JPH09298036A - フェースプレイトと画像形成装置及びそれらの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フェースプレイトのガラス基板内に発生する
迷光の原因となる余分な光を減少させ、さらに不必要な
方向へ発した光を、必要な方向へ反射させることで輝度
を増すことである。 【解決手段】 画像形成装置のフェースプレイトにおい
て、個々の画素を構成する蛍光体およびメタルバックが
曲面により構成されていることを特徴とする。また、前
記蛍光体および前記メタルバックが複数の曲面により構
成されていることを特徴とする。フェースプレイトを構
成するガラス基板と前記蛍光体の間に，ガラス基板に垂
直にブラックストライプを構成したことを特徴とする。
フェースプレイトを構成するガラス基板と前記蛍光体の
間に透明導電性膜を有し，その透明導電性膜をサイズを
小さくしながら積層することで，前記蛍光体の形成面を
曲面にすることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光面を備えた画
像形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、画像形成装置には液晶表示装置や
ＥＬ表示装置のように蛍光体を用いないものもあるが、
一般にモノクロの場合には１色の蛍光体を、カラー画像
を表示する場合に加色法による３色に対応した蛍光体を
用いて、ブラウン管やプラズマディスプレイ等のフェー
スプレイト等のガラス基板上に蛍光体を塗布して、電子
線や紫外線でその蛍光体を励起して画像表示することが
多い。

【０００３】ここで、画像形成装置に用いる蛍光体膜の
構成例を図１２に示して説明する。図１４においては、
下部から紫外線や電子線が到来し、上部のほうから視認
者が画像を観察する構成中一部を拡大した断面図を示
す。蛍光体３はフェースプレイトを構成するガラス基板
１に密着して形成され、その形状は平面状であった。こ
の平面状であるのは、平らなガラス基板１上にブラック
マトリックス２を形成後、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色の蛍光体３を
形成し、最後にメタルバック４を蒸着しているため、蛍
光体膜３の形状はガラス基板１の接触面と同一であった
ためである。ところが、この形状の場合、電子ビーム６
の照射によって蛍光体層３から発した光は、反射波も含
み、あらゆる方向７に進み、ガラス基板１内の多重反射
光により迷光現象が生じてしまうと同時に、せっかく蛍
光体層３から発した光が、画面表面の必要な位置に到達
出来ず、輝度が減少してしまうこともあった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来の欠点を除去することである。まずフェースプレイ
トのガラス基板１内に発生する迷光の原因となる余分な
光を減少させ、さらに不必要な方向へ発した光を、必要
な方向へ反射させることで輝度を増すことを目的はす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、上述した課題
を解決するために鋭意検討を行って成されたものであ
り、下述する構成のものである。

【０００６】即ち、本発明による画像形成装置に用いる
フェースプレイトは、曲面構造の蛍光体膜を特徴とする
ものである。本発明は、フェースプレイトの製造方法、
及び本フェースプレイトを使用した画像形成装置を包含
する。

【０００７】また、本発明による画像形成装置に用いる
フェースプレイトの製造方法は、ガラス基板と前記蛍光
体の間に透明導電性膜を有し、その透明導電性膜をサイ
ズを小さくしながら積層することで、前記蛍光体の形成
面を曲面にすることを特徴とするものである。

【０００８】さらに、本発明による画像形成装置は、上
記フェースプレイトを使用したことを特徴とするもので
ある。

【０００９】また、本発明による画像形成装置に用いる
フェースプレイトによれば、フェースプレイト内に発生
する迷光の原因となる余分な光を減少させ、さらに不必
要な方向へ発した光を必要な方向へ反射させることで輝
度を増すことができる。

【００１０】さらに、本発明による画像形成装置に用い
るフェースプレイトの製造方法によれば、従来の工程に
１工程追加するだけで容易に作製することができる。

【００１１】更に、本発明の画像形成装置によれば、輝
度、コントラスト共に高いものができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。図１は、本発
明のフェースプレイトの１例を示す模式図である。

