JPH09316265A - 光学樹脂材料 - Google Patents
光学樹脂材料Info
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- JPH09316265A JPH09316265A JP8135521A JP13552196A JPH09316265A JP H09316265 A JPH09316265 A JP H09316265A JP 8135521 A JP8135521 A JP 8135521A JP 13552196 A JP13552196 A JP 13552196A JP H09316265 A JPH09316265 A JP H09316265A
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Abstract
が優れ、また自動車のエンジンルームなどでの過酷な使
用条件に耐える、耐熱性、耐薬品性、耐湿性、不燃性を
備える光伝送体などを与える。 【解決手段】含フッ素重合体Aに溶融状態で放射線を照
射することにより得られる含フッ素重合体Bを含む光学
樹脂材料。
Description
送損失(以下、散乱損失と略す)の低減などの伝送特性
や耐熱性が改善された光学樹脂材料に関する。
フルオロジオキソールと1種以上のエチレン性不飽和単
量体とのC−H結合を含まない共重合体を芯成分とする
プラスチック光ファイバが提案されている。また、WO
95/28660においてC−H結合を有しない含フッ
素重合体(a)中に、含フッ素重合体(a)と屈折率の
差が0.001以上の物質(b)が分布された屈折率分
布型光学樹脂材料が提案され、紫外光から近赤外光まで
(波長200〜2500nm)の広範囲の波長帯の光が
高容量で伝送可能であることが記載されている。これら
は散乱損失を低減するために損失の原因となるC−H結
合の振動の高調波による吸収を少なくするために全ての
水素原子をフッ素原子で置換している。
を製造する際に生じる光の散乱を抑制することにより伝
送損失の低減をはかり、従来の光伝送体では不充分であ
った伝送特性を改善し、かつ、外界からの熱による光透
過性の経時的な変化を抑制することにより、自動車、オ
フィスオートメーション(OA)機器、家電機器用途な
どで要求される耐熱性、耐湿性、耐薬品性、不燃性を有
する光学樹脂材料を提供する。
光の吸収の他に散乱がある。この光散乱を引き起こす原
因として、1)異物や微結晶などの微少な散乱体、2)
光伝送体を製造する際に生じる芯−鞘界面における不整
などの構造不整、3)サブミクロン以下の大きさで生じ
る密度揺らぎに起因する屈折率の不均一構造などが考え
られる。一般に、これらの不均一構造が大きいほど、ま
たは屈折率差が大きいほど、散乱損失は大きくなる。
のように、共重合体を光学樹脂材料として用いた場合
に、テトラフルオロエチレンやクロロトリフルオロエチ
レンのような結晶性を有する単量体成分による微結晶が
存在し、 それが散乱の原因となる。また、微結晶が存在
しない場合においても、共重合組成の不均一な分布など
に基づくミクロな不均一構造が生じる。すなわち、組成
の異なる共重合体では分子間凝集力や分子形態の違いに
より相溶性が低下し、ミクロな屈折率の不均一構造が生
じ、このために散乱が起こる。
合体(a)中に拡散物質(b)が分布されてなる屈折率
分布型光伝送体において、拡散物質(b)の相溶性が悪
いと、たとえ目視で透明であってもミクロな不均一構造
が生じている場合がある。このような場合には、散乱損
失の波長依存性を測定すると、波長の4乗に反比例して
いる、いわゆるレーリー散乱が生じている。
て、長距離伝送を可能とするためには、これらの散乱損
失を低減する必要がある。
の不均一性あるいは共重合組成の不均一な分布に起因す
る光の散乱損失は、通常は、光学樹脂材料が室温におい
て観測されるものであり、これらは高温での溶融状態に
おいては非晶質で光学的にも均一な状態をとる場合があ
る。この状態で何らかの方法により重合体分子間の結
合、すなわち架橋構造を形成できれば、冷却後もその均
一構造が保たれた散乱損失の少ない光伝送体を得ること
ができる。
意検討を重ねた結果、光伝送体などの光学樹脂材料を製
造する際に、溶融状態にある含フッ素重合体に放射線照
射することにより伝送特性、耐熱性などが改善されるこ
