JP2000117475A - Method for laser beam machining - Google Patents

Method for laser beam machining

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JP2000117475A JP10287138A JP28713898A JP2000117475A JP 2000117475 A JP2000117475 A JP 2000117475A JP 10287138 A JP10287138 A JP 10287138A JP 28713898 A JP28713898 A JP 28713898A JP 2000117475 A JP2000117475 A JP 2000117475A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for laser beam machining enabling positioning of galvanomirror in a short time and improving productivity. SOLUTION: While a difference between a target rotation angle of a galvanomirror 4 and an actual rotational moving angle is being detected by an angular difference detecting part, through feedback control based on the difference, the galvanomirror 4 is positioned at the target rotation angle and then laser beam is projected; at this time, a gain of the angular difference detecting part is set so that an overshoot may generate, and at the time of overshoot a target rotion angle is set so that the galvanomirror 4 may have an optimum rotation angle, and thus laser beam is projected at the time of overshoot. Thereby, the positioning of galvanomirror 4 is made in a short time and productivity is improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガルバノメータを
用いた高速位置決め制御全般に適用される。特に、ガル
バノメータの高速位置決めが必要とされるレーザ穴加工
方法に関し、詳しくは、ガルバノメータに取り付けたミ
ラーを介して、回路基板などにレーザを照射し、穴を加
工する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is applied to general high-speed positioning control using a galvanometer. In particular, the present invention relates to a laser hole processing method that requires high-speed positioning of a galvanometer, and more particularly, to a method of processing a hole by irradiating a circuit board or the like with a laser through a mirror attached to the galvanometer.

【0002】[0002]

【従来の技術】高密度配線の回路基板にスルーホール等
の穴を加工する作業において、ガルバノミラーを用いた
レーザ穴加工技術が採用されている。
2. Description of the Related Art In a work for forming a hole such as a through hole in a circuit board having a high-density wiring, a laser hole processing technique using a galvanomirror is employed.

【0003】レーザ穴加工技術は、被加工材にレーザ光
線を照射し、レーザ光線のエネルギーで被加工材を溶解
あるいは蒸発させて穴を空ける方法であり、ミクロン単
位の微細な穴を正確な位置に加工する場合に適してい
る。最近の携帯電話等の電子機器を代表する高密度配線
の回路基板における単位面積当たりの穴加工数は、穴の
微細化、基板の高密度化により、ますます増加してお
り、このような回路基板の製造にレーザ穴加工技術が広
く利用されるようにするためには、穴加工の高速化が必
要不可欠となっている。
[0003] The laser drilling technique is a method of irradiating a workpiece with a laser beam and melting or evaporating the workpiece with the energy of the laser beam to form a hole. Suitable for processing into The number of holes per unit area in high-density wiring circuit boards, which represent recent electronic devices such as mobile phones, has been increasing due to the miniaturization of holes and the densification of boards. In order for the laser drilling technology to be widely used in the manufacture of substrates, it is essential to increase the speed of drilling.

【0004】ガルバノメータにミラーを取り付けてなる
ガルバノミラーを用いた穴加工技術の具体例としては、
本出願人が先に特許出願した特開平8−174256号
公報等に開示されているように、レーザ光線をガルバノ
ミラーで反射させ、集光レンズにより集光して、加工対
象である回路基板に照射させることで、レーザ加工を行
うようになっている。
As a specific example of a hole drilling technique using a galvanometer mirror in which a mirror is attached to a galvanometer,
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-174256 filed by the present applicant, a laser beam is reflected by a galvanomirror, collected by a condensing lens, and applied to a circuit board to be processed. The laser processing is performed by irradiation.

【0005】このような穴加工技術に用いられるガルバ
ノメータは、μradオーダーの高分解能を有するとと
もに、光学角±20°の駆動領域と高速位置決めの特性
を有し、微小角が検知可能な静電容量センサを位置検知
手段として設けてサーボ系のアナログフィードバック制
御にて位置決めを行っている。
A galvanometer used for such a hole drilling technique has a high resolution of the order of μrad, a driving range of an optical angle of ± 20 ° and high-speed positioning characteristics, and a capacitance capable of detecting a minute angle. A sensor is provided as position detection means, and positioning is performed by analog feedback control of a servo system.

