JPH09307240A - Manufacture of multilayer wiring board - Google Patents

Manufacture of multilayer wiring board

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JPH09307240A
JPH09307240A JP14830396A JP14830396A JPH09307240A JP H09307240 A JPH09307240 A JP H09307240A JP 14830396 A JP14830396 A JP 14830396A JP 14830396 A JP14830396 A JP 14830396A JP H09307240 A JPH09307240 A JP H09307240A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
resin composition
multilayer wiring
epoxy resin
parts
Prior art date
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Pending
Application number
JP14830396A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichiro Hanamura
賢一郎 花村
Midori Kobayashi
みどり 子林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Chemical Corp filed Critical Toshiba Chemical Corp
Priority to JP14830396A priority Critical patent/JPH09307240A/en
Publication of JPH09307240A publication Critical patent/JPH09307240A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer wiring board having heat resisting property, moisture resisting property and close contact property without using a halogen as a non-flammable method and without generation of hydrogen bromide, which is poisonous gas, when a burning operation is conducted. SOLUTION: In the manufacturing method of a multilayer wiring board using a build-up method, a process in which a red phosphorus containing photosensitive resin composition is formed at least on one surface of an inner layer wiring board where a non-halogen containing resin composition is used, and a process in which a wiring pattern is formed on the layer insulating film by etching a conductive layer after formation of a conductive layer by non- electrolytic plating and electric plating, are repeated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、難燃化手法として
ハロゲンを用いておらず、難燃時有毒ガスである臭化水
素を発生させることなく、絶縁基板上に複数層の導体パ
ターンを設けてなる多層配線基板の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention does not use halogen as a flame-retardant technique and provides a plurality of layers of conductor patterns on an insulating substrate without generating hydrogen bromide which is a toxic gas during flame retardation. And a method for manufacturing a multilayer wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気、電子部品に要求される難燃規制
は、世界的な環境問題、人体に対する安全性への関心の
高まりと共に、低公害性、低有毒性、安全性へと移りつ
つあって、単に燃え難いだけでなく、有毒性ガス、発煙
性の低減が要望されつつある。
2. Description of the Related Art The flame-retardant regulation required for electric and electronic parts is shifting to low pollution, low toxicity, and safety along with global environmental problems and increasing concern about human safety. In addition to being difficult to burn, there is a growing demand for reducing toxic gases and fumes.

【0003】ビルトアップ法による多層プリント配線基
板においても、難燃剤として使用されている含ハロゲン
物質は大半が臭素系で、テトラブロモビスフェノールA
を中心とする誘導体(臭素化エポキシ樹脂等)が広く使
用されている。そのため、脱ハロゲン化への要求が高ま
りつつある。非ハロゲン系難燃剤としては、窒素系、燐
系、無機系化合物などが挙げられるが、プリント配線基
板用原料に使用した場合、一般に、窒素系の化合物は樹
脂硬化への影響、燐系の化合物は耐湿性低下等の課題が
あり、実用化が困難であるのが現状である。
Even in the multilayer printed wiring board by the built-up method, most of the halogen-containing substances used as flame retardants are bromine-based and tetrabromobisphenol A.
Derivatives centered on (such as brominated epoxy resin) are widely used. Therefore, the demand for dehalogenation is increasing. Examples of non-halogen flame retardants include nitrogen-based, phosphorus-based, and inorganic compounds. When used as a raw material for printed wiring boards, nitrogen-based compounds generally affect the effect of resin curing and phosphorus-based compounds. However, it is difficult to put it into practical use because of problems such as reduced moisture resistance.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の事情に鑑みてなされたもので、難燃化手法としてハロ
ゲンを用いておらず、燃焼時有毒ガスである臭化水素を
発生させることなく、耐熱性、耐湿性、密着性に優れた
ビルトアップ法多層配線基板を提供しようとするもので
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention was made in view of the above-mentioned circumstances. It does not use halogen as a flame retardant method and produces hydrogen bromide which is a toxic gas during combustion. The present invention intends to provide a built-up multilayer wiring board having excellent heat resistance, moisture resistance, and adhesiveness.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成しようと鋭意研究を進めた結果、層間絶縁膜の
難燃剤としてハロゲンを使用することなく、また燐系化
合物でなく赤リンを使用する。特に無機充填剤を併用す
ることによって、ビルトアップ法多層配線基板における
上記の目的が達成できることを見いだし、本発明を完成
したものである。
As a result of intensive research aimed at achieving the above object, the inventors of the present invention did not use halogen as a flame retardant for an interlayer insulating film, and did not use a phosphorus-based compound as a flame retardant. Use phosphorus. In particular, the inventors have found that the above-mentioned object of the built-up multilayer wiring board can be achieved by using an inorganic filler together, and completed the present invention.

