JPH09311076A - Pyroelectric infrared detector - Google Patents

Pyroelectric infrared detector

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Publication number
JPH09311076A
JPH09311076A JP8151521A JP15152196A JPH09311076A JP H09311076 A JPH09311076 A JP H09311076A JP 8151521 A JP8151521 A JP 8151521A JP 15152196 A JP15152196 A JP 15152196A JP H09311076 A JPH09311076 A JP H09311076A
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JP
Japan
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pyroelectric
thin film
infrared
circuit board
container
Prior art date
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Pending
Application number
JP8151521A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazutaka Okamoto
一隆 岡本
Hideji Takada
秀次 高田
Koji Tominaga
浩二 富永
Koichi Matsumoto
浩一 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Horiba Ltd
Original Assignee
Horiba Ltd
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Publication date
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  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pyroelectric infrared detector of superior productivity. SOLUTION: A circuit board 17 is set in a container 1 having an infrared transmission window 4 at an upper part thereof. The circuit board 17 is spaced a predetermined distance from a stem 18 sealing a lower part of the container 1. A pyroelectric infrared thin film element 6 as an infrared detection element which has a pyroelectric thin film 9, an upper electrode 10 and a lower electrode 11 holding the thin film 9 therebetween is arranged on an upper face of the circuit board 17 so that an infrared detection part 12 faces the infrared transmission window 4. A high resistor 24 of a chip type and an FET 25 of a mold type are soldered to the circuit board 17.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、焦電型赤外線検
出器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pyroelectric infrared detector.

【0002】[0002]

【従来の技術】焦電型赤外線検出器は、人体検知や、ガ
ス分析、非接触温度計測などの分野において用いられて
いるが、容器内に組み込まれる赤外線を検出する検出素
子としての焦電体は、PZTやLiTiO3 、PVDF
などセラミックや単結晶、高分子フィルムが用いられ
る。これらの焦電体は、ブロックやシート状の母材をも
とにして、所望の焦電体ペレットとして、例えば、4m
m角×数10〜100μm厚程度の形状に加工され、電
極を形成して所定の赤外線検出素子としている。
2. Description of the Related Art Pyroelectric infrared detectors are used in the fields of human body detection, gas analysis, non-contact temperature measurement, etc., but a pyroelectric body as a detection element for detecting infrared rays incorporated in a container. Is PZT, LiTiO 3 , PVDF
Ceramics, single crystals, and polymer films are used. These pyroelectric materials are used as desired pyroelectric pellets, for example, 4 m based on a block or sheet-shaped base material.
It is processed into a shape of m square × several tens to 100 μm thick, and electrodes are formed to be a predetermined infrared detection element.

【0003】そして、焦電型赤外線検出器は、前記赤外
線検出素子のほかに、電気時定数を制御する高抵抗やイ
ンピーダンス変換用のFETを必要とするが、これらの
赤外線検出素子、高抵抗やFETを、容器内部に気密性
を維持しながら収容する必要がある。このため、従来に
おいては、TO−5(直径約8mm)の下方が開口した
金属製容器に収容し、この開口をステムによって封止す
るようにしていた。なお、TOとは、Transist
or Outlineの略称で、米国JEDECで標準
化されたパッケージ外形のうちでトランジスタに用いら
れるものである。
The pyroelectric infrared detector requires a high resistance for controlling an electric time constant and an FET for impedance conversion in addition to the infrared detection element. These infrared detection element, high resistance and It is necessary to store the FET inside the container while maintaining hermeticity. Therefore, conventionally, the TO-5 (diameter of about 8 mm) was housed in a metal container having an opening at the bottom, and the opening was sealed with a stem. Note that TO means Transist
It is an abbreviation for or Outline and is used for transistors in the package outline standardized by JEDEC in the United States.