とを見いだした。すなわち、本発明は含フッ素重合体A
に溶融状態で放射線を照射することにより得られる含フ
ッ素重合体Bを含む光学樹脂材料である。
合体Aとは、含フッ素重合体Aが非晶質の場合には、ガ
ラス転移温度〜熱分解温度の範囲にある重合体を、含フ
ッ素重合体Aが結晶性の場合には、融点〜熱分解温度の
範囲にある重合体を、また含フッ素重合体Aが、結晶性
構造を部分的に含む非晶質の場合には、その結晶性構造
の融点〜含フッ素重合体Aの熱分解温度の範囲にある重
合体をいう。
フッ素重合体でも、その重合体の溶融状態においてミク
ロに均一で散乱が少ない系であれば、放射線架橋して均
一構造を保持したまま冷却することにより散乱損失を低
減できる。
ッ素重合体を用い、その含フッ素重合体が単独重合体の
場合には散乱損失は非常に小さく光透過性に優れる。通
常、光ファイバなどの光伝送体として用いる場合には、
芯部と鞘部で屈折率差(または、周囲から中心に向かっ
て屈折率分布)を付ける必要があるため、屈折率を高め
る方法として高屈折率重合体を与える単量体を共重合し
たり、含フッ素重合体中に高屈折率成分の拡散物質を分
布させたりする。
分散のミクロな不均一性に基づく散乱が生じやすくなる
ため光伝送体としてはまだ充分な透明性を有していない
場合がある。しかし、常温において、散乱が生じるよう
な材料系でも、その材料の溶融状態においてミクロに均
一で散乱が少ない系であれば、放射線架橋して均一構造
を保持したまま冷却することにより散乱損失を低減でき
る。
のような結晶性重合体の場合には、結晶構造に由来する
光散乱が生じ、光伝送損失の大きな系であった。しか
し、このような結晶性重合体においても、この重合体の
融点以上に加熱した状態で放射線架橋することにより、
散乱を低減し光透過性を高めることができる。
晶質の含フッ素重合体」、または「結晶性の含フッ素重
合体または結晶性構造を部分的に含む非晶質の含フッ素
重合体であって、溶融状態にある含フッ素重合体Aに放
射線を照射することにより、散乱損失を低減し光透過性
を高めうるもの」である。
状態にある含フッ素重合体Aに放射線を照射することに
より得られ、散乱損失が低減された実質的に非晶質の含
フッ素重合体となっていると考えられる。
を照射することにより得られる含フッ素重合体Bは、散
乱損失の原因となるC−H結合を実質的に有していない
ことが好ましい。含フッ素重合体Aおよび含フッ素重合
体B中のフッ素原子は、屈折率を高めるために一部塩素
原子または臭素原子で置換されていてもよい。
ァイバなどの光伝送体でもよく、また光ファイバ製造用
のプリフォームなどの光伝送体の母材でもよい。
実質的に非晶質の含フッ素重合体を含むため、光の散乱
がなくしかも紫外光から近赤外光まで広範囲の波長帯で
透明性が非常に高いため、多種多様な波長の光システム
に有効利用が可能である。特に光通信分野において幹線
石英ファイバに利用されている波長である1300n
m、1550nmで低損失である光伝送体を与えるもの
である。
光ファイバ、段階屈折率型の光ファイバ、ロッドレン
ズ、光導波路、光分岐器、光合波器、光分波器、光減衰
器、光スイッチ、光アイソレータ、光送信モジュール、
光受信モジュール、カプラ、偏向子、光集積回路などの
多岐にわたる光伝送体として有用である。
ファイバの場合、芯部、鞘部どちらに本発明における含
フッ素重合体Bを用いてもよいが、特に芯部において有
効である。
中に特定の物質が特定の方向に沿って濃度勾配を有して
分布している屈折率分布型光ファイバの場合、この含フ
ッ素重合体として含フッ素重合体Bを用いる。特定の物
質としては、後述の含フッ素重合体Bとの比較において
屈折率の差が0.001以上である1種以上の物質であ
る拡散物質が好ましい。
得るためには以下の方法1〜方法3が好ましい。
がら紡糸を行う際に、溶融した含フッ素重合体Aがノズ
ルよりファイバ状に押し出された直後のまだ冷却固化す
る前に放射線を照射することにより含フッ素重合体Aを
含フッ素重合体Bに変換して、この含フッ素重合体Bを
含む光ファイバを得る。
ームを成形した後、加熱延伸して光ファイバを得る際
に、このプリフォーム成形時の含フッ素重合体Aがまだ
冷却固化する前に放射線を照射することにより含フッ素
重合体Aを含フッ素重合体Bに変換して、この含フッ素
重合体Bを加熱延伸して光ファイバを得る。