【0006】具体的には、ガルバノメータに対する移動
の指令が制御部から与えられると、図4に示すように、
実際の回転移動角度が目標回転角度を越えないように制
御しながら、目標回転角度に徐々に近づくようにガルバ
ノメータを回動制御させ、目標回転角度に達して安定し
た時点で、レーザ光線の照射指令を発して、レーザ加工
を行う。
[0006] Specifically, when a command to move to the galvanometer is given from the control unit, as shown in FIG.
While controlling the actual rotation angle so that it does not exceed the target rotation angle, the galvanometer is controlled to rotate gradually so as to gradually approach the target rotation angle. To perform laser processing.

【0007】ここで、図4におけるMvはガルバノミラ
ーに対する移動指令として目標回転角度を変動させてい
る移動時間、Jdはその後に目標回転角度までガルバノ
ミラーが移動して位置決めされるまでの位置決め時間、
Lonはレーザ光線の照射時間、Sdはレーザ波尾待時
間である。
Here, Mv in FIG. 4 is a moving time during which the target rotation angle is varied as a movement command to the galvanometer mirror, Jd is a positioning time until the galvanometer mirror moves to the target rotation angle and is positioned thereafter,
Lon is the irradiation time of the laser beam, and Sd is the laser wave tail waiting time.

【0008】なお、静電容量センサは微小なアナログ信
号で出力され、ノイズ等の影響等により目標位置決め完
了の判定に用いることは難しいので、実際には目標位置
決め完了の判定は、フィードバック制御におけるガルバ
ノミラーに対する移動指令の変動が終了した時点(移動
時間Mvの終点)から所定時間の待ち時間を位置決め時
間Jdとして設定し、この位置決め時間Jdを経過した
時点で位置決めを完了したとみなして判定し、レーザ光
線の照射を開始している。
Since the capacitance sensor is output as a minute analog signal and cannot be used to determine the completion of target positioning due to the influence of noise or the like, the determination of completion of target positioning is actually made by a galvanometer in feedback control. A waiting time of a predetermined time is set as the positioning time Jd from the time when the movement of the movement command to the mirror ends (the end point of the moving time Mv), and when the positioning time Jd elapses, it is determined that positioning is completed, Laser beam irradiation has started.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のレーザ加工方法によれば、目標回転角度に徐々に近
づくようにガルバノメータを回動制御させ、目標回転角
度に達して安定したことを待って位置決めを完了したと
みなす手順を採用しているため、ガルバノミラーの位置
決めに比較的長い時間がかかってしまい、処理能力が上
がらず、生産性が向上しないという課題を生じていた。
However, according to the above-mentioned conventional laser processing method, the galvanometer is controlled to rotate so as to gradually approach the target rotation angle, and is positioned after the target rotation angle is reached and stabilized. Therefore, the positioning of the galvanomirror takes a relatively long time, and there is a problem that the processing capacity is not increased and the productivity is not improved.

【0010】本発明は上記課題を解決するもので、ガル
バノミラーの位置決めを短時間で行うことが可能とな
り、生産性が向上するレーザ加工方法を提供することを
目的とするものである。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a laser processing method which can position a galvanomirror in a short time and improves productivity.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、レーザ光線をガルバノミラーで反射させ、
集光レンズにより集光して加工対象物に照射させること
でレーザ加工を行うレーザ加工方法であって、ガルバノ
ミラーの目標回転角度と実際の回転移動角度との差を角
度差検出部で検出し、この差に基づいてフィードバック
制御を行ってガルバノミラーを目標回転角度に位置決め
してレーザ光線を照射するに際し、前記角度差検出部の
ゲインをオーバーシュートが発生するように設定すると
ともに、オーバーシュート時にガルバノミラーが最適な
回転角度となるような目標回転角度を設定し、オーバー
シュート時にレーザ光線を照射させるものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above problems, the present invention provides a method for reflecting a laser beam on a galvanomirror,
This is a laser processing method that performs laser processing by condensing with a condenser lens and irradiating the object to be processed with a difference between a target rotation angle of a galvanometer mirror and an actual rotation movement angle detected by an angle difference detection unit. When performing the feedback control based on this difference and positioning the galvanomirror at the target rotation angle and irradiating the laser beam, the gain of the angle difference detection unit is set so that overshoot occurs, and at the time of overshoot. A target rotation angle is set so that the galvanomirror has an optimum rotation angle, and a laser beam is irradiated at the time of overshoot.

