JPH09308983A - Laser beam machine - Google Patents

Laser beam machine

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JPH09308983A
JPH09308983A JP8123508A JP12350896A JPH09308983A JP H09308983 A JPH09308983 A JP H09308983A JP 8123508 A JP8123508 A JP 8123508A JP 12350896 A JP12350896 A JP 12350896A JP H09308983 A JPH09308983 A JP H09308983A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
laser
tables
drive mechanism
control device
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8123508A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keiji Iso
圭二 礒
Kenichi Murano
賢一 村野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP8123508A priority Critical patent/JPH09308983A/en
Publication of JPH09308983A publication Critical patent/JPH09308983A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To greatly improve the machining speed for a work by splitting the laser beam from an laser beam oscillator into a plurality of laser beams, and controlling each driving mechanism performing the same action corresponding to the split number. SOLUTION: The pulse laser beam generated by a laser beam oscillator 10 is split into two in sectional area with a 45 deg. reflecting mirror 11, and guided to masks 13a, 13b by changing the angle by 90 deg.. The split laser beam by each mask is reduced in the beam diameter, and guided to X-Y scanners 14a, 14b. The laser beam scanned by the X-Y scanners is passed through machining lenses 15a, 15b so that works 17a, 17b placed on X-Y tables 16a, 16b are irradiated with the laser beam. The X-Y tables are provided with a drive mechanism in the X-axis direction and a drive mechanism in the Y-axis direction, and move the works on the X-Y plane to adjust the position. A driving mechanism is built in the X-Y scanners and X-Y tables respectively, which are controlled by a control device 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はレーザ加工装置に関
し、特にプリント配線基板への微小なビアホールの形成
に適したレーザ加工装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus, and more particularly to a laser processing apparatus suitable for forming minute via holes in a printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小形化、高機能化に伴
い、プリント配線基板に実装される実装部品の高密度
化、狭リードピッチ化が進んでいる。このような進歩に
対応するためには、プリント配線基板に形成するビアホ
ールの径も0.3(mm)以下とすることが要求され
る。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices have become smaller and more sophisticated, the density of mounted components mounted on a printed circuit board and the lead pitch have been reduced. In order to cope with such progress, it is required that the diameter of a via hole formed in a printed wiring board be 0.3 (mm) or less.

【0003】これまでのプリント配線基板に対する穴あ
け加工は、NCドリルによる機械加工や露光加工(フォ
トビア方式)により行われている。しかし、NCドリル
では、穴の径は0.2(mm)が限界で、ドリルが折れ
る場合も多い。一方、フォトビア方式では0.15(m
m)が限界で、しかも材料費が高くなる。
Conventionally, drilling of a printed wiring board is performed by machining with an NC drill or exposure (photo via method). However, in the NC drill, the diameter of the hole is limited to 0.2 (mm), and the drill is often broken. On the other hand, in the photo via method, 0.15 (m
m) is the limit, and the material cost is high.

【0004】上記のような問題点を解消する手段とし
て、最近、レーザ光によって穴あけ加工を行うレーザ加
工装置が提供されている。このレーザ加工装置は、レー
ザ発振器でパルス状のレーザ光を発生し、一つの穴に対
するパルス個数やエネルギーを調整することで所望の深
さの穴あけ加工を行うものである。一方、穴の径につい
ては、レーザ光の導光路に径を規定するためのマスクを
配置し、このマスクでレーザ光を絞り込むことで被加工
部材に設ける穴を小さくすることができる。
[0004] As a means for solving the above-mentioned problems, a laser processing apparatus for performing drilling with a laser beam has recently been provided. In this laser processing apparatus, a pulsed laser beam is generated by a laser oscillator, and the number of pulses and the energy for one hole are adjusted to perform drilling to a desired depth. On the other hand, with respect to the diameter of the hole, a mask for defining the diameter is arranged in the light guide path of the laser light, and the laser light is narrowed down by this mask, so that the hole provided in the workpiece can be reduced.

