JPH0929167A - 塗布液の塗布・硬化方法、カラーフィルタの製造方法およびこれらの装置 - Google Patents
塗布液の塗布・硬化方法、カラーフィルタの製造方法およびこれらの装置Info
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- JPH0929167A JPH0929167A JP18594595A JP18594595A JPH0929167A JP H0929167 A JPH0929167 A JP H0929167A JP 18594595 A JP18594595 A JP 18594595A JP 18594595 A JP18594595 A JP 18594595A JP H0929167 A JPH0929167 A JP H0929167A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 温度ムラによる欠点のない塗膜形成物を得
る。 【解決手段】 基板外端部を除く基板中央部分に塗布液
を塗布する塗布部１０と、減圧乾燥を行う減圧乾燥部３
０と、塗布液を加熱硬化する加熱硬化部５０とを設け
た。
る。 【解決手段】 基板外端部を除く基板中央部分に塗布液
を塗布する塗布部１０と、減圧乾燥を行う減圧乾燥部３
０と、塗布液を加熱硬化する加熱硬化部５０とを設け
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板に塗布液を塗
布し硬化する方法および装置に関し、さらに詳細にいえ
ば、例えば、液晶表示素子（ＬＣＤ）等に利用されるカ
ラーフィルターの製造工程や、半導体の製造工程で好適
に用いられ、特に、ガラス基板にインクペーストやレジ
ストを塗布し硬化する際に好適に用いられる方法および
その装置に関する。
布し硬化する方法および装置に関し、さらに詳細にいえ
ば、例えば、液晶表示素子（ＬＣＤ）等に利用されるカ
ラーフィルターの製造工程や、半導体の製造工程で好適
に用いられ、特に、ガラス基板にインクペーストやレジ
ストを塗布し硬化する際に好適に用いられる方法および
その装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、カラーフィルターなどの塗膜形成
物の製造工程中等でガラス基板に塗布液を塗布する方法
としては、塗布液を供給したガラス基板を回転し、遠心
力を用いて塗布する方法（スピンコート法）が知られて
おり、このようにして塗布された塗布液を硬化する方法
としては、加熱雰囲気中にガラス基板を保持し加熱する
方法（オーブン法）や、加熱板上にガラス基板を保持し
加熱する方法（ホットプレート法）等が知られている。
また、塗布液を加熱硬化する際に生じる欠点発生を抑制
するために、基板に塗布液を塗布後、真空チャンバー内
で真空引きし、真空乾燥する方法が知られている（例え
ば、実開昭５９−１３２６３４号公報、特開平４−３１
３２１５号公報参照）。このように真空引きすることに
より、塗布膜中の気泡が取り除かれ、ピンホール等の欠
点発生を抑制することができる。また、真空引きするこ
とにより、加熱硬化前に塗布液中の溶剤等が蒸発するた
め、欠点発生を抑制することができる。
物の製造工程中等でガラス基板に塗布液を塗布する方法
としては、塗布液を供給したガラス基板を回転し、遠心
力を用いて塗布する方法（スピンコート法）が知られて
おり、このようにして塗布された塗布液を硬化する方法
としては、加熱雰囲気中にガラス基板を保持し加熱する
方法（オーブン法）や、加熱板上にガラス基板を保持し
加熱する方法（ホットプレート法）等が知られている。
また、塗布液を加熱硬化する際に生じる欠点発生を抑制
するために、基板に塗布液を塗布後、真空チャンバー内
で真空引きし、真空乾燥する方法が知られている（例え
ば、実開昭５９−１３２６３４号公報、特開平４−３１
３２１５号公報参照）。このように真空引きすることに
より、塗布膜中の気泡が取り除かれ、ピンホール等の欠
点発生を抑制することができる。また、真空引きするこ
とにより、加熱硬化前に塗布液中の溶剤等が蒸発するた