【0012】この方法によれば、ガルバノミラーの位置
決めを短時間で行うことが可能となり、生産性が向上す
る。
According to this method, the galvanomirror can be positioned in a short time, and the productivity is improved.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】請求項1に記載の本発明は、レー
ザ光線をガルバノミラーで反射させ、集光レンズにより
集光して加工対象物に照射させることでレーザ加工を行
うレーザ加工方法であって、ガルバノミラーの目標回転
角度と実際の回転移動角度との差を角度差検出部により
検出し、この差に基づいてフィードバック制御を行って
ガルバノミラーを目標回転角度に位置決めしてレーザ光
線を照射するに際し、前記角度差検出部のゲインをオー
バーシュートが発生するように設定するとともに、オー
バーシュート時にガルバノミラーが最適な回転角度とな
るような目標回転角度を設定し、オーバーシュート時に
レーザ光線を照射させるものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention according to claim 1 is a laser processing method for performing laser processing by reflecting a laser beam by a galvanometer mirror, condensing the laser beam by a condenser lens, and irradiating the laser beam on an object to be processed. Then, the difference between the target rotation angle of the galvanomirror and the actual rotational movement angle is detected by the angle difference detection unit, and based on this difference, feedback control is performed to position the galvanomirror at the target rotation angle and to position the laser beam. When irradiating, the gain of the angle difference detection unit is set so that an overshoot occurs, a target rotation angle is set such that the galvanomirror has an optimum rotation angle during the overshoot, and the laser beam is emitted during the overshoot. Irradiation.

【0014】この方法によれば、従来のようにガルバノ
ミラーが目標回転角度に達して安定することを待つので
はなく、オーバーシュート時にレーザ光線を照射させる
ため、従来は改善が困難であったガルバノメータのアナ
ログサーボで構成されたフィードバック制御系の最適設
計以上の高速化が高精度で望める。
According to this method, instead of waiting for the galvanomirror to reach the target rotation angle and stabilize as in the prior art, the laser beam is irradiated at the time of overshoot. The speed of the feedback control system composed of analog servos can be increased with higher accuracy than the optimal design.

【0015】以下、本発明の実施の形態を図面に基づき
説明する。この実施の形態においては、高密度配線の回
路基板にスルーホール等の穴を加工するレーザ加工装置
に用いられる場合に付いて説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, a case where the present invention is used for a laser processing apparatus for processing a hole such as a through hole in a circuit board having high-density wiring will be described.

【0016】図1に示すように、レーザ加工装置は、レ
ーザ光線1を出射するレーザ発振器2と、レーザ光線1
を分岐させるビームスプリッタ3と、ガルバノメータ4
aにミラー4bが取り付けられてなるガルバノミラー4
と、レーザ光線1を平面上に集光する集光レンズとして
のFθレンズ5と、X軸方向ならびにY軸方向に移動自
在とされ、被加工物6としての回路基板を載置するXY
テーブル7とにより基本構成されている。
As shown in FIG. 1, a laser processing apparatus comprises a laser oscillator 2 for emitting a laser beam 1 and a laser beam 1
Beam splitter 3 for branching the beam and galvanometer 4
a galvano mirror 4 having a mirror 4b attached to a
An Fθ lens 5 as a condensing lens for condensing the laser beam 1 on a plane, and an XY lens movably movable in the X-axis direction and the Y-axis direction, on which a circuit board as a workpiece 6 is placed.
It is basically constituted by a table 7.

【0017】そして、XYテーブル7上におかれた被加
工物6の任意の位置に穴を空けるために、XYテーブル
7が指令位置に位置決めされ、かつガルバノミラー4が
指令位置に位置決めされて完了した後に、レーザ発振器
2よりレーザ光線1を照射して、穴加工を行うようにな
っている。ガルバノミラー4の位置決めによって、50
mm×50mmエリア内の任意の点に穴加工でき、XY
テーブル7は、50mm単位で移動動作して、500m
m×350mmの被加工物6における任意の位置を加工
できるように構成されている。
The XY table 7 is positioned at the command position and the galvanomirror 4 is positioned at the command position in order to make a hole at an arbitrary position on the workpiece 6 placed on the XY table 7. After that, the laser beam 1 is irradiated from the laser oscillator 2 to perform the hole processing. By positioning the galvanomirror 4, 50
Holes can be drilled at any point in the
The table 7 moves in units of 50 mm, and
It is configured so that an arbitrary position on the workpiece 6 of mx 350 mm can be machined.

