JPH0930936A - 毛髪化粧料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 疎水基を有する水溶性多糖類であって、
該水溶性多糖類を２重量％含有する１０重量％エタノー
ル水溶液の粘度が、２５℃、３０rpm の条件下において
１〜３０cPである水溶性多糖類を含有する毛髪化粧料。 【効果】 起泡性及びセット性に優れ、べたつかず、感
触も良好である。特にノンエアゾールヘアフォーム、エ
アゾールヘアフォームとして好適である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、起泡性に優れ、べ
たつきがなく良好な感触で、しかもセット性に優れた毛
髪化粧料に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ヘアスタイルを作り易くしたり、
ヘアスタイルを長持ちさせる目的で、セットローショ
ン、ヘアスプレー、ヘアミスト、ノンエアゾールヘアフ
ォーム、エアゾールヘアフォーム、ヘアブロー等の種々
の毛髪化粧料が使用されている。これらの毛髪化粧料
は、毛髪固定用の皮膜形成性ポリマーを水、低級アルコ
ール、水−低級アルコールの混合溶媒等の適当な溶媒に
溶解させることにより製造されている。

【０００３】これらのうち、ポンプフォーマー、スクイ
ズフォーマー等を用いたノンエアゾールヘアフォームと
する場合には、気泡を発生させるために、皮膜形成性ポ
リマーとともに、起泡剤として多量の界面活性剤を配合
する必要がある。しかしながら、多量の界面活性剤を配
合すると、べたつきが生じて感触が悪くなり、またセッ
ト性も低下してしまうという問題がある。

【０００４】このため、界面活性剤の配合量を減らし、
起泡助剤として造膜性・起泡性ポリマーを配合する試み
がなされている。しかしながら、従来用いられている造
膜性・起泡性ポリマーは高粘度のものであるため、これ
を配合すると、組成物の粘度が高くなり、泡質が悪くな
ったり、また配合量も制限されるため、充分なセット性
も得られないという問題があった。また、粘度を低くお
さえるために、造膜性・起泡性ポリマーの配合量を減ら
しても、感触や泡質は改善されるものの、造膜効果が不
足し、セット性は向上しない。

【０００５】一方、エアゾールフォームとする場合に
は、高粘度の造膜性ポリマーを配合すると、低温で増
粘、ゲル化してしまい、噴射剤の分散性が悪くなり噴射
不良の原因になる。また、界面活性剤を多量に配合する
と、感触が悪くなるという問題もある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、起泡性に優れ、べたつきがなく良好な感触を有し、
しかもセット性に優れた毛髪化粧料を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、疎水基を有し特定の
粘度を示す水溶性多糖類を用いれば、起泡性に優れ、感
触が良好で、しかもセット性に優れた毛髪化粧料が得ら
れることを見出し、本発明を完成した。

【０００８】すなわち、本発明は、疎水基を有する水溶
性多糖類であって、該水溶性多糖類を２重量％含有する
１０重量％エタノール水溶液の粘度が、２５℃、３０rp
m の条件下において１〜３０cPである水溶性多糖類を含
有することを特徴とする毛髪化粧料を提供するものであ
る。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明で用いられる水溶性多糖類
は、疎水基を有するものであり、多糖類又はその親水性
誘導体に疎水基が導入されたものである。ここで、多糖
類としては、天然又は半合成のいずれでも良く、例えば
グアガム、セルロース、プルラン、キチン、キトサン、
カラギーナン、キサンタンガム、ローカストビーンガ
ム、さらにこれらの親水性誘導体、例えばヒドロキシエ
チル化セルロース、カルボキシメチル化セルロース、ヒ
ドロキシプロピル化セルロース、カルボキシメチル化キ
トサン、サクシニル化カルボキシメチルキトサン、カチ
オン化ヒドロキシエチルセルロース、カチオン化グアガ
ム等が挙げられる。ここで、親水性誘導体とは多糖類を
化学的に修飾又は加水分解等したものであって、水に溶
解又は分散可能なものをいう。これらのうち、特にグア
ガム、ヒドロキシエチル化セルロース、プルラン、カル
ボキシメチル化キトサンが好ましい。