【0006】即ち、本発明は、ビルトアップ法による多
層配線基板の製造方法において、ハロゲンを含まないエ
ポキシ樹脂組成物を用いた内層配線基板の少なくとも片
面に、層間絶縁用として赤リンを含む感光性樹脂組成物
を成膜する工程と、上記層間絶縁膜上に無電解メッキ及
び電気メッキによる導体層を形成し次いで該導体層をエ
ッチングして配線パターン形成する工程とを繰り返すこ
とを特徴とする多層配線基板の製造方法である。また、
内層配線基板のエポキシ樹脂組成物としても赤リンを含
むエポキシ樹脂組成物を用いる多層配線基板の製造方法
である。
That is, according to the present invention, in a method for manufacturing a multilayer wiring board by a built-up method, a photosensitive layer containing red phosphorus for interlayer insulation is provided on at least one surface of an inner layer wiring board using an epoxy resin composition containing no halogen. A multi-layer characterized by repeating a step of forming a resin composition and a step of forming a conductor layer by electroless plating and electroplating on the interlayer insulating film and then etching the conductor layer to form a wiring pattern. It is a method of manufacturing a wiring board. Also,
A method for producing a multilayer wiring board, wherein an epoxy resin composition containing red phosphorus is also used as the epoxy resin composition of an inner layer wiring board.

【0007】以下、本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

【0008】本発明に用いるエポキシ樹脂組成物は、
(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進
剤、(D)赤リン、(E)無機充填剤を必須成分とし、
全体の樹脂組成物に対して前記(D)の赤リンを 0.5〜
20重量%の割合で含有してなるものである。これらの各
成分について説明する。
The epoxy resin composition used in the present invention is
(A) epoxy resin, (B) curing agent, (C) curing accelerator, (D) red phosphorus, (E) inorganic filler as essential components,
The red phosphorus of (D) is added to the entire resin composition in an amount of 0.5 to
The content is 20% by weight. Each of these components will be described.

【0009】(A)エポキシ樹脂としては、通常積層板
用として使用できるものであれば、特に制限はなく広く
使用することができる。具体的なものとして、例えばビ
スフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エ
ポキシ樹脂、ノボラックエポキシ樹脂などのグリシジル
エーテル型エポキシ樹脂、あるいはグリシジルエステル
型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、脂
環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂等が挙げら
れ、これらのエポキシ樹脂は単独又は 2種以上混合して
使用することができる。
The epoxy resin (A) is not particularly limited and can be widely used as long as it can be usually used for laminated boards. Specific examples include glycidyl ether type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and novolac epoxy resin, or glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, and complex. Examples thereof include cyclic epoxy resins, and these epoxy resins can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0010】(B)硬化剤としては、通常エポキシ樹脂
の硬化剤として使用されるものであればよく、特に制限
されるものではない。アミン硬化系としては、ジシアン
ジアミド、芳香族アミン等が、フェノール硬化系として
は、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック
樹脂、ビスフェノールA型ノボラック樹脂等が挙げら
れ、これらは単独又は 2種以上混合して使用することが
できる。
The curing agent (B) is not particularly limited as long as it is one usually used as a curing agent for epoxy resins. Examples of amine curing systems include dicyandiamide and aromatic amines, and examples of phenol curing systems include phenol novolac resins, cresol novolac resins, and bisphenol A type novolac resins. These may be used alone or in combination of two or more. be able to.

