ
ラーケトン系、ベンジル系、ベンゾイン系、ベンゾイン
エーテル系、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベ
ンゾエート系、α−アシロキシムエステル等のカルボニ
ル化合物、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チ
オキサントン類等のイオウ化合物、2,4,6−トリメ
チルベンゾイルジフェニルフォスフィノキシド等のリン
化合物等を挙げることができる。
The photopolymerization initiator contained in the UV curable resin used in the present invention is not particularly limited, and can be selected from known ones. Specifically, carbonyl compounds such as acetophenone, benzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin ether, benzyldimethyl ketal, benzoin benzoate, α-acyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, thioxanthones And phosphorus compounds such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphinoxide.

【0035】 熱硬化性樹脂 次に、熱硬化性樹脂について説明する。本発明に用いら
れる熱硬化性樹脂組成物としては、熱エネルギーが付加
されることにより硬化し、硬化後に透明でかつ平坦な面
を形成することができるものを挙げることができる。代
表例としては、ポリカーボネイト、ポリメチルメタクリ
レート、メチルフタレート単独重合体または共重合体、
ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネイト、アクリロニトリ
ル/スチレン共重合体、ポリ(−4−メチルペンテン−
1)等を挙げることができる。
Next, the thermosetting resin will be described. Examples of the thermosetting resin composition used in the present invention include those capable of being cured by the application of thermal energy and capable of forming a transparent and flat surface after curing. Representative examples include polycarbonate, polymethyl methacrylate, methyl phthalate homopolymer or copolymer,
Polyethylene terephthalate, polystyrene, diethylene glycol bisallyl carbonate, acrylonitrile / styrene copolymer, poly (-4-methylpentene-
1) and the like.

【0036】このようなプライマー層は、その上にさら
に光触媒含有層が形成されることから、この光触媒含有
層形成用塗工液が十分に濡れ広がり、均一な膜厚となる
ように、その表面が親液性であることが好ましい。具体
的には、表面張力40mN/mの液体との接触角が、1
0度以下である材料で形成されていることが好ましい。
Since a photocatalyst-containing layer is further formed on such a primer layer, the surface of the primer layer is formed so that the coating liquid for forming the photocatalyst-containing layer is sufficiently wetted and spread to have a uniform film thickness. Is preferably lyophilic. Specifically, the contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m is 1
It is preferable to be formed of a material having a temperature of 0 degrees or less.

【0037】(透明基板)図1にも示すように、本発明
のカラーフィルタは、透明基板1上に遮光部2および上
記プライマー層9が形成され、このプライマー層9上に
光触媒含有層3、および画素部8が少なくとも形成され
てなるものであるが、このような透明基板としては、従
来よりカラーフィルタに用いられているものであれば特
に限定されるものではない。例えば、石英ガラス、パイ
レックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性の
ない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光
学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を
用いることができる。この中で特にコーニング社製70
59ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性
および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラ
ス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスである
ため、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表
示装置用のカラーフィルタに適している。本発明におい
て、透明基板は通常透明なものを用いるが、反射性の基
板や白色に着色した基板でも用いることは可能である。
また、透明基板は、必要に応じてアルカリ溶出防止用や
ガスバリア性付与その他の目的の表面処理を施したもの
を用いてもよい。
(Transparent Substrate) As shown in FIG. 1, in the color filter of the present invention, a light-shielding portion 2 and the primer layer 9 are formed on a transparent substrate 1. And at least the pixel portion 8 are formed. Such a transparent substrate is not particularly limited as long as it has been conventionally used for a color filter. For example, a transparent rigid material having no flexibility such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, a synthetic quartz plate, or a transparent flexible material having flexibility such as a transparent resin film or an optical resin plate is used. Can be. Among them, especially Corning 70
59 glass is a material having a small coefficient of thermal expansion, excellent in dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is a non-alkali glass containing no alkali component in the glass. Suitable for color filters. In the present invention, a transparent substrate is usually used as a transparent substrate, but a reflective substrate or a substrate colored white can also be used.
Further, as the transparent substrate, a substrate which has been subjected to surface treatment for preventing alkali elution, imparting a gas barrier property or other purposes as necessary may be used.

【0038】(遮光部)本発明においては、図1に示す
ように透明基板1上であって、上記画素部8の境界部分
に相当する位置に遮光部2が形成されている。この遮光
部は、クロム等の金属薄膜で形成されたものであっても
よく、また樹脂バインダ中にカーボン微粒子、金属酸化
物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含有させた層
であってもよい。いずれの遮光部であっても、本発明に
おいては、その膜厚に起因する凹凸の大きさを緩和し、
より平坦な面とするプライマー層を形成するので、膜厚
の厚い樹脂製の遮光部が形成されても、光触媒含有層の
形成に問題が生じることがなく、画素部の混色等の不具
合が生じないからである。
(Light-shielding part) In the present invention, as shown in FIG. 1, the light-shielding part 2 is formed on the transparent substrate 1 at a position corresponding to the boundary of the pixel part 8. This light-shielding portion may be formed of a thin metal film such as chromium, or may be a layer in which light-shielding particles such as carbon fine particles, metal oxides, inorganic pigments, and organic pigments are contained in a resin binder. You may. Regardless of the light-shielding portion, in the present invention, the size of the unevenness caused by the film thickness is reduced,
Since a primer layer having a flatter surface is formed, no problem occurs in the formation of the photocatalyst-containing layer even when a thick resin light-shielding portion is formed, and a problem such as color mixing in the pixel portion occurs. Because there is no.

【0039】金属製の遮光部としては、透明基板上にス
パッタリング法、真空蒸着法等によりクロム等の金属薄
膜を形成し、この薄膜をパターニングすることにより形
成されたもの等を挙げることができる。このような金属
製の遮光部の膜厚は。一般的には、1000〜2000
Å程度である。
Examples of the metal light-shielding portion include those formed by forming a metal thin film of chromium or the like on a transparent substrate by a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like, and patterning the thin film. What is the film thickness of such a metal light shielding portion? Generally, 1000 to 2000
About Å.

【0040】一方、樹脂製の遮光部としては、上述した
ようにバインダ中に遮光性粒子を含有させた層であり、
樹脂バインダとしては、ポリイミド樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルア
ルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の樹脂を
1種または2種以上混合したものや、感光性樹脂、さら
にはO/Wエマルジョン型の樹脂組成物、例えば、反応
性シリコーンをエマルジョン化したもの等を挙げること
ができる。このような樹脂製遮光部のパターニングの方
法は、フォトリソ法、印刷法等一般的に用いられている
方法を用いることができる。また、透明基板上に別の光
触媒含有層を形成し、露光による濡れ性の異なるパター
ンを形成し、これを用いてパターニングすることも可能
である。このような樹脂製遮光部の厚みとしては、一般
には0.5〜10μm、好ましくは1〜2μmの範囲内
で設定することができる。
On the other hand, the resin light-shielding portion is a layer in which light-shielding particles are contained in a binder as described above.
Examples of the resin binder include one or a mixture of two or more resins such as polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, gelatin, casein, and cellulose; photosensitive resin; and O / W emulsion. Mold resin compositions, for example, those obtained by emulsifying reactive silicone can be used. A commonly used method such as a photolithography method and a printing method can be used as a method for patterning the resin light-shielding portion. It is also possible to form another photocatalyst-containing layer on a transparent substrate, form a pattern having different wettability by exposure, and use this to pattern. The thickness of such a resin light-shielding portion can be generally set within a range of 0.5 to 10 μm, preferably, 1 to 2 μm.

【0041】(光触媒含有層)本発明のカラーフィルタ
は、図1にも示すように、上記透明基板1上に上記遮光
部2が形成され、この遮光部2が形成された透明基板1
の表面を平坦にするための本発明の特徴であるプライマ
ー層9がその上に形成され、さらにその表面には、画素
部8を簡便にかつ精度良く形成するための光触媒含有層
3が設けられている。
(Photocatalyst-Containing Layer) In the color filter of the present invention, as shown in FIG. 1, the light-shielding portion 2 is formed on the transparent substrate 1 and the transparent substrate 1 on which the light-shielding portion 2 is formed.
A primer layer 9 which is a feature of the present invention for flattening the surface is formed thereon, and a photocatalyst containing layer 3 for forming the pixel portion 8 simply and accurately is provided on the surface thereof. ing.