ームを成形した後、加熱延伸して光ファイバを得る際
に、この加熱延伸時に放射線を照射することにより含フ
ッ素重合体Aを含フッ素重合体Bに変換して、この含フ
ッ素重合体Bを含む光ファイバを得る。
分布型の場合は、溶融した含フッ素重合体Aの中心部に
拡散物質または拡散物質を含む含フッ素重合体Aを注入
し、その物質を拡散させながら、または拡散させた後に
溶融押し出し紡糸するが、放射線照射は含フッ素重合体
中の拡散物質が所定の分布に拡散する前でも、分布形成
後でもよい。上記方法2〜3において、光ファイバが屈
折率分布型の場合は、含フッ素重合体中の拡散物質はプ
リフォーム成形時に拡散させてもよく、加熱延伸時に拡
散させてもよい。
方法は特に限定されないが、溶融多層押し出しで成型す
る方法や棒状の芯部と管状の鞘部を別々に成形した後、
合体させる方法、回転成形方法などがある。このプリフ
ォームを加熱延伸してファイバ状とする際に放射線照射
を行ってもよい。
としては、含フッ素重合体の分子構造によりそれぞれの
最適な条件が選択される。放射線は溶融状態にある含フ
ッ素重合体Aに照射されることが重要である。これによ
り含フッ素重合体からなる光学樹脂材料の特に伝送特性
および耐熱性が改善される。
とが好ましい。酸素が存在すると、含フッ素重合体B中
にカルボニル基が生成しやすく、これが放射線の照射後
に空気中の水分と反応してカルボン酸となり、光伝送体
において吸収損失をもたらす原因となるため好ましくな
い。酸素を存在させずかつアルゴン、ヘリウムなどの不
活性ガスの存在下で放射線を照射することにより行うこ
とが好ましい。
高エネルギーイオンなどから選ばれる単独、またはこれ
らの混合物が好ましい。制御しやすさおよび短時間で充
分な放射線量を確保できることから電子線がより好まし
い。
の切断と分子間の架橋が同時に起こると考えられる。し
たがって、照射線量が多すぎると含フッ素重合体Bの引
張強度、伸度が低下する。一方、照射線量が少ないと架
橋構造が充分に形成されないため、溶融状態における含
フッ素重合体Aの均一構造を冷却時まで保持することが
困難である。照射線量としては0.1kGy〜10MG
yの範囲が好ましく、機械的強度の保持の観点から1k
Gy〜1MGyがより好ましい。
に環構造を有する含フッ素重合体が好ましい。主鎖に環
構造を有する含フッ素重合体としては、含フッ素脂肪族
環構造、含フッ素イミド環構造、含フッ素トリアジン環
構造または含フッ素芳香族環構造を有する含フッ素重合
体が好ましい。
合体は、含フッ素イミド環構造、含フッ素トリアジン環
構造または含フッ素芳香族環構造を有する含フッ素重合
体に比べ、熱延伸または溶融紡糸によるファイバ化に際
してもポリマー分子が配向しにくく、その結果光の散乱
を起こすこともないなどの理由から、より好ましい重合
体である。含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合
体では含フッ素脂肪族エーテル環構造を有するものがさ
らに好ましい。
ては、含フッ素環構造を有するモノマーを重合して得ら
れるものや、2つ以上の重合性二重結合を有する含フッ
素モノマーを環化重合して得られる主鎖に含フッ素脂肪
族環構造を有する重合体が好適である。
重合して得られる主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する
重合体は、特公昭63−18964などにより知られて
いる。すなわち、パーフルオロ(2,2−ジメチル−
1,3−ジオキソール)などの含フッ素脂肪族環構造を
有するモノマーを単独重合することにより、またこのモ
ノマーをテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロ
エチレン、パーフルオロ(メチルビニールエーテル)な
どのラジカル重合性モノマーと共重合することにより主
鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が得られる。
含フッ素モノマーを環化重合して得られる主鎖に含フッ
素脂肪族環構造を有する重合体は、特開昭63−238
111や特開昭63−238115などにより知られて
いる。すなわち、パーフルオロ(アリルビニルエーテ
ル)やパーフルオロ(ブテニルビニルエーテル)などの
モノマーを環化重合することにより、またはこのような
モノマーをテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオ
ロエチレン、パーフルオロ(メチルビニールエーテル)
などのラジカル重合性モノマーと共重合することにより
主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が得られ
る。
1,3−ジオキソール)などの含フッ素脂肪族環構造を
有するモノマーとパーフルオロ(アリルビニルエーテ
ル)やパーフルオロ(ブテニルビニルエーテル)などの
2つ以上の重合性二重結合を有する含フッ素モノマーと
を共重合することによっても主鎖に含フッ素脂肪族環構
造を有する重合体が得られる。
ッ素重合体としては、以下の式1〜式4から選ばれる繰
り返し単位を有する含フッ素重合体、または以下の式1
〜式4から選ばれる繰り返し単位および式5の繰り返し
単位を有する含フッ素重合体が例示される。この含フッ
素重合体には必要に応じて、架橋部位となりうる一般式
−(CF2 CFX)−[ただし、Xは−O-(CF2)d B
r (d=1〜3)、−O−(CF2 )e I(e=1〜
3)、−O−(CF2 )f CN(f=1〜3)から選ば
れる]で表される繰り返し単位が含まれていてもよい。
は0〜4、tは0〜1、r+s+tは1〜6であり、
u、v、wはそれぞれ0〜5、u+v+wは1〜6であ
り、R、R1 、R2 はそれぞれFまたはCF3 であり、
X1 、X2 、X3 、X4 はそれぞれFまたはClであ
り、X5 はF、Cl、−OCF3 、−O−[CF2 CF
(CF3 )O]n - CF2 CF2 CF3 (n=0〜3)
または−O−CF2 CF(CF3 )OCF2 CF2 SO2
Fである。
主鎖に環構造を有する重合体が好適であり、環構造を有
する重合単位を全重合単位に対して20モル%以上、特
に40モル%以上含有するものが透明性、機械的特性等
の面から好ましい。
造を部分的に含む非晶質の含フッ素重合体Aとしては、
テトラフルオロエチレン系樹脂、パーフルオロアルコキ
シ系樹脂、ビニリデンフルオリド系樹脂、クロロトリフ
ルオロエチレン系樹脂などが挙げられる。
パーフルオロ(エチレン−プロピレン)樹脂、エチレン
−テトラフルオロエチレン樹脂、パーフルオロ(アルキ
ルビニルエーテル)−テトラフルオロエチレン樹脂など
が好ましい。
ける粘度は、溶融温度200〜300℃において103
〜105 ポイズが好ましい。溶融粘度が高すぎると溶融
紡糸が困難なばかりでなく、光ファイバが屈折率分布型
の場合においては、芯材中に分布した屈折率分布を形成
するための拡散物質による屈折率分布の形成が困難にな
るため好ましくない。また、溶融粘度が低過ぎると実用
上問題が生じる。すなわち、電子機器や自動車等での光
伝送体として用いられる場合に高温にさらされ軟化し、
光の伝送性能が低下する。
は、1万〜500万が好ましく、より好ましくは5万〜
100万である。分子量が小さ過ぎると耐熱性を阻害す
ることがあり、大きすぎると屈折率分布を有する光伝送
体の形成が困難になるため好ましくない。
較において屈折率の差が0.001以上である1種以上
の物質であり、含フッ素重合体Bよりも高屈折率でも低
屈折率でもよい。光ファイバ等においては通常は含フッ
素重合体Bよりも高屈折率の物質を用いる。
環、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、エーテル結
合等の結合基を含む、低分子化合物、オリゴマー、ポリ
マーが好ましい。また、拡散物質は、実質的にC−H結
合を有しない物質であることが好ましい。含フッ素重合
体Bとの屈折率の差は0.005以上であることが好ま
しい。
ては、前記したような非晶質の含フッ素重合体Aを形成
するモノマーの重合体からなり、非晶質の含フッ素重合
体Aとの比較において屈折率の差が0.001以上であ
るオリゴマーやポリマーであってもよい。モノマーとし
ては、含フッ素重合体Bとの比較において屈折率の差が
0.001以上である重合体を形成するものから選ばれ
る。たとえば、屈折率の異なる2種の非晶質の含フッ素
重合体Aを用い、一方の重合体を拡散物質として他の重
合体マトリックス中に分布させうる。
おいて、溶解性パラメータの差が7(cal/cm3 )
1/2 以内であることが好ましい。溶解性パラメータとは