【００１０】また、このような多糖類に導入される疎水
基としては、多糖類に導入することにより起泡性を付与
するものであれば特に制限されないが、例えば炭素数２
〜３０の直鎖もしくは分岐鎖の飽和もしくは不飽和の炭
化水素基、又は式（１）〜（３）

【００１１】

【化２】

【００１２】（式中、Ｒは炭素数２〜３０の直鎖又は分
岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲ
ン原子を示す）で表わされる基等が挙げられる。

【００１３】ここで、炭素数２〜３０の直鎖又は分岐鎖
の飽和又は不飽和の炭化水素基としては、炭素数２〜３
０のアルキル基、アルケニル基等が挙げられ、例えばエ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル
基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ヘ
ンエイコシル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコ
シル基、ペンタコシル基、ヘキサコシル基、ヘプタコシ
ル基、オクタコシル基、ノナコシル基、エテニル基、プ
ロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル
基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニ
ル基、ドデセニル基、ウンデセニル基、トリデセニル
基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセ
ニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデ
セニル基、エイコセニル基、ヘンエイコセニル基、ドコ
セニル基、トリコセニル基、テトラコセニル基、ペンタ
コセニル基、ヘキサコセニル基、ヘプタコセニル基、オ
クタコセニル基、ノナコセニル基、メチルヘキシル基、
エチルヘキシル基、メチルヘプチル基、エチルヘプチル
基、メチルノニル基、メチルウンデセニル基、メチルヘ
プタデカニル基、ヘキシルデシル基、オクチルデシル基
等が挙げられる。これらのうち、炭素数８〜１６のもの
が好ましい。また、ハロゲン原子としては、塩素原子、
臭素原子等が挙げられる。

【００１４】これらの疎水基のうち、特に式（３）で表
わされる基が好ましく、さらに式（３）中のＲが炭素数
８〜１６の直鎖又は分岐鎖の飽和炭化水素基のものが好
ましい。

【００１５】多糖類にこのような疎水基を導入するに
は、例えば多糖類の溶液又はスラリーに、水酸化ナトリ
ウム水溶液等のアルカリを加えて混合した後、アルキル
カチオン化剤等を加えて反応させればよく、更に反応終
了後、塩酸等の酸で中和し、次いで洗浄、乾燥すること
により、疎水基を有する水溶性多糖類を得ることができ
る。ここで、多糖類の溶液又はスラリーに用いる溶媒と
しては、水、アセトン等が挙げられ、アルキルカチオン
化剤としては、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルジ
メチルアルキル（Ｃ₂〜Ｃ₃₀）クロリド等が挙げられ
る。

【００１６】疎水基を有する水溶性多糖類としては、特
に式（３）で表わされる基を導入したグアガム、ヒドロ
キシエチル化セルロース、プルラン又はカルボキシメチ
ル化キトサンが好ましい。

【００１７】疎水基を有する水溶性多糖類は、該水溶性
多糖類を２重量％含有する１０重量％エタノール水溶液
の粘度が、２５℃、３０rpm の条件下において、東京計
器社製、ＢＭ／ＢＬ型粘度計で、ローターとしてＢＬア
ダプターを用いて測定したとき、１〜３０cPであること
が必要であり、１〜１５cP、特に１〜５cpであるのが好
ましい。この粘度が３０cPを超えるものでは、毛髪化粧
料の粘度が高くなりすぎ、優れた起泡性、泡質、感触及
びセット性を得ることはできない。

【００１８】また、水溶性多糖類における疎水基導入率
は、多糖類の無水グルコース繰り返し単位又は構成単糖
１モルあたり０．００１〜０．５モルであるのが好まし
く、特に０．０１〜０．２モルが好ましい。また、疎水
基が窒素原子を含有する化合物である場合には、水溶性
多糖類全重量に占める窒素原子の割合が０．０５〜０．
５重量％、特に０．１〜０．４重量％であるのが好まし
い。

【００１９】さらに、疎水基を有する水溶性多糖類の平
均分子量は、５，０００〜２５０，０００、特に１０，
０００〜１００，０００であるのが好ましい。

【００２０】本発明の毛髪化粧料において、疎水基を有
する水溶性多糖類は、１種又は２種以上を組合わせて用
いることができ、全組成中に１〜１０重量％配合するの
が好ましく、特に１〜５重量％、さらに２〜４重量％配
合すると、起泡性及びセット性に優れ、べたつきやごわ
つきがなく、自然な感触にセットできるので好ましい。