【0042】このような本発明に用いられる光触媒含有
層は、少なくとも光触媒とバインダとを有し、露光によ
り液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層
である。本発明における光触媒含有層は、特に限定させ
るものではないが、主として画素部を形成するために用
いられる層である。すなわち、上記光触媒含有層は、露
光により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化
するものであるので、例えば画素部を形成する部分にの
み露光するようにパターン露光を行うことにより、容易
に画素部を形成する部分の濡れ性を低下させ、液体との
接触角の小さい親液性領域とすることができる。したが
って、このように親液性領域とした部分にインクジェッ
ト方式でインクを塗布することにより、露光されていな
い撥液性領域との濡れ性の差により容易に画素部を形成
する部位にのみ画素部形成用のインクを塗布することが
できる。この後、塗布したインクを硬化させることによ
り容易に画素部を形成することができる。このように、
光触媒含有層を用いて画素部を形成することにより、製
造コストを大幅に削減させることができ、最終製品とな
るカラー液晶表示装置等のコストを大幅に低減させるこ
とができるのである。
The photocatalyst-containing layer used in the present invention is a layer having at least a photocatalyst and a binder and having a wettability that changes by exposure so that the contact angle with a liquid is reduced. Although not particularly limited, the photocatalyst-containing layer in the present invention is a layer mainly used for forming a pixel portion. That is, since the photocatalyst-containing layer is such that the wettability changes so that the contact angle with the liquid is reduced by exposure, for example, by performing pattern exposure so as to expose only the portion where the pixel portion is formed, The wettability of a portion where a pixel portion is formed can be easily reduced, and a lyophilic region having a small contact angle with a liquid can be obtained. Therefore, by applying the ink by the ink-jet method to the lyophilic region as described above, the pixel portion is formed only in the portion where the pixel portion is easily formed due to the difference in wettability with the non-exposed lyophobic region. Forming ink can be applied. Thereafter, the pixel portion can be easily formed by curing the applied ink. in this way,
By forming the pixel portion using the photocatalyst-containing layer, the manufacturing cost can be significantly reduced, and the cost of a color liquid crystal display device or the like as a final product can be significantly reduced.

【0043】ここで、親液性領域とは、液体との接触角
が小さい領域であり、画素部を形成するインクジェット
用インク等に対する濡れ性の良好な領域をいうこととす
る。また、撥液性領域とは、液体との接触角が大きい領
域領域であり、画素部を形成するインクジェット用イン
ク等に対する濡れ性が悪い領域をいうこととする。
Here, the lyophilic region is a region having a small contact angle with the liquid, and is a region having good wettability with the ink for ink-jet or the like forming the pixel portion. Further, the lyophobic region is a region having a large contact angle with a liquid, and is a region having poor wettability with an ink for inkjet forming the pixel portion.

【0044】本発明に用いられる光触媒含有層において
は、エネルギーが照射されていない未露光部における表
面張力40mN/mの液体との接触角が、エネルギーが
照射された露光部における表面張力40mN/mの液体
との接触角より、1度以上大きい接触角となることが好
ましく、特に好ましくは10度以上大きい接触角となる
ことである。この程度の接触角の差があれば、露光され
た親液性領域に画素部形成用インクを精度良く塗布する
ことができるからである。
In the photocatalyst-containing layer used in the present invention, the contact angle with the liquid having a surface tension of 40 mN / m in the unexposed portion not irradiated with the energy is such that the surface tension in the exposed portion irradiated with the energy is 40 mN / m. Preferably, the contact angle is at least 1 degree larger than the contact angle with the liquid, particularly preferably at least 10 degrees. This is because if there is such a difference in the contact angle, the pixel portion forming ink can be applied with high accuracy to the exposed lyophilic region.

【0045】具体的には、上記光触媒含有層の露光して
いない部分においては、表面張力40mN/mの液体と
の接触角が10度以上、好ましくは表面張力30mN/
mの液体との接触角が10度以上、特に表面張力20m
N/mの液体との接触角が10度以上であることが好ま
しい。これは、露光していない部分は、本発明において
は撥液性が要求される部分であることから、液体との接
触角が小さい場合は、撥液性が十分でなく、上記画素部
を形成するためのインクジェット用インクが画素部を形
成しない領域に残存する可能性が生じ、精度良く画素部
を形成することができないからである。
Specifically, in the unexposed portion of the photocatalyst-containing layer, the contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m is 10 degrees or more, preferably 30 mN / m.
m is 10 degrees or more, especially the surface tension is 20 m
It is preferable that the contact angle with the N / m liquid is 10 degrees or more. This is because the non-exposed portion is a portion requiring liquid repellency in the present invention, so if the contact angle with the liquid is small, the liquid repellency is not sufficient, and the pixel portion is formed. This is because there is a possibility that the ink for ink jetting may remain in a region where the pixel portion is not formed, and the pixel portion cannot be accurately formed.

【0046】一方、露光部においては、表面張力40m
N/mの液体との接触角が9度未満、好ましくは表面張
力50mN/mの液体との接触角が10度以下、特に表
面張力60mN/mの液体との接触角が10度以下とな
るような層であることが好ましい。露光した部分の液体
との接触角が高いと、露光した部分における画素部形成
用のインクジェット方式のインク等の広がりが劣る可能
性があり、画素部での色抜け等が生じる可能性があるか
らである。
On the other hand, in the exposed portion, the surface tension is 40 m
The contact angle with a liquid having an N / m of less than 9 degrees, preferably a contact angle with a liquid having a surface tension of 50 mN / m is 10 degrees or less, particularly a contact angle with a liquid having a surface tension of 60 mN / m is 10 degrees or less. Such a layer is preferable. If the contact angle of the exposed portion with the liquid is high, the spread of the ink of the ink jet method for forming the pixel portion in the exposed portion may be inferior, and color loss or the like may occur in the pixel portion. It is.

【0047】なお、ここでいう液体との接触角は、種々
の表面張力を有する液体との接触角を接触角測定器(協
和界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定(マイク
ロシリンジから液滴を滴下して30秒後)し、その結果
から、もしくはその結果をグラフにして得たものであ
る。また、この測定に際して、種々の表面張力を有する
液体としては、純正化学株式会社製のぬれ指数標準液を
用いた。
Here, the contact angle with a liquid is measured by using a contact angle measuring device (CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) to measure the contact angle with a liquid having various surface tensions (micrometer). 30 seconds after dropping the droplet from the syringe), and the result or the result is graphed. In this measurement, wetting index standard solutions manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd. were used as liquids having various surface tensions.

【0048】本発明に用いられる光触媒含有層は、少な
くとも光触媒とバインダとから構成されているものであ
るが、これは、このような構成とすると、バインダの種
類を選択することにより、露光前の臨界表面張力を小さ
くし、露光後の臨界表面張力を大きくする等の調整が容
易に行うことができるからである。具体的には、光触媒
により、バインダの一部である有機基や添加剤の酸化、
分解等の作用を用いて、露光部の濡れ性を変化させて親
液性とし、未露光部との濡れ性に大きな差を生じさせる
ことができるのである。このように光触媒含有層がバイ
ンダを有することにより、画素部を形成するインクジェ
ット方式のインクとの露光部での受容性(親液性)ない
しは未露光部での反撥性(撥液性)を高めることによっ
て、品質の良好でかつコスト的にも有利なカラーフィル
タを得ることができるのである。
The photocatalyst-containing layer used in the present invention is composed of at least a photocatalyst and a binder. With such a configuration, the type of the binder before the exposure can be determined by selecting the type of the binder. This is because adjustments such as reducing the critical surface tension and increasing the critical surface tension after exposure can be easily performed. Specifically, the photocatalyst oxidizes organic groups and additives that are part of the binder,
Using the action of decomposition or the like, the wettability of the exposed portion is changed to make it lyophilic, and a large difference in wettability with the unexposed portion can be caused. Since the photocatalyst-containing layer has a binder as described above, the receptivity (lyophilic property) of the exposed portion with the ink of the ink jet system forming the pixel portion in the exposed portion or the repellency (liquid repellency) of the unexposed portion is increased. As a result, a color filter having good quality and advantageous in cost can be obtained.

【0049】また、本発明においては、この光触媒含有
層がさらにフッ素を含有し、かつこの光触媒含有層表面
のフッ素含有量が、光触媒含有層に対して露光等を行っ
た際に、上記光触媒の作用により露光前に比較して低下
するように上記光触媒含有層が形成されていてもよい。
In the present invention, when the photocatalyst-containing layer further contains fluorine, and the fluorine content on the surface of the photocatalyst-containing layer is such that the photocatalyst-containing layer is exposed to light, etc. The photocatalyst-containing layer may be formed so that the photocatalyst-containing layer is reduced by the action as compared to before the exposure.

【0050】このような特徴を有するカラーフィルタに
おいては、パターン露光することにより、容易にフッ素
の含有量の少ない部分からなるパターンを形成すること
ができる。ここで、フッ素は極めて低い表面エネルギー
を有するものであり、このためフッ素を多く含有する物
質の表面は、臨界表面張力がより小さくなる。したがっ
て、フッ素の含有量の多い部分の表面の臨界表面張力に
比較してフッ素の含有量の少ない部分の臨界表面張力は
大きくなる。これはすなわち、フッ素含有量の少ない部
分はフッ素含有量の多い部分に比較して親液性領域とな
っていることを意味する。よって、周囲の表面に比較し
てフッ素含有量の少ない部分からなるパターンを形成す
ることは、撥液性域内に親液性領域のパターンを形成す
ることとなる。
In a color filter having such characteristics, it is possible to easily form a pattern composed of a portion having a low fluorine content by pattern exposure. Here, fluorine has an extremely low surface energy, so that the surface of a substance containing a large amount of fluorine has a smaller critical surface tension. Therefore, the critical surface tension of the portion having a low fluorine content is larger than the critical surface tension of the portion having a high fluorine content. This means that a portion having a low fluorine content is a lyophilic region as compared with a portion having a high fluorine content. Therefore, forming a pattern composed of a portion having a lower fluorine content than the surrounding surface forms a pattern of the lyophilic region in the lyophobic region.