め、欠点発生を抑制することができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、スピン
コート法で基板に塗布液を塗布する場合には、遠心力に
より基板外端部まで拡がった塗布液が裏面まで回り込ん
でしまう。そして、真空チャンバー内で真空乾燥する場
合に、基板裏面に回り込んだ塗布液により、塗布液中の
溶媒等の蒸発する度合いに部分的差が生じ、この結果、
塗布膜に基板裏面に回り込んだ塗布液に対応する欠点が
発生するという不都合がある。
コート法で基板に塗布液を塗布する場合には、遠心力に
より基板外端部まで拡がった塗布液が裏面まで回り込ん
でしまう。そして、真空チャンバー内で真空乾燥する場
合に、基板裏面に回り込んだ塗布液により、塗布液中の
溶媒等の蒸発する度合いに部分的差が生じ、この結果、
塗布膜に基板裏面に回り込んだ塗布液に対応する欠点が
発生するという不都合がある。
【０００４】
【発明の目的】この発明は上記の問題点に鑑みてなされ
たものであり、基板上に塗布した塗布液を硬化する際に
欠点を生じさせることなく、高品質の塗膜形成物を得る
ことができる塗布液の塗布・硬化方法、カラーフィルタ
製造方法およびこれらの装置を提供することを目的とし
ている。
たものであり、基板上に塗布した塗布液を硬化する際に
欠点を生じさせることなく、高品質の塗膜形成物を得る
ことができる塗布液の塗布・硬化方法、カラーフィルタ
製造方法およびこれらの装置を提供することを目的とし
ている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１の塗布液の塗布
・硬化方法は、基板外端部を除く基板中央部分に塗布液
を塗布した後、減圧乾燥を行い、塗布液を加熱硬化する
方法である。請求項２の塗布液の塗布・硬化方法は、基
板中央部分を、基板外端部から１〜５ｍｍの範囲を除く
部分に設定する方法である。請求項３の塗布液の塗布・
硬化方法は、減圧乾燥時に基板を加熱する方法である。
・硬化方法は、基板外端部を除く基板中央部分に塗布液
を塗布した後、減圧乾燥を行い、塗布液を加熱硬化する
方法である。請求項２の塗布液の塗布・硬化方法は、基
板中央部分を、基板外端部から１〜５ｍｍの範囲を除く
部分に設定する方法である。請求項３の塗布液の塗布・
硬化方法は、減圧乾燥時に基板を加熱する方法である。
【０００６】請求項４のカラーフィルタ製造方法は、基
板としてカラーフィルタ用ガラス基板を採用し、塗布液
としてカラーフィルタ用塗布液を採用する方法である。
請求項５の塗布液の塗布・硬化装置は、基板外端部を除
く基板中央部分に塗布液を塗布する塗布部と、減圧乾燥
を行う減圧乾燥部と、塗布液を加熱硬化する加熱硬化部
を設けたものである。
板としてカラーフィルタ用ガラス基板を採用し、塗布液
としてカラーフィルタ用塗布液を採用する方法である。
請求項５の塗布液の塗布・硬化装置は、基板外端部を除
く基板中央部分に塗布液を塗布する塗布部と、減圧乾燥
を行う減圧乾燥部と、塗布液を加熱硬化する加熱硬化部
を設けたものである。
【０００７】請求項６の塗布液の塗布・硬化装置は、減
圧乾燥部として、基板を加熱する基板加熱部を有するも
のを採用している。請求項７のカラーフィルタ製造装置
は、基板としてカラーフィルタ用ガラス基板を採用し、
塗布液としてカラーフィルタ用塗布液を採用している。
圧乾燥部として、基板を加熱する基板加熱部を有するも
のを採用している。請求項７のカラーフィルタ製造装置
は、基板としてカラーフィルタ用ガラス基板を採用し、
塗布液としてカラーフィルタ用塗布液を採用している。
【０００８】
【作用】請求項１の塗布液の塗布・硬化方法であれば、
基板外端部を除く基板中央部分に塗布液を塗布した後、
減圧乾燥を行い、塗布液を加熱硬化するのであるから、
基板の裏面への塗布液の回り込みが全くなく、この結
果、減圧乾燥時に塗布液中の溶剤等が均一に蒸発するの
で、溶剤等の蒸発の度合いに部分的なばらつきが生じる
ことを未然に防止でき、ひいては欠点発生のない塗膜形
成物を得ることができる。