【0018】なお、図1に示すレーザ加工装置において
は、レーザ光線をビームスプリッタ3で分岐し、2対の
ガルバノミラー4およびFθレンズ5を配置して、XY
テーブル7上に2対の被加工物6を置くことによって2
枚の被加工物6に対する同時加工を実現している。
In the laser processing apparatus shown in FIG. 1, a laser beam is split by a beam splitter 3, and two pairs of galvanometer mirrors 4 and an Fθ lens 5 are arranged.
By placing two pairs of workpieces 6 on the table 7,
Simultaneous processing on a plurality of workpieces 6 is realized.

【0019】ところで、最近の携帯電話等の電子機器を
代表する高密度配線の回路基板は、穴の微細化、回路基
板の高密度化により、50mm×50mm当たりの穴加
工数は、1000穴、回路基板全体では50000穴を
超えており、ガルバノミラー4の位置決めの時間が1枚
の被加工物加工タクトに大きく影響する。
By the way, the circuit board of high-density wiring, which is representative of electronic equipment such as a cellular phone, has recently been manufactured with 1000 holes per 50 mm × 50 mm due to finer holes and higher density of circuit boards. The entire circuit board has more than 50,000 holes, and the positioning time of the galvanomirror 4 greatly affects the processing tact of one workpiece.

【0020】そこで、本発明においては、図2において
ガルバノミラー4に関する制御系を示し、図3において
制御方法を示すように、アナログフィードバック制御を
行うガルバノドライバ8のゲインを上げ、オーバーシュ
ートを発生させ、位置決め到達時間を短縮させる。ま
た、オーバーシュート分の目標値に対する位置ずれに関
しては、予め出力ゲインを強くしておいた状態にて、移
動距離とオーバーシュート量、ピーク時間をそれぞれ測
定しておき、指令値に加算しておき、目標の位置決めに
なるようガルバノミラー4を制御部としての上位コント
ローラ10にて制御する。なお、図3における、Mvは
ガルバノミラー4に対する移動指令として目標回転角度
を変動させている移動時間、Jdはその後に目標回転角
度までガルバノミラー4が移動して位置決めされるまで
の位置決め時間、Lonはレーザ光線の照射時間、Sd
はレーザ波尾待時間である。
Therefore, in the present invention, the control system relating to the galvanometer mirror 4 is shown in FIG. 2, and as shown in the control method in FIG. 3, the gain of the galvano driver 8 for performing the analog feedback control is increased to cause overshoot. , To shorten the positioning arrival time. Regarding the position deviation of the overshoot relative to the target value, the moving distance, the amount of overshoot, and the peak time are measured and added to the command value while the output gain is increased in advance. The galvanomirror 4 is controlled by the host controller 10 as a control unit so that the target is positioned. In FIG. 3, Mv is a movement time during which the target rotation angle is varied as a movement command for the galvanometer mirror 4, Jd is a positioning time until the galvanometer mirror 4 moves to the target rotation angle and is positioned, Lon. Is the irradiation time of the laser beam, Sd
Is the laser wave tail waiting time.

【0021】つまり、位置検知手段としての静電容量セ
ンサ9で検出したガルバノミラー4の実際の回転移動角
度と、ガルバノミラー4の目標回転角度との差を、角度
差検出部としても機能するガルバノドライバ8で算出し
ながら、この差に基づいてフィードバック制御を行って
ガルバノミラー4を目標回転角度に位置決めしてレーザ
光線を照射するに際し、ガルバノドライバ8のゲインを
オーバーシュートが発生するように設定する。また、出
力ゲインを強くしておいた状態にて、ガルバノミラー4
の回転移動距離とオーバーシュート量、オーバーシュー
トのピークとなる時間をそれぞれ予め測定しておき、記
憶させておく。さらに、オーバーシュート時に、ガルバ
ノミラー4を回転させるべき最適な回転角度となるよう
なデータを抽出し、この抽出データに該当する回転角度
を目標回転角度として設定する。そして、このようにし
て、オーバーシュート量を考慮した指令を発して、オー
バーシュートを発生させるように制御するとともに、オ
ーバーシュートのピークとなる時間にレーザ光線を照射
させる。これにより、ガルバノミラー4の位置決め精度
を確保しながら、位置決め時間Jdを短縮させることが
できる。
That is, the difference between the actual rotation angle of the galvanometer mirror 4 detected by the capacitance sensor 9 as the position detection means and the target rotation angle of the galvanometer mirror 4 is determined by the galvanometer functioning as an angle difference detector. While calculating by the driver 8, feedback control is performed based on this difference to set the galvanomirror 4 to the target rotation angle and set the gain of the galvano driver 8 so that overshoot occurs when irradiating the laser beam. . Also, with the output gain increased, the galvanomirror 4
, The overshoot amount, and the overshoot peak time are measured in advance and stored. Further, at the time of overshoot, data is extracted so as to have an optimal rotation angle at which the galvanometer mirror 4 should be rotated, and a rotation angle corresponding to the extracted data is set as a target rotation angle. Then, in this way, a command considering the amount of overshoot is issued, control is performed so as to generate overshoot, and the laser beam is irradiated at the peak time of overshoot. Thus, the positioning time Jd can be reduced while ensuring the positioning accuracy of the galvanometer mirror 4.