【0051】したがって、このような光触媒含有層を用
いた場合は、パターン露光することにより、撥液性領域
内に親液性領域のパターンを容易に形成することができ
るので、この親液性領域のみに画素部等を形成すること
が容易に可能となり、低コストで品質の良好なカラーフ
ィルタとすることができる。また、露光により親液性領
域とすることができるので、光触媒含有層除去部を形成
するに際して露光することにより、容易に画素部間の間
隙に露出する光触媒含有層を親液性領域とすることがで
き、ここに精度良く現像液を付着させることができる。
Therefore, when such a photocatalyst-containing layer is used, the pattern of the lyophilic region can be easily formed in the lyophobic region by pattern exposure, so that the lyophilic region It is possible to easily form a pixel portion or the like only on a single pixel, and a low-cost and high-quality color filter can be obtained. In addition, since the lyophilic region can be formed by exposure, the photocatalyst-containing layer that is easily exposed to the gap between the pixel portions is exposed to light when forming the photocatalyst-containing layer removal portion, so that the lyophilic region is formed. Thus, the developer can be accurately adhered thereto.

【0052】上述したような、フッ素を含む光触媒含有
層中に含まれるフッ素の含有量は、露光されて形成され
たフッ素含有量が低い親液性領域におけるフッ素含有量
が、露光されていない部分のフッ素含有量を100とし
た場合に10以下、好ましくは5以下、特に好ましくは
1以下であることが好ましい。
As described above, the content of fluorine contained in the fluorine-containing photocatalyst-containing layer is determined by the fact that the fluorine content in the lyophilic region formed by exposure and having a low fluorine content is lower than the unexposed portion. When the fluorine content is 100, it is preferably 10 or less, more preferably 5 or less, and particularly preferably 1 or less.

【0053】このような範囲内とすることにより、露光
部分と未露光部分との濡れ性に大きな違いを生じさせる
ことができる。したがって、このような光触媒含有層に
画素部等を形成することにより、フッ素含有量が低下し
た親液性領域のみに正確に画素部等を形成することが可
能となり、精度良くカラーフィルタを得ることができる
からである。なお、この低下率は重量を基準としたもの
である。
By setting the content within such a range, it is possible to cause a great difference in wettability between an exposed portion and an unexposed portion. Therefore, by forming a pixel portion or the like in such a photocatalyst containing layer, it becomes possible to accurately form a pixel portion or the like only in a lyophilic region having a reduced fluorine content, and to obtain a color filter with high accuracy. Because it can be. In addition, this reduction rate is based on weight.

【0054】このような光触媒含有層中のフッ素含有量
の測定は、一般的に行われている種々の方法を用いるこ
とが可能であり、例えばX線光電子分光法(X-ray Phot
oelectron Spectroscopy, ESCA(Electron Spectroscop
y for Chemical Analysis)とも称される。)、蛍光X線
分析法、質量分析法等の定量的に表面のフッ素の量を測
定できる方法であれば特に限定されるものではない。
For the measurement of the fluorine content in the photocatalyst-containing layer, various methods generally used can be used. For example, X-ray photoelectron spectroscopy (X-ray Phot spectroscopy)
oelectron Spectroscopy, ESCA (Electron Spectroscop
y for Chemical Analysis). ), Any method capable of quantitatively measuring the amount of fluorine on the surface, such as X-ray fluorescence analysis and mass spectrometry.

【0055】本発明で使用する光触媒としては、光半導
体として知られる例えば酸化チタン(TiO2)、酸化
亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、チタン酸スト
ロンチウム(SrTiO3)、酸化タングステン(W
3)、酸化ビスマス(Bi23)、および酸化鉄(F
23)を挙げることができ、これらから選択して1種
または2種以上を混合して用いることができる。
The photocatalyst used in the present invention includes, for example, titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), and tungsten oxide (W) which are known as optical semiconductors.
O 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and iron oxide (F
e 2 O 3 ), and one or more of them may be used in combination.

【0056】本発明においては、特に酸化チタンが、バ
ンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性も
なく、入手も容易であることから好適に使用される。酸
化チタンには、アナターゼ型とルチル型があり本発明で
はいずれも使用することができるが、アナターゼ型の酸
化チタンが好ましい。アナターゼ型酸化チタンは励起波
長が380nm以下にある。
In the present invention, titanium oxide is particularly preferably used because it has a high band gap energy, is chemically stable, has no toxicity, and is easily available. Titanium oxide includes anatase type and rutile type, and both can be used in the present invention, but anatase type titanium oxide is preferable. Anatase type titanium oxide has an excitation wavelength of 380 nm or less.

【0057】このようなアナターゼ型酸化チタンとして
は、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル
(石原産業(株)製STS−02(平均粒径7nm)、
石原産業(株)製ST−K01)、硝酸解膠型のアナタ
ーゼ型チタニアゾル(日産化学(株)製TA−15(平
均粒径12nm))等を挙げることができる。
As such anatase type titanium oxide, for example, hydrolytic peptized anatase type titania sol (STS-02 (average particle size: 7 nm) manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)
ST-K01 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., anatase titania sol of nitric acid peptization type (TA-15 (average particle size: 12 nm) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and the like can be mentioned.

【0058】光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効
果的に起こるので好ましく、平均粒径か50nm以下が
好ましく、20nm以下の光触媒を使用するのが特に好
ましい。また、光触媒の粒径が小さいほど、形成された
光触媒含有層の表面粗さが小さくなるので好ましく、光
触媒の粒径が100nmを越えると光触媒含有層の中心
線平均表面粗さが粗くなり、光触媒含有層の未露光部の
撥液性が低下し、また露光部の親液性の発現が不十分と
なるため好ましくない。
The smaller the particle size of the photocatalyst is, the more effective the photocatalytic reaction takes place. The average particle size is preferably 50 nm or less, more preferably 20 nm or less. In addition, the smaller the particle size of the photocatalyst is, the smaller the surface roughness of the formed photocatalyst-containing layer is. It is preferable that the particle size of the photocatalyst exceeds 100 nm. It is not preferable because the liquid repellency of the unexposed portion of the containing layer is reduced and the lyophilic property of the exposed portion becomes insufficient.

【0059】本発明のカラーフィルタにおいては、上述
したように光触媒含有層表面にフッ素を含有させ、この
光触媒含有層表面にパターン露光することにより光触媒
含有層表面のフッ素含有量を低下させ、これにより撥液
性領域中に親液性領域のパターンを形成し、ここに画素
部等を形成して得られるカラーフィルタであってもよ
い。この場合であっても、光触媒として上述したような
二酸化チタンを用いることが好ましいが、このように二
酸化チタンを用いた場合の、光触媒含有層中に含まれる
フッ素の含有量としては、X線光電子分光法で分析して
定量化すると、チタン(Ti)元素を100とした場合
に、フッ素(F)元素が500以上、このましくは80
0以上、特に好ましくは1200以上となる比率でフッ
素(F)元素が光触媒含有層表面に含まれていることが
好ましい。
In the color filter of the present invention, as described above, the surface of the photocatalyst-containing layer contains fluorine, and the surface of the photocatalyst-containing layer is subjected to pattern exposure to reduce the fluorine content on the surface of the photocatalyst-containing layer. A color filter obtained by forming a pattern of a lyophilic region in a lyophobic region and forming a pixel portion or the like on the lyophilic region may be used. Even in this case, it is preferable to use the titanium dioxide as described above as the photocatalyst. However, when titanium dioxide is used in this way, the content of fluorine contained in the photocatalyst containing layer is determined by X-ray photoelectron. When analyzed by spectroscopy and quantified, when the titanium (Ti) element is set to 100, the fluorine (F) element is 500 or more, preferably 80 or more.
It is preferable that fluorine (F) element is contained on the surface of the photocatalyst-containing layer at a ratio of 0 or more, particularly preferably 1200 or more.

【0060】フッ素(F)が光触媒含有層にこの程度含
まれることにより、光触媒含有層上における臨界表面張
力を十分低くすることが可能となることから表面におけ
る撥液性を確保でき、これによりパターン露光してフッ
素含有量を減少させたパターン部分における表面の親液
性領域との濡れ性の差異を大きくすることができ、最終
的に得られるカラーフィルタの品質を向上させることが
できるからである。
When fluorine (F) is contained in the photocatalyst-containing layer to this extent, the critical surface tension on the photocatalyst-containing layer can be sufficiently reduced, so that liquid repellency on the surface can be ensured. This is because the difference in wettability with the lyophilic region on the surface in the pattern portion where the fluorine content has been reduced by exposure can be increased, and the quality of the finally obtained color filter can be improved. .

【0061】さらに、このようなカラーフィルタにおい
ては、パターン露光して形成される親インク領域におけ
るフッ素含有量が、チタン(Ti)元素を100とした
場合にフッ素(F)元素が50以下、好ましくは20以
下、特に好ましくは10以下となる比率で含まれている
ことが好ましい。
Further, in such a color filter, the fluorine content in the parent ink region formed by pattern exposure is preferably 50 or less when the titanium (Ti) element is 100, and the fluorine content is preferably 50 or less. Is preferably 20 or less, more preferably 10 or less.