【0005】しかも、レーザ加工によれば、金属にダメ
ージを与えないので、絶縁層フィルムのラミネート後の
加工やベースフィルム側からの加工においても、導体パ
ターンに損傷なく加工できるという利点がある。
[0005] In addition, since the laser processing does not damage the metal, there is an advantage that the conductor pattern can be processed without damage even in processing after laminating the insulating layer film or processing from the base film side.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】レーザ発振器として
は、エキシマレーザが用いられているが、エッチ速度
(パルス当たりの加工深さ)の関係上、加工処理速度が
比較的遅く、運転コストが高いという問題点がある。こ
れに対し、パルス幅が狭く高ピークパワー、高エネルギ
ー密度の得られるTEA(Transversely
Excited Atmospheric Press
ure)CO2 レーザが注目を浴びている。このTEA
CO2 レーザを使用したレーザ加工装置は、エッチ速
度がエキシマレーザに比べて1桁以上大きいので1穴当
たりの加工に必要なレーザ照射パルス数が少なくて済
み、加工速度を速くできる。
An excimer laser is used as a laser oscillator. However, due to the etching speed (depth per pulse), the processing speed is relatively slow and the operating cost is high. There is a problem. On the other hand, a TEA (Transversely) having a narrow pulse width, high peak power and high energy density can be obtained.
Excited Atmospheric Press
ure) CO 2 lasers are receiving attention. This TEA
Since a laser processing apparatus using a CO 2 laser has an etch speed one digit or more higher than that of an excimer laser, the number of laser irradiation pulses required for processing per hole can be reduced, and the processing speed can be increased.

【0007】しかしながら、上記のようなTEA CO
2 レーザを使用した場合でも加工速度には制限があり、
1穴当たりの加工コストを低減するための改良が望まれ
ている。
However, the above TEA CO
The processing speed even when using the 2 laser is limited,
There is a need for an improvement to reduce the processing cost per hole.

【0008】そこで、本発明の課題は、加工速度を大幅
に向上させることのできるレーザ加工装置を提供するこ
とにある。
An object of the present invention is to provide a laser processing apparatus capable of greatly improving a processing speed.

【0009】本発明の他の課題は、レーザ加工装置の小
形化を図ることにある。
Another object of the present invention is to reduce the size of the laser processing apparatus.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、レーザ発振器
からのレーザ光をX−Yテーブル上に配置されたワーク
に照射して加工を行うレーザ加工装置において、前記レ
ーザ発振器からのレーザ光を複数に分割する分割手段を
備え、前記分割数に応じて前記X−Yテーブル及びその
駆動機構を複数組備えると共に、各駆動機構を制御する
制御装置を備え、該制御装置は、前記各駆動機構を同じ
動作をするように制御することを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a laser processing apparatus for irradiating a laser beam from a laser oscillator onto a work arranged on an XY table to perform processing. A plurality of dividing means is provided, the plurality of sets of the XY table and its drive mechanism are provided according to the number of divisions, and a control device for controlling each drive mechanism is provided, and the control device includes each drive mechanism. Are controlled so as to perform the same operation.

【0011】なお、互いに隣り合う前記X−Yテーブル
の対向し合う端部にはそれぞれ、互いの接近距離が所定
値以下になると動作する近接センサを設け、前記制御装
置は、前記近接センサからの検出信号を受けると、対応
する前記X−Yテーブルの動作を停止させるインタロッ
ク機能を有する。
Proximity sensors that operate when the mutual approach distance becomes a predetermined value or less are provided at opposite ends of the XY tables that are adjacent to each other. It has an interlock function of stopping the operation of the corresponding XY table when receiving the detection signal.

【0012】また、前記所定値は、前記X−Yテーブル
が最高速度で動作している状態において前記インタロッ
ク機能により停止するのに必要な距離よりも大きく設定
される。
Further, the predetermined value is set to be larger than the distance required to stop by the interlock function when the XY table is operating at the maximum speed.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して本発明の
好ましい実施の形態について説明する。図1において、
TEA CO2 レーザによるレーザ発振器10で発生さ
れたパルス状のレーザ光は、45°反射ミラー11によ
りその断面積に関して2分割され、90°角度を変えて
それぞれマスク13a,13bに導かれる。マスク13
a,13bでは、ビアホール径を規定する穴を通過する
ことによって、分割されたレーザ光のビーム径が絞り込
まれてX−Yスキャナ14a,14bに導かれる。X−
Yスキャナ14a,14bはレーザ光を振らせるための
ものであり、振られたレーザ光は焦点合わせ用レンズと
して作用しfθレンズとも呼ばれる加工レンズ15a,
15bを通してX−Yテーブル16a,16b上におか
れたワーク(例えば、プリント配線基板)17a,17
bに照射される。X−Yテーブル16a,16bはX軸
方向の駆動機構とY軸方向の駆動機構とを有して、ワー
ク17a,17bをX−Y平面上で移動させて位置調整
することができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG.
The pulsed laser light generated by the laser oscillator 10 by the TEA CO 2 laser is divided into two by the 45 ° reflection mirror 11 with respect to its cross-sectional area, and guided to the masks 13a and 13b by changing the 90 ° angle. Mask 13
At a and 13b, the beam diameter of the split laser light is narrowed down by passing through the hole that defines the diameter of the via hole, and is guided to the XY scanners 14a and 14b. X-
The Y scanners 14a and 14b are for oscillating the laser light, and the oscillated laser light acts as a focusing lens and is also called a processing lens 15a also called an fθ lens.
Workpieces (for example, printed wiring boards) 17a, 17 placed on the XY tables 16a, 16b through 15b
b. The XY tables 16a and 16b have a drive mechanism in the X-axis direction and a drive mechanism in the Y-axis direction, and can move the works 17a and 17b on the XY plane to adjust the positions.