基板外端部を除く基板中央部分に塗布液を塗布した後、
減圧乾燥を行い、塗布液を加熱硬化するのであるから、
基板の裏面への塗布液の回り込みが全くなく、この結
果、減圧乾燥時に塗布液中の溶剤等が均一に蒸発するの
で、溶剤等の蒸発の度合いに部分的なばらつきが生じる
ことを未然に防止でき、ひいては欠点発生のない塗膜形
成物を得ることができる。
【０００９】請求項２の塗布液の塗布・硬化方法であれ
ば、基板の裏面への塗布液の回り込みを完全に解消する
ことができる他、請求項１と同様の作用を達成すること
ができる。請求項３の塗布液の塗布・硬化方法であれ
ば、減圧乾燥時に基板を加熱するのであるから、溶剤等
の蒸発を促進することができ、この結果、減圧乾燥の所
要時間を短縮することができる。
ば、基板の裏面への塗布液の回り込みを完全に解消する
ことができる他、請求項１と同様の作用を達成すること
ができる。請求項３の塗布液の塗布・硬化方法であれ
ば、減圧乾燥時に基板を加熱するのであるから、溶剤等
の蒸発を促進することができ、この結果、減圧乾燥の所
要時間を短縮することができる。
【００１０】請求項４のカラーフィルタ製造方法であれ
ば、基板としてカラーフィルタ用ガラス基板を採用し、
塗布液としてカラーフィルタ用塗布液を採用するのであ
るから、欠点発生のないカラーフィルタを得ることがで
きる。請求項５の塗布液の塗布・硬化装置であれば、塗
布部によって基板外端部を除く基板中央部分に塗布液を
塗布し、減圧乾燥部によって減圧乾燥を行い、加熱硬化
部によって塗布液を加熱硬化し、最終的に塗膜形成物を
得ることができる。したがって、基板の裏面への塗布液
の回り込みが全くなく、この結果、減圧乾燥時に塗布液
中の溶剤等が均一に蒸発するので、溶剤等の蒸発の度合
いに部分的なばらつきが生じることを未然に防止でき、
ひいては欠点発生のない塗膜形成物を得ることができ
る。
ば、基板としてカラーフィルタ用ガラス基板を採用し、
塗布液としてカラーフィルタ用塗布液を採用するのであ
るから、欠点発生のないカラーフィルタを得ることがで
きる。請求項５の塗布液の塗布・硬化装置であれば、塗
布部によって基板外端部を除く基板中央部分に塗布液を
塗布し、減圧乾燥部によって減圧乾燥を行い、加熱硬化
部によって塗布液を加熱硬化し、最終的に塗膜形成物を
得ることができる。したがって、基板の裏面への塗布液
の回り込みが全くなく、この結果、減圧乾燥時に塗布液
中の溶剤等が均一に蒸発するので、溶剤等の蒸発の度合
いに部分的なばらつきが生じることを未然に防止でき、
ひいては欠点発生のない塗膜形成物を得ることができ
る。
【００１１】請求項６の塗布液の塗布・硬化装置であれ
ば、減圧乾燥部として、基板を加熱する基板加熱部を有
するものを採用しているので、溶剤等の蒸発を促進する
ことができ、この結果、減圧乾燥の所要時間を短縮する
ことができる。請求項７のカラーフィルタ製造装置であ
れば、基板としてカラーフィルタ用ガラス基板を採用
し、塗布液としてカラーフィルタ用塗布液を採用してい
るので、欠点発生のないカラーフィルタを得ることがで
きる。
ば、減圧乾燥部として、基板を加熱する基板加熱部を有
するものを採用しているので、溶剤等の蒸発を促進する
ことができ、この結果、減圧乾燥の所要時間を短縮する
ことができる。請求項７のカラーフィルタ製造装置であ
れば、基板としてカラーフィルタ用ガラス基板を採用
し、塗布液としてカラーフィルタ用塗布液を採用してい
るので、欠点発生のないカラーフィルタを得ることがで
きる。
【００１２】本願発明において、基板、塗布液として
は、得られる塗膜形成物の用途に合せて適宜材質の基
板、適宜組成の塗布液を採用することが可能である。そ
して、塗膜形成物がカラーフィルタである場合には、基
板としてソーダライムガラス基板、ホウケイ酸系無アル
カリガラス基板等を用いることが好ましい。また、塗布
液の塗布方法としては、基板の外端部を除く基板中央部
のみに塗布液を塗布することができる方法であれば任意
の方法を採用することができる。このような塗布方法と
しては、ロールコート法、ダイコート法、スリットダイ
法、バーコート法、印刷法等が例示できる。