【0062】光触媒含有層中のフッ素の含有率をこの程
度低減することができれば、画素部等を形成するために
は十分な親液性を得ることができ、上記未露光部の撥液
性との濡れ性の差異により、画素部等を精度良く形成す
ることが可能となり、品質の良好なカラーフィルタを得
ることができる。
If the content of fluorine in the photocatalyst containing layer can be reduced to this extent, sufficient lyophilic property for forming a pixel portion or the like can be obtained, and the lyophobic property of the unexposed portion can be improved. The difference in wettability makes it possible to form a pixel portion and the like with high accuracy, and to obtain a high-quality color filter.

【0063】本発明において、光触媒含有層に使用する
バインダは、主骨格が上記の光触媒の光励起により分解
されないような高い結合エネルギーを有するものが好ま
しく、例えば、(1)ゾルゲル反応等によりクロロまた
はアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強
度を発揮するオルガノポリシロキサン、(2)撥水牲や
撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポ
リシロキサン等を挙げることができる。
In the present invention, the binder used in the photocatalyst-containing layer preferably has a high binding energy such that the main skeleton is not decomposed by the photoexcitation of the photocatalyst. For example, (1) chloro or alkoxy by a sol-gel reaction or the like. Examples thereof include organopolysiloxanes that exhibit great strength by hydrolyzing and polycondensing silanes and the like, and (2) organopolysiloxanes obtained by crosslinking reactive silicones having excellent water repellency and oil repellency.

【0064】上記の(1)の場合、一般式: YnSiX(4-n) (ここで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニ
ル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、
Xはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示
す。nは0〜3までの整数である。)で示される珪素化
合物の1種または2種以上の加水分解縮合物もしくは共
加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであるこ
とが好ましい。なお、ここでYで示される基の炭素数は
1〜20の範囲内であることが好ましく、また、Xで示
されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。
In the case of the above (1), the general formula: Y n SiX (4-n) (where Y represents an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, a phenyl group or an epoxy group,
X represents an alkoxyl group, an acetyl group or a halogen. n is an integer from 0 to 3. ) Is preferably an organopolysiloxane that is one or more hydrolytic condensates or cohydrolytic condensates of the silicon compound represented by the formula (1). Here, the carbon number of the group represented by Y is preferably in the range of 1 to 20, and the alkoxy group represented by X is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group. preferable.

【0065】具体的には、メチルトリクロルシラン、メ
チルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシ
ラン、メチルトリt−ブトキシシラン;エチルトリクロ
ルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソ
プロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシシラン;n
−プロピルトリクロルシラン、n−プロピルトリブロム
シラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピ
ルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシラン;n−
ヘキシルトリクロルシラン、n−へキシルトリブロムシ
ラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシル
トリエトキシシラン、n−へキシルトリイソプロポキシ
シラン、n−へキシルトリt−ブトキシシラン;n−デ
シルトリクロルシラン、n−デシルトリブロムシラン、
n−デシルトリメトキシシラン、n−デシルトリエトキ
シシラン、n−デシルトリイソプロポキシシラン、n−
デシルトリt−ブトキシシラン;n−オクタデシルトリ
クロルシラン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n
−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシル
トリエトキシシラン、n−オクタデシルトリイソプロポ
キシシラン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラ
ン;フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェ
ニルトリt−ブトキシシラン;テトラクロルシラン、テ
トラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエト
キシシラン;ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロ
ムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン;ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジ
ブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン;フェニルメチルジクロルシラン、
フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン;トリク
ロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメト
キシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイ
ソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシ
ラン;ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt
−ブトキシシラン;トリフルオロプロピルトリクロルシ
ラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフ
ルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブ
トキシシラン;γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシシラン;γ−
メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラ
ン;γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン;
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
t−ブトキシシラン;β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン;お
よび、それらの部分加水分解物;および、それらの混合
物を使用することができる。
Specifically, methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane; ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrichlorosilane Methoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane; n
-Propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-butoxysilane; n-
Hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane; n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane,
n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n-
Decyltri-t-butoxysilane; n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n
-Octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane; phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyl Triisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane; tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane; dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane , Dimethyldiethoxysilane; diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane Phenyl methyldichlorosilane,
Phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane; trichlorohydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, triethoxyhydrosilane, triisopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane; vinyltrichlorosilane, vinyltribromo Silane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrit
-Butoxysilane; trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane; γ- Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ
Glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltri-t-butoxysilane; γ-
Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane,
γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-
Methacryloxypropyltriisopropoxysilane,
γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane; γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltri-t-butoxysilane;
γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane; β- (3,4-epoxy Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane; and their partial hydrolysates; and mixtures thereof, can be used.

【0066】また、バインダとして、特にフルオロアル
キル基を含有するポリシロキサンが好ましく用いること
ができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシランの
1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合
物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤と
して知られたものを使用することができる。
As the binder, particularly, a polysiloxane containing a fluoroalkyl group can be preferably used. Specifically, one or more hydrocondensation products of the following fluoroalkylsilanes, co-hydrolysis Examples thereof include condensates, and those generally known as a fluorine-based silane coupling agent can be used.

【0067】CF3(CF23CH2CH2Si(OC
33;CF3(CF25CH2CH2Si(OC
33;CF3(CF27CH2CH2Si(OC
33;CF3(CF29CH2CH2Si(OC
33;(CF32CF(CF24CH2CH2Si(O
CH33;(CF32CF(CF26CH2CH2Si
(OCH33;(CF32CF(CF28CH2CH2
i(OCH33;CF3(C64)C24Si(OC
33;CF3(CF23(C64)C24Si(OC
33;CF3(CF25(C64)C24Si(OC
33;CF3(CF27(C64)C24Si(OC
33;CF3(CF23CH2CH2SiCH3(OCH
32;CF3(CF25CH2CH2SiCH3(OC
32;CF3(CF27CH2CH2SiCH3(OCH
32;CF3(CF29CH2CH2SiCH3(OC
32;(CF32CF(CF24CH2CH2SiCH
3(OCH32;(CF32CF(CF26CH2CH2
Si CH3(OCH32;(CF32CF(CF28
CH2CH2Si CH3(OCH32;CF3(C64
24SiCH3(OCH32;CF3(CF23(C6
4)C24SiCH3(OCH32;CF3(CF25
(C64)C24SiCH3(OCH32;CF3(CF
27(C64)C24SiCH3(OCH32;CF
3(CF23CH2CH2Si(OCH2CH33;CF3
(CF25CH2CH2Si(OCH2CH33;CF
3(CF27CH2CH2Si(OCH2CH33;CF3
(CF29CH2CH2Si(OCH2CH33;CF
3(CF27SO2N(C25)C24CH2Si(OC
33
CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3) 3; (CF 3 ) 2 CF (CF 2) 4 CH 2 CH 2 Si (O
CH 3 ) 3 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 Si
(OCH 3 ) 3 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 S
i (OCH 3 ) 3 ; CF 3 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OC
H 3) 3; CF 3 ( CF 2) 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 5 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OC
H 3) 3; CF 3 ( CF 2) 7 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH
3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH
3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 SiCH
3 (OCH 3 ) 2 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2
Si CH 3 (OCH 3 ) 2 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8
CH 2 CH 2 Si CH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (C 6 H 4 )
C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 3 (C 6
H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 5
(C 6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (CF
2) 7 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2; CF
3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 ; CF 3
(CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 ; CF
3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 ; CF 3
(CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 ; CF
3 (CF 2 ) 7 SO 2 N (C 2 H 5 ) C 2 H 4 CH 2 Si (OC
H 3 ) 3

【0068】上記のようなフルオロアルキル基を含有す
るポリシロキサンをバインダとして用いることにより、
光触媒含有層の未露光部の撥液性が大きく向上し、画素
部形成用のインクジェット方式用インクの付着を妨げる
機能を発現する。
By using a polysiloxane having a fluoroalkyl group as described above as a binder,
The liquid repellency of the unexposed portion of the photocatalyst-containing layer is greatly improved, and a function of preventing adhesion of the ink for an inkjet system for forming a pixel portion is exhibited.

【0069】また、上記の(2)の反応性シリコーンと
しては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げ
ることができる。
The reactive silicone of the above (2) includes compounds having a skeleton represented by the following general formula.

【0070】[0070]

【化1】 Embedded image

【0071】ただし、nは2以上の整数であり、R1
2はそれぞれ炭素数1〜10の置換もしくは非置換の
アルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキ
ル基であり、モル比で全体の40%以下がビニル、フェ
ニル、ハロゲン化フェニルである。また、R1、R2がメ
チル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好
ましく、モル比でメチル基が60%以上であることが好
ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少
なくとも1個以上の水酸基等の反応性基を有する。
Here, n is an integer of 2 or more, and R 1 ,
R 2 is a substituted or unsubstituted alkyl, alkenyl, aryl or cyanoalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and 40% or less of the whole is vinyl, phenyl or halogenated phenyl in a molar ratio. Further, those in which R 1 and R 2 are methyl groups are preferred because the surface energy is minimized, and the molar ratio of the methyl groups is preferably 60% or more. Further, the chain terminal or the side chain has at least one or more reactive group such as a hydroxyl group in the molecular chain.