【００１３】図１において、１はガラス基板、２はブラ
ックマトリックス、３は蛍光体膜、４はメタルバック、
５は透明導電性膜を示す。電子ビーム６の照射によって
蛍光体膜３から発した光のうち大半は画面方向７へ進
み、迷光となりやすい方向７１に進む光はブラックマト
リックス２に吸収される。さらに、それよりも低角方向
に進んだ光７２は蛍光体膜の裏に存在するメタルバック
４で反射され画面方向７３へ跳ね返される。従って、本
発明のフェースプレイトによれば、フェースプレイト内
に発生する迷光の原因となる余分な光を減少させ、さら
に不必要な方向へ発した光を必要な方向へ反射させるこ
とで輝度を増すことができる。

【００１４】［実施形態１］図１（ａ）は、上述の通り
フェースプレイトを示す模式的断面図、（ｂ）はブラッ
クマトリクスを含む模式的平面図である。まずガラス基
板１に蛍光体膜３を塗布するための基本形状を作製す
る。その方法はフラットなガラス基板１上に透明な膜で
凸型形状５を作製してもよいし、ガラス基板１のほうを
加工してもよい。とくに前者の透明な膜を透明導電膜に
すると、蛍光膜３の導電性を高めるためにさらによい。
凸型形状５は図１の様に１画素ごとでもよいが、１画素
内に複数の小さな凸型形状５を配置すると、さらに輝度
を上げることができる。また凸型形状５内部にガラス基
板１と垂直方向にブラックストライプを構成しておき、
迷光の原因となる不必要な方向への光の進行を除去する
こともできる。

【００１５】３色カラーの蛍光膜の場合は、蛍光体の配
列によりブラックストライプあるいはブラックマトリク
スなどと呼ばれる黒色導電材２と蛍光体３とから構成す
ることができる。ブラックストライプ、ブラックマトリ
クスを設ける目的は、カラー表示の場合、必要となる三
原色蛍光体の各蛍光体３間の塗り分け部を黒くすること
で混色等を目立たなくすることと、蛍光膜３における外
光反射によるコントラストの低下を抑制することにあ
る。ブラックストライプ２の材料としては、通常用いら
れている黒鉛を主成分とする材料の他、導電性があり、
光の透過及び反射が少ない材料を用いることができる。

【００１６】さらに、コントラストを上げるためには、
ガラス基板１と蛍光体３の間に着色顔料層もしくはカラ
ーフィルタを形成する。着色顔料層としては例えば赤色
蛍光体層の下には、赤色部には吸収がなく、他の光は完
全に吸収するような鮮やかな赤色であることが望まし
い。他の色についても同様である。このようにすると外
光に対する反射率は全体として著しく小さくなり、また
迷光も抑さえることが出来る。各着色顔料層の作製はス
ラリー法等によって行う。

【００１７】ガラス基板１に蛍光体３を塗布する方法は
沈澱法、印刷法、金属膜転写方法（特開平４−１８１６
２９号公報）等が採用できる。

【００１８】蛍光膜３の電子線到来の内面側には、通常
メタルバック４が設けられる。メタルバック４を設ける
目的は、蛍光体３の発光のうち内面側への光をフェース
プレイト１側へ鏡面反射させることにより輝度を向上さ
せること、電子ビーム加速電圧を印加するための電極と
して作用させること、外囲器内で発生した負イオンの衝
突によるダメージから蛍光体を保護すること等である。
メタルバック４は、蛍光膜３作製後、蛍光膜３の内面側
表面の平滑化処理（通常、「フィルミング」と呼ばれ
る。）を行い、その後Ａｌを真空蒸着等を用いて堆積さ
せることで作製できる。

【００１９】上記の様にして作製したフェースプレイト
を電子源（電子放出素子）および該電子源から放出され
る電子線を制御する制御電極と組み合わせることにより
画像形成装置を作製することができる。電子放出素子と
しては大別して熱電子放出素子と冷陰極電子放出素子を
用いた２種類のものが知られている。冷陰極電子放出素
子には電界放出型（以下、「ＦＥ型」という。）、金属
／絶縁層／金属型（以下、「ＭＩＭ型」という。）や表
面伝導型電子放出素子等がある。

【００２０】

【実施例】以下、具体的な実施例を挙げて本発明を詳し
く説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではなく、本発明の目的が達成される範囲内での各要素
の置換や設計変更がなされたものをも包含する。