【0014】X−Yスキャナ14a,14b、X−Yテ
ーブル16a,16bはそれぞれ駆動機構を内蔵してお
り、これらの駆動機構は制御装置1により制御される。
The XY scanners 14a and 14b and the XY tables 16a and 16b each have a built-in drive mechanism, and these drive mechanisms are controlled by the controller 1.

【0015】図2(a)において、45°反射ミラー1
1は、90°で交差する2つの反射面11a,11bを
持つことにより、入射したレーザ光を断面積に関して2
等分することができる。例えば、図2(b)に示すよう
に、レーザ光の断面積が12×12(mm)の正方形の
場合、6×12(mm)の断面積を持つ2つのレーザ光
に等分割することができる。マスク13a,13bで
は、縮小率Mとビアホールの径に応じて決まる径の穴
(通常、直径1〜2mm)を通して分割されたレーザ光
を絞り込むが、この穴の直径は分割されたレーザ光の断
面積に比べて十分小さいので、レーザ光を分割すること
による不都合は生じない。
In FIG. 2A, a 45 ° reflecting mirror 1
1 has two reflecting surfaces 11a and 11b that intersect at 90 °, so that the incident laser light is 2
Can be equally divided. For example, as shown in FIG. 2B, when the cross section of the laser beam is a square of 12 × 12 (mm), it can be equally divided into two laser beams having a cross section of 6 × 12 (mm). it can. In the masks 13a and 13b, the divided laser light is narrowed down through a hole (usually a diameter of 1 to 2 mm) having a diameter determined according to the reduction ratio M and the diameter of the via hole. Since it is sufficiently smaller than the area, there is no inconvenience caused by splitting the laser beam.

【0016】なお、同様な原理で、反射面を3つ有する
3角錐状、反射面を4つ有する4角錐状の反射ミラーを
用いれば、レーザ光を3等分、4等分することができ
る。
By the same principle, if a three-sided pyramidal reflecting mirror having three reflecting surfaces and a four-sided pyramidal reflecting mirror having four reflecting surfaces are used, the laser light can be divided into three equal parts and four equal parts. .

【0017】図3はレーザ光の分割手段の他の例を示
し、50%反射ミラー21を用いてレーザ光を2分割す
る例である。この50%反射ミラー21は、半分に反射
材料を塗布して反射ミラー21aとし、残りの半分は全
透過形の透明部21bとすることでレーザ光を断面積に
関して2等分することができる。
FIG. 3 shows another example of the laser beam splitting means, which is an example of splitting the laser beam into two by using a 50% reflection mirror 21. The 50% reflective mirror 21 is formed by applying a reflective material to one half to form a reflective mirror 21a and the other half to be a transparent portion 21b of a total transmission type, so that the laser light can be bisected in terms of the sectional area.

【0018】上記のような反射ミラーを用いることで、
レーザ光のエネルギー密度を低下させることなくレーザ
光を分割できる。
By using the reflection mirror as described above,
The laser light can be split without lowering the energy density of the laser light.

【0019】図4において、X−Yスキャナ14a(1
4b)は、2つのガルバノミラー14−1,14−2を
組み合わせて成るガルバノミラー方式と呼ばれるもので
ある。すなわち、2つの反射ミラーをガルバノメータの
駆動原理で独立して回動させることにより、レーザ光を
加工レンズ15を通してワーク17の所望の複数の位置
に連続して照射することができる。
In FIG. 4, the XY scanner 14a (1
4b) is a so-called galvano-mirror system formed by combining two galvano-mirrors 14-1 and 14-2. That is, by independently rotating the two reflecting mirrors based on the driving principle of the galvanometer, it is possible to continuously irradiate the laser beam to a plurality of desired positions on the work 17 through the processing lens 15.