【0072】また、上記のオルガノポリシロキサンとと
もに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしな
い安定なオルガノシリコン化合物をバインダに混合して
もよい。
Further, together with the above-mentioned organopolysiloxane, a stable organosilicon compound which does not undergo a crosslinking reaction such as dimethylpolysiloxane may be mixed with the binder.

【0073】本発明において光触媒含有層には上記の光
触媒、バインダの他に、界面活性剤を含有させることが
できる。具体的には、日光ケミカルズ(株)製NIKK
OLBL、BC、BO、BBの各シリーズ等の炭化水素
系、デュポン社製ZONYL FSN、FSO、旭硝子
(株)製サーフロンS−141、145、大日本インキ
化学工業(株)製メガファックF−141、144、ネ
オス(株)製フタージェントF−200、F251、ダ
イキン工業(株)製ユニダインDS−401、402、
スリーエム(株)製フロラードFC−170、176等
のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤
を挙げることかでき、また、カチオン系界面活性剤、ア
ニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いることもで
きる。
In the present invention, the photocatalyst-containing layer may contain a surfactant in addition to the above-mentioned photocatalyst and binder. More specifically, NIKK manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.
Hydrocarbons such as OLBL, BC, BO, and BB series, ZONYL FSN and FSO manufactured by DuPont, Surflon S-141 and 145 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., and Megafax F-141 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. 144, Neos Co., Ltd. manufactured by Fategent F-200, F251, Daikin Industries, Ltd. Unidyne DS-401, 402,
Examples include fluorine-based or silicone-based nonionic surfactants such as Florad FC-170 and 176 manufactured by 3M Co., Ltd., and a cationic surfactant, an anionic surfactant, and an amphoteric surfactant are used. You can also.

【0074】また、光触媒含有層には上記の界面活性剤
の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステ
ル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレー
ト、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイ
ミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポ
リプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイ
ミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリ
ン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマ
ー、ポリマー等を含有させることができる。
In the photocatalyst-containing layer, in addition to the above surfactants, polyvinyl alcohol, unsaturated polyester, acrylic resin, polyethylene, diallyl phthalate, ethylene propylene diene monomer, epoxy resin, phenol resin, polyurethane, melamine resin , Polycarbonate, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, polypropylene, polybutylene, polystyrene, polyvinyl acetate, polyester, polybutadiene, polybenzimidazole, polyacrylonitrile, oligomers such as epichlorohydrin, polysulfide, polyisoprene, A polymer or the like can be contained.

【0075】光触媒含有層中の光触媒の含有量は、5〜
60重量%、好ましくは20〜40重量%の範囲で設定
することができる。また、光触媒含有層の厚みは、0.
05〜10μmの範囲内が好ましい。
The content of the photocatalyst in the photocatalyst containing layer is 5 to 5.
It can be set in the range of 60% by weight, preferably 20 to 40% by weight. Further, the thickness of the photocatalyst-containing layer is 0.1 mm.
It is preferably in the range of 05 to 10 μm.

【0076】上記光触媒含有層は、光触媒とバインダを
必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布
液を調製し、この塗布液を塗布することにより形成する
ことができる。使用する溶剤としては、エタノール、イ
ソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好まし
い。塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコ
ート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法
により行うことができる。バインダとして紫外線硬化型
の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理
を行うことにより光触媒含有層を形成することかでき
る。
The photocatalyst-containing layer can be formed by dispersing a photocatalyst and a binder, if necessary, in a solvent together with other additives to prepare a coating solution, and applying the coating solution. As the solvent to be used, alcohol-based organic solvents such as ethanol and isopropanol are preferable. The coating can be performed by a known coating method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, and bead coating. When an ultraviolet-curable component is contained as a binder, the photocatalyst-containing layer can be formed by irradiating ultraviolet rays and performing a curing treatment.

【0077】(画素部)本発明のカラーフィルタは、図
1にも示すように、上記光触媒含有層3上に、インクジ
ェット方式により複数色、通常は赤(R)、緑(G)、
および青(B)の3色を所定のパターンで設けた画素部
3が形成される。
(Pixel part) As shown in FIG. 1, the color filter of the present invention has a plurality of colors, usually red (R), green (G),
The pixel portion 3 is formed in which three colors of blue and blue (B) are provided in a predetermined pattern.

【0078】ここで所定のパターンとは、カラーフィル
タにおいて通常用いられるパターンであり、具体的に
は、モザイク状、トライアングル状、ストライプ状等の
パターンを挙げることができる。
Here, the predetermined pattern is a pattern usually used in a color filter, and specific examples include a mosaic pattern, a triangle pattern, a stripe pattern and the like.

【0079】このような画素部を形成するインクジェッ
ト方式のインクとしては、大きく水性、油性に分類され
るが、本発明においてはいずれのインクであっても用い
ることができるが、表面張力の関係から水をベースとし
た水性のインクが好ましい。
The ink-jet type ink for forming such a pixel portion is roughly classified into water-based and oil-based inks. In the present invention, any of these inks can be used. Water-based aqueous inks are preferred.

【0080】本発明で用いられる水性インクには、溶媒
として、水単独または水及び水溶性有機溶剤の混合溶媒
を用いることがきる。一方、油性インクにはへッドのつ
まり等を防ぐために高沸点の溶媒をベースとしたものが
好ましく用いられる。このようなインクジェット方式の
インクに用いられる着色剤は、公知の顔料、染料が広く
用いられる。また、分散性、定着性向上のために溶媒に
可溶・不溶の樹脂類を含有させることもできる。その
他、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界
面活性剤などの界面活性剤;防腐剤;防黴剤;pH調整
剤;消泡剤;紫外線吸収剤;粘度調整剤:表面張力調整
剤などを必要に応じて添加しても良い。
In the aqueous ink used in the present invention, water alone or a mixed solvent of water and a water-soluble organic solvent can be used as a solvent. On the other hand, oil-based inks based on high-boiling solvents are preferably used in order to prevent clogging of the head. Known pigments and dyes are widely used as the colorant used in such an ink-jet type ink. Further, a resin soluble or insoluble in a solvent may be contained for improving dispersibility and fixing property. In addition, surfactants such as nonionic surfactants, cationic surfactants, and amphoteric surfactants; preservatives; fungicides; pH adjusters; defoamers; ultraviolet absorbers; viscosity adjusters: surface tension adjusters; May be added as needed.

【0081】また、通常のインクジェット方式のインク
は適性粘度が低いためバインダ樹脂を多く含有できない
が、インク中の着色剤粒子を樹脂で包むかたちで造粒さ
せることで着色剤自身に定着能を持たせることができ
る。このようなインクも本発明においては用いることが
できる。さらに、所謂ホットメルトインクやUV硬化性
インクを用いることもできる。
Further, ordinary inks of the ink jet system cannot contain a large amount of binder resin due to low suitable viscosity. However, by coloring the colorant particles in the ink into a resin and granulating it, the colorant itself has fixing ability. Can be made. Such an ink can also be used in the present invention. Further, a so-called hot melt ink or UV curable ink can be used.

【0082】本発明においては、中でもUV硬化性イン
クを用いることが好ましい。UV硬化性インクを用いる
ことにより、インクジェット方式により着色して画素部
を形成後、UVを照射することにより、素早くインクを
硬化させることができ、すぐに次の工程に送ることがで
きる。したがって、効率よくカラーフィルタを製造する
ことができるからである。
In the present invention, it is particularly preferable to use a UV curable ink. By using a UV curable ink, after forming a pixel portion by coloring with an ink jet method, the ink can be quickly cured by irradiating UV, and can be immediately sent to the next step. Therefore, a color filter can be efficiently manufactured.

【0083】このようなUV硬化性インクは、プレポリ
マー、モノマー、光開始剤及び着色剤を主成分とするも
のである。プレポリマーとしては、ポリエステルアクリ
レート、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレ
ート、ポリエーテルアクリレート、オリゴアクリレー
ト、アルキドアクリレート、ポリオールアクリレート、
シリコンアクリレート等のプレポリマーのいずれかを特
に限定することなく用いることができる。
Such a UV curable ink contains a prepolymer, a monomer, a photoinitiator and a colorant as main components. As the prepolymer, polyester acrylate, polyurethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, oligoacrylate, alkyd acrylate, polyol acrylate,
Any of prepolymers such as silicon acrylate can be used without any particular limitation.

【0084】モノマーとしては、スチレン、酢酸ビニル
等のビニルモノマー;n−ヘキシルアクリレート、フェ
ノキシエチルアクリレート等の単官能アクリルモノマ
ー;ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジアクリレート、ヒドロキシピペリン酸
エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリス
トールヘキサアクリレート等の多官能アクリルモノマー
を用いることができる。上記プレポリマー及びモノマー
は単独で用いても良いし、2種以上混含しても良い。
Examples of the monomer include vinyl monomers such as styrene and vinyl acetate; monofunctional acrylic monomers such as n-hexyl acrylate and phenoxyethyl acrylate; diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, hydroxypiperate ester neopentyl Polyfunctional acrylic monomers such as glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and dipentaerythrol hexaacrylate can be used. The above prepolymer and monomer may be used alone or in combination of two or more.