【0004】近年、焦電型赤外線検出器の前記利用分野
においては、高速応答性や小型化が要求される一方、薄
膜技術の確立と相まって焦電体の薄膜化が普及しつつあ
る。すなわち、ブロックやシート状の母材を加工して焦
電体を形成するといった従来の方法に対して、CVD法
やスパッタリング法によって単結晶基板上に焦電体薄膜
を数μmの厚みで形成する技術である。例えば「マイク
ロ焦電赤外線センサの開発と応用製品」(照明学会研究
会資料:1996.2.16)という論文には、厚さ2
μm、100〜500μm角の超小型素子が紹介されて
いるように、MOCVD法(有機金属化学気相成長法)
などの薄膜形成法によって、数μm程度の厚みを有する
焦電体薄膜の製造が可能になってきている。
In recent years, in the field of application of the pyroelectric infrared detector, while high-speed response and miniaturization are required, thinning of the pyroelectric body is becoming popular along with establishment of thin film technology. That is, a pyroelectric thin film having a thickness of several μm is formed on a single crystal substrate by a CVD method or a sputtering method as opposed to a conventional method of forming a pyroelectric body by processing a block or sheet-shaped base material. It is a technology. For example, a paper entitled "Development of Micro Pyroelectric Infrared Sensors and Applied Products" (Lighting Society Research Group material: 1996.2.16) has a thickness of 2
MOCVD method (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), as introduced in ultra-small element of 100 μm and 100-500 μm square
It has become possible to manufacture a pyroelectric thin film having a thickness of about several μm by such a thin film forming method as described above.

【0005】ところで、前記焦電体薄膜に上部電極およ
び下部電極を設けた焦電型赤外線薄膜素子を赤外線検出
素子として用いた場合においては、小型化を目的とし
て、容器としてはTO−46やTO−18程度の形状の
ものに収納してもよいが、このような焦電型赤外線検出
器においても、赤外線検出素子のほかに、高抵抗やFE
Tを容器内に収容する必要がある。
By the way, when a pyroelectric infrared thin film element having an upper electrode and a lower electrode provided on the pyroelectric thin film is used as an infrared detecting element, the container is TO-46 or TO for the purpose of downsizing. Although it may be housed in a shape of about −18, in such a pyroelectric infrared detector, in addition to the infrared detection element, high resistance and FE are also included.
It is necessary to store T in the container.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記TO−
46やTO−18における各素子の配置の制約上、FE
Tとしてはベアチップと称されるモールドされてない小
型部品を採用しなければならないとともに、リードピン
と各部品との接続および部品相互における接続などをワ
イヤボンディングによらなければならなかったため、次
のような不具合があった。
However, the above-mentioned TO-
46 and TO-18 due to restrictions on the arrangement of each element, FE
As T, a small non-molded component called a bare chip must be adopted, and the connection between the lead pin and each component and the mutual connection between components must be performed by wire bonding. There was a problem.

【0007】すなわち、 ベアチップ部品のため、取扱いが困難である。 構成部品の電極が表面に露出している一方、この部
品を配置するステムは金属であるため、絶縁性の接着剤
を用いて部品を固定する必要がある。 前記部品の固定に際して、その位置決めにかなりの
苦労を伴う。 部品やリードピンどうしの接続にワイヤボンディン
グを用いるため、その生産設備が必要となる。 などである。
That is, since it is a bare chip part, it is difficult to handle. While the electrodes of the component are exposed on the surface, the stem on which this component is placed is metal, so it is necessary to fix the component with an insulating adhesive. When fixing the above-mentioned components, positioning thereof requires considerable effort. Since wire bonding is used to connect the parts and the lead pins, the production equipment is required. And so on.

【0008】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、生産性に優れた焦電型赤外線検
出器を提供することである。
The present invention has been made in view of the above matters, and an object thereof is to provide a pyroelectric infrared detector having excellent productivity.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の焦電型赤外線検出器は、赤外線透過窓を
上部に備えた容器内に、容器の下方を封止するためのス
テムから所定寸法だけ離れるようにして回路基板を設
け、この回路基板の上面に、赤外線検出素子として、焦
電体薄膜と、これを挟むようにして設けられる上部電極
および下部電極とを有する焦電型赤外線薄膜素子を、そ
の赤外線検出部が前記赤外線透過窓に臨むようにして設
けるとともに、前記回路基板にチップタイプの高抵抗お
よびモールドタイプのFETをはんだによって取り付け
た点に特徴がある。
In order to achieve the above object, the pyroelectric infrared detector of the present invention comprises a stem having an infrared transmitting window in an upper part, and a stem for sealing the lower part of the container. A circuit board is provided so as to be separated by a predetermined dimension, and a pyroelectric infrared thin film element having a pyroelectric thin film as an infrared detection element and an upper electrode and a lower electrode sandwiching the pyroelectric thin film on the upper surface of the circuit board. Is provided so that its infrared detecting portion faces the infrared transmitting window, and chip type high resistance and mold type FETs are attached to the circuit board by soldering.