【００２１】本発明の毛髪化粧料には、さらに皮膜形成
性ポリマーを配合することができ、セット性をより向上
させることができるので好ましい。ここで、皮膜形成性
ポリマーとしては、通常の毛髪化粧料に用いられ、毛髪
に付着して皮膜を形成し得るものであれば特に制限され
ず、両性ポリマー、アニオンポリマー、カチオンポリマ
ー、ノニオンポリマーのいずれでも良く、さらに水溶性
合成高分子を使用することもできる。

【００２２】具体的には、両性ポリマーとしては、例え
ばユカフォーマーＡＭ−７５、ＡＭ７５Ｓ／ＳＭ（以
上、三菱化学社製）等のジアルキルアミノエチルメタク
リレート／メタクリル酸アルキルエステル共重合体のモ
ノクロル酢酸両性化物；アンフォマー２８−４９１０、
ＬＶ−７１（以上、ナショナル・スターチ社製）等のア
クリル酸ヒドロキシプロピル／メタクリル酸ブチルアミ
ノエチル／アクリル酸オクチルアミド共重合体などが挙
げられる。

【００２３】アニオンポリマーとしては、例えばガント
レッツＥＳ−２２５、ＥＳ−４２５、ＳＰ−２１５（以
上、ＩＳＰ社製）等のメチルビニルエーテル／無水マレ
イン酸アルキルハーフエステル共重合体；レジン２８−
１３１０（ナショナル・スターチ社製）、ルビセットＣ
Ａ６６（ＢＡＳＦ社製）等の酢酸ビニル／クロトン酸共
重合体；レジン２８−２９３０（ナショナル・スターチ
社製）等の酢酸ビニル／クロトン酸／ネオデカン酸ビニ
ル共重合体；ルビセットＣＡＰ（ＢＡＳＦ社製）等の酢
酸ビニル／クロトン酸／プロピオン酸ビニル共重合体；
ＡＤＶＡＮＴＡＧＥ ＣＰ（ＩＳＰ社製）等の酢酸ビニ
ル／マレイン酸モノブチルエステル／イソボロニルアク
リレート共重合体；プラスサイズＬ５３Ｐ（互応化学社
製）、ダイヤホールド（三菱化学社製）等の（メタ）ア
クリル酸／（メタ）アクリル酸エステル共重合体；ウル
トラホールド８、ウルトラホールド・ストロング（以
上、ＢＡＳＦ社製）、アンフォマーＶ−４２（ナショナ
ル・スターチ社製）等のアクリル酸／アクリル酸アルキ
ルエステル／アルキルアクリルアミド共重合体；ルビフ
レックスＶＢＭ３５（ＢＡＳＦ社製）等のポリビニルピ
ロリドン／アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体
などが挙げられる。

【００２４】カチオンポリマーとしては、例えばルビカ
ットＦＣ３７０、ＦＣ５５０、ＦＣ９０５、ＨＭ５５
２、ＭｏｎｏＣＰ（以上、ＢＡＳＦ社製）等のビニルイ
ミダゾリウムトリクロライド／ビニルピロリドン共重合
体；セルカットＨ−１００（粘度１０００cps ）、Ｌ−
２００（粘度１００cps ）（以上、ナショナル・スター
チ社製）等のヒドロキシエチルセルロース／ジメチルジ
アリルアンモニウムクロリド；ガフカット７３４、７５
５Ｎ、７５５（以上、ＩＳＰ社製）等のビニルピロリド
ン／四級化ジメチルアミノエチルメタクリレート共重合
体；ルビフレックス（ＢＡＳＦ社製）、コポリマー８４
５、９３７、９５８（以上、ＩＳＰ社製）等のポリビニ
ルピロリドン／アルキルアミノアクリレート共重合体；
コポリマーＶＣ−７１３（ＩＳＰ社製）等のポリビニル
ピロリドン／アルキルアミノアクリレート／ビニルカプ
ロラクタム共重合体；マーコート１００（メルク社製）
等のポリジメチルアリルアンモニウムクロリド；マーコ
ート５５０、Ｓ、２２００、プラス（以上、メルク社
製）等のジメチルアリルアンモニウムクロリド／アクリ
ルアミド共重合体；ガフカット ＨＳ−１００（ＩＳＰ
社製）等のビニルピロリドン／メタクリルアミドプロピ
ル塩化トリメチルアンモニウム共重合体；特開平２−１
８０９１１号公報に記載の水溶性高分子化合物等のアル
キルアクリルアミド／アクリレート／アルキルアミノア
ルキルアクリルアミド／ポリエチレングリコールメタク
リレート共重合体などが挙げられる。