【００２１】＜実施例１＞図１に示した形状のフェース
プレイトを作製する方法を以下述べる。

【００２２】［工程１］ 透明導電性膜５の作製 図２（ａ）において、フェースプレイトのガラス基板１
全面にホトレジスト膜１０を塗布し、遮蔽物としてのマ
スク１１を介して露光する（ａ１）。次に露光後現像
し、ホトレジスト膜１０を部分的に残し、全面にＩＴＯ
膜５を蒸着する（ａ２）。さらに過酸化水素などの酸化
剤を作用させホトレジスト膜１０とＩＴＯ膜５を除去す
る（ａ３）。この操作を繰り返して階段状のＩＴＯ膜５
を作製する（ａ４）。このようにして作製する凸型ＩＴ
Ｏ膜５のサイズは、直径３５０〜４００μｍ、最大膜厚
部で７０〜１００μｍで、ピークツーピークの間隔は１
００μｍ程度が望ましい。コントラストを上げるために
着色顔料層を形成する場合は、ガラス基板１と凸型ＩＴ
Ｏ膜５の間、もしくは凸型ＩＴＯ膜５と蛍光体膜３の間
に形成する。今回はガラス基板１と凸型ＩＴＯ膜５の間
に形成した。従ってガラス基板１に着色顔料層（不図
示）を形成してから、上記方法で凸型ＩＴＯ膜５を作製
した。

【００２３】［工程２］ ブラックマトリクス２の形成 図２（ｂ）において、フェースプレイト全面にホトレジ
スト膜１０を塗布し、マスク１１を介して露光する（ｂ
１）。次に露光後現像し、ホトレジスト膜１０を部分的
に残し全面に黒鉛膜を形成する（ｂ２）。最後に過酸化
水素などの酸化剤を作用させ、ホトレジスト膜１０とそ
の上にある黒鉛を除去する（ｂ３）。作製したブラック
マトリクス２は厚さは３〜１０μｍが良い。

【００２４】［工程３］ Ｒ，Ｇ，Ｂ３色の蛍光体３の
形成 図３（ｃ）において、Ｒ，Ｇ，Ｂいずれかの蛍光体３と
感光剤１３の懸濁液を塗布する（ｃ１）。次にマスク１
１を通し露光（ｃ２）（露光部位は入射光の角度で選択
する）する。最後にマスク１１を取り外した後、洗浄除
去する（ｃ３）。蛍光体は２〜５μｍの粒子であり、膜
厚１５〜２０μｍがよい。Ｒ，Ｇ，Ｂ毎に３回この操作
を繰り返す（ｃ４）。

【００２５】［工程４］ メタルバック４の形成 図３（ｄ）において、アクリルエマルジョン＋界面活性
剤でフィルミング膜１４を形成する（ｄ１）。次にメタ
ルバック４としてＴｉＯ₂を０.１μｍコーティング後、
Ａｌを０.１μｍ蒸着する（ｄ２）。最後にベーキング
を行い、フィルミング膜１４および蛍光体３中のＰＶＡ
などの有機物質を飛ばすことでフェースプレイトが完成
する（ｄ３）。

【００２６】以上の方法で、凸型ＩＴＯ膜５のサイズが
直径３９０μｍ、最大膜厚部で１００μｍで、１００μ
ｍ間隔、ブラックマトリクス２は厚さは５μｍ、蛍光体
３は２〜５μｍの粒子を厚さ２０μｍの条件で作製した
フェースプレイトでは、従来のフェースプレイトに比べ
て約２０％の輝度向上を実現できた。

【００２７】＜実施例２＞図１に示した形状のフェース
プレイトを作製する別の方法を以下述べる。

【００２８】［工程１］ 透明導電性膜５の作製 図４に示す形状のマスク１１を介してＩＴＯ膜５を蒸着
する。この際、マスク１１の形状がガラス基板１の方向
に広がり、断面的に八の字形状となっているので、ＩＴ
Ｏ膜５の蒸着厚みはマスク１１の孔の中心部で厚くな
り、迷光の除去には有効である。作製されたＩＴＯ膜５
は凸型の形状となり、サイズは直径３６０〜４００μ
ｍ、最大膜厚部で７０〜１００μｍであり、１００μｍ
間隔が望ましい。［工程２］から［工程４］は実施例１
と同様に行うことでフェースプレイトは完成する。