は、得られる塗膜形成物の用途に合せて適宜材質の基
板、適宜組成の塗布液を採用することが可能である。そ
して、塗膜形成物がカラーフィルタである場合には、基
板としてソーダライムガラス基板、ホウケイ酸系無アル
カリガラス基板等を用いることが好ましい。また、塗布
液の塗布方法としては、基板の外端部を除く基板中央部
のみに塗布液を塗布することができる方法であれば任意
の方法を採用することができる。このような塗布方法と
しては、ロールコート法、ダイコート法、スリットダイ
法、バーコート法、印刷法等が例示できる。
【００１３】さらに、減圧乾燥法は、大気圧未満の圧力
下で乾燥を行う方法であり、塗布液の組成等に応じて圧
力を適宜設定することが好ましい。さらにまた、塗布液
を加熱硬化する方法としては、塗布液を硬化させるため
に十分な温度にまで加熱する方法であれば任意の方法を
採用することができる。このような加熱硬化方法として
は、オーブン法、ホットプレート法、赤外線オーブン法
等が例示できる。
下で乾燥を行う方法であり、塗布液の組成等に応じて圧
力を適宜設定することが好ましい。さらにまた、塗布液
を加熱硬化する方法としては、塗布液を硬化させるため
に十分な温度にまで加熱する方法であれば任意の方法を
採用することができる。このような加熱硬化方法として
は、オーブン法、ホットプレート法、赤外線オーブン法
等が例示できる。
【００１４】また、減圧乾燥時の加熱方法としては、ホ
ットプレートによる伝熱加熱法、ヒータによる輻射加熱
法等、少なくとも塗布液を所定温度にまで加熱する方法
であれば、任意の方法が採用できる。ただし、これらの
加熱方法により得られる温度は、加熱硬化方法により得
られる温度よりも低い温度であることが好ましい。
ットプレートによる伝熱加熱法、ヒータによる輻射加熱
法等、少なくとも塗布液を所定温度にまで加熱する方法
であれば、任意の方法が採用できる。ただし、これらの
加熱方法により得られる温度は、加熱硬化方法により得
られる温度よりも低い温度であることが好ましい。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながらこ
の発明の実施態様を詳細に説明する。図１は本発明の塗
布液の塗布・硬化方法の一態様を示すものである。ガラ
ス基板８０はまずステージ１６上に固定され、ステージ
１６と共にスライドレール１７上で移送される。塗布液
はメタルロール１２とナイフロール１３の間に供給さ
れ、塗布液溜まり１５を形成する。メタルロール１２に
はスクレーパ１４が付設されており、所定量の塗布液が
コーティングロール１１表面に供給される。なお、この
場合に、コーティングロール１１を回転させながら塗布
液を供給することにより、コーティングロール１１の表
面に所定厚みの塗布液層が形成される。このコーティン
グロール１１をガラス基板８０に接触させて回転させる
ことにより（コーティングロール１１を回転させながら
スライドレール１７上でステージ１６と共にガラス基板
８０を移動させることにより）、塗布液はガラス基板８
０上にほぼ均一な厚みで塗布される。ここで、コーティ
ングロール１１の長さをガラス基板８０の幅よりも短く
設定しておくとともに、例えば、塗布液が供給されたコ
ーティングロール１１を所定のタイミングで昇降させる
ことにより、ガラス基板８０の外端部（幅方向の外端部
および長さ方向の外端部）に所定幅の塗布液非塗布領域
を形成することができる。この非塗布領域は、１〜５ｍ
ｍ程度であることが好ましく、このような領域にする
と、塗布液の基板裏側への裏まわりを完全に解消するこ
とができ、ガラス基板８０の有効活用面積を大きくし、
しかも温度ムラに起因する欠点の発生を防止することが
できる。塗布液の塗布が終了すれば、移載機（図示せ
ず）によりガラス基板８０は減圧乾燥部３０に移載され
る。減圧乾燥部３０では、シャッター３２ａを開け、移
載機によりガラス基板８０をホットプレート３３上に移
載し、シャッター３２ａを閉め、真空ポンプ３４により
減圧を行うことにより、減圧乾燥を行う。減圧乾燥部で
はホットプレート３３によりガラス基板８０の加熱を行