【0020】図5を参照してマスクの好ましい例につい
て説明する。このマスク13は、周方向に等角度間隔を
おいて異なる径の穴(ここでは16個)H1〜H16を
有する円板状のマスク板13−1と、このマスク板13
−1よりやや大きく、マスク板13−1の各穴H1〜H
16に対応する領域に窓W1〜W8を有してマスク板1
3−1を保持するマスクホルダ13−2と、図5(c)
に示すように一体に組み合わされたマスク板13−1と
マスクホルダ13−2とを回転駆動するモータを含む駆
動部13−3とを含む。
A preferred example of the mask will be described with reference to FIG. The mask 13 includes a disk-shaped mask plate 13-1 having holes (here, 16 holes) H1 to H16 having different diameters at equal angular intervals in the circumferential direction, and a mask plate 13-1.
-1 and slightly larger than each of the holes H1 to H of the mask plate 13-1.
16 has windows W1 to W8 in an area corresponding to
Mask holder 13-2 for holding 3-1 and FIG.
As shown in FIG. 7, the driving unit 13-3 includes a motor that rotationally drives the mask plate 13-1 and the mask holder 13-2 combined together.

【0021】このマスク13は、マスク板13−1が回
転した時穴H1〜H16がレーザ光の光路を通過するよ
うに配置される。言い換えれば、マスク板13−1の回
転軸がレーザ光の光路と平行であり、しかも穴H1〜H
16の中心を結ぶ仮想円がレーザ光の光路に位置するよ
うに配置される。マスク13は更に、図示していない
が、マスク板13−1とマスクホルダ13−2との組合
わせ体あるいは機構全体を、マスク板13−1の面に関
して平行に位置を微調整することで、レーザ光の光路に
対応した穴の中心位置を微調整するマスク位置2軸微調
整機構を備えている。
The mask 13 is arranged so that the holes H1 to H16 pass through the optical path of the laser beam when the mask plate 13-1 is rotated. In other words, the rotation axis of the mask plate 13-1 is parallel to the optical path of the laser light, and the holes H1 to H
The virtual circles connecting the centers of the sixteen are arranged in the optical path of the laser light. Although not shown, the mask 13 further finely adjusts the position of the combination of the mask plate 13-1 and the mask holder 13-2 or the entire mechanism in parallel with respect to the surface of the mask plate 13-1. A mask position biaxial fine adjustment mechanism is provided for finely adjusting the center position of the hole corresponding to the optical path of the laser light.

【0022】マスク板13−1の材料としては、SUS
等の金属材が使用され、レーザ光の反射光がレーザ導光
系の他の光学部品に影響を及ぼさないように、乱反射さ
せる必要があるので、表面にショットブラスト等の加工
を施す。マスク板13−1の穴の径は、高密度多層プリ
ント配線基板に使用されるエポキシやPI等の樹脂に対
して加工性が良く、加工面のエネルギー密度(フルエン
ス)が10J/cm2程度になるようにマスク投影法の
原理にもとづいて設計される。本例では縮小率(M値)
は10程度に設計している。この場合、マスク板13−
1の穴H10が選択されると、ビアホールの径は0.1
(mm)となる。この縮小率(M値)は、マスク板13
−1と加工レンズとの間の距離を変えることで任意に設
定できる。
The material of the mask plate 13-1 is SUS.
Since it is necessary to irregularly reflect the reflected light of the laser beam so as not to affect other optical components of the laser light guide system, the surface is subjected to processing such as shot blasting. The diameter of the hole of the mask plate 13-1 is excellent in processability with respect to a resin such as epoxy or PI used for a high-density multilayer printed wiring board, and the energy density (fluence) of the processed surface is about 10 J / cm 2 . It is designed based on the principle of the mask projection method. In this example, reduction ratio (M value)
Is designed to be about 10. In this case, the mask plate 13-
When one hole H10 is selected, the diameter of the via hole becomes 0.1
(Mm). This reduction rate (M value) is
It can be set arbitrarily by changing the distance between -1 and the processed lens.

【0023】現在使用されるビアホールの径は0.1
(mm)が主流であるため、マスク板13−1に設けら
れる穴H1〜H16の径は1〜2(mm)を主としてそ
れらの前後の値、すなわち、H1:8,H2:6,H
3:4,H4:3,H5:2,H6:1.8,H7:
1.6,H8:1.4,H9:1.2,H10:1.
0,H11:0.9,H12:0.8,H13:0.
7,H14:0.6,H15:0.5,H16:0.4
(いずれも単位はmm)としている。これらの穴は大き
い方から順に反時計回りに配列されている。
The diameter of the via hole currently used is 0.1.
(Mm) is the mainstream, so the diameters of the holes H1 to H16 provided in the mask plate 13-1 are mainly 1 to 2 (mm) and values before and after them, that is, H1: 8, H2: 6, H
3: 4, H4: 3, H5: 2, H6: 1.8, H7:
1.6, H8: 1.4, H9: 1.2, H10: 1.
0, H11: 0.9, H12: 0.8, H13: 0.
7, H14: 0.6, H15: 0.5, H16: 0.4
(The unit is mm). These holes are arranged counterclockwise in order from the larger one.