【００２９】＜実施例３＞図１に示した形状のフェース
プレイトを作製するさらに別の方法を以下述べる。

【００３０】［工程１］ ガラス製凸型形状の作製 図５において、フェースプレイトのガラス基板１表面を
加工・研磨して直径３６０〜４００μｍ、最大段落差の
凸サイズ８０〜１００μｍで、１００μｍ間隔の凸型形
状を作製する。さらに全面に透明導電膜（ＩＴＯ膜な
ど）を０.１μｍ蒸着すると蛍光膜３の導電性を高める
ため、さらによい。［工程２］から［工程４］は実施例
１と同様に行うことでフェースプレイトは完成する。

【００３１】＜実施例４＞本実施例により図６に示す形
状のフェースプレイトを作成した。図６（ｂ）の平面図
から、１画素内に複数の凸部を有し、その周りをブラッ
クマトリクス２で区画している。また図６（ａ）の断面
図によれば、下部から電子ビーム６が到来し、メタルバ
ック４を透過して蛍光体３に照射し、蛍光体３を励起す
る。蛍光体３から発した光のうち大半はガラス基板１の
画面方向７へ進み、低角度方向に進んだ光７２は蛍光体
３の裏に存在するメタルバック４で反射され画面方向７
３へ跳ね返される。従って、本フェースプレイトによれ
ば、フェースプレイト内に発生する迷光の原因となる光
を視認者方向に放出して、輝度を増すことができる。こ
こで、図６に示した形状のフェースプレイトを作製する
方法を以下に述べる。

【００３２】［工程１］ 透明導電性膜５の作製 図７（ａ）において、フェースプレイトのガラス基板１
の全面にホトレジスト膜１０を塗布し、マスク１１を介
して露光する（ａ１）。次に露光後現像し、ホトレジス
ト膜１０を部分的に残し、全面にＩＴＯ膜５を蒸着する
（ａ２）。さらに過酸化水素などの酸化剤を作用させホ
トレジスト膜１０とＩＴＯ膜５を除去する（ａ３）。次
にＩＴＯ膜５上にホトレジスト膜１０を塗布し、マスク
１１を介して露光し（ｂ１）、次に露光後現像し、ホト
レジスト膜１０を部分的に残し、全面にＩＴＯ膜５を蒸
着する（ｂ２）。さらに酸化剤を作用させホトレジスト
膜１０とＩＴＯ膜５を除去する（ｂ３）。こうしてマス
ク１１のサイズを順次変化させて露光部分を大きくしな
がら、この操作を繰り返すことにより１画素内に複数個
のＩＴＯ膜５を作製する（図７（ｂ４））。凸型ＩＴＯ
膜５のサイズは直径８０〜１００μｍ、最大膜厚部で２
０μｍで、図６に示した様に、１画素ごとに画素の大き
さに相当する数の凸型ＩＴＯ膜５を並べる。ＩＴＯ膜５
の作製方法は実施例２の方法でも良い。

【００３３】［工程２］ ブラックマトリクス２の形成 図８（ｃ）において、フェースプレイトのガラス基板１
の全面にホトレジスト膜１０を塗布し、マスク１１を介
して露光する（ｃ１）。次に露光後現像し、ホトレジス
ト膜１０を部分的に残し、全面に黒鉛膜２を形成する
（ｃ２）。最後に過酸化水素などの酸化剤を作用させホ
トレジスト１０とその上の黒鉛２を除去する（ｃ３）。
作製したブラックマトリクス２は厚さは３〜１０μｍが
良い。

【００３４】［工程３］ Ｒ，Ｇ，Ｂ３色の蛍光体３の
形成 図９（ｄ）において、Ｒ，Ｇ，Ｂいずれかの蛍光体と感
光剤の懸濁液１２を塗布する（ｄ１）。次にマスク１１
を通し露光（ｄ２）（露光部位は入射光の角度で選択す
る）する。最後にマスク１１を取り外した後、洗浄除去
する（ｄ３）。Ｒ，Ｇ，Ｂの蛍光体３毎に３回この操作
を繰り返す（ｄ４）。蛍光体３は２〜５μｍの粒子であ
り、厚さ１５〜２０μｍがよい。

【００３５】［工程４］ メタルバック４の形成 図９（ｅ）において、アクリルエマルジョン＋界面活性
剤でフィルミング膜１４を形成する（ｅ１）。次にメタ
ルバック４としてＴｉＯ₂を０.１μｍコーティング後、
Ａｌを０.１μｍ蒸着する（ｅ２）。最後にベーキング
を行い、フィルミング膜１４および蛍光体３中のＰＶＡ
などの有機物質を飛ばすことでフェースプレイトが完成
する（ｅ３）。