【００２５】ノニオンポリマーとしては、例えばルビス
コールＫ１２、１７、３０、６０、８０、９０（以上、
ＢＡＳＦ社製）、ＰＶＰ Ｋ１５、３０、６０、９０
（以上、ＩＳＰ社製）等のポリビニルピロリドン；ルビ
スコールＶＡ２８、３７、５５、６４、７３、ＶＡ３７
Ｅ（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＰＶＰ／ＶＡ Ｅ−７３
５、Ｅ−６３５、Ｅ−５３５、Ｅ−３３５、Ｓ−６３
０、Ｗ−７３５（以上、ＩＳＰ社製）等のポリビニルピ
ロリドン／酢酸ビニル共重合体；ルビスコールＶＡＰ３
４３（ＢＡＳＦ社製）等のポリビニルピロリドン／酢酸
ビニル／プロピオン酸ビニル三元共重合体；Ｄｏｗｌｅ
ｘ（ダウ・ケミカル社製）等の酢酸ビニル／Ｎ−ビニル
−５−メチル−２−オキサゾリン共重合体などが挙げら
れる。

【００２６】また、半合成の水溶性高分子化合物を用い
ることもでき、かかる半合成の水溶性高分子化合物とし
ては、例えばカルボキシメチルデンプン、メチルヒドロ
キシプロピルデンプン等のデンプン系高分子化合物；メ
チルセルロース、ニトロセルロース、エチルセルロー
ス、メチルヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、セルロース硫酸ナトリウム、ヒドロ
キシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース
ナトリウム（ＣＭＣ）、結晶セルロース、セルロース末
等のセルロース系高分子化合物；アルギン酸ナトリウ
ム、アルギン酸プロピレングリコールエステル等のアル
ギン酸系高分子化合物などが挙げられる。

【００２７】これらの皮膜形成性ポリマーのうち、両性
ポリマー、カチオンポリマーが好ましく、特に両性ポリ
マーとして、ジアルキルアミノエチルメタクリレート／
メタクリル酸アルキルエステル共重合体のモノクロル酢
酸両性化物；カチオンポリマーとして、ヒドロキシエチ
ルセルロース／ジメチルジアリルアンモニウムクロリ
ド、ビニルピロリドン／四級化ジメチルアミノエチルメ
タクリレート共重合体が、よりごわつきやべたつきが少
なく好ましい。

【００２８】皮膜形成性ポリマーは、１種又は２種以上
を組合わせて用いることができ、全組成中に固形分とし
て１〜１５重量％、特に２〜８重量％配合するのが好ま
しい。

【００２９】また、本発明の毛髪化粧料には、さらに油
剤を配合することができ、すべり感がより向上し、しっ
とり感、やわらかい感触を付与することができるので好
ましい。ここで、油剤としては、通常の毛髪化粧料に用
いられるものであれば特に制限されず、例えば流動パラ
フィン、パラフィン、ワセリン、セレシン、マイクロク
リスタリンワックス、スクワラン、軽質イソパラフィン
等の直鎖又は分岐鎖状の炭化水素類；アルキル基又はア
ルケニル基を有する長鎖アミドアミン、硬化ヒマシ油、
カカオ油、ミンク油又はオリーブ油等のグリセライド
類；カルナウバロウ、キャンデリラロウ、ホホバ油、ミ
ツロウ、ラノリン等のロウ類；セチルアルコール、ステ
アリルアルコール、イソステアリルアルコール、２−オ
クチルドデカノール、オレイルアルコール、ヘキサデシ
ルアルコール等の高級アルコール；ベヘン酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソ
ステアリン酸、１８−メチルエイコサン酸、ヤシ油脂肪
酸等の高級脂肪酸及びこれらの高級脂肪酸と１価アルコ
ールとのエステル類；ジメチルポリシロキサン、メチル
フェニルポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコー
ン、アミノ変性シリコーン、アルキル変性シリコーン等
のシリコーン油及びシリコーン誘導体などが挙げられ
る。