【0085】光重合開始剤は、イソブチルベンゾインエ
ーテル、イソプロピルベンゾインエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、1−フェ
ニル−l,2−プロパジオン−2−オキシム、2,2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、ベンジル、
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエトキシ
アセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン、クロロチ
オキサントン、2−クロロチオキサントン、イソプロピ
ルチオキサントン、2−メチルチオキサントン、塩素置
換ベンゾフェノン、ハロゲン置換アルキル−アリルケト
ン等の中から所望の硬化特性、記録特性が得られるもの
を選択して用いることができる。その他必要に応じて脂
肪族アミン、芳香族アミン等の光開始助剤;チオキサン
ソン等の光鋭感剤等を添加しても良い。
The photopolymerization initiator includes isobutyl benzoin ether, isopropyl benzoin ether, benzoin ethyl ether, benzoin methyl ether, 1-phenyl-1,2-propadion-2-oxime, 2,2-
Dimethoxy-2-phenylacetophenone, benzyl,
Hydroxycyclohexylphenyl ketone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzophenone, chlorothioxanthone, 2-chlorothioxanthone, isopropylthioxanthone, 2-methylthioxanthone, chlorine-substituted benzophenone, halogen-substituted Those which can obtain desired curing characteristics and recording characteristics can be selected and used from alkyl-allyl ketones and the like. In addition, if necessary, a photoinitiating auxiliary such as an aliphatic amine or an aromatic amine; a photosensitizer such as thioxanthone may be added.

【0086】このような画素部の形成方法は、まず上述
したように上記光触媒含有層に対して、形成される画素
部のパターンと同じパターンの親液性領域を形成するよ
うに、パターン露光が施される。次いで、この親液性領
域にインクジェット方式により画素部形成用のインクを
塗布する。そして、この画素部形成用インクを硬化させ
ることにより、画素部を形成することができるのであ
る。
In the method of forming such a pixel portion, first, as described above, pattern exposure is performed on the photocatalyst-containing layer so as to form a lyophilic region having the same pattern as the pattern of the pixel portion to be formed. Will be applied. Next, an ink for forming a pixel portion is applied to the lyophilic region by an inkjet method. Then, the pixel portion can be formed by curing the pixel portion forming ink.

【0087】(その他)本発明のカラーフィルタには、
必要に応じて他の部材が形成されていてもよく、具体的
には、透明電極層、配向層、保護層、スペーサとして機
能する柱状部材等が形成されていてもよい。
(Others) The color filter of the present invention includes:
Other members may be formed as necessary, and specifically, a transparent electrode layer, an alignment layer, a protective layer, a columnar member functioning as a spacer, or the like may be formed.

【0088】2.カラーフィルタの製造方法 次に、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明
する。本発明のカラーフィルタの製造方法は、(1)透
明基板上に遮光部を形成する工程と、(2)上記透明基
板の遮光部が形成された側の面上に、その表面の凹凸が
±10000Åの範囲内となるように形成されたプライ
マー層を形成する工程と、(3)上記プライマー層上
に、少なくとも光触媒とバインダとを含有し、エネルギ
ー照射により液体との接触角が低下するように濡れ性が
変化する層である光触媒含有層を設ける工程と、(4)
この光触媒含有層上にエネルギーをパターン照射して、
画素部用露光部を形成する工程と、(5)この画素部用
露光部にインクジェット方式でインクを付着させて画素
部を形成する工程とを少なくとも有することを特徴とす
るものである。以下、上記各工程について説明する。
2. Next, a method for manufacturing the color filter of the present invention will be described. The method for manufacturing a color filter according to the present invention includes: (1) a step of forming a light-shielding portion on a transparent substrate; and (2) unevenness on the surface of the transparent substrate on which the light-shielding portion is formed. (3) a step of forming a primer layer formed so as to be within the range of 10,000 °, and (3) containing at least a photocatalyst and a binder on the primer layer so that a contact angle with a liquid is reduced by energy irradiation. Providing a photocatalyst-containing layer that is a layer whose wettability changes; (4)
By pattern irradiation of energy on this photocatalyst containing layer,
It is characterized by having at least a step of forming an exposure section for a pixel section, and (5) a step of forming a pixel section by adhering ink to the exposure section for a pixel section by ink jetting. Hereinafter, each of the above steps will be described.

【0089】図2は、本発明のカラーフィルタの製造方
法の一例における各工程を説明するためのものである。
この例においては、まず、従来の方法により透明基板1
上に遮光部2が形成される(図2(a))。この遮光部2
の製造方法は特に限定されるものではなく、例えば、上
述したようにスパッタリング法、真空蒸着法等により厚
み1000〜2000Å程度のクロム等の金属薄膜を形
成し、この薄膜をパターニングすることにより形成する
方法等を挙げることができる。得られた遮光部について
は、上記カラーフィルタの項で説明した遮光部と同様で
あるのでここでの説明は省略する。
FIG. 2 is a view for explaining each step in an example of the method for manufacturing a color filter of the present invention.
In this example, first, the transparent substrate 1 is formed by a conventional method.
The light-shielding portion 2 is formed thereon (FIG. 2A). This light shielding part 2
The production method is not particularly limited. For example, as described above, a metal thin film of chromium or the like having a thickness of about 1000 to 2000 ° is formed by a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like, and is formed by patterning the thin film. Methods and the like can be mentioned. The obtained light-shielding portion is the same as the light-shielding portion described in the section of the color filter, and the description is omitted here.

【0090】次いで、この遮光部2が形成された透明基
板1に、本発明の特徴であるプライマー層9が、上記遮
光部2および透明基板1を覆うように形成される。この
プライマー層は、プライマー層形成用塗工液を調製し、
これを上記透明基板および遮光部上に塗布し、硬化させ
ることにより形成することができる。上記プライマー層
形成用塗工液の塗布方法は、プライマー層表面がなるべ
く早く平坦化できる方法であれば特に限定されるもので
はなく、具体的には、スピンコート、スプレーコート、
ディップコート、ロールコート、ビードコート等の公知
の塗布方法により行うことができる。このようにして塗
布されたプライマー層形成用塗工液は、塗工液の種類に
応じた硬化方法、具体的には紫外線の照射や加熱等を行
うことにより硬化される。なお、ここで用いられるプラ
イマー層用塗工液の粘度は、遮光部2の凹凸を素早く平
坦化することできる点から、なるべく粘度の低いものを
用いることが好ましい。
Next, a primer layer 9 which is a feature of the present invention is formed on the transparent substrate 1 on which the light shielding portion 2 is formed so as to cover the light shielding portion 2 and the transparent substrate 1. This primer layer prepares a coating liquid for forming a primer layer,
It can be formed by applying this on the transparent substrate and the light-shielding portion and curing it. The method of applying the primer layer-forming coating liquid is not particularly limited as long as the primer layer surface can be flattened as quickly as possible.Specifically, spin coating, spray coating,
The coating can be performed by a known coating method such as dip coating, roll coating, and bead coating. The coating liquid for forming a primer layer applied in this manner is cured by a curing method according to the type of the coating liquid, specifically, by irradiating ultraviolet rays or heating. Note that the viscosity of the primer layer coating liquid used here is preferably as low as possible from the viewpoint that unevenness of the light shielding portion 2 can be quickly flattened.

【0091】このようにして形成されたプライマー層
は、上記カラーフィルタの項で説明した理由により、そ
の表面の凹凸が±10000Åの範囲内、好ましくは±
5000Åの範囲内、特に好ましくは±2000Åの範
囲内となるように形成される必要がある。
The primer layer thus formed has a surface unevenness in the range of ± 10000 °, preferably ± 10000 °, for the reason described in the section of the color filter.
It must be formed so as to be within the range of 5000 °, particularly preferably ± 2000 °.

【0092】次に、上記プライマー層の表面に光触媒含
有層3が形成される(図2(c))。この光触媒含有層
3の形成は、上述したような光触媒とバインダとを必要
に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を
調製し、この塗布液を塗布した後、加水分解、重縮合反
応を進行させてバインダ中に光触媒を強固に固定するこ
とにより形成される。使用する溶剤としては、エタノー
ル、イソプロルパノール等のアルコール系の有機溶剤が
好ましく、塗布はスピンコート、スプレーコート、ディ
ップコート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗
布方法により行うことかできる。本発明においては、上
記プライマー層が形成されていることから、上記光触媒
含有層を形成する面は、比較的平坦であり、膜厚が均一
な光触媒含有層を形成することが可能となる。
Next, a photocatalyst-containing layer 3 is formed on the surface of the primer layer (FIG. 2C). The photocatalyst containing layer 3 is formed by dispersing the photocatalyst and the binder as described above in a solvent together with other additives as necessary to prepare a coating solution, applying the coating solution, and then subjecting the coating solution to hydrolysis, It is formed by advancing the polycondensation reaction to firmly fix the photocatalyst in the binder. The solvent used is preferably an alcoholic organic solvent such as ethanol or isopropyl alcohol, and the coating can be performed by a known coating method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating. In the present invention, since the primer layer is formed, the surface on which the photocatalyst-containing layer is formed is relatively flat, and it is possible to form a photocatalyst-containing layer having a uniform thickness.