【0024】駆動部13−3は、制御装置1の制御下で
マスク板13−1の回転駆動を行う。すなわち、制御装
置1ではオペレータにより設定されるドリルデータ、C
ADファイル等のマスタデータにもとづいて指定された
ビアホールの径に対応する穴を選択し、この穴がレーザ
光の光路に位置するようにマスク板13−1を回転させ
る。一般に、ドリルデータ内ではTコードで穴径が指定
されている。本例では、このTコードにもとづいてマス
ク板13−1を回転させることで、所望の穴径を設定で
きる。
The drive unit 13-3 drives the mask plate 13-1 to rotate under the control of the controller 1. That is, in the control device 1, the drill data set by the operator, C
A hole corresponding to the diameter of the via hole designated based on the master data such as an AD file is selected, and the mask plate 13-1 is rotated so that the hole is located in the optical path of the laser beam. Generally, a hole diameter is specified by a T code in drill data. In this example, the desired hole diameter can be set by rotating the mask plate 13-1 based on this T code.

【0025】図1に戻って、X−Yスキャナ14aと1
4bとは、45°反射ミラー11に関して線対称の関係
で配置されるのが好ましい。これは、レーザ光にはビー
ム拡がり角、すなわち光路長が長くなるにつれてビーム
径が大きくなるという性質があるからである。これに対
し、上記のようにすることでレーザ発振器10における
レーザ光の出射口からワーク17a,17bの加工面ま
での距離を同じにし易くなり、加工面でのレーザ光のエ
ネルギー密度を同一にすることができる。
Returning to FIG. 1, the XY scanners 14a and 1
4b is preferably arranged in a line-symmetric relationship with respect to the 45 ° reflecting mirror 11. This is because the laser beam has a property that the beam diameter increases as the beam divergence angle, that is, the optical path length increases. On the other hand, the above arrangement makes it easier to make the distance from the laser light emission port of the laser oscillator 10 to the processing surface of the workpieces 17a and 17b equal, and makes the energy density of the laser light on the processing surface the same. be able to.

【0026】次に、ワーク17a,17bの位置決めに
ついて説明する。X−Yテーブル16a,16b上には
ワーク17a,17bを位置決めするための複数のピン
が、ワーク17a,17bにはこのピンの挿入可能な複
数の穴がそれぞれ設けられている。更に、図1には図示
していないが、X−Yテーブル16a,16bの斜め上
方にはそれぞれ、ITVカメラが設置されている。これ
は、ワーク17a,17bには位置決め用のアライメン
トマークが付されており、レーザ加工の前にこのアライ
メントマークを画像処理によって読み取ってワーク17
a,17bの正確な位置決めを行うためである。このた
め、ITVカメラからの画像信号が制御装置1に送ら
れ、制御装置1では画像処理部が画像信号を処理してワ
ーク17a,17bのアライメントマークが所定位置に
くるようにX−Yテーブル16a,16bの位置を制御
する。
Next, the positioning of the works 17a and 17b will be described. A plurality of pins for positioning the works 17a, 17b are provided on the XY tables 16a, 16b, and a plurality of holes into which the pins can be inserted are provided in the works 17a, 17b, respectively. Further, although not shown in FIG. 1, ITV cameras are installed diagonally above the XY tables 16a and 16b, respectively. This is because the workpieces 17a and 17b are provided with alignment marks for positioning, and the alignment marks are read by image processing before the laser processing, and the workpieces 17a and 17b are read.
This is for accurate positioning of a and 17b. Therefore, the image signal from the ITV camera is sent to the control device 1, and in the control device 1, the image processing unit processes the image signal so that the alignment marks of the works 17a and 17b come to a predetermined position. , 16b are controlled.