【００３０】これらの油剤は、１種又は２種以上を組合
わせて用いることができ、全組成中に０．０１〜１０重
量％、特に０．５〜５重量％配合するのが好ましい。

【００３１】本発明の毛髪化粧料には、その他通常の毛
髪化粧料に用いられる成分、例えばプロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、グリセリン、エタノー
ル等のアルコール類；メチルパラベン、エチルパラベン
等のパラベン類；その他界面活性剤、保湿剤、薬剤、紫
外線吸収剤、防腐剤、酸化防止剤、顔料、分散剤、金属
イオン封鎖剤、低級アルコール、生薬抽出物、ムコ多糖
類、アミノ酸類、蛋白質類、色素、香料などを、本発明
の効果を損わない範囲で適宜配合することができる。

【００３２】本発明の毛髪化粧料は、通常の方法に従っ
て製造することができる。また、ノンエアゾール、エア
ゾールのいずれの形態にもすることができ、ヘアフォー
ム、ヘアジェル、ヘアスプレー、セットローション、ヘ
アクリーム、ポンプミスト等の剤型とすることができ
る。これらのうち、特にノンエアゾールヘアフォーム、
エアゾールヘアフォームとするのが好ましい。

【００３３】ノンエアゾールヘアフォームとする場合に
は、疎水基を有する水溶性多糖類を含有する組成物を、
ポンプフォーマー、スクイズフォーマー、エアスプレー
システム等のフォーマー容器に充填すればよい。具体的
には、例えば食品と容器（１９９４ ＶＯＬ．３５ Ｎ
ｏ．１０及び１９９５ ＶＯＬ．３６ Ｎｏ．３）記載
のポンプフォーマーＥ３タイプ、Ｆ２タイプ（以上、大
和製罐社製）、スクイズフォーマー（大和製罐社製）、
エアスプレーフォーマー（エアスプレーインターナショ
ナル社製）等を使用することができる。

【００３４】また、エアゾールヘアフォームとする場合
には、疎水基を有する水溶性多糖類を含有する組成物
を、噴射剤とともに耐圧密閉容器に封入すればよい。こ
こで用いられる噴射剤としては、通常用いられる液化ガ
ス、圧縮ガス等であればよく、具体的にはジメチルエー
テル、液化石油ガス、窒素ガス、炭酸ガス等が挙げられ
る。これらの噴射剤は、液化ガスの場合、全組成中に３
〜３０重量％、特に５〜２０重量％配合するのが好まし
く、圧縮ガスの場合、全組成中に０．１〜１０重量％、
特に０．３〜５重量％配合するのが好ましい。

【００３５】

【発明の効果】本発明の毛髪化粧料は、起泡性に優れ、
起泡剤として界面活性剤を配合しなくとも良好な泡質の
泡が得られ、べたつきがなくすべりが良く、良好な感触
を有する。さらに、ごわつきがなく自然な仕上がりが得
られ、しかもセット性に優れたものである。特にノンエ
アゾールヘアフォーム、エアゾールヘアフォーム等とし
て好適である。

【００３６】

【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をさらに説明す
る。

【００３７】合成例１ コンデンサー付きのフラスコに、イオン交換水２４０
ｇ、アセトン６０ｇ及びグアガム（ファイバロンＳ：大
日本製薬工業社製、平均分子量2 ７，０００）４０ｇを
入れて溶解させた後、２６．２重量％水酸化ナトリウム
水溶液４０．６ｇを加え、６０℃まで昇温し、３０分間
混合した。さらに、４７．１重量％３−クロロ−２−ヒ
ドロキシプロピルジメチルラウリルアンモニウムクロリ
ド水溶液３８２．２ｇを添加し、６０℃で４時間反応さ
せた。反応終了後、３６％濃塩酸１１．３ｇで中和した
後、アセトンで再沈澱を数回行い洗浄、乾燥して、疎水
基導入グアガムを得た。得られたグアガム誘導体を２重
量％含有する１０重量％エタノール水溶液の粘度は、２
５℃、３０rpm の条件下において２．６cPであった。ま
た、グアガム誘導体の疎水基導入率は、無水グルコース
繰り返し単位１モルあたり０．０４モルであり、平均分
子量は２７，０００であった。