【0011】(C)硬化促進剤としては、通常エポキシ
樹脂の硬化促進剤として使用されるものであればよく、
特に制限されるものではない。具体的なものとして、例
えば、2-エチル−4-メチルイミダゾール、2-フェニル−
4-メチルイミダゾール、2-メチルイミダゾールなどのイ
ミダゾール誘導体やこれらのシアノエチル化合物、ある
いはアジン化合物、ベンジルジメチルアミン、1,8-ジア
ザビシクロ(5,4,0 )ウンデセン等が挙げられ、これら
は単独又は 2種以上混合して使用することができる。
The (C) curing accelerator may be any one usually used as a curing accelerator for epoxy resins,
There is no particular limitation. Specific examples include 2-ethyl-4-methylimidazole and 2-phenyl-
Examples include imidazole derivatives such as 4-methylimidazole and 2-methylimidazole, cyanoethyl compounds thereof, azine compounds, benzyldimethylamine, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene, etc. A mixture of two or more species can be used.

【0012】(D)赤リンとしては、赤リンを単独で使
用するほか、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウ
ム、酸化チタン等の無機化合物を赤リンに分散したもの
もしくはコートしたもの又は赤リンに樹脂コートしたも
の等が挙げられ、これらは単独又は 2種以上混合して使
用することができる。この赤リンの配合割合は、全体の
樹脂組成物の 0.5〜20重量%の割合で含有するように配
合することが望ましい。配合量が 0.5重量%未満では、
十分な難燃性および密着性が得られず、また、20重量%
を超えると電気特性が低下し好ましくない。
As the red phosphorus (D), in addition to using red phosphorus alone, inorganic compounds such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and titanium oxide are dispersed or coated in red phosphorus, or red phosphorus is a resin. Examples thereof include coated materials, and these may be used alone or in combination of two or more kinds. It is desirable to mix the red phosphorus so that it is contained in an amount of 0.5 to 20% by weight of the entire resin composition. If the blending amount is less than 0.5% by weight,
Insufficient flame retardancy and adhesion are not obtained, and 20% by weight
If it exceeds the range, the electrical characteristics deteriorate, which is not preferable.

【0013】(E)無機充填剤としては、タルク、シリ
カ、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウ
ム、炭酸カルシウム等が挙げられ、これらは単独又は 2
種以上混合して使用することができる。無機充填剤の配
合割合は、全体の樹脂組成物に対して10〜50重量%の割
合で含有するように配合することが望ましい。配合量が
10重量%未満では、十分な難燃性、耐熱性、耐湿性が得
られず、また、50重量%を超えると樹脂粘度が増加し、
塗布ムラが発生しボイドや板厚不良となり好ましくな
い。
Examples of the inorganic filler (E) include talc, silica, alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate and the like.
A mixture of two or more species can be used. It is desirable to mix the inorganic filler so as to be contained in a proportion of 10 to 50% by weight based on the total resin composition. The amount
If it is less than 10% by weight, sufficient flame retardance, heat resistance and moisture resistance cannot be obtained, and if it exceeds 50% by weight, the resin viscosity increases,
It is not preferable because coating unevenness occurs, resulting in voids and defective plate thickness.

【0014】エポキシ樹脂組成物は、(A)エポキシ樹
脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進剤、(D)赤リン、
(E)無機充填剤を必須成分とするが、本発明の目的に
反しない範囲において他の成分、例えば、着色顔料、消
泡剤、レベリング剤、酸化防止剤等を必要に応じて添加
配合することができる。
The epoxy resin composition comprises (A) epoxy resin, (B) curing agent, (C) curing accelerator, (D) red phosphorus,
(E) An inorganic filler is used as an essential component, but other components such as a color pigment, a defoaming agent, a leveling agent, and an antioxidant are added and blended as necessary within the range not deviating from the object of the present invention. be able to.