【００３６】以上の方法で、凸型ＩＴＯ膜５のサイズは
直径１００μｍ、最大膜厚部で２０μｍで、１画素の大
きさが直径約４００μｍ、ブラックマトリクス２は厚さ
は５μｍ、蛍光体３は２〜５μｍの粒子を厚さ１５μｍ
の条件で作製したフェースプレイトでは、従来のフェー
スプレイトに比べて約２８％の輝度向上を実現できた。

【００３７】＜実施例５＞本実施例による局部拡大の断
面図と平面図を図１０に示す。平面図（ｂ）では、ブラ
ックマトリクス２に蛍光体３が配置され、蛍光体３の中
に格子状の吸光部材２２が配置されいる。断面図（ａ）
では、電子ビーム６がメタルバック４を介して蛍光体３
を照射する。蛍光体３から発した特定色の蛍光色光線は
大半をガラス基板１の画面方向７へ進み、画面方向７よ
り少し角度のずれた方向７１に進んだ光線は格子状吸光
部材２２に当たる。よって迷光の原因となる不必要な方
向の光の進光を除去できる。また更に角度の大きな方向
７２に進んだ光線は蛍光体３の裏に存在するメタルバッ
ク４で反射され画面方向７３へ跳ね返される。従って、
本発明のフェースプレイトによれば、フェースプレイト
内に発生する迷光の原因となる余分な光の一部は除去さ
れ、さらに不必要な方向へ発した光の一部を必要な方向
へ反射させることで輝度を増すことができる。

【００３８】ここで、図１０に示した形状のフェースプ
レイトを作製する方法を以下述べる。

【００３９】［工程１］ ブラックマトリクス２、吸光
部材２２の形成 図１１（ａ）において、フェースプレイトのガラス基板
１の全面にホトレジスト膜１０を塗布し、マスク１１を
介して露光する（ａ１）。次に露光後現像し、ホトレジ
スト膜１０を部分的に残し、全面に黒鉛膜２を形成する
（ａ２）。最後に過酸化水素などの酸化剤を作用させ、
ホトレジスト膜１０とその上の黒鉛膜２を除去する（ａ
３）。この操作を繰り返し、ブラックマトリックス２と
細い格子状の吸光部材２２を作製した（ａ４）。作製し
たブラックマトリクス２は厚さは５μｍ、吸光部材２２
では５０μｍが良い。

【００４０】［工程２］ 透明導電性膜５の作製 図１１（ｂ）において、図１１（ｂ）の形状のマスク１
１を介してＩＴＯ膜５を蒸着する。凸型ＩＴＯ膜５のサ
イズは直径３５０〜４００μｍ、最大膜厚部で７０〜１
００μｍで、隣接凸型ＩＴＯ膜５とのピークツーピーク
で１００μｍ間隔が望ましい。

【００４１】［工程３］ Ｒ，Ｇ，Ｂ３色の蛍光体３の
形成 図１２（ｃ）において、Ｒ，Ｇ，Ｂいずれかの蛍光体３
と感光剤の懸濁液１２を塗布する（ｃ１）。次にマスク
１１を通し露光（ｃ２）（露光部位は入射光の角度で選
択する）する。最後にマスク１１を取り外した後、洗浄
除去する（ｃ３）。Ｒ，Ｇ，Ｂ毎に３回この操作を繰り
返す（ｃ４）。蛍光体３は２〜５μｍの粒子であり、厚
さ１５〜２０μｍがよい。

【００４２】［工程４］ メタルバック４の形成 図１２（ｄ）において、アクリルエマルジョン＋界面活
性剤でフィルミング膜１４を形成する（ｄ１）。次にメ
タルバック４としてＴｉＯ₂を０.１μｍコーティング
後、Ａｌを０.１μｍ蒸着する（ｄ２）。最後にベーキ
ングを行い、フィルミング膜１４および蛍光体３中のＰ
ＶＡなどの有機物質を飛ばすことでフェースプレイトが
完成する（ｄ３）。

【００４３】以上の方法で、凸型ＩＴＯ膜５のサイズが
直径４００μｍ、最大膜厚部で１００μｍで、１００μ
ｍ間隔、ブラックマトリクス２は厚さは５μｍ、吸光部
材２２は高さ５０μｍ、蛍光体３は２〜５μｍの粒子を
厚さ２０μｍの条件で作製したフェースプレイトでは、
従来のフェースプレイトに比べて約１０％の輝度向上が
実現でき、迷光はほとんど生じないことが確認された。