う。減圧乾燥が終了すれば、シャッター３２ｂを開け、
移載機（図示せず）によりガラス基板８０は加熱硬化部
５０に移載される。加熱硬化部５０では、ホットプレー
ト５１ａ上で昇温を行い、ホットプレート５１ｂ上で温
度保持し、コールドプレート５２上で冷却を行い、これ
らの間に塗布液の硬化を行う。昇温時のホットプレート
５１ａでは、ガラス基板８０を複数のピン５３で支持し
て加熱を行う。なお、ホットプレート５１ａ、５１ｂ、
コールドプレート５２の間でのガラス基板８０の移載は
図示しない移載機により行われる。この場合において、
減圧乾燥部３０での圧力は、０．１Ｔｏｒｒ〜１００Ｔ
ｏｒｒが好ましい。また、減圧乾燥部３０での加熱温度
は、ホットプレート３３の加熱により溶媒が効率よく蒸
発し、減圧乾燥に要する時間を短縮することが可能とな
る。しかしながら、必要以上に減圧乾燥部での基板加熱
温度が高いと、減圧乾燥部においても溶媒等の蒸発する
度合いに部分的差が生じ、欠点が発生する。このため、
減圧乾燥部の温度条件は、加熱硬化部の温度条件より低
いことが好ましい。すなわち、減圧乾燥時間短縮と欠点
発生の兼合いから温度条件はある特定の範囲内であるこ
とが好ましく、ホットプレート３３による減圧乾燥部の
温度条件は５０℃〜１２０℃が好ましく、より好ましく
は７０℃〜１００℃である。
の発明の実施態様を詳細に説明する。図１は本発明の塗
布液の塗布・硬化方法の一態様を示すものである。ガラ
ス基板８０はまずステージ１６上に固定され、ステージ
１６と共にスライドレール１７上で移送される。塗布液
はメタルロール１２とナイフロール１３の間に供給さ
れ、塗布液溜まり１５を形成する。メタルロール１２に
はスクレーパ１４が付設されており、所定量の塗布液が
コーティングロール１１表面に供給される。なお、この
場合に、コーティングロール１１を回転させながら塗布
液を供給することにより、コーティングロール１１の表
面に所定厚みの塗布液層が形成される。このコーティン
グロール１１をガラス基板８０に接触させて回転させる
ことにより（コーティングロール１１を回転させながら
スライドレール１７上でステージ１６と共にガラス基板
８０を移動させることにより）、塗布液はガラス基板８
０上にほぼ均一な厚みで塗布される。ここで、コーティ
ングロール１１の長さをガラス基板８０の幅よりも短く
設定しておくとともに、例えば、塗布液が供給されたコ
ーティングロール１１を所定のタイミングで昇降させる
ことにより、ガラス基板８０の外端部（幅方向の外端部
および長さ方向の外端部）に所定幅の塗布液非塗布領域
を形成することができる。この非塗布領域は、１〜５ｍ
ｍ程度であることが好ましく、このような領域にする
と、塗布液の基板裏側への裏まわりを完全に解消するこ
とができ、ガラス基板８０の有効活用面積を大きくし、
しかも温度ムラに起因する欠点の発生を防止することが
できる。塗布液の塗布が終了すれば、移載機（図示せ
ず）によりガラス基板８０は減圧乾燥部３０に移載され
る。減圧乾燥部３０では、シャッター３２ａを開け、移
載機によりガラス基板８０をホットプレート３３上に移
載し、シャッター３２ａを閉め、真空ポンプ３４により
減圧を行うことにより、減圧乾燥を行う。減圧乾燥部で
はホットプレート３３によりガラス基板８０の加熱を行
う。減圧乾燥が終了すれば、シャッター３２ｂを開け、
移載機（図示せず）によりガラス基板８０は加熱硬化部
５０に移載される。加熱硬化部５０では、ホットプレー
ト５１ａ上で昇温を行い、ホットプレート５１ｂ上で温
度保持し、コールドプレート５２上で冷却を行い、これ
らの間に塗布液の硬化を行う。昇温時のホットプレート
５１ａでは、ガラス基板８０を複数のピン５３で支持し
て加熱を行う。なお、ホットプレート５１ａ、５１ｂ、
コールドプレート５２の間でのガラス基板８０の移載は
図示しない移載機により行われる。この場合において、
減圧乾燥部３０での圧力は、０．１Ｔｏｒｒ〜１００Ｔ
ｏｒｒが好ましい。また、減圧乾燥部３０での加熱温度
は、ホットプレート３３の加熱により溶媒が効率よく蒸
発し、減圧乾燥に要する時間を短縮することが可能とな