【００３８】合成例２ 溶媒としてイオン交換水３００ｇ、水酸化ナトリウム水
溶液２７．１ｇ及び３−クロロ−２−ヒドロキシプロピ
ルジメチルラウリルアンモニウムクロリド水溶液９５．
９ｇを用いる以外は合成例１と同様にして、疎水基導入
グアガムを製造した。得られたグアガム誘導体を２重量
％含有する１０重量％エタノール水溶液の粘度は、２５
℃、３０rpm の条件下において３．２cPであった。ま
た、グアガム誘導体の疎水基導入率は、無水グルコース
繰り返し単位１モルあたり０．１３モルであり、平均分
子量は２７，０００であった。

【００３９】合成例３ 溶媒としてアセトン３００ｇ、ヒドロキシエチル化セル
ロース（ＱＰ−０９Ｌ：ユニオンカーバイド社製、平均
分子量１０，０００）４０ｇ、水酸化ナトリウム水溶液
２７．１ｇ、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルジメ
チルラウリルアンモニウムクロリド水溶液９５．９ｇを
用いる以外は合成例１と同様にして、疎水基導入セルロ
ースを製造した。得られたセルロース誘導体を２重量％
含有する１０重量％エタノール水溶液の粘度は、２５
℃、３０rpm の条件下において５．７cPであった。ま
た、セルロース誘導体の疎水基導入率は、無水グルコー
ス繰り返し単位１モルあたり０．０５モルであり、平均
分子量は１００，０００であった。

【００４０】合成例４ 溶媒としてイオン交換水３００ｇ、プルラン（ＰＦ−１
０：林原社製、平均分子量１００，０００）４０ｇ、水
酸化ナトリウム水溶液３．４ｇ、３−クロロ−２−ヒド
ロキシプロピルジメチルラウリルアンモニウムクロリド
水溶液１１９．９ｇを用いる以外は合成例１と同様にし
て、疎水基導入プルランを製造した。得られたプルラン
誘導体を２重量％含有する１０重量％エタノール水溶液
の粘度は、２５℃、３０rpm の条件下において３．０cP
であった。また、プルラン誘導体の疎水基導入率は、無
水グルコース繰り返し単位１モルあたり０．０３モルで
あり、平均分子量は１００，０００であった。

【００４１】合成例５ 溶媒としてイオン交換水１５０ｇ及びアセトン１５０
ｇ、グアガム（グアパックＰＦ−２０：大日本製薬工業
社製、平均分子量２００，０００）４０ｇ、水酸化ナト
リウム水溶液２７．１ｇ、３−クロロ−２−ヒドロキシ
プロピルジメチルラウリルアンモニウムクロリド水溶液
９５．９ｇを用いる以外は合成例１と同様にして、疎水
基導入グアガムを製造した。得られたグアガム誘導体を
２重量％含有する１０重量％エタノール水溶液の粘度
は、２５℃、３０rpm の条件下において４５０cpであっ
た。また、グアガム誘導体の疎水基導入率は、無水グル
コース繰り返し単位１モルあたり０．１２モルであり、
平均分子量は２００，０００であった。

【００４２】合成例６ 溶媒としてイオン交換水１００ｇ及びイソプロピルアル
コール２００ｇ、キサンタンガム（エコーガム：大日本
製薬工業社製、平均分子量２，０００，０００）４０
ｇ、水酸化ナトリウム水溶液２７．１ｇ、３−クロロ−
２−ヒドロキシプロピルジメチルラウリルアンモニウム
クロリド水溶液９５．９ｇを用いる以外は合成例１と同
様にして、疎水基導入キサンタンガムを製造した。得ら
れたキサンタンガム誘導体を２重量％含有する１０重量
％エタノール水溶液の粘度は、２５℃、３０rpm の条件
下において２２６０cPであった。また、キサンタンガム
誘導体の疎水基導入率は、無水グルコース繰り返し単位
１モルあたり０．１４モルであり、平均分子量は２，０
００，０００であった。