物質間の混合性の尺度となる特性値であり、溶解性パラ
メータをδ、物質の分子凝集エネルギーをE、分子容を
Vとして、数式δ=(E/V)1/2 で表される。
に結合した水素原子を含まないハロゲン化芳香族炭化水
素がある。特に、ハロゲン原子としてフッ素原子のみを
含むハロゲン化芳香族炭化水素やフッ素原子と他のハロ
ゲン原子を含むハロゲン化芳香族炭化水素が、含フッ素
重合体A、Bとの相溶性の面で好ましい。また、これら
のハロゲン化芳香族炭化水素は、カルボニル基、シアノ
基などの官能基を有していないことがより好ましい。
ては、たとえば化学式Φr −Zb [Φr は水素原子のす
べてがフッ素原子に置換されたb価のフッ素化芳香環残
基、Zはフッ素以外のハロゲン原子、−Rf 、−CO−
Rf 、−O−Rf 、または−CN。ただし、Rf はパー
フルオロアルキル基、ポリフルオロパーハロアルキル
基、または1価のΦr 。bは0または1以上の整数。]
で表される化合物がある。芳香環としてはベンゼン環や
ナフタレン環がある。Rf であるパーフルオロアルキル
基やポリフルオロパーハロアルキル基の炭素数は5以下
が好ましい。フッ素以外のハロゲン原子としては、塩素
原子や臭素原子が好ましい。
−ジブロモテトラフルオロベンゼン、1,4−ジブロモ
テトラフルオロベンゼン、2−ブロモテトラフルオロベ
ンゾトリフルオリド、クロロペンタフルオロベンゼン、
ブロモペンタフルオロベンゼン、ヨードペンタフルオロ
ベンゼン、デカフルオロベンゾフェノン、パーフルオロ
アセトフェノン、パーフルオロビフェニル、クロロヘプ
タフルオロナフタレン、ブロモヘプタフルオロナフタレ
ンなどがある。
ては、前記式1〜式4の繰り返し単位を有するもののう
ち、組み合される含フッ素重合体A、Bとは異なる屈折
率を有する含フッ素重合体(たとえば、ハロゲン原子と
してフッ素原子のみを含む含フッ素重合体とフッ素原子
と塩素原子を含む含フッ素重合体との組み合せ、異なる
種類や異なる割合の2以上のモノマーを重合して得られ
た2種の含フッ素重合体の組み合せなど)が好ましい。
含フッ素重合体以外に、テトラフルオロエチレン、クロ
ロトリフルオロエチレン、ジクロロジフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ(アルキ
ルビニルエーテル)などの水素原子を含まないモノマー
からなるオリゴマー、それらモノマー2種以上の共重合
オリゴマーなども拡散物質として使用できる。また、−
CF2 CF(CF3 )O−や−(CF2 )n O−(nは
1〜3の整数)の構造単位を有するパーフルオロポリエ
ーテルなども使用できる。これらオリゴマーの分子量
は、非結晶性となる分子量範囲から選ばれ、数平均分子
量300〜10000が好ましい。拡散のしやすさを考
慮すると、数平均分子量300〜5000がさらに好ま
しい。
A、B、特に主鎖に環構造を有する含フッ素重合体との
相溶性が良好であること等から、クロロトリフルオロエ
チレンオリゴマーである。相溶性が良好であることによ
り、含フッ素重合体A、B、特に主鎖に環構造を有する
含フッ素重合体、とクロロトリフルオロエチレンオリゴ
マーとを200〜300℃で加熱溶融により容易に混合
できる。また、含フッ素溶媒に溶解させて混合した後、
溶媒を除去することにより両者を均一に混合できる。ク
ロロトリフルオロエチレンオリゴマーの好ましい分子量
は、数平均分子量500〜1500である。
1、3、5および7においては、含フッ素重合体Aまた
は含フッ素重合体Bを含むシートにて評価した。このシ
ートは光ファイバなどの光学樹脂材料との比較におい
て、形状のみ相違するもので光ファイバなどの光学樹脂
材料と同様な物性評価ができるものである。
ルエーテル)[PBVE]35g、イオン交換水150
g、および重合開始剤として((CH3 )2 CHOCO
O)2 の90mgを、内容積200mlの耐圧ガラス製
オートクレーブに入れた。系内を3回窒素で置換した
後、40℃で22時間懸濁重合を行った。その結果、数
平均分子量約1.5×105 の重合体(以下、重合体C
という)を30g得た。
ロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)[PBTHF]中
30℃で0.50であった。重合体Cのガラス転移点は