る。しかしながら、必要以上に減圧乾燥部での基板加熱
温度が高いと、減圧乾燥部においても溶媒等の蒸発する
度合いに部分的差が生じ、欠点が発生する。このため、
減圧乾燥部の温度条件は、加熱硬化部の温度条件より低
いことが好ましい。すなわち、減圧乾燥時間短縮と欠点
発生の兼合いから温度条件はある特定の範囲内であるこ
とが好ましく、ホットプレート３３による減圧乾燥部の
温度条件は５０℃〜１２０℃が好ましく、より好ましく
は７０℃〜１００℃である。
【００１６】なお、以上の説明において、減圧乾燥部３
０以外は開放雰囲気下にあるかのように示されている
が、実際には、塵埃の付着等を防止するために、非開放
雰囲気下におかれている。
０以外は開放雰囲気下にあるかのように示されている
が、実際には、塵埃の付着等を防止するために、非開放
雰囲気下におかれている。
【００１７】
【実施例】図１に示すような構成の装置により塗布液の
塗布・硬化を行った。ガラス基板はサイズ：３６０×４
６５ｍｍ、厚み：１．１ｍｍの無アルカリガラス基板
（コーニング社製７０５９）、塗布液はポリアミック酸
系の溶媒に顔料を分散させたものを用いた。まず、塗布
部で塗布液を塗布した後、ガラス基板を移載機で減圧乾
燥部に移載した。減圧乾燥部では、圧力：２Ｔｏｒｒ、
温度：７０℃、時間：５分の条件で減圧乾燥を行った。
次いで、加熱硬化部で、昇温（１５０℃、２分間）、保
持（１５０℃、２分間）、冷却を行い、塗布液の硬化を
行った。
塗布・硬化を行った。ガラス基板はサイズ：３６０×４
６５ｍｍ、厚み：１．１ｍｍの無アルカリガラス基板
（コーニング社製７０５９）、塗布液はポリアミック酸
系の溶媒に顔料を分散させたものを用いた。まず、塗布
部で塗布液を塗布した後、ガラス基板を移載機で減圧乾
燥部に移載した。減圧乾燥部では、圧力：２Ｔｏｒｒ、
温度：７０℃、時間：５分の条件で減圧乾燥を行った。
次いで、加熱硬化部で、昇温（１５０℃、２分間）、保
持（１５０℃、２分間）、冷却を行い、塗布液の硬化を
行った。
【００１８】この結果、温度ムラによる欠点を生じず
に、塗布液の塗布・硬化を行うことができた。
に、塗布液の塗布・硬化を行うことができた。
【００１９】
【比較例１】 スピンコート法で塗布液を基板に塗布す
ること以外は実施態様と同様に塗布液の塗布・硬化を行
った。この結果、塗布液に、基板裏面に回り込んだ塗布
液に対応する欠点が生じ、良好に塗布液の塗布・硬化を
行うことができなかった。
ること以外は実施態様と同様に塗布液の塗布・硬化を行
った。この結果、塗布液に、基板裏面に回り込んだ塗布
液に対応する欠点が生じ、良好に塗布液の塗布・硬化を
行うことができなかった。
【００２０】
【比較例２】減圧乾燥部での温度条件を３０℃とするこ
と以外は実施態様１と同様に塗布液の塗布・硬化を行っ
た。この結果、塗布膜に欠点が生じ、良好に塗布液の塗
布・硬化を行うことができなかった。これは、減圧乾燥
部での温度条件が低いため、減圧乾燥部での溶剤蒸発が
十分でないためであった。
と以外は実施態様１と同様に塗布液の塗布・硬化を行っ
た。この結果、塗布膜に欠点が生じ、良好に塗布液の塗
布・硬化を行うことができなかった。これは、減圧乾燥
部での温度条件が低いため、減圧乾燥部での溶剤蒸発が
十分でないためであった。
【００２１】
【比較例３】減圧乾燥部での温度条件を１５０℃とする
こと以外は実施態様１と同様に塗布液の塗布・硬化を行
った。この結果、塗布膜に欠点が生じ、良好に塗布液の
塗布・硬化を行うことができなかった。これは、減圧乾
燥部での温度条件が高いため、減圧乾燥部での溶剤蒸発
する度合いに部分差が生じたためである。
こと以外は実施態様１と同様に塗布液の塗布・硬化を行
った。この結果、塗布膜に欠点が生じ、良好に塗布液の
塗布・硬化を行うことができなかった。これは、減圧乾
燥部での温度条件が高いため、減圧乾燥部での溶剤蒸発
する度合いに部分差が生じたためである。
【００２２】
【発明の効果】請求項１の発明は、基板の裏面への塗布
液の回り込みが全くなく、この結果、減圧乾燥時に塗布
液中の溶剤等が均一に蒸発するので、溶剤等の蒸発の度