【0010】この発明の焦電型赤外線検出器において
は、回路基板上に、赤外線検出素子として、焦電体薄膜
と、これを挟むようにして設けられる上部電極および下
部電極とを有する焦電型赤外線薄膜素子を設けるととも
に、前記回路基板にチップタイプの高抵抗およびモール
ドタイプのFETをはんだによって同時に取り付けるよ
うにしているので、はんだリフローなど公知の表面実装
技術(SurfaceMount Technolog
y:SMT)を利用して生産することができ、別途、ワ
イヤボンディングを行う必要がないから生産性が向上す
る。そして、高抵抗やFETなどの部品をはんだ付けに
よって回路基板に固定することができるので、セルフア
ライメントの効果により、それらの位置決めが容易であ
る。
In the pyroelectric infrared detector of the present invention, a pyroelectric infrared thin film having a pyroelectric thin film as an infrared detecting element and an upper electrode and a lower electrode sandwiching the pyroelectric thin film are provided on a circuit board. Since the element is provided and the chip type high resistance and the mold type FET are simultaneously attached to the circuit board by soldering, known surface mounting technology such as solder reflow (Surface Mount Technology) is used.
y: SMT), and productivity is improved because it is not necessary to separately perform wire bonding. Since components such as high resistance and FET can be fixed to the circuit board by soldering, the positioning of them is easy due to the effect of self-alignment.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、この発明の好ましい実施例
を、図を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0012】図1および図2は、この発明の一実施例を
示すものである。まず、図1(A),(B)は、この発
明の焦電型赤外線検出器の一例を示し、この図1
(A),(B)において、1は鉄やニッケルあるいはコ
バールなどの金属よりなる下部開放型の筒状の容器で、
その上面部2のほぼ中央には開口部3が形成されてい
る。4は開口部3を容器1の上方から閉塞するように設
けられた赤外線透過窓材で、詳細には図示してないが、
シリコン、ゲルマニウムなどの赤外線透過性材料よりな
る母材の両面に波長選択性多層膜を形成してなるもの
で、その外周側面のほぼ全体と開口部3の全周辺部と
を、例えば導電性接合材5を用いて上面部2の上方から
容器1に接合されている。
1 and 2 show an embodiment of the present invention. First, FIGS. 1A and 1B show an example of a pyroelectric infrared detector of the present invention.
In (A) and (B), 1 is a lower open type tubular container made of metal such as iron, nickel or Kovar,
An opening 3 is formed substantially in the center of the upper surface 2. Reference numeral 4 denotes an infrared transmitting window member provided so as to close the opening 3 from above the container 1, which is not shown in detail,
A wavelength-selective multilayer film is formed on both sides of a base material made of an infrared ray transmissive material such as silicon or germanium, and substantially the entire outer peripheral side surface and the entire peripheral portion of the opening 3 are electrically connected, for example. The material 5 is used to join the container 1 from above the upper surface 2.

【0013】6は容器1内に設けられる赤外線検出素子
としての焦電型赤外線薄膜素子である。この焦電型赤外
線薄膜素子6の構成について、図2を参照しながら説明
すると、この図2において、7はMgO(酸化マグネシ
ウム)よりなる単結晶基板で、その厚さは500μm程
度である。8はこの基板7の表層部にエッチングによっ
て形成される微小な凹部である。9は焦電体薄膜で、例
えばPZT系強誘電体薄膜またはPLZT系強誘電体薄
膜からなり、厚さ2μm程度である。この焦電体薄膜9
の上下両面には、例えばPt(白金)よりなる上部電極
10と下部電極11とが互いに対応するように設けられ
ている。これらの電極10,11の厚みは例えば0.2
μm程度である。なお、これら両電極10,11および
焦電体薄膜9が矢印A方向に見て互いに重なり合う部分
を赤外線検出部12というものとする。
Reference numeral 6 is a pyroelectric infrared thin film element as an infrared detecting element provided in the container 1. The structure of the pyroelectric infrared thin film element 6 will be described with reference to FIG. 2. In FIG. 2, 7 is a single crystal substrate made of MgO (magnesium oxide) and has a thickness of about 500 μm. Reference numeral 8 is a minute recess formed on the surface of the substrate 7 by etching. Reference numeral 9 denotes a pyroelectric thin film, which is made of, for example, a PZT-based ferroelectric thin film or a PLZT-based ferroelectric thin film, and has a thickness of about 2 μm. This pyroelectric thin film 9
An upper electrode 10 and a lower electrode 11 made of, for example, Pt (platinum) are provided on both upper and lower surfaces of the so as to correspond to each other. The thickness of these electrodes 10 and 11 is 0.2, for example.
It is about μm. The portion where the electrodes 10 and 11 and the pyroelectric thin film 9 overlap with each other when viewed in the direction of arrow A is referred to as an infrared detection unit 12.