【0015】このエポキシ樹脂組成物をエポキシ樹脂ワ
ニスとし、ガラスクロス又はガラス不織布に塗布・含浸
・乾燥させてプリプレグをつくる。このプリプレグの複
数枚の少なくとも片面に銅箔を重ね合わせて、加熱加圧
一体に成形してガラスエポキシ積層板を製造する。この
積層板の銅箔面に回路形成して内層基板をつくる。
This epoxy resin composition is used as an epoxy resin varnish, which is applied, impregnated and dried on a glass cloth or a glass non-woven fabric to form a prepreg. A copper foil is laminated on at least one surface of a plurality of the prepregs and integrally molded by heating and pressuring to manufacture a glass epoxy laminate. A circuit is formed on the copper foil surface of this laminate to form an inner layer substrate.

【0016】本発明に用いる感光性樹脂組成物は、
(1)エポキシアクリレート樹脂、(2)希釈剤、
(3)増感剤、(4)エポキシ樹脂、(5)硬化剤、
(6)硬化促進剤、(7)赤リン、(8)無機充填剤を
必須成分とし、全体の感光性樹脂組成物に対して前記
(7)の赤リンを 0.5〜20重量%の割合で含有してなる
ものである。これらの各成分について説明する。
The photosensitive resin composition used in the present invention is
(1) Epoxy acrylate resin, (2) Diluent,
(3) sensitizer, (4) epoxy resin, (5) curing agent,
(6) Curing accelerator, (7) Red phosphorus, (8) Inorganic filler are essential components, and 0.5 to 20% by weight of the above-mentioned (7) red phosphorus is contained in the whole photosensitive resin composition. It is contained. Each of these components will be described.

【0017】(1)エポキシアクリレート樹脂として
は、エポキシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応させた
ものや、エポキシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応さ
せ、さらに多塩基酸無水物を付加させた反応生成物であ
ればよく、特に制限されるものではなく広く使用するこ
とができる。これらのエポキシアクリレート樹脂は、単
独または 2種以上混合して使用することができる。
(1) As the epoxy acrylate resin, a reaction of an epoxy resin with an unsaturated monocarboxylic acid or a reaction of an epoxy resin with an unsaturated monocarboxylic acid and further addition of a polybasic acid anhydride The product is not particularly limited and can be widely used as long as it is a product. These epoxy acrylate resins can be used alone or in combination of two or more.

【0018】(2)希釈剤としては、分子中に少なくと
も 2個のエチレン結合を有する不飽和化合物と有機溶剤
等であればよく、特に制限されるものではなく広く使用
することができる。
(2) The diluent may be an unsaturated compound having at least two ethylene bonds in the molecule, an organic solvent and the like, and is not particularly limited and can be widely used.

【0019】(3)増感剤としては、通常エポキシアク
リレート樹脂の光硬化に使用されている化合物であれば
よく、特に制限されるものではない。具体的な増感剤と
して、例えば、2-メチル−[4-(メチルチオ)フェニ
ル]−2-モルフォリノ−1-プロパノン、p-フェニルベン
ゾフェノン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチ
ルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、ベ
ンゾインエチルエーテル等が挙げられ、これらは単独ま
たは 2種以上混合して使用することができる。
(3) The sensitizer is not particularly limited as long as it is a compound usually used for photocuring an epoxy acrylate resin. Specific sensitizers include, for example, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, p-phenylbenzophenone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-Isopropylthioxanthone, benzoin ethyl ether and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0020】(4)エポキシ樹脂、(5)硬化剤、
(6)硬化促進剤、(7)赤リン、(8)無機充填剤に
ついては、上述したエポキシ樹脂組成物の成分である
(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進
剤、(D)赤リン、(E)無機充填剤と同じものをそれ
ぞれ使用することができる。
(4) Epoxy resin, (5) Curing agent,
Regarding (6) curing accelerator, (7) red phosphorus, and (8) inorganic filler, (A) epoxy resin, (B) curing agent, (C) curing accelerator, which are components of the epoxy resin composition described above. , (D) red phosphorus, and (E) inorganic filler can be used.