【0027】図6を参照して、制御装置1によるレーザ
加工に際してのX−Yテーブル16a,16bの制御に
ついて説明する。X−Yテーブル16a,16bはそれ
ぞれ、原則的には内蔵の駆動機構により独立して動作可
能である。しかし、本例では、制御装置1はX−Yテー
ブル16a,16bがまったく同じ動作をするようにそ
れぞれの駆動機構を制御する。すなわち、X−Yテーブ
ル16aが図中左方に距離X1 だけ移動する時、これに
同期してX−Yテーブル16bも図中左方に距離X1
け移動する。また、X−Yテーブル16aが図中上方に
距離Y1 だけ移動する時は、X−Yテーブル16bもこ
れに同期して図中上方に距離Y1 だけ移動する。
The control of the XY tables 16a and 16b at the time of laser processing by the controller 1 will be described with reference to FIG. In principle, each of the XY tables 16a and 16b can be independently operated by a built-in drive mechanism. However, in this example, the control device 1 controls the respective drive mechanisms so that the XY tables 16a and 16b perform exactly the same operation. That, X-Y table 16a is time to move a distance X 1 to the left in the figure, in synchronization with this movement also X-Y table 16b to the left in the figure by a distance X 1. Further, when the XY table 16a moves upward in the figure by the distance Y 1 , the XY table 16b also moves upward in the figure by the distance Y 1 in synchronization with this.

【0028】したがって、X−Yテーブル16a,16
bが正確に駆動制御されるとすれば、X−Yテーブル1
6a,16bは衝突することは無い。しかしながら、誤
動作によってX−Yテーブル16a,16bが異なる方
向に移動するようなこともあり得る。そして、その移動
方向が互いに接近し合うような移動の場合、X−Yテー
ブル16a,16bが衝突するおそれがある。このよう
な衝突を防ぐためには、図6(a)に一点鎖線で示すよ
うに、X−Yテーブル16a,16bの可動範囲が互い
に重ならないようなレイアウトにすれば良い。しかし、
図6(a)のようなレイアウトではX−Yテーブル16
a,16bのための設置スペースが大きくなり、加工装
置が大型化してしまう。
Therefore, the XY tables 16a, 16
If b is accurately driven and controlled, the XY table 1
6a and 16b do not collide. However, it is possible that the XY tables 16a and 16b move in different directions due to a malfunction. When the movement directions are such that the movement directions approach each other, the XY tables 16a and 16b may collide. In order to prevent such a collision, the layout may be such that the movable ranges of the XY tables 16a and 16b do not overlap with each other, as indicated by the alternate long and short dash line in FIG. But,
In the layout as shown in FIG. 6A, the XY table 16
The installation space for a and 16b becomes large, and the processing apparatus becomes large.

【0029】これに対し、本例では、X−Yテーブル1
6a,16bの対向し合う端部にそれぞれ、互いの接近
距離が所定値以下になると動作する複数の近接センサ1
6−1a,16−2a,16−1b,16−2bを設
け、これらの近接センサ16−1a,16−2a,16
−1b,16−2bの検出信号を制御装置1に入力させ
るようにしている。制御装置1は、いずれかの近接セン
サから接近距離が所定値以下になったことを示す検出信
号を受けると、インタロック機能を起動させるべくX−
Yテーブル16a,16bの駆動機構に対して停止を指
令するインタロック信号を出力する。
On the other hand, in this example, the XY table 1
A plurality of proximity sensors 1 that operate when the approach distances of the opposing ends of 6a and 16b are equal to or less than a predetermined value.
Proximity sensors 16-1a, 16-2a, 16 are provided with 6-1a, 16-2a, 16-1b, 16-2b.
The detection signals -1b and 16-2b are input to the control device 1. When the control device 1 receives a detection signal indicating that the approach distance has become equal to or less than a predetermined value from any of the proximity sensors, the X-X control unit activates the interlock function.
An interlock signal for instructing the driving mechanism of the Y tables 16a and 16b to stop is output.

【0030】ここで、前記所定値は、X−Yテーブル1
6a,16bが最高速度で動作している状態においてイ
ンタロック機能が起動した場合に完全に停止するまでに
要した移動距離よりも大きくなるように設定されること
は言うまでもない。
Here, the predetermined value is the XY table 1
It goes without saying that the distance is set to be larger than the moving distance required to completely stop the interlock function when the interlock function is activated in the state where 6a and 16b are operating at the maximum speed.

【0031】上記のようにすることで、図6(b)に示
すように、X−Yテーブル16aの移動範囲を一点鎖線
とし、X−Yテーブル16bの移動範囲は二点鎖線とし
てそれぞれ範囲を一部重なるようにすることができる。
その結果、それぞれの移動範囲が重なった領域だけ図6
(a)の場合よりも設置スペースを狭くすることができ
る。
By doing the above, as shown in FIG. 6 (b), the movement range of the XY table 16a is made into a one-dot chain line, and the movement range of the XY table 16b is made into a two-dot chain line. It can be partially overlapped.
As a result, only the areas where the respective moving ranges overlap are shown in FIG.
The installation space can be made smaller than in the case of (a).