合いに部分的なばらつきが生じることを未然に防止で
き、ひいては欠点発生のない塗膜形成物を得ることがで
きるという特有の効果を奏する。
液の回り込みが全くなく、この結果、減圧乾燥時に塗布
液中の溶剤等が均一に蒸発するので、溶剤等の蒸発の度
合いに部分的なばらつきが生じることを未然に防止で
き、ひいては欠点発生のない塗膜形成物を得ることがで
きるという特有の効果を奏する。
【００２３】請求項２の発明は 基板の裏面への塗布液
の回り込みを完全に解消することができる他、請求項１
と同様の効果を奏する。請求項３の発明は、溶剤等の蒸
発を促進することができ、この結果、減圧乾燥の所要時
間を短縮することができるという特有の効果を奏する。
請求項４の発明は、欠点発生のないカラーフィルタを得
ることができるという特有の効果を奏する。
の回り込みを完全に解消することができる他、請求項１
と同様の効果を奏する。請求項３の発明は、溶剤等の蒸
発を促進することができ、この結果、減圧乾燥の所要時
間を短縮することができるという特有の効果を奏する。
請求項４の発明は、欠点発生のないカラーフィルタを得
ることができるという特有の効果を奏する。
【００２４】請求項５の発明は、基板の裏面への塗布液
の回り込みが全くなく、この結果、減圧乾燥時に塗布液
中の溶剤等が均一に蒸発するので、溶剤等の蒸発の度合
いに部分的なばらつきが生じることを未然に防止でき、
ひいては欠点発生のない塗膜形成物を得ることができる
という特有の効果を奏する。請求項６の発明は、溶剤等
の蒸発を促進することができ、この結果、減圧乾燥の所
要時間を短縮することができるという特有の効果を奏す
る。
の回り込みが全くなく、この結果、減圧乾燥時に塗布液
中の溶剤等が均一に蒸発するので、溶剤等の蒸発の度合
いに部分的なばらつきが生じることを未然に防止でき、
ひいては欠点発生のない塗膜形成物を得ることができる
という特有の効果を奏する。請求項６の発明は、溶剤等
の蒸発を促進することができ、この結果、減圧乾燥の所
要時間を短縮することができるという特有の効果を奏す
る。
【００２５】請求項７の発明は、欠点発生のないカラー
フィルタを得ることができるという特有の効果を奏す
る。
フィルタを得ることができるという特有の効果を奏す
る。
【図１】本発明の塗布液の塗布・硬化方法の一態様を示
す概略図である。
す概略図である。
１０ 塗布部 ３０ 減圧乾燥部 ３３ ホットプレート ５０ 加熱硬化部 ８０ ガラス基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０１ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｚ ５６５
Claims (7)
- 【請求項１】 基板外端部を除く基板中央部分に塗布液
を塗布した後、減圧乾燥を行い、塗布液を加熱硬化する
ことを特徴とする塗布液の塗布・硬化方法。 - 【請求項２】 基板中央部分は、基板外端部から１〜５
ｍｍの範囲を除く部分であることを特徴とする請求項１
に記載の塗布・硬化方法。 - 【請求項３】 減圧乾燥時に基板（８０）を加熱するこ
とを特徴とする請求項１または請求項２に記載の塗布液
の塗布・硬化方法。 - 【請求項４】 請求項１、請求項２または請求項３にお
いて基板（８０）がカラーフィルタ用ガラス基板（８
０）であり、塗布液がカラーフィルタ用塗布液であるこ
とを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項５】 基板外端部を除く基板中央部分に塗布液
を塗布する塗布部（１０）と、減圧乾燥を行う減圧乾燥
部（３０）と、塗布液を加熱硬化する加熱硬化部（５
０）とを設けたことを特徴とする塗布液の塗布・硬化装
置。 - 【請求項６】 減圧乾燥部（３０）が、基板（８０）を
加熱する基板加熱部（３３）を有している請求項５に記
載の塗布液の塗布・硬化装置。 - 【請求項７】 請求項５または請求項６において基板
（８０）がカラーフィルタ用ガラス基板（８０）であ
り、塗布液がカラーフィルタ用塗布液であることを特徴