【００４３】実施例１ 表１に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造し、その
起泡性、感触及びセット性を評価した。結果を表１に示
す。

【００４４】（評価方法） （１）起泡性：組成物を市販のポンプフォーマー（ポン
プフォーマーＥ３モデル：大和製罐社製）に充填し、こ
れから泡を吐出させたときの起泡性について、パネラー
により、以下の基準に従って官能評価を行った。また、
組成物とＬＰＧを９０／１０の割合で耐圧容器に充填
し、これから泡を噴射させ、同様に起泡性を評価した。 ○：きめ細かく均一な泡。 △：やや均一な泡。 ×：不均一で液状に近い泡。

【００４５】（２）感触：パネラーにより、毛髪化粧料
を使用してセットしたときの感触について、以下の基準
に従って官能評価を行った。 ◎：べたつきがなく、すべりが非常に良く、ごわつきの
ない自然な仕上がり。 ○：べたつきがなく、すべりが良い。 △：ややべたつく。 ×：べたつく。

【００４６】（３）セット性：長さ１８cm、重さ１．５
ｇの毛束を水でぬらし、各毛髪化粧料をそれぞれ塗布
し、ロッド（２cmφ）に巻いて自然乾燥させた後、カー
ルのついた毛束からロッドをはずした。これを、恒温恒
湿箱（２０℃，９８％ＲＨ）に３０分つるし、カールの
伸びを観察し、セット保持力を判定した。判定は、未塗
布の毛髪のロッドをはずし、恒温恒湿箱で２４時間（平
衡状態まで）放置した毛髪の長さを保持力０％とし、以
下の基準で評価して行った。 ◎：セット保持力８１％以上。 ○：セット保持力６１〜８０％。 △：セット保持力２１〜６０％。 ×：セット保持力０〜２０％。

【００４７】

【表１】

【００４８】実施例２ 表２〜表３に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造
し、その起泡性、感触及びセット性を実施例１と同様に
して評価した。結果を表２〜表３に示す。

【００４９】

【表２】

【００５０】

【表３】

【００５１】実施例３ 表４に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造し、低温
保存における震盪時の噴射剤分散性及び低温での噴射状
態を評価した。結果を表４に示す。

【００５２】（評価方法） （１）噴射剤分散性：組成物とＬＰＧを９０／１０の割
合で透明容器に充填し、これを５℃で保存した後、容器
を震盪させた時のガスの分散状態を観察し、以下の基準
で評価した。 ○：軽く震盪すると、噴射剤が容易に分散する。 △：１０往復の震盪で、噴射剤が分散する。 ×：１０往復の震盪で、噴射剤が分散しない。

【００５３】（２）噴射状態：組成物とＬＰＧを９０／
１０の割合で耐圧容器に充填し、これを５℃で保存した
後、容器から泡を噴射させたときの泡質について、パネ
ラーにより、以下の基準に従って官能評価を行った。ま
た、組成物を市販のポンプフォーマー（ポンプフォーマ
ーＥ３モデル：大和製罐社製）に充填し、これから泡を
吐出させ、同様に泡質を評価した。 ○：噴射又は吐出がスムーズであり、泡質が均一で良
好。 △：噴射又は吐出がやや不良であり、泡質がやや不均
一。 ×：噴射又は吐出が不良であり、泡質が不均一。

【００５４】

【表４】

【００５５】実施例５ 次に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造した。得ら
れた組成物をポンプフォーマー（ポンプフォーマーＥ３
モデル：大和製罐社製）に充填し、泡を吐出させたとこ
ろ、起泡性及び泡質が良好で、毛髪に塗布し易いもので
あった。また、べたつきがなくすべりが良く、使用感に
優れ、セット性も良好であった。

【００５６】

【表５】 （成分） （重量％） グアガム誘導体（合成例２） ２．０ カチオン界面活性剤 ０．２ エタノール １０．０ 水 残量 １００．０

【００５７】実施例６ 次に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造した。得ら
れた組成物をポンプフォーマー（ポンプフォーマーＥ３
モデル：大和製罐社製）に充填し、泡を吐出させたとこ
ろ、起泡性及び泡質が良好で、毛髪に塗布し易いもので
あった。また、べたつきがなくすべりが良く、使用感に
優れ、セット性も良好であった。