【0022】本発明をこのレーザ加工装置に用いること
により、1穴当りの加工時間が約100μS短縮でき、
50000穴のワーク1枚において、5秒の時間短縮が
可能となった。
By using the present invention in this laser processing apparatus, the processing time per hole can be reduced by about 100 μS.
With one 50,000-hole work, the time can be reduced by 5 seconds.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、従来のよ
うにガルバノミラーが目標回転角度に達して安定するこ
とを待つのではなく、オーバーシュート時にレーザ光線
を照射させるため、位置決め時間を短縮させることがで
き、従来は改善が困難であったガルバノメータのアナロ
グサーボで構成されたフィードバック制御系の最適設計
以上の高速化が望め、かつ位置決め精度も確保できる。
As described above, according to the present invention, instead of waiting for the galvanomirror to reach the target rotation angle and stabilize as in the prior art, the laser beam is irradiated at the time of overshoot. It is possible to shorten the feedback control, and it is possible to expect a higher speed than the optimal design of the feedback control system constituted by the analog servo of the galvanometer, which has been difficult to improve, and to secure the positioning accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態にかかるレーザ加工方法を
行うレーザ加工装置の斜視図
FIG. 1 is a perspective view of a laser processing apparatus that performs a laser processing method according to an embodiment of the present invention.

【図2】同レーザ加工装置のガルバノミラー制御系を示
す図
FIG. 2 is a diagram showing a galvanomirror control system of the laser processing apparatus.

【図3】同レーザ加工方法を概念的に示す図FIG. 3 is a view conceptually showing the laser processing method.

【図4】従来のレーザ加工方法を概念的に示す図FIG. 4 is a diagram conceptually showing a conventional laser processing method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ光線 2 レーザ発振器 4 ガルバノミラー 4a ガルバノメータ 4b ミラー 5 Fθレンズ(集光レンズ) 6 XYテーブル 7 被加工物 8 ガルバノドライバ 9 静電容量センサ(位置検知手段) 10 上位コントローラ(制御部) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser beam 2 Laser oscillator 4 Galvanometer mirror 4a Galvanometer 4b Mirror 5 Fθ lens (condensing lens) 6 XY table 7 Workpiece 8 Galvano driver 9 Capacitance sensor (position detecting means) 10 Host controller (control unit)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/00 H05K 3/00 N ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/00 H05K 3/00 N

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ光線をガルバノミラーで反射さ
せ、集光レンズにより集光して加工対象物に照射させる
ことでレーザ加工を行うレーザ加工方法であって、ガル
バノミラーの目標回転角度と実際の回転移動角度との差
を角度差検出部で検出し、この差に基づいてフィードバ
ック制御を行ってガルバノミラーを目標回転角度に位置
決めしてレーザ光線を照射するに際し、前記角度差検出
部のゲインをオーバーシュートが発生するように設定す
るとともに、オーバーシュート時にガルバノミラーが最
適な回転角度となるような目標回転角度を設定し、オー
バーシュート時にレーザ光線を照射させるレーザ加工方
法。
1. A laser processing method for performing laser processing by reflecting a laser beam by a galvanomirror, condensing the laser beam by a condenser lens, and irradiating the laser beam to an object to be processed. A difference from the rotational movement angle is detected by an angle difference detection unit, and a feedback control is performed based on the difference to position the galvanomirror at a target rotation angle and irradiate a laser beam. A laser processing method in which overshoot is set, a target rotation angle is set such that the galvanomirror has an optimum rotation angle during overshoot, and a laser beam is irradiated during overshoot.
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