とするカラーフィルタの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18594595A JP3487027B2 (ja) | 1995-07-21 | 1995-07-21 | 塗布液の塗布・硬化方法、カラーフィルタの製造方法およびこれらの装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18594595A JP3487027B2 (ja) | 1995-07-21 | 1995-07-21 | 塗布液の塗布・硬化方法、カラーフィルタの製造方法およびこれらの装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0929167A true JPH0929167A (ja) | 1997-02-04 |
| JP3487027B2 JP3487027B2 (ja) | 2004-01-13 |
Family
ID=16179637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18594595A Expired - Lifetime JP3487027B2 (ja) | 1995-07-21 | 1995-07-21 | 塗布液の塗布・硬化方法、カラーフィルタの製造方法およびこれらの装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3487027B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002343697A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-29 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 高分子材料層の加熱方法及び装置 |
| JP2007271941A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Nippon Zeon Co Ltd | レジスト膜の形成方法及び感光性樹脂組成物 |
| KR20200016789A (ko) | 2018-08-07 | 2020-02-17 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 적층체의 제조 방법, 적층체, 및 전자 장치의 제조 방법 |
-
1995
- 1995-07-21 JP JP18594595A patent/JP3487027B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002343697A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-29 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 高分子材料層の加熱方法及び装置 |
| JP4683763B2 (ja) * | 2001-05-11 | 2011-05-18 | リコー光学株式会社 | 高分子材料層の加熱方法及び装置 |
| JP2007271941A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Nippon Zeon Co Ltd | レジスト膜の形成方法及び感光性樹脂組成物 |
| KR20200016789A (ko) | 2018-08-07 | 2020-02-17 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 적층체의 제조 방법, 적층체, 및 전자 장치의 제조 방법 |
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| JP3487027B2 (ja) | 2004-01-13 |
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