【００５８】

【表６】 （成分） （重量％） グアガム誘導体（合成例１） １０．０ エタノール １０．０ 水 残量 １００．０

【００５９】実施例７ 次に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造した。得ら
れた組成物をポンプフォーマー（ポンプフォーマーＥ３
モデル：大和製罐社製）に充填し、泡を吐出させたとこ
ろ、起泡性及び泡質が良好で、毛髪に塗布し易いもので
あった。また、べたつきがなくすべりが良く、使用感に
優れ、セット性も良好であった。

【００６０】

【表７】 （成分） （重量％） グアガム誘導体（合成例１） ２．０ 両性ポリマー ２．０ エタノール １０．０ 水 残量 １００．０

【００６１】実施例８ 次に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造した。得ら
れた組成物とＬＰＧを９０／１０の割合で耐圧容器に充
填し、泡を噴射させたところ、噴射状態及び泡質は良好
で、べたつきがなく使用感に優れ、セット性も良好であ
った。

【００６２】

【表８】 （成分） （重量％） プルラン誘導体（合成例４） ２．０ エタノール １０．０ 水 残量 １００．０

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川瀬 次朗 東京都墨田区文花２−１−３ 花王株式会 社研究所内

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 疎水基を有する水溶性多糖類であって、
   該水溶性多糖類を２重量％含有する１０重量％エタノー
   ル水溶液の粘度が、２５℃、３０rpm の条件下において
   １〜３０cPである水溶性多糖類を含有することを特徴と
   する毛髪化粧料。
2. 【請求項２】 疎水基を有する水溶性多糖類であって、
   該水溶性多糖類を２重量％含有する１０重量％エタノー
   ル水溶液の粘度が、２５℃、３０rpm の条件下において
   １〜１５cPである水溶性多糖類を含有することを特徴と
   する毛髪化粧料。
3. 【請求項３】 疎水基を有する水溶性多糖類が、グアガ
   ム、セルロース、プルラン、キチン、キトサン、カラギ
   ーナン、キサンタンガム、ローカストビーンガム及びこ
   れらの親水性誘導体から選ばれる多糖類に疎水基を導入
   したものである請求項１又は２記載の毛髪化粧料。
4. 【請求項４】 疎水基を有する水溶性多糖類が、グアガ
   ム、ヒドロキシエチル化セルロース、プルラン及びカル
   ボキシメチル化キトサンから選ばれる多糖類に疎水基を
   導入したものである請求項１又は２記載の毛髪化粧料。
5. 【請求項５】 水溶性多糖類の有する疎水基が、炭素数
   ２〜３０の直鎖もしくは分岐鎖の飽和もしくは不飽和の
   炭化水素基、又は式（１）〜（３） 【化１】 （式中、Ｒは炭素数２〜３０の直鎖又は分岐鎖の飽和又
   は不飽和の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示
   す）で表わされる基から選ばれるものである請求項１〜
   ４のいずれか１項記載の毛髪化粧料。
6. 【請求項６】 疎水基を有する水溶性多糖類の疎水基導
   入率が、多糖類の無水グルコース繰り返し単位又は構成
   単糖１モルあたり０．００１〜０．５モルである請求項
   １〜５のいずれか１項記載の毛髪化粧料。
7. 【請求項７】 疎水基を有する水溶性多糖類の平均分子
   量が、５，０００〜１００，０００である請求項１〜６
   のいずれか１項記載の毛髪化粧料。
8. 【請求項８】 疎水基を有する水溶性多糖類を１〜１０
   重量％含有する請求項１〜７のいずれか１項記載の毛髪
   化粧料。
9. 【請求項９】 さらに、皮膜形成性ポリマーを含有する
   請求項１〜８のいずれか１項記載の毛髪化粧料。
10. 【請求項１０】 さらに、油剤を含有する請求項１〜９
    のいずれか１項記載の毛髪化粧料。
11. 【請求項１１】 ノンエアゾールヘアフォームである請
    求項１〜１０のいずれか１項記載の毛髪化粧料。
12. 【請求項１２】 エアゾールヘアフォームである請求項
    １〜１０のいずれか１項記載の毛髪化粧料。