【0093】このようにして膜厚が均一な光触媒含有層
3が形成された透明基板1に対して、紫外光等のエネル
ギー10をフォトマスク4によりパターン照射する。こ
れにより、光触媒含有層3上の画素部が形成される部位
である画素部形成5を、光触媒含有層2内の光触媒の作
用により親液性領域とした画素部用露光部が形成される
(図2(d))。なお、パターン照射の種類はフォトマス
クによるものに限定されるものでなく、レーザ等を用い
た描画照射等によるものであってもよい。
The transparent substrate 1 on which the photocatalyst containing layer 3 having a uniform thickness is formed is irradiated with energy 10 such as ultraviolet light by a photomask 4 in a pattern. As a result, a pixel portion exposed portion for forming the pixel portion formation 5 on the photocatalyst containing layer 3 where the pixel portion is formed as a lyophilic region by the action of the photocatalyst in the photocatalyst containing layer 2 is formed. FIG. 2 (d)). The type of pattern irradiation is not limited to the one using a photomask, but may be the one using drawing irradiation using a laser or the like.

【0094】このようにして親液性とされた画素部形成
部5内に、インクジェット装置6等を用いて、画素部形
成用のインク7を噴射して、それぞれ赤、緑、および青
に着色する(図2(e))。この際、画素部形成部5内は
上述したように露光により液体との接触角の小さい親液
性領域となっているため、インクジェット装置6から噴
出された画素部形成用インク7は、画素部形成部5内に
均一に広がる。また、露光が行われていない光触媒含有
層3の領域は、撥液性領域となっているため、インクは
この領域でははじかれて除去されることになる。この
際、上述したように、光触媒含有層3は、均一な膜厚を
有しているので、画素部形成部5間の撥液性領域が欠損
し、混色が生じる等の不具合が生じる可能性が少ない。
The ink 7 for forming the pixel portion is jetted into the lyophilic pixel portion forming portion 5 by using an ink-jet device 6 or the like so as to be colored red, green, and blue, respectively. (FIG. 2 (e)). At this time, since the inside of the pixel portion forming portion 5 is a lyophilic region having a small contact angle with the liquid due to the exposure as described above, the pixel portion forming ink 7 ejected from the ink jet device 6 It spreads uniformly in the forming part 5. In addition, since the region of the photocatalyst containing layer 3 that has not been exposed is a liquid repellent region, the ink is repelled and removed in this region. At this time, as described above, since the photocatalyst-containing layer 3 has a uniform film thickness, the liquid-repellent region between the pixel portion forming portions 5 may be lost, causing a problem such as color mixing. Less is.

【0095】本発明に用いられるインクジェット装置と
しては、特に限定されるものではないが、帯電したイン
クを連続的に噴射し磁場によって制御する方法、圧電素
子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加
熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等の各種
の方法を用いたインクジェット装置を用いることができ
る。
The ink-jet device used in the present invention is not particularly limited, but includes a method of continuously ejecting charged ink and controlling it by a magnetic field, and a method of intermittently ejecting ink using a piezoelectric element. Alternatively, an ink jet apparatus using various methods such as a method in which ink is heated and intermittently ejected by utilizing foaming thereof can be used.

【0096】このようにして画素部形成部5内に付着し
たインクを固化させることにより画素部8が形成される
(図2(f))。本発明において、インクの固化は用いる
インクの種類により種々の方法により行われる。例え
ば、水溶性のインクであれば加熱等することにより水を
除去して固化が行われる。
Thus, the pixel portion 8 is formed by solidifying the ink adhered in the pixel portion forming portion 5 (FIG. 2 (f)). In the present invention, the solidification of the ink is performed by various methods depending on the type of the ink used. For example, in the case of a water-soluble ink, the water is removed by heating or the like to be solidified.

【0097】このインクの固化工程を考慮すると、本発
明に用いられるインクの種類としては、UV硬化性イン
クであることが好ましい。これは、UV硬化性インクで
あればUVを照射することにより、素早くインクを固化
することができるので、カラーフィルタの製造時間を短
縮することができるからである。
In consideration of the ink solidification step, the type of ink used in the present invention is preferably a UV curable ink. This is because the UV curable ink can quickly solidify the ink by irradiating the UV, so that the manufacturing time of the color filter can be shortened.

【0098】上述したように、本発明の光触媒含有層3
はプライマー層9上に形成されていることから、全面に
わたって均一に形成されており、欠損部分はない。した
がって、プライマー層9を形成していない従来のカラー
フィルタのように、光触媒含有層の欠損部分における画
素部の混色といった不具合が生じるおそれがなく、品質
の良好なカラーフィルタとすることができる。
As described above, the photocatalyst containing layer 3 of the present invention
Is formed on the primer layer 9 so that it is formed uniformly over the entire surface and has no defective portion. Therefore, unlike a conventional color filter without the primer layer 9, there is no possibility that a defect such as color mixing of a pixel portion in a defective portion of the photocatalyst containing layer occurs, and a high quality color filter can be obtained.

【0099】3.カラー液晶表示装置 このようにして得られたカラーフィルタと、このカラー
フィルタに対向する対向電極基板とを組み合わせ、この
間に液晶化合物を封入することによりカラー液晶表示装
置が形成される。このようにして得られるカラー液晶表
示装置は、本発明のカラーフィルタが有する利点、すな
わち、画素部における混色等のない表示品質の高いもの
となる。
3. Color liquid crystal display device A color liquid crystal display device is formed by combining the thus obtained color filter with a counter electrode substrate facing the color filter and sealing a liquid crystal compound therebetween. The color liquid crystal display device thus obtained has an advantage of the color filter of the present invention, that is, a high display quality without color mixing or the like in the pixel portion.

【0100】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明
の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同
一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いか
なるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
The present invention is not limited to the above embodiment. The above embodiment is an exemplification, and has substantially the same configuration as the technical idea described in the scope of the claims of the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

【0101】例えば、上述した説明では、光触媒含有層
の濡れ性を変化させる際に露光により変化させている
が、ここでいう露光とは可視光の露光のみを示すもので
はなく、光触媒含有層の濡れ性を変化させることができ
るエネルギーの照射の全てを含む意味である。
For example, in the above description, the wettability of the photocatalyst-containing layer is changed by exposure. However, the term “exposure” used herein does not indicate only visible light exposure, It is meant to include all the irradiation of energy that can change the wettability.

【0102】例えば、光触媒含有層中の光触媒が酸化チ
タンの場合は、紫外光を含む光であり、このような紫外
光を含む光の光源としては、例えば、水銀ランプ、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマランプ等
を挙げることができる。また、光触媒含有層に対し、光
触媒反応開始エネルギーを加え、この光触媒反応開始エ
ネルギーが加えられた領域内に反応速度増加エネルギー
を加えることにより露光を行うようにしてもよい。この
場合の光触媒反応開始エネルギーとしては、光触媒反応
を開始させることができるエネルギーであれば特に限定
されるものではないが、中でも二酸化チタンの触媒反応
を開始させる紫外光を含む光であることが好ましい。具
体的には、400nm以下の範囲、好ましくは380n
m以下の範囲の紫外光が含まれる光が好ましい。また、
反応速度増加エネルギーとしては熱エネルギーを用いる
ことが好ましく、このような熱エネルギーを加える方法
としては、赤外線レーザによる方法や感熱ヘッドによる
方法等を挙げることができる。
For example, when the photocatalyst in the photocatalyst-containing layer is titanium oxide, the light contains ultraviolet light. Examples of the light source containing such ultraviolet light include mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, and the like. Excimer lamps and the like can be mentioned. Further, the photocatalyst containing layer may be exposed by applying a photocatalytic reaction start energy to the photocatalyst containing layer and applying a reaction rate increasing energy to a region where the photocatalytic reaction start energy is added. The photocatalytic reaction initiation energy in this case is not particularly limited as long as it is an energy capable of initiating the photocatalytic reaction, but is preferably light including ultraviolet light that initiates the catalytic reaction of titanium dioxide. . Specifically, a range of 400 nm or less, preferably 380 n
Light containing ultraviolet light in the range of m or less is preferred. Also,
It is preferable to use thermal energy as the energy for increasing the reaction rate. Examples of a method for applying such thermal energy include a method using an infrared laser and a method using a thermal head.

【0103】[0103]

【発明の効果】本発明は、遮光部が形成された透明基板
上に、その表面の凹凸が所定の範囲となるように形成さ
れたプライマー層を有しているので、この上に形成され
る光触媒含有層を膜厚が均一になるように形成すること
ができる。したがって、遮光部上に直接光触媒含有層を
形成する場合の不具合、すなわち遮光部の凹凸に応じて
光触媒含有層が形成できないことから遮光部上に光触媒
含有層が形成されずに画素部の混色が生じるといった不
具合の無い、品質の良好なカラーフィルタとすることが
できる。
According to the present invention, since a primer layer is formed on a transparent substrate on which a light-shielding portion is formed so that the surface irregularities are within a predetermined range, the primer layer is formed thereon. The photocatalyst containing layer can be formed to have a uniform thickness. Therefore, there is a problem in forming the photocatalyst-containing layer directly on the light-shielding portion, that is, since the photocatalyst-containing layer cannot be formed according to the unevenness of the light-shielding portion, the color mixture of the pixel portion is not formed on the light-shielding portion without the photocatalyst-containing layer being formed. It is possible to provide a color filter of good quality without any trouble such as occurrence.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のカラーフィルタの一例を示す概略断面
図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a color filter of the present invention.

【図2】本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示
す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view illustrating an example of a method for manufacturing a color filter of the present invention.