【0014】13は赤外線検出部12における受光電極
としての上部電極10の上面を被覆するように設けられ
る赤外線吸収膜で、フォトリソグラフが可能な感光性有
機薄膜にカーボンブラックのような赤外線吸収材料を適
宜混入してなるものである。14は赤外線検出部12の
周辺に形成され、赤外線検出部12を基板7に対して保
持させる絶縁体薄膜で、ポリイミド系樹脂薄膜のような
有機絶縁体薄膜またはSiO2 薄膜のような無機絶縁体
薄膜よりなる。15,16は上部電極10、下部電極1
1にそれぞれ連なる上部引出し電極、下部引出し電極で
ある。
Reference numeral 13 denotes an infrared absorbing film provided so as to cover the upper surface of the upper electrode 10 as a light receiving electrode in the infrared detecting section 12, and a photosensitive organic thin film capable of photolithography is provided with an infrared absorbing material such as carbon black. It is appropriately mixed. Reference numeral 14 denotes an insulating thin film formed around the infrared detecting unit 12 for holding the infrared detecting unit 12 with respect to the substrate 7. The insulating thin film is an organic insulating thin film such as a polyimide resin thin film or an inorganic insulating film such as a SiO 2 thin film. It consists of a thin film. 15 and 16 are the upper electrode 10 and the lower electrode 1
One is an upper extraction electrode and the other is a lower extraction electrode.

【0015】上述の説明から理解されるように、この発
明で用いる焦電型赤外線薄膜素子6はきわめて薄く、1
mm以下の厚さであり、また、精々1mm角程度の大き
さである。なお、このような構成の焦電型赤外線薄膜素
子6の詳細な構造およびその製造方法については、別途
特許出願しているところである。
As can be understood from the above description, the pyroelectric infrared thin film element 6 used in the present invention is extremely thin.
The thickness is less than or equal to mm, and the size is at most about 1 mm square. It should be noted that the detailed structure of the pyroelectric infrared thin film element 6 having such a structure and the manufacturing method thereof are separately applied for a patent.

【0016】再び図1(A),(B)に戻り、上記焦電
型赤外線薄膜素子6は、その赤外線検出部12を赤外線
透過窓材4に臨むようにしてセラミックなどよりなる回
路基板17上に設けられている。この回路基板17は、
容器1の下方を封止するためのステム18の上面から所
定寸法だけ離れるようにして設けられている。すなわ
ち、19,20はステム18に設けられた貫通孔21を
経てケース1外に延設されるリードピンで、例えば円周
を4等分するように同心円状に配置され、例えば図1
(B)に示すように、二本のリードピン19はX−X方
向に、他の二本のリードピン20はX−X方向と直交す
るY−Y方向に配置されている。これらのリードピン1
9,20は互いに同径の細長い円柱形状であり、リード
ピン19がリードピン20に比較してやや長く形成され
ている。
Referring back to FIGS. 1A and 1B again, the pyroelectric infrared thin film element 6 is provided on the circuit board 17 made of ceramic or the like so that the infrared detecting portion 12 thereof faces the infrared transmitting window material 4. Has been. This circuit board 17
It is provided so as to be separated from the upper surface of the stem 18 for sealing the lower part of the container 1 by a predetermined dimension. That is, 19 and 20 are lead pins extending outside the case 1 through a through hole 21 provided in the stem 18, and are arranged concentrically so as to divide the circumference into four equal parts, for example, as shown in FIG.
As shown in (B), the two lead pins 19 are arranged in the XX direction, and the other two lead pins 20 are arranged in the YY direction orthogonal to the XX direction. These lead pins 1
9 and 20 are elongated cylindrical shapes having the same diameter as each other, and the lead pin 19 is formed slightly longer than the lead pin 20.