108℃であり、室温ではタフで透明なガラス状の重合
体であった。また10%熱分解温度は465℃であり、
屈折率は1.34であった。
換水の150g、および重合開始剤として((CH3 )
2 CHOCOO)2 の90mgを、内容積200mlの
耐圧ガラス製オートクレーブに入れた。系内を3回窒素
で置換した後、クロロトリフルオロエチレン(CTF
E)を圧力2kg/cm2 まで仕込み、40℃で22時
間懸濁重合を行った。その結果、数平均分子量約2×1
05 の重合体(以下、重合体Dという)を28g得た。
重合体Dのガラス転移点は100℃であり、室温ではタ
フで透明なガラス状の重合体であった。また10%熱分
解温度は468℃であり、屈折率は1.36であった。
チル−1,3−ジオキソール)[PDD]とテトラフル
オロエチレン(TFE)を重量比70:30でラジカル
重合し、ガラス転移点160℃で数平均分子量約5×1
05 の重合体(以下、重合体Eという)を得た。重合体
Eは無色透明であり、屈折率は1.31で、光線透過率
も高かった。
g、PBTHFを10gおよび重合開始剤として((C
H3 )2 CHOCOO)2 の20mgを、内容積50m
lの耐圧ガラス製アンプルに入れた。系内を3回窒素で
置換した後、40℃で20時間重合を行った。その結
果、数平均分子量約1.5×105 の透明な重合体(以
下、重合体Fという)7.7gを得た。重合体Fのガラ
ス転移点は155℃、屈折率は1.32、IRスペクト
ルの1930cm-1の吸収の吸光度よりPDDの重合単
位含量を求めたところ55重量%であった。
エーテル)[PMVE]10gとPBTHF30gおよ
び重合開始剤として((CH3 )2 CHOCOO)2 の
20mgを、内容積100mlのステンレス製オートク
レーブに入れ、系内を3回窒素で置換した後、TFEを
加えて常圧からで5kgまでの加圧系にした。反応に伴
う圧力減少分だけTFEを補いながら40℃で6時間重
合を行った後、内容物をジクロロペンタフルオロプロパ
ン中に投入したところ沈殿物が得られた。この沈殿物
を、100℃で一昼夜真空乾燥したところ21gの重合
体(以下、重合体Gという)が得られた。IRスペクト
ルからPMVEとTFEのモル比は30:70であっ
た。
ルエーテル)[PPVE]15g、パーフルオロ(ブロ
モエチルビニルエーテル)[BrVE]1g、PBTH
F30gおよび重合開始剤として((CH3 )2 CHO
COO)2 の20mgを、内容積100mlのステンレ
ス製オートクレーブに入れ、系内を3回窒素で置換した
後、TFEを加えて常圧からで5kgまでの加圧系にし
た。反応に伴う圧力減少分だけTFEを補いながら40
℃で8時間重合を行った後、内容物をジクロロペンタフ
ルオロプロパン中に投入したところ沈殿物が得られた。
この沈殿物を、100℃で一昼夜真空乾燥したところ2
5gの重合体(以下重合体Hという)が得られた。IR
スペクトルからPPVEとTFEおよびBrVEのモル
比は27:70:3であった。
中に「数平均分子量が1000のCTFE低重合体(以
下、単にCTFE低重合体と略す)」を15重量%溶融
混合し、これをシート状に延ばして厚さが約2mmの重
合体混合物シートを得た。大塚電子製の光散乱光度計を
用いて波長633nmにおける光散乱強度を測定し、散
乱損失を求めたところ152dB/kmであった。な
お、このシートはPBTHFに可溶であった。また、重
合体C単独でシートを作成して散乱損失を測定したとこ
ろ35dB/kmであった。
トを作成する際に、冷却固化する前のこのシートに電子
線を50kGy照射した。比較例1と同様にして光散乱
損失を求めたところ75dB/kmに低減されていた。
このシートをPBTHFに溶かしたところ不溶部が多く
生成しており、架橋構造が認められた。
1.34の重合体Cを用いて外径16mm内径8mmの
中空管を作成した。この中心部に重合体CとCTFE低
重合体の混合物(屈折率1.36)を溶融注入してプリ
フォームを作成した。これを220℃、線引き速度10
m/分で加熱溶融延伸して、直径0.5mmの屈折率分
布型光ファイバを得た。
ろ780nmで300dB/km、1330nmで20
0dB/kmであった。
CTFE低重合体とからなる屈折率分布型光ファイバを
作成した。なお、この延伸の際に、加熱炉の直下に放射
線照射装置をセットしてファイバが延伸された直後のま