【0021】本発明に用いる感光性樹脂組成物は、
(1)エポキシアクリレート樹脂、(2)希釈剤、
(3)増感剤、(4)エポキシ樹脂、(5)硬化剤、
(6)硬化促進剤、(7)赤リン、(8)無機充填剤を
必須成分とするが、本発明の目的に反しない範囲におい
て他の成分、例えば、着色顔料、消泡剤、レベリング
剤、酸化防止剤等を必要に応じて添加配合することがで
きる。
The photosensitive resin composition used in the present invention is
(1) Epoxy acrylate resin, (2) Diluent,
(3) sensitizer, (4) epoxy resin, (5) curing agent,
(6) Curing accelerator, (7) Red phosphorus, (8) Inorganic filler as essential components, but other components such as a color pigment, a defoaming agent, and a leveling agent within the range not deviating from the object of the present invention. An antioxidant and the like can be added and blended as necessary.

【0022】上述の回路形成した内層基板の少なくとも
片面に、層間絶縁用として感光性樹脂組成物を成膜し、
UV露光、現像処理を経て層間接続に必要なビアホール
を成形し、続いて加熱硬化処理、表面粗化処理、無電解
メッキ及び電気メッキを施して導体層を形成、配線パタ
ーンを形成する。感光性樹脂組成物の成膜から無電解メ
ッキ及び電気メッキを施して導体層を形成、配線パター
ンを形成する工程を繰り返して行うことによって、多層
配線基板を製造することができる。
A photosensitive resin composition for interlayer insulation is formed into a film on at least one surface of the above-mentioned circuit-formed inner layer substrate,
A via hole necessary for interlayer connection is formed through UV exposure and development treatment, and subsequently, heat curing treatment, surface roughening treatment, electroless plating and electroplating are performed to form a conductor layer and a wiring pattern. A multilayer wiring board can be manufactured by repeating the steps of forming a conductive layer by electroless plating and electroplating a film of a photosensitive resin composition and forming a wiring pattern.

【0023】本発明は、難燃化手法としてハロゲン化合
物を一切使用していないため、燃焼時の有毒ガスである
臭化水素を発生させることなく、耐熱性、耐湿性、密着
性に優れたビルトアップ法による多層配線基板を製造す
ることが可能となった。
Since the present invention does not use any halogen compound as a flame retardant method, it does not generate hydrogen bromide, which is a toxic gas at the time of combustion, and is excellent in heat resistance, moisture resistance and adhesion. It has become possible to manufacture a multilayer wiring board by the up method.

【0024】[0024]

【発明の実施形態】次に本発明を実施例によって具体的
に説明する。本発明はこれらの実施例よって限定される
ものではない。以下の実施例および比較例において、
「部」とは「重量部」を意味する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples. The present invention is not limited by these examples. In the following Examples and Comparative Examples,
"Parts" means "parts by weight".

【0025】実施例1 エポキシアクリレート樹脂(ノボラック系K−48C、
酸価63、固形分60重量部)100 部、エポキシ樹脂(CN
E200EL、エポキシ当量 200)40部、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート10部、イルガーキュアー9
07(チバガイギー社製、商品名) 8部、ジシアンジア
ミド 1部、2-エチル-4−メチルイミダゾール 0.25 部、
硫酸バリウム10部、水酸化アルミニウム10部、赤リン
(フェノール樹脂コート、赤リン含有量85重量%)25部
を混合し、さらに三本ロールミルで均一に混合して感光
性樹脂組成物を製造した。
Example 1 Epoxy acrylate resin (Novolak K-48C,
Acid value 63, solid content 60 parts by weight 100 parts, epoxy resin (CN
E200EL, epoxy equivalent 200) 40 parts, trimethylolpropane triacrylate 10 parts, Irger Cure 9
07 (manufactured by Ciba Geigy, trade name) 8 parts, dicyandiamide 1 part, 2-ethyl-4-methylimidazole 0.25 part,
Barium sulfate 10 parts, aluminum hydroxide 10 parts, red phosphorus (phenol resin coating, red phosphorus content 85% by weight) 25 parts were mixed and further uniformly mixed with a three-roll mill to produce a photosensitive resin composition. .