【0017】そして、一方のリードピン19は、その上
端部19aを回路基板17に開設された二つの貫通孔に
それぞれ挿入し、上端部19aが回路基板17の上面よ
り突出しないように設けられ、回路基板17の回路パタ
ーンとを接合するための例えばはんだなどの導電性接合
材22によって固定されている。これによって、回路基
板17は、X,Y二方向への位置が固定される。
The upper end 19a of one lead pin 19 is inserted into each of the two through holes formed in the circuit board 17 so that the upper end 19a does not project from the upper surface of the circuit board 17. It is fixed by a conductive bonding material 22 such as solder for bonding with the circuit pattern of the board 17. As a result, the position of the circuit board 17 in the X and Y directions is fixed.

【0018】また、他方のリードピン20は、その上端
面を回路基板17の下面に当接させており、適宜の接着
剤23によって固定されている。これによって、回路基
板17は、図1(A)に示すZ方向への位置が固定され
る。なお、接着剤23は、導電性接合材22と同じ材料
でもかまわない。
The upper end surface of the other lead pin 20 is brought into contact with the lower surface of the circuit board 17, and is fixed by an appropriate adhesive 23. As a result, the circuit board 17 is fixed in position in the Z direction shown in FIG. The adhesive 23 may be the same material as the conductive bonding material 22.

【0019】24は回路基板17の上面側に設けられ
る、出力回路の時定数を設定するためのチップタイプの
高抵抗であり、25は回路基板17の下面側に設けられ
るインピーダンス変換用のモールドタイプのFETであ
る。これらの高抵抗24およびFET25は、はんだリ
フローの技術など表面実装技術によって回路基板17に
取り付けられる。
Reference numeral 24 is a chip type high resistance provided on the upper surface side of the circuit board 17 for setting the time constant of the output circuit, and 25 is a mold type for impedance conversion provided on the lower surface side of the circuit board 17. FET. The high resistance 24 and the FET 25 are attached to the circuit board 17 by a surface mounting technique such as a solder reflow technique.

【0020】上述したように、この発明における焦電型
赤外線検出器においては、容器1内に容器1に対して外
部から挿入される複数のリードピン19,20の上端部
に回路基板17を設け、この回路基板17上に、赤外線
検出素子として、焦電体薄膜9と、これを挟むようにし
て設けられる上部電極10および下部電極11とを有す
る焦電型赤外線薄膜素子6を設けるとともに、回路基板
17の上面にチップタイプの高抵抗24を、下面にモー
ルドタイプのFET25をそれぞれはんだによって取り
付けるようにしているので、はんだリフローなど公知の
表面実装技術を利用して生産することができ、ワイヤボ
ンディングを多用する必要がないから生産性が向上す
る。
As described above, in the pyroelectric infrared detector according to the present invention, the circuit board 17 is provided in the container 1 at the upper ends of the plurality of lead pins 19 and 20 which are inserted into the container 1 from the outside. On this circuit board 17, a pyroelectric infrared thin film element 6 having a pyroelectric thin film 9 and an upper electrode 10 and a lower electrode 11 provided so as to sandwich the pyroelectric thin film 9 is provided as an infrared detecting element, and at the same time, Since the chip type high resistance 24 is mounted on the upper surface and the mold type FET 25 is mounted on the lower surface by soldering, respectively, it can be produced by using a known surface mounting technique such as solder reflow, and wire bonding is frequently used. Productivity is improved because there is no need.

【0021】そして、上述のように、高抵抗24やFE
T25などの部品をはんだ付けによって回路基板17に
固定することができるので、セルフアライメントの効果
により、それらの位置決めが容易である。
As described above, the high resistance 24 and the FE
Since components such as T25 can be fixed to the circuit board 17 by soldering, their positioning is easy due to the effect of self-alignment.

【0022】そして、この発明の焦電型赤外線検出器に
おいては、赤外線検出素子が焦電型赤外線薄膜素子6か
らなり、きわめて薄く小型であるとともに、高抵抗24
やFET25が小型でその取扱いが容易であり、しかも
回路基板17に対してコンパクトに取付けられるので、
焦電型赤外線検出器全体を小型なものとすることができ
る。
In the pyroelectric infrared detector of the present invention, the infrared detecting element is composed of the pyroelectric infrared thin film element 6, is extremely thin and compact, and has a high resistance 24.
Since the FET 25 and the FET 25 are small and easy to handle, and can be mounted compactly on the circuit board 17,
The entire pyroelectric infrared detector can be made compact.