だ固化する前の状態で50kGy電子線照射を行った。
得られたファイバの光伝送損失をカットバック法により
測定したところ780nmで195dB/km、133
0nmで92dB/kmであり、電子線照射により伝送
損失が低減されていることがわかった。
状に成形して、比較例1と同様に光散乱損失を測定した
ところ波長633nmにおいて130dB/kmであっ
た。
る際に冷却固化する前に50kGyの電子線照射した
後、光散乱損失を測定したところ波長633nmにおい
て77dB/kmであり、電子線照射により伝送損失が
低減されていることがわかった。
鞘部になるように溶融押し出し機を用いて2層押し出し
を行い直径0.5mmの段階屈折率型光ファイバを作成
した。このときのノズル温度は250℃で押し出し速度
は6m/分であった。この光ファイバの伝送損失は78
0nmで350dB/km、1330nmで220dB
/kmであった。
型光ファイバを作成する際に、加熱炉の直下に電子線照
射装置をセットしてファイバが延伸された直後のまだ固
化する前の状態で電子線照射を行った。電子線量は50
kGyであった。この光ファイバの伝送損失は780n
mで210dB/km、1330nmで110dB/k
mであった。
中にCTFE低重合体を10重量%溶融混合し、これを
シート状に延ばして厚さが約2mmの重合体混合物シー
トを得た。大塚電子製の光散乱光度計を用いて波長63
3nmにおける光散乱強度を測定し、散乱損失を求めた
ところ115dB/kmであった。
トを作成する際に、冷却固化する前のこのシートに電子
線を50kGy照射した。比較例5と同様にして光散乱
損失を求めたところ57dB/kmに低減されていた。
このシートをPBTHFに溶かしたところ不溶部が多く
生成していた。
1.31の重合体Eを用いて外径16mm内径8mmの
中空管を作成した。この中心部に重合体EとCTFE低
重合体の混合物(屈折率1.34)を溶融注入してプリ
フォームを作成した。これを250℃、線引き速度10
m/分で加熱溶融延伸して、直径0.5mmの屈折率分
布型光ファイバを得た。
法により測定したところ780nmで470dB/k
m、1330nmで250dB/kmであった。
CTFE低重合体とからなる屈折率分布型光ファイバを
作成した。なお、この延伸の際に、加熱炉の直下に電子
線照射装置をセットしてファイバが延伸された直後のま
だ固化する前の状態で電子線を50kGy照射した。得
られたファイバの光伝送損失を測定したところ780n
mで210dB/km、1330nmで120dB/k
mであり、放射線照射により伝送損失が低減されている
ことがわかった。
中にCTFE低重合体を10重量%溶融混合し、これを
シート状に延ばして厚さが約2mmの重合体混合物シー
トを得た。大塚電子製の光散乱光度計を用いて波長63
3nmにおける光散乱強度を測定し、散乱損失を求めた
ところ175dB/kmであった。なお、重合体F単独
の散乱損失は45dB/kmであった。
トを作成する際に、冷却固化する前のこのシートに電子
線を50kGy照射した。比較例7と同様にして光散乱
損失を求めたところ57dB/kmに低減されていた。
このシートをPBTHFに溶かしたところ不溶部が多く
生成していた。
1.32の重合体Fを用いて外径16mm内径8mmの
中空管を作成した。この中心部に重合体FとCTFE低
重合体の混合物(屈折率1.35)を溶融注入してプリ
フォームを作成した。これを250℃、線引き速度10
m/分で加熱溶融延伸して、直径0.5mmの屈折率分
布型光ファイバを得た。この光ファイバの伝送損失をカ
ットバック法により測定したところ780nmで450
dB/km、1330nmで270dB/kmであっ
た。
CTFE低重合体とからなる屈折率分布型光ファイバを
作成した。なお、この延伸の際に、加熱炉の直下に電子
線照射装置をセットしてファイバが延伸された直後のま
だ固化する前の状態で電子線を50kGy照射した。得
られたファイバの光伝送損失を測定したところ780n
mで270dB/km、1330nmで195dB/k
mであり、電子線照射により伝送損失が低減されている
ことがわかった。
押出機により200℃で溶融押出して外径0.5mmの
ファイバを成形した。このれに重合体EとPBTHFか
らなる溶液を塗布し、溶媒を乾燥することにより外径