【0026】次に、内層基板用として難燃剤に赤リンを
使用したガラス基材エポキシ樹脂銅張積層板TLC−7
51TRG(東芝ケミカル社製、商品名)を準備し、上
記の感光性樹脂組成物の溶液を回路形成した内層基板
に、スクリーン印刷により膜厚60μmに塗布した。感光
性樹脂組成物を塗布した内層基板は、80℃の熱風循環式
乾燥機で25分間乾燥させ、有機溶剤を揮散させた後、所
望のパターンマスクを通して露光量 300mJの紫外線照
射し、 1%炭酸ナトリウム(30℃,スプレー圧 1.0kg
/cm2 )で60秒間現像を行った。次いで150 ℃の熱風
循環式乾燥機で60分間乾燥させ樹脂被膜を得た。
Next, a glass-based epoxy resin copper-clad laminate TLC-7 using red phosphorus as a flame retardant for the inner layer substrate.
51 TRG (Toshiba Chemical Co., Ltd., trade name) was prepared, and a solution of the above-mentioned photosensitive resin composition was applied by screen printing to a film thickness of 60 μm on the inner layer substrate on which a circuit was formed. The inner layer substrate coated with the photosensitive resin composition is dried by a hot air circulation dryer at 80 ° C for 25 minutes, the organic solvent is volatilized, and then UV irradiation with an exposure amount of 300 mJ is performed through a desired pattern mask, and 1% carbon dioxide is added. Sodium (30 ℃, spray pressure 1.0kg
/ Cm @ 2) for 60 seconds. Then, it was dried for 60 minutes with a hot air circulation dryer at 150 ° C. to obtain a resin film.

【0027】その後、その樹脂被膜をバフ研磨、過マン
ガン酸カリウム溶液でエッチングし、無電解銅メッキお
よび電気銅メッキを施して導体層を形成した。次いでエ
ッチング法により導体層の配線パターン化を行って多層
配線基板を製造した。
After that, the resin coating was buffed, etched with a potassium permanganate solution, and electroless copper plated and electrolytic copper plated to form a conductor layer. Next, the conductor layer was patterned by etching to produce a multilayer wiring board.

【0028】実施例2 エポキシアクリレート樹脂(ノボラック系K−48C、
酸価63、固形分60重量%)100 部、エポキシ樹脂(CN
E200EL、エポキシ当量200 )40部、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート10部、イルガーキュアー9
07(チバガイギー社製、商品名) 8部、ジシアンジア
ミド 1部、2-エチル-4−メチルイミダゾール 0.25 部、
硫酸バリウム10部、水酸化アルミニウム10部、赤リン
(フェノール樹脂コート、赤リン含有量85重量%)50部
を混合し、さらに三本ロールミルで均一に混合して感光
性樹脂組成物を製造した。その後、実施例1と同様にし
て多層配線基板を製造した。
Example 2 Epoxy acrylate resin (Novolak K-48C,
Acid value 63, solid content 60% by weight) 100 parts, epoxy resin (CN
E200EL, epoxy equivalent 200) 40 parts, trimethylolpropane triacrylate 10 parts, Irger Cure 9
07 (manufactured by Ciba Geigy, trade name) 8 parts, dicyandiamide 1 part, 2-ethyl-4-methylimidazole 0.25 part,
Barium sulfate 10 parts, aluminum hydroxide 10 parts, red phosphorus (phenol resin coating, red phosphorus content 85% by weight) 50 parts were mixed and further uniformly mixed with a three-roll mill to produce a photosensitive resin composition. . Then, a multilayer wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1.