【0023】なお、高抵抗24やFET25などの部品
の回路基板17への取付けは、上述の実施例に限られる
ものではなく、例えば高抵抗24やFET25を回路基
板17の下面に設けるなどしてもよく、要するにはんだ
を用いて取り付けるようにしてあればよい。
The attachment of the components such as the high resistance 24 and the FET 25 to the circuit board 17 is not limited to the above-described embodiment, and the high resistance 24 and the FET 25 are provided on the lower surface of the circuit board 17, for example. It suffices that the solder be attached using solder.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、高速応答性など性能に優れた焦電型赤外線検出器を
安価にしかも大量生産することができる。
As described above, according to the present invention, a pyroelectric infrared detector having excellent performance such as high-speed response can be mass-produced at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の焦電型赤外線検出器の一例を示し、
(A)は縦断面図、(B)は平面図である。
FIG. 1 shows an example of a pyroelectric infrared detector of the present invention,
(A) is a longitudinal sectional view, (B) is a plan view.

【図2】前記焦電型赤外線検出器に組み込まれる焦電型
赤外線薄膜素子の一例を示す縦面図である。
FIG. 2 is a vertical view showing an example of a pyroelectric infrared thin film element incorporated in the pyroelectric infrared detector.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…容器、4…赤外線透過窓、6…焦電型赤外線薄膜素
子、9…焦電体薄膜、10…上部電極、11…上部電
極、12…赤外線検出部、17…回路基板、18…ステ
ム、24…高抵抗、25…FET。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Container, 4 ... Infrared transmitting window, 6 ... Pyroelectric infrared thin film element, 9 ... Pyroelectric thin film, 10 ... Upper electrode, 11 ... Upper electrode, 12 ... Infrared detector, 17 ... Circuit board, 18 ... Stem , 24 ... High resistance, 25 ... FET.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松本 浩一 京都府京都市南区吉祥院宮の東町2番地 株式会社堀場製作所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Koichi Matsumoto 2 Higashimachi, Kichijoin Miya, Minami-ku, Kyoto-shi, Kyoto

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 赤外線透過窓を上部に備えた容器内に、
容器の下方を封止するためのステムから所定寸法だけ離
れるようにして回路基板を設け、この回路基板の上面
に、焦電体薄膜と、これを挟むようにして設けられる上
部電極および下部電極とを有する焦電型赤外線薄膜素子
を、その赤外線検出部が前記赤外線透過窓に臨むように
して設けるとともに、前記回路基板にチップタイプの高
抵抗およびモールドタイプのFETをはんだによって取
り付けたことを特徴とする焦電型赤外線検出器。
1. A container provided with an infrared transmitting window at the top,
A circuit board is provided apart from the stem for sealing the lower part of the container by a predetermined dimension, and a pyroelectric thin film and an upper electrode and a lower electrode provided so as to sandwich the pyroelectric thin film are provided on the upper surface of the circuit board. The pyroelectric infrared thin film element is provided so that its infrared detecting portion faces the infrared transmitting window, and a chip type high resistance and a mold type FET are attached to the circuit board by soldering. Infrared detector.
【請求項2】 回路基板の上面に高抵抗を、下面にFE
Tを配置した請求項1に記載の焦電型赤外線検出器。
2. A high resistance is provided on the upper surface of the circuit board, and FE is provided on the lower surface.
The pyroelectric infrared detector according to claim 1, wherein T is arranged.
【請求項3】 容器の内径が5mm以下である請求項1
または2に記載の焦電型赤外線検出器。
3. The inner diameter of the container is 5 mm or less.
Alternatively, the pyroelectric infrared detector described in 2.
JP8151521A 1996-05-23 1996-05-23 Pyroelectric infrared detector Pending JPH09311076A (en)

Priority Applications (1)

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JP8151521A JPH09311076A (en) 1996-05-23 1996-05-23 Pyroelectric infrared detector

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007225456A (en) * 2006-02-23 2007-09-06 Matsushita Electric Works Ltd Infrared detector
JP2010145344A (en) * 2008-12-22 2010-07-01 Nippon Ceramic Co Ltd Downsized thermopile infrared detector

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