0.9mmの段階屈折率型光ファイバを作成した。この
光ファイバの伝送損失をカットバック法により測定した
ところ、波長1300nmにおいて1000dB/km
以上であった。
押出機により200℃で溶融押出して外径0.5mmの
ファイバを成形した。この際に、ファイバが冷却固化す
る前に電子線を50kGy照射した。このファイバを芯
材として、比較例9と同じ方法により重合体Eを鞘材と
して被覆して外径0.9mmの段階屈折率型光ファイバ
を作成した。この光ファイバの伝送損失をカットバック
法により測定したところ、波長780nmにおいて43
5dB/km、1300nmにおいて309dB/km
であった。
て押出機により200℃で溶融押出して外径0.5mm
のファイバを成形した。このれに重合体EとPBTHF
からなる溶液を塗布し、溶媒を乾燥することにより外径
0.9mmの段階屈折率型光ファイバを作成した。この
光ファイバの伝送損失をカットバック法により測定した
ところ、波長1300nmにおいて1000dB/km
以上であった。
て押出機により200℃で溶融押出して外径0.5mm
のファイバを成形した。この際に、ファイバが冷却固化
する前に電子線を50kGy照射した。このファイバを
芯材として、比較例10と同じ方法により重合体Eを鞘
材として被覆して外径0.9mmの段階屈折率型光ファ
イバを作成した。この光ファイバの伝送損失をカットバ
ック法により測定したところ、波長780nmにおいて
315dB/km、1300nmにおいて205dB/
kmであった。
減などの伝送特性が優れ、また自動車のエンジンルーム
などでの過酷な使用条件に耐える、耐熱性、耐薬品性、
耐湿性、不燃性を備える光伝送体などを与える。
Claims (8)
- 【請求項1】含フッ素重合体Aに溶融状態で放射線を照
射することにより得られる含フッ素重合体Bを含む光学
樹脂材料。 - 【請求項2】含フッ素重合体Aが実質的にC−H結合を
有しないものである請求項1の光学樹脂材料。 - 【請求項3】含フッ素重合体Aが非晶質の重合体である
請求項1または2の光学樹脂材料。 - 【請求項4】含フッ素重合体Aが、主鎖に環構造を有す
る含フッ素重合体である請求項1〜3のいずれかの光学
樹脂材料。 - 【請求項5】含フッ素重合体Aが結晶性の重合体である
請求項1の光学樹脂材料。 - 【請求項6】放射線の照射を酸素不存在下に行う請求項
1〜5のいずれかの光学樹脂材料。 - 【請求項7】放射線の照射量が0.1kGy〜10MG
yの範囲から選ばれる請求項1〜6のいずれかの光学樹
脂材料。 - 【請求項8】光学樹脂材料が光ファイバ製造用のプリフ
ォームまたは光ファイバである請求項1〜7のいずれか
の光学樹脂材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8135521A JPH09316265A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 光学樹脂材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8135521A JPH09316265A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 光学樹脂材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09316265A true JPH09316265A (ja) | 1997-12-09 |
Family
ID=15153718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8135521A Pending JPH09316265A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 光学樹脂材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09316265A (ja) |
-
1996
- 1996-05-29 JP JP8135521A patent/JPH09316265A/ja active Pending
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