【0032】参考のために、図7に図6(a)、(b)
に対応する装置の実際の寸法の一例を示す。図6(a)
に対応する装置では、幅寸法2050(mm)であるの
に対し、本発明による図6(b)に対応する装置では幅
寸法1550(mm)となり、大幅に寸法を縮小でき
る。
For reference, FIGS. 6A and 6B are shown in FIG.
An example of the actual size of the device corresponding to is shown. FIG. 6 (a)
In the device corresponding to (1), the width dimension is 2050 (mm), whereas in the device corresponding to FIG. 6B according to the present invention, the width dimension is 1550 (mm), and the size can be significantly reduced.

【0033】上記説明はX−Yテーブルが2つの場合で
あるが、3つ以上の場合にも同様にして適用可能である
ことは明らかである。
Although the above description is for the case of two XY tables, it is clear that the same applies to the case of three or more tables.

【0034】いずれにしても、この実施の形態において
は、レーザ発振器10からのレーザ光をそのエネルギー
密度を低下させることなく2分割して2つのレーザ加工
系に導き、2つのワーク17a,17bに対してまった
く同じ穴あけ加工を行うことで、加工速度を2倍にする
ことができる。したがって、1穴当たりの加工コストを
大幅に低減することができる。
In any case, in this embodiment, the laser light from the laser oscillator 10 is divided into two without being reduced in its energy density and guided to two laser processing systems to form two workpieces 17a and 17b. By performing exactly the same drilling processing, the processing speed can be doubled. Therefore, the processing cost per hole can be significantly reduced.

【0035】なお、本発明はTEA CO2 レーザに使
用した場合に最も有効であるが、既存のCO2 レーザ、
YAGレーザ、エキシマレーザ等のどのような加工装置
にも適用可能であり、レーザ光の形態もパルス状、連続
波のいずれでも良い。また、被加工物は、特にプリント
配線基板やフレキシブルプリント配線基板に適している
が、その他の樹脂、ガラスにも適用できる。
Although the present invention is most effective when used for a TEA CO 2 laser, the existing CO 2 laser,
The present invention is applicable to any processing apparatus such as a YAG laser and an excimer laser, and the form of the laser light may be either pulsed or continuous wave. The workpiece is particularly suitable for a printed wiring board or a flexible printed wiring board, but can also be applied to other resins and glass.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明によれば、1つのレーザ発振器か
らのレーザ光をエネルギー密度の低減なしで複数に分割
してまったく同じ加工を行う複数の加工系に導入できる
ようにしたことにより、ワークの加工速度を大幅に向上
させることができ、結果として加工コストを大幅に低下
させることができる。また、複数のX−Yテーブルの占
有するスペースを小さくして装置の小形化を図ることが
できる。
According to the present invention, the laser beam from one laser oscillator can be divided into a plurality of laser beams without reducing the energy density and introduced into a plurality of processing systems that perform exactly the same processing. The processing speed of can be greatly improved, and as a result, the processing cost can be significantly reduced. In addition, the space occupied by the plurality of XY tables can be reduced to reduce the size of the device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるレーザ加工装置の概略構成を示す
ブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a laser processing apparatus according to the present invention.

【図2】図1に示された45°反射ミラーの作用を説明
するための拡大図(図a)、レーザ光の断面形状を説明
するための図(図b)である。
FIG. 2 is an enlarged view (FIG. 2A) for explaining the operation of the 45 ° reflecting mirror shown in FIG. 1 and a view (FIG. 2B) for explaining a cross-sectional shape of laser light.

【図3】図1に示された45°反射ミラーの代わりの例
を説明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining an alternative example of the 45 ° reflecting mirror shown in FIG. 1;

【図4】図1に示されたX−Yスキャナの概略構成を示
した図である。
4 is a diagram showing a schematic configuration of the XY scanner shown in FIG.

【図5】図1に示されたマスクの他の例の構成を示した
図である。
5 is a diagram showing the configuration of another example of the mask shown in FIG.

【図6】図1に示されたX−Yテーブルの動きを説明す
るための図である。
6 is a diagram for explaining the movement of the XY table shown in FIG. 1. FIG.