【００４４】上記実施例１〜５では、ブラックマトリク
スを用いる例を示したが、ブラックストライプを用いる
場合には、ガラス基板の凸状又は凸型ＩＴＯ膜や凸状透
明導電性膜も同様にストライプ状に形成する必要がある
が、その方法は上述の工程と大きく変わることはなく、
さらに、メタルバックの形成において全面的に形成する
ので、大きな差異はなく、結局、工程上のメリットと性
能的なメリットとの選択でマトリクス形状とストライプ
形状のいずれでも製作可能である。なお、ブラックスト
ライプ２及び吸光部材２２の材料としては、通常用いら
れている黒鉛を主成分とする材料の他、導電性があり、
光の透過及び反射が少ない材料を用いることができる。

【００４５】＜実施例６＞実施例１〜５で作製したフェ
ースプレイトを、表面伝導型電子放出素子により作製さ
れた電子源と、この電子源から放出される電子線を制御
する制御電極と組み合わせることにより画像形成装置を
作製することができた。

【００４６】このフェースプレイトを用いた画像形成装
置の具体例を、図１３を用いて説明する。図において、
電子源基板７１をリアプレイト８１上に固定した後、基
板７１の約５ｍｍ上方に、フェースプレイト８６（ガラ
ス基板８３の内面に蛍光膜８４とメタルバック８５が形
成されて構成される）を支持枠８２を介し配置し、フェ
ースプレイト８６、支持枠３２、リアプレイト８１の接
合部にフリットガラスを塗布し、大気中で４００℃、約
１０分焼成することで封着した。またリアプレート８１
への電子源基板７１の固定もフリットガラスで行った。
図１３において、７４は電子放出素子、７２、７３はそ
れぞれＸ方向（Dox1,Dox2,..,Doxm）及びＹ方向（Doy1,
Doy2,..Doyn）の素子配線である。

【００４７】ガラス基板８３は上述の実施例１〜５で作
成した工程で加工し、また蛍光体８４とメタルバック８
５も上記により形成した。

【００４８】ここで、蛍光体８４は、モノクロームの場
合は蛍光体のみから成るが、本実施例では蛍光体はマト
リクス形状を採用し、先にブラックマトリクスを形成
し、その間隙部に各色蛍光体を塗布し、蛍光体８４を作
製している。ブラックスマトリクスの材料として通常良
く用いられている黒鉛を主成分とする材料を用いた。ガ
ラス基板８３に蛍光体を塗布する方法はスラリー法を用
いた。

【００４９】また、蛍光体８４の内面側に通常メタルバ
ック８５が設けられる。メタルバック８５は、蛍光体作
製後、蛍光体の内面側表面の平滑化処理（通常フィルミ
ングと呼ばれる）を行い、その後、Ａｌを真空蒸着する
ことで作製した。

【００５０】フェースプレイト８６には、更に蛍光体８
４の導電性を高めるため、蛍光体８４の外面側に透明電
極（不図示）が設けられる場合もあるが、本実施例で
は、メタルバック８５のみで十分な導電性が得られたの
で省略した。

【００５１】前述の封着を行う際、カラーの場合は各色
蛍光体と電子放出素子とを対応させなくてはいけないた
め、十分な位置合わせを行った。

【００５２】こうして、本画像形成装置はメタルバック
８５に高圧電圧ＨＶを加え、Ｘ軸に走査線信号を順次印
加し、Ｙ軸に画像信号、例えばＮＴＳＣ方式ＴＶ信号や
静止画映像信号を加え、Ｘ軸とＹ軸との交差部に形成さ
れた表面伝導型電子放出素子７４から電子が放出され、
その上部に位置する蛍光体をその電子量に応じて励起す
る。その励起された蛍光は、上述の通り視認者方向に効
率よく進行する。

【００５３】本画像形成装置はフェースプレイトの蛍光
体から発した光線を効率よく出射するので、輝度が大変
高くなり、テレビジョン放送の表示機器、テレビ会議シ
ステムやコンピューター等の表示装置の他、感光性ドラ
ム等を用いて構成された光プリンターとしての画像形成
装置等としても用いることができ、産業用あるいは民生
用として極めて応用範囲が広い。