【図3】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す
概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view illustrating an example of a conventional method for manufacturing a color filter.

【図4】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す
概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a conventional color filter manufacturing method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…透明基板 2…遮光部 3…光触媒含有層 6…インクジェット装置 7…画素部形成用インク 8…画素部 9…プライマー層 10…エネルギー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate 2 ... Light shielding part 3 ... Photocatalyst containing layer 6 ... Ink jet apparatus 7 ... Ink for pixel part formation 8 ... Pixel part 9 ... Primer layer 10 ... Energy

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 BA02 BA11 BA64 BA66 BB01 BB02 BB10 BB14 BB22 BB28 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FB04 FB08 FC02 FC23 4G069 AA03 BA02B BA04A BA04B BA14B BA48A BB04A BB06A BC12A BC22A BC25A BC60A BC66A CD10 DA06 EA08 FA02 4J038 DL021 DL031 DL051 DL071 DL081 DL091 DL121 HA216 KA06 PB08 PC08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H048 BA02 BA11 BA64 BA66 BB01 BB02 BB10 BB14 BB22 BB28 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FB04 FB08 FC02 FC23 4G069 AA03 BA02B BA04A BA04B BA14B BA48A BB04A BB06A02 BC12 BC12A DL021 DL031 DL051 DL071 DL081 DL091 DL121 HA216 KA06 PB08 PC08

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板と、この透明基板上でかつ画素
部の境界部分の位置に設けられた遮光部と、この遮光部
と前記透明基板上に形成され、その表面の凹凸が±10
000Åの範囲内となるように形成されたプライマー層
と、このプライマー層上に形成され、かつ少なくとも光
触媒とバインダとを含有し、露光により液体との接触角
が低下するように濡れ性が変化する層である光触媒含有
層と、この光触媒含有層上にインクジェット方式により
複数色を前記遮光部間の位置で定まる所定のパターンに
形成された画素部とを有することを特徴とするカラーフ
ィルタ。
1. A transparent substrate, a light-shielding portion provided on the transparent substrate at a boundary portion of a pixel portion, and a light-shielding portion formed on the transparent substrate and having irregularities of ± 10 on the transparent substrate.
A primer layer formed so as to be within the range of 000 °, and formed on the primer layer and containing at least a photocatalyst and a binder, and the wettability changes so that the contact angle with the liquid is reduced by exposure. A color filter, comprising: a photocatalyst-containing layer as a layer; and a pixel portion in which a plurality of colors are formed on the photocatalyst-containing layer in a predetermined pattern determined by a position between the light-shielding portions by an inkjet method.
【請求項2】 前記プライマー層は、前記遮光部の膜厚
を基準として、±50%の範囲内の膜厚を有することを
特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ。
2. The color filter according to claim 1, wherein the primer layer has a thickness within a range of ± 50% based on the thickness of the light shielding portion.
【請求項3】 前記遮光部により形成される開口の幅よ
り、前記画素部の幅が大きくなるように形成されている
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカラ
ーフィルタ。
3. The color filter according to claim 1, wherein the width of the pixel portion is larger than the width of an opening formed by the light shielding portion.
【請求項4】 前記光触媒が、酸化チタン(Ti
2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、チ
タン酸ストロンチウム(SrTiO3)、酸化タングス
テン(WO3)、酸化ビスマス(Bi23)、および酸
化鉄(Fe23)から選択される1種または2種以上の
物質であることを特徴とする請求項1から請求項3まで
のいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ。
4. The photocatalyst comprises titanium oxide (Ti)
O 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), tungsten oxide (WO 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and iron oxide (Fe 2 O 3 ) The color filter according to any one of claims 1 to 3, wherein the color filter is at least one substance selected from the group consisting of:
【請求項5】 前記光触媒が酸化チタン(TiO2)で
あることを特徴とする請求項4記載のカラーフィルタ。
5. The color filter according to claim 4, wherein said photocatalyst is titanium oxide (TiO 2 ).
【請求項6】 前記バインダが、YnSiX(4-n)(ここ
で、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、
アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Xはア
ルコキシル基またはハロゲンを示す。nは0〜3までの
整数である。)で示される珪素化合物の1種または2種
以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物である
オルガノポリシロキサンであることを特徴とする請求項
1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のカラー
フィルタ。
6. The method according to claim 1, wherein the binder is Y n SiX (4-n) (where Y is an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group,
X represents an amino group, a phenyl group or an epoxy group, and X represents an alkoxyl group or a halogen. n is an integer from 0 to 3. 6. An organopolysiloxane which is one or more hydrolytic condensates or co-hydrolytic condensates of a silicon compound represented by the formula (1). The color filter according to 1.
【請求項7】 前記光触媒含有層上における表面張力4
0mN/mの液体との接触角は、エネルギーが照射され
ていない領域の方がエネルギーが照射された領域より1
度以上大きいことを特徴とする請求項1から請求項6ま
でのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ。
7. A surface tension 4 on the photocatalyst containing layer.
The contact angle with a liquid of 0 mN / m is 1 in a region not irradiated with energy compared to a region irradiated with energy.
The color filter according to any one of claims 1 to 6, wherein the color filter is greater than or equal to degrees.
【請求項8】 (1)透明基板上に遮光部を形成する工
程と、(2)前記透明基板の遮光部が形成された側の面
上に、その表面の凹凸が±10000Åの範囲内となる
ように形成されたプライマー層を形成する工程と、
(3)前記プライマー層上に、少なくとも光触媒とバイ
ンダとを含有し、エネルギー照射により液体との接触角
が低下するように濡れ性が変化する層である光触媒含有
層を設ける工程と、(4)この光触媒含有層上にエネル
ギーをパターン照射して、画素部用露光部を形成する工
程と、(5)この画素部用露光部にインクジェット方式
でインクを付着させて画素部を形成する工程とを含むこ
とを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
8. A process of (1) forming a light-shielding portion on a transparent substrate, and (2) forming a surface of the transparent substrate on a side where the light-shielding portion is formed, with a surface irregularity of ± 10000 °. A step of forming a primer layer formed so that
(3) providing, on the primer layer, a photocatalyst-containing layer that contains at least a photocatalyst and a binder, and that changes the wettability so that the contact angle with a liquid is reduced by energy irradiation; A step of forming an exposed portion for a pixel portion by pattern irradiation of energy on the photocatalyst-containing layer, and (5) a step of forming a pixel portion by applying ink to the exposed portion for a pixel portion by an ink jet method. A method for manufacturing a color filter, comprising:
【請求項9】 前記光触媒含有層に照射するエネルギー
が、紫外光を含む光であることを特徴とする請求項8記
載のカラーフィルタの製造方法。
9. The method according to claim 8, wherein the energy applied to the photocatalyst-containing layer is light including ultraviolet light.
【請求項10】請求項1から請求項7までのいずれかの
請求項に記載のカラーフィルタと、これに対向する基板
とを有し、両基板間に液晶化合物を封入してなることを
特徴とするカラー液晶表示装置。
10. A color filter according to claim 1 and a substrate facing the color filter, wherein a liquid crystal compound is sealed between the two substrates. Color liquid crystal display device.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004151330A (en) * 2002-10-30 2004-05-27 Dainippon Printing Co Ltd Method for manufacturing color filter for translucent liquid crystal display
US7615488B2 (en) 2004-03-19 2009-11-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for forming pattern, thin film transistor, display device and method for manufacturing the same, and television device
US7642038B2 (en) 2004-03-24 2010-01-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for forming pattern, thin film transistor, display device, method for manufacturing thereof, and television apparatus
US7812355B2 (en) 2004-03-03 2010-10-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the same, liquid crystal television, and EL television
US7820465B2 (en) 2006-03-02 2010-10-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method for a circuit pattern, a thin film transistor and an electronic appliance
US7939888B2 (en) 2004-01-26 2011-05-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and television device using the same
US7948697B2 (en) * 2004-03-12 2011-05-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for producing a color filter
JP2011108395A (en) * 2009-11-13 2011-06-02 Hitachi Displays Ltd Organic light-emitting display device

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004151330A (en) * 2002-10-30 2004-05-27 Dainippon Printing Co Ltd Method for manufacturing color filter for translucent liquid crystal display
JP4632339B2 (en) * 2002-10-30 2011-02-16 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of color filter for transflective liquid crystal display device
US7939888B2 (en) 2004-01-26 2011-05-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and television device using the same
US7812355B2 (en) 2004-03-03 2010-10-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the same, liquid crystal television, and EL television
US7948697B2 (en) * 2004-03-12 2011-05-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for producing a color filter
US8179623B2 (en) 2004-03-12 2012-05-15 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for producing a color filter
US8315002B2 (en) 2004-03-12 2012-11-20 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for producing a color filter
US7615488B2 (en) 2004-03-19 2009-11-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for forming pattern, thin film transistor, display device and method for manufacturing the same, and television device
US7642038B2 (en) 2004-03-24 2010-01-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for forming pattern, thin film transistor, display device, method for manufacturing thereof, and television apparatus
US7820465B2 (en) 2006-03-02 2010-10-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method for a circuit pattern, a thin film transistor and an electronic appliance
JP2011108395A (en) * 2009-11-13 2011-06-02 Hitachi Displays Ltd Organic light-emitting display device

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