【図7】一般的な制御方式と本発明方式とによる加工装
置寸法の一例を示すための側面図である。
FIG. 7 is a side view showing an example of a processing apparatus size according to a general control method and the present invention method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 45°反射ミラー 11a,11b 反射面 15,15a,15b 加工レンズ 16a,16b X−Yテーブル 17,17a,17b ワーク 21 50%反射ミラー 11 45 ° reflection mirror 11a, 11b reflection surface 15, 15a, 15b processing lens 16a, 16b XY table 17, 17a, 17b work 21 50% reflection mirror

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ発振器からのレーザ光をX−Yテ
ーブル上に配置されたワークに照射して加工を行うレー
ザ加工装置において、前記レーザ発振器からのレーザ光
を複数に分割する分割手段を備え、前記分割数に応じて
前記X−Yテーブル及びその駆動機構を複数組備えると
共に、各駆動機構を制御する制御装置を備え、該制御装
置は、前記各駆動機構を同じ動作をするように制御する
ことを特徴とするレーザ加工装置。
1. A laser processing apparatus for irradiating a laser beam from a laser oscillator onto a work arranged on an XY table for processing, comprising a dividing means for dividing the laser beam from the laser oscillator into a plurality of pieces. , A plurality of sets of the XY table and its drive mechanism according to the number of divisions, and a control device for controlling each drive mechanism, and the control device controls each drive mechanism to perform the same operation. A laser processing apparatus characterized in that.
【請求項2】 互いに隣り合う前記X−Yテーブルの対
向し合う端部にはそれぞれ、互いの接近距離が所定値以
下になると動作する近接センサを設け、前記制御装置
は、前記近接センサからの検出信号を受けると、対応す
る前記X−Yテーブルの動作を停止させるインタロック
機能を有することを特徴とする請求項1記載のレーザ加
工装置。
2. Proximity sensors that operate when approaching distances are equal to or less than a predetermined value are provided at opposing ends of the XY tables that are adjacent to each other, and the control device controls the proximity sensors from the proximity sensors. 2. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising an interlock function for stopping the operation of the corresponding XY table when receiving the detection signal.
【請求項3】 前記所定値は、前記X−Yテーブルが最
高速度で動作している状態において前記インタロック機
能により停止するのに必要な距離よりも大きく設定され
ていることを特徴とする請求項2記載のレーザ加工装
置。
3. The predetermined value is set to be larger than a distance required to stop by the interlock function when the XY table is operating at the maximum speed. Item 2. A laser processing device according to item 2.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005511313A (en) * 2001-11-30 2005-04-28 松下電器産業株式会社 Laser milling method
KR100598878B1 (en) * 2004-06-21 2006-07-10 현대자동차주식회사 Welding apparatus using laser beam spot
JP2006289415A (en) * 2005-04-08 2006-10-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Laser beam machining apparatus
JP2008110383A (en) * 2006-10-31 2008-05-15 Disco Abrasive Syst Ltd Laser beam machining apparatus
US7456372B2 (en) 1996-11-20 2008-11-25 Ibiden Co., Ltd. Laser machining apparatus, and apparatus and method for manufacturing a multilayered printed wiring board
US7462802B2 (en) 1996-11-20 2008-12-09 Ibiden Co., Ltd. Laser machining apparatus, and apparatus and method for manufacturing a multilayered printed wiring board
JP2009172647A (en) * 2008-01-25 2009-08-06 Pulstec Industrial Co Ltd Laser machining apparatus and laser machining method
WO2012014879A1 (en) * 2010-07-28 2012-02-02 三菱電機株式会社 Laser processing machine and protective device against laser light
JP2017064743A (en) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社ディスコ Laser processing device

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7456372B2 (en) 1996-11-20 2008-11-25 Ibiden Co., Ltd. Laser machining apparatus, and apparatus and method for manufacturing a multilayered printed wiring board
US7462802B2 (en) 1996-11-20 2008-12-09 Ibiden Co., Ltd. Laser machining apparatus, and apparatus and method for manufacturing a multilayered printed wiring board
US7667160B2 (en) 1996-11-20 2010-02-23 Ibiden Co., Ltd Laser machining apparatus, and apparatus and method for manufacturing a multilayered printed wiring board
US7732732B2 (en) 1996-11-20 2010-06-08 Ibiden Co., Ltd. Laser machining apparatus, and apparatus and method for manufacturing a multilayered printed wiring board
JP2005511313A (en) * 2001-11-30 2005-04-28 松下電器産業株式会社 Laser milling method
KR100598878B1 (en) * 2004-06-21 2006-07-10 현대자동차주식회사 Welding apparatus using laser beam spot
JP2006289415A (en) * 2005-04-08 2006-10-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Laser beam machining apparatus
JP2008110383A (en) * 2006-10-31 2008-05-15 Disco Abrasive Syst Ltd Laser beam machining apparatus
JP2009172647A (en) * 2008-01-25 2009-08-06 Pulstec Industrial Co Ltd Laser machining apparatus and laser machining method
WO2012014879A1 (en) * 2010-07-28 2012-02-02 三菱電機株式会社 Laser processing machine and protective device against laser light
JP2017064743A (en) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社ディスコ Laser processing device

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