【００５４】

【発明の効果】本発明のフェースプレイトによれば、フ
ェースプレイト内に発生する迷光の原因となる余分な光
を減少させ、さらに不必要な方向へ発した光を必要な方
向へ反射させることで輝度の高いフェースプレイトを提
供できる。

【００５５】また、このフェースプレイトを形成する場
合でも、透明導電性膜として凸型ＩＴＯ膜等を工程上１
つを加えるだけで作製でき、高輝度の性能上からもコス
トパーフォーマンスの優れたものができる。

【００５６】また本発明の画像形成装置によれば、高輝
度な画像を形成可能な画像形成装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のフェースプレイトの１例を示す模式図
である。

【図２】本発明による実施例１のフェースプレイトの製
造方法を示す模式図である。

【図３】本発明による実施例１のフェースプレイトの製
造方法を示す模式図である。

【図４】本発明による実施例２のフェースプレイトの製
造方法を示す模式図である。

【図５】本発明による実施例３のフェースプレイトの製
造方法を示す模式図である。

【図６】本発明のフェースプレイトの１例を示す模式図
である。

【図７】本発明による実施例４のフェースプレイトの製
造方法を示す模式図である。

【図８】本発明による実施例４のフェースプレイトの製
造方法を示す模式図である。

【図９】本発明による実施例４のフェースプレイトの製
造方法を示す模式図である。

【図１０】本発明のフェースプレイトの１例を示す模式
図である。

【図１１】本発明による実施例５のフェースプレイトの
製造方法を示す模式図である。

【図１２】本発明による実施例５のフェースプレイトの
製造方法を示す模式図である。

【図１３】本発明による実施例６の画像形成装置の模式
図である。

【図１４】従来のフェースプレイトの一例を示す模式図
である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ ブラックマトリクス ３ 蛍光体膜 ４ メタルバック ５ 透明導電性膜もしくはガラス ６ 電子ビーム ７ 蛍光体層から発した光 １０ ホトレジスト膜 １１ マスク １２ 懸濁液 １４ フィルミング膜 ２２ 吸光部材 ７１ 電子源基板 ７２ Ｘ方向配線 ７３ Ｙ方向配線 ７４ 電子放出素子 ８１ リアプレイト ８２ 支持枠 ８３ ガラス基板 ８４ 蛍光膜 ８５ メタルバック ８６ フェースプレイト ８８ 外囲器

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 画像形成装置に用いるフェースプレイト
   において、 個々の画素を構成する蛍光体膜およびメタルバック膜の
   両面が曲面により構成されていることを特徴とするフェ
   ースプレイト。
2. 【請求項２】 前記蛍光体膜および前記メタルバック膜
   が１画素当たり複数の曲面により構成されていることを
   特徴とする請求項１に記載のフェースプレイト。
3. 【請求項３】 前記フェースプレイトを構成するガラス
   基板と前記蛍光体の間に、前記ガラス基板の平面に対し
   て垂直に吸光部材を構成したことを特徴とする請求項１
   に記載のフェースプレイト。
4. 【請求項４】 前記フェースプレイトを構成するガラス
   基板と前記蛍光体の間に透明導電性膜を有し，その透明
   導電性膜をサイズを小さくしながら積層することで，前
   記蛍光体の形成面を曲面にすることを特徴とする請求項
   １乃至３のいずれか１項に記載のフェースプレイトの製
   造方法。
5. 【請求項５】 平面状のガラス基板に画素を構成する部
   分を透過する遮蔽物を介してホトレジスト膜を除去した
   部分に透明膜を積層し、前記ホトレジスト膜を除去した
   部分を徐々に拡げて前記透明膜を積層し、各画素を区画
   する部分に黒色塗料を塗布し、各区画に所定の蛍光体と
   感光剤を塗布して露光し、メタルバックを形成すること
   を特徴とするフェースプレイトの製造方法。
6. 【請求項６】 電子源と請求項１乃至３のいずれか１項
   に記載のフェースプレイトを有することを特徴とする画
   像形成装置。
7. 【請求項７】 電子源および該電子源から放出される電
   子線を制御する制御電極と，請求項１乃至３のいずれか
   １項に記載のフェースプレイトを組み合わせることを特
   徴とする画像形成装置の製造方法。