【0029】実施例3 エポキシアクリレート樹脂(トリフェノールメタン系T
CR1025、酸価 103、固形分60重量%)100 部、エ
ポキシ樹脂(CNE200EL、エポキシ当量200)40
部、トリメチロールプロパントリアクリレート10部、イ
ルガーキュアー907(チバガイギー社製、商品名) 8
部、ジシアンジアミド 1部、2-エチル-4−メチルイミダ
ゾール 0.25 部、硫酸バリウム10部、水酸化アルミニウ
ム10部、赤リン(フェノール樹脂コート、赤リン含有量
85重量%)25部を混合し、さらに三本ロールミルで均一
に混合して感光性樹脂組成物を製造した。その後、実施
例1と同様にして多層配線基板を製造した。
Example 3 Epoxy acrylate resin (triphenol methane type T
CR1025, acid value 103, solid content 60% by weight) 100 parts, epoxy resin (CNE200EL, epoxy equivalent 200) 40
Part, trimethylolpropane triacrylate 10 parts, Irger Cure 907 (manufactured by Ciba Geigy, trade name) 8
Part, dicyandiamide 1 part, 2-ethyl-4-methylimidazole 0.25 part, barium sulfate 10 parts, aluminum hydroxide 10 parts, red phosphorus (phenol resin coating, red phosphorus content
85 parts by weight) was mixed and further uniformly mixed with a three-roll mill to produce a photosensitive resin composition. Then, a multilayer wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1.

【0030】比較例1 エポキシアクリレート樹脂(ノボラック系K−48C、
酸価63、固形分60重量%)100 部、臭素化エポキシ樹脂
(BREN−S、エポキシ当量 285)60部、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート10部、イルガーキュアー
907(チバガイギー社製、商品名) 8部、ジシアンジ
アミド1部、2-エチル-4−メチルイミダゾール 0.25
部、硫酸バリウム10部、水酸化アルミニウム20部を混合
し、さらに三本ロールミルで均一に混合して感光性樹脂
組成物を製造した。
Comparative Example 1 Epoxy acrylate resin (Novolak K-48C,
Acid value 63, solid content 60% by weight) 100 parts, brominated epoxy resin (BREN-S, epoxy equivalent 285) 60 parts, trimethylolpropane triacrylate 10 parts, Irger Cure 907 (Ciba Geigy, trade name) 8 Part, dicyandiamide 1 part, 2-ethyl-4-methylimidazole 0.25
Parts, 10 parts of barium sulfate and 20 parts of aluminum hydroxide were mixed, and further uniformly mixed with a three-roll mill to produce a photosensitive resin composition.

【0031】次に、内層基板用として臭素化エポキシ樹
脂を使用したガラス基材エポキシ樹脂銅張積層板TLC
−751(東芝ケミカル社製、商品名)を準備し、上記
の感光性樹脂組成物の溶液を、回路形成した内層基板に
スクリーン印刷により膜厚60μmに塗布した。その後、
実施例1と同様にして多層配線基板を製造した。
Next, a glass substrate epoxy resin copper clad laminate TLC using a brominated epoxy resin for the inner layer substrate.
-751 (manufactured by Toshiba Chemical Co., Ltd., trade name) was prepared, and the solution of the above-mentioned photosensitive resin composition was applied to a circuit-formed inner layer substrate by screen printing to a film thickness of 60 μm. afterwards,
A multilayer wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1.

【0032】比較例2 エポキシアクリレート樹脂(ノボラック系K−48C、
酸価63、固形分60重量%) 100部、エポキシ樹脂(CN
E200EL、エポキシ当量 200)40部、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート10部、イルガーキュアー9
07(チバガイギー社製、商品名) 8部、ジシアンジア
ミド 1部、2-エチル-4−メチルイミダゾール 0.25 部、
硫酸バリウム10部、水酸化アルミニウム20部を混合し、
さらに三本ロールミルで均一に混合して感光性樹脂組成
物を製造した。その後、比較例1と同様にして多層配線
基板を製造した。
Comparative Example 2 Epoxy acrylate resin (Novolak K-48C,
Acid value 63, solid content 60% by weight) 100 parts, epoxy resin (CN
E200EL, epoxy equivalent 200) 40 parts, trimethylolpropane triacrylate 10 parts, Irger Cure 9
07 (manufactured by Ciba Geigy, trade name) 8 parts, dicyandiamide 1 part, 2-ethyl-4-methylimidazole 0.25 part,
Mix 10 parts of barium sulfate and 20 parts of aluminum hydroxide,
Further, the mixture was uniformly mixed with a three-roll mill to produce a photosensitive resin composition. Then, a multilayer wiring board was manufactured in the same manner as in Comparative Example 1.

【0033】実施例1〜3および比較例1〜2で製造し
た多層配線基板の特性評価結果を表1に示した。いずれ
も本発明が優れており、本発明の効果を確認することが
できた。
Table 1 shows the characteristic evaluation results of the multilayer wiring boards manufactured in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2. In all cases, the present invention was excellent, and the effects of the present invention could be confirmed.

【0034】[0034]

【表1】 *1 :UL−94難燃性試験に準じて測定。 *2 :メッキ導体層と感光性樹脂組成物層との密着性を
JIS−C−6481に準じて測定した。 *3 :熱劣化条件、180 ℃,200 時間。 *4 :A…煮沸 4時間処理、B…120 ℃,2 気圧の水蒸
気中、2 時間処理。A又はBの処理後、260 ℃の半田浴
に30秒間浸漬しフクレの有無を観察した。◎印…フクレ
全くなし、○印…一部にフクレあり、△印…大部分にフ
クレあり。 *5 :JIS−C−6481に準じて測定した。
[Table 1] * 1: Measured according to UL-94 flame retardancy test. * 2: The adhesion between the plated conductor layer and the photosensitive resin composition layer was measured according to JIS-C-6481. * 3: Thermal deterioration conditions, 180 ° C, 200 hours. * 4: A ... Boiled for 4 hours, B ... 120 ° C, steam at 2 atm for 2 hours. After the treatment of A or B, it was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 30 seconds and observed for blisters. ◎: No blisters, ○: Some blisters, △: Most blisters. * 5: Measured according to JIS-C-6481.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明の多層配線基板の製造方法によれば、ハロゲ
ン化合物を含まないため、燃焼時の有毒ガスの発生がな
く、耐熱性、耐湿性、密着性、難燃性に優れた多層配線
基板を製造することができる。
As is apparent from the above description and Table 1, according to the method for manufacturing a multilayer wiring board of the present invention, since it does not contain a halogen compound, no toxic gas is generated during combustion, heat resistance, It is possible to manufacture a multilayer wiring board having excellent moisture resistance, adhesion, and flame retardancy.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビルトアップ法による多層配線基板の製
造方法において、ハロゲンを含まないエポキシ樹脂組成
物を用いた内層配線基板の少なくとも片面に、層間絶縁
用として赤リンを含む感光性樹脂組成物を成膜する工程
と、上記層間絶縁膜上に無電解メッキ及び電気メッキに
よる導体層を形成し次いで該導体層をエッチングして配
線パターン形成する工程とを繰り返すことを特徴とする
多層配線基板の製造方法。
1. A method for manufacturing a multilayer wiring board by a build-up method, wherein a photosensitive resin composition containing red phosphorus for interlayer insulation is provided on at least one surface of an inner layer wiring board using a halogen-free epoxy resin composition. Manufacture of a multilayer wiring board characterized by repeating a step of forming a film and a step of forming a conductor layer by electroless plating and electroplating on the interlayer insulating film and then etching the conductor layer to form a wiring pattern Method.
【請求項2】 ハロゲンを含まないエポキシ樹脂組成物
として、赤リンを含むエポキシ樹脂組成物を用いる請求
項1記載の多層配線基板の製造方法。
2. The method for producing a multilayer wiring board according to claim 1, wherein an epoxy resin composition containing red phosphorus is used as the halogen-free epoxy resin composition.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2001291961A (en) * 2000-04-04 2001-10-19 Ibiden Co Ltd Multilayered printed wiring board and producing method therefor
WO2002006399A1 (en) * 2000-07-18 2002-01-24 Kyocera Chemical Corporation Halogen-free flame-retardant epoxy resin compoisition, halogen-free flame-retardant epoxy resin composition for build-up type multilayer boards, prepregs, copper-clad laminates, printed wiring boards, resin films with copper foil or carriers, and build-up type laminates and multilayer boards

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