JPH09281523A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JPH09281523A
JPH09281523A JP9500196A JP9500196A JPH09281523A JP H09281523 A JPH09281523 A JP H09281523A JP 9500196 A JP9500196 A JP 9500196A JP 9500196 A JP9500196 A JP 9500196A JP H09281523 A JPH09281523 A JP H09281523A
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JP
Japan
Prior art keywords
transparent conductive
conductive film
liquid crystal
crystal display
display device
Prior art date
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Pending
Application number
JP9500196A
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English (en)
Inventor
Yoshihiro Hashimoto
芳浩 橋本
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明導電膜を信号線や走査線にオーバラップ
して形成することにより、表示品質の向上を図った液晶
表示装置を提供する。 【解決手段】 信号線7Aや走査線8Aの交差部にはT
FTが配設され、TFTの1Poly(ソースS)は第
1コンタクト9を介して信号線7Aに接続され、TFT
のゲートGは走査線8Aに接続され、ドレインDは第2
コンタクト10を介して透明導電膜20に接続される。
透明導電膜20は、互いに隣合う透明導電膜20の上下
左右の間隔を1.5μm以上離して形成するとともに、
透明導電膜20と、透明導電膜20の下方に位置する走
査線8Bとのオーバラップ量を1.5μm以上有して形
成し、透明導電膜20と、透明導電膜20の両隣に位置
する信号線7A、7Bとのオーバラップ量を0.5μm
以上有して形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関
し、更に詳しくは、駆動基板上の透明導電膜の平面形状
を、隣接する走査線および信号線にオーバラップして形
成することにより、コントラスト比や開口率の向上を図
った液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置はフラットな構造や低消費
電力に特徴があり、液晶プロジェクタや液晶モニタ一体
型ビデオカメラに代表される液晶表示装置付き電子機
器、テレビ等へと実用化され普及しつつある。図3は本
発明に係わる液晶表示装置の基本的な構成を示す断面図
であり、図における液晶表示装置1は、駆動基板2およ
び対向基板3から構成されている。
【0003】駆動基板2には、互いに絶縁された複数の
走査線と複数の信号線がマトリクス状に形成されてい
て、その交差部には、各画素駆動用の薄膜トランジスタ
(詳細は後述する)が形成されるとともに、透明導電膜
2Aや配向膜2Bが形成されている。対向基板3には、
図示を省略したがカラー液晶パネルの場合にはR、G、
Bのカラーフィルタ、透明導電膜3Aおよび配向膜3B
が形成されている。
【0004】これら駆動基板2および対向基板3は、そ
れぞれの製造工程において製造された後、所定の間隔を
もって対向配置されるとともに、スペーサ4を挟持して
シール材5によって接合される。その後、図示を省略し
た注入孔から液晶6を注入し、これらガラス基板の両面
に2枚の偏光板(図示省略)を一体に積層することによ
り上記構成の液晶表示装置1が完成される。
【0005】次に、液晶表示装置における1画素領域の
平面形状を図4に例示して説明する。この表示装置は、
駆動基板2に配設されたHシフトレジスタ(図示省略)
に接続され、各画素部に映像信号を入力する信号線7
A、7B、同じく図示を省略したVシフトレジスタに接
続され、各画素部に走査パルスを供給する走査線8A、
8Bを内挿して構成される。
【0006】信号線7Aおよび走査線8Aの交差部には
各画素電極をスイッチング駆動する薄膜トランジスタ(T
hin Film Transistor:以下、単に「TFT」と記す)が
配設され、例えばTFTの1Poly(ソースS)は第
1コンタクト9を介して信号線7Aに接続され、TFT
のゲートGは走査線8Aに接続され、ドレインDは第2
コンタクト10を介して前述の透明導電膜2Aに接続さ
れている。なお、図における液晶表示装置は、簡単のた
め画素の中の1画素を示している。
【0007】このように、従来の液晶表示装置1におけ
る信号線および走査線と、画素電極となる透明導電膜2
Aとはオーバラップして形成されることはない。そのた
め、例えば信号線7A、7Bのエッジ部には液晶6が配
向せず、配向不良となってドメインを発生し易く、かつ
エッジ部の反射によって光モレを起こしてコントラスト
を低下させていた。これを防ぐため対向基板側のブラッ
クマスクを大きくする必要が生じ、駆動基板2と対向基
板3の貼り合わせずれにより開口率の低下を招くという
問題点があった。
【0008】前述の駆動基板2および対向基板3の配向
膜2B、3Bは、液晶6の配向性を高めるためにラビン
グ工程により表面を一定方向にラビングしているが、そ
の際、透明導電膜2Aのエッジ部にてラビング材が削ら
れ、エッジ部に積層されて透明導電膜間ショートを引き
起こし、輝点不良等を生じる。また、透明導電膜と、透
明導電膜に隣接する走査線をオーバラップして形成する
場合もあるが、その場合にもオーバラップ量が1μm程
度であり、走査線に電圧をかけて駆動状態とした場合、
走査線に沿って固定ドメインが発生して光抜けを起こ
し、コントラスト低下を引き起こすという問題点があっ
た。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる問題点
に鑑みてなされたもので、その課題は、従来の液晶表示
装置における信号線および走査線と、透明導電膜とがオ
ーバラップして形成されないことによるコントラスト低
下や、これに伴うブラックマスクを必要とすることによ
る開口率低下などを排除して表示品質の向上を図った液
晶表示装置を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】上述した本発明の課題を
解決するために以下の手段を講じた。すなわち、本発明
の液晶表示装置の基本的な構成として、互いに交差して
マトリクス状に配設された複数の走査線と、複数の信号
線と、その走査線および信号線の交差部に形成された薄
膜トランジスタと、薄膜トランジスタに接続された画素
電極となる透明導電膜とを備えた駆動基板を有する液晶
表示装置において、透明導電膜の平面形状を、透明導電
膜の周辺に隣接する走査線および信号線上に、所定量を
有してオーバラップして形成した。
【0011】具体的実施の形態として請求項2記載の液
晶表示装置は、互いに隣接する透明導電膜の上下左右の
間隔を1.5μm以上離して形成することとした。これ
により、ラビング工程時に発生するラビング材料カス
(バフカス)の発生を抑え、バフカスによる画素間ショ
ートや画素欠陥の発生を抑えることができる。
【0012】請求項3記載の液晶表示装置は、透明導電
膜と、透明導電膜の下方に位置する走査線とのオーバラ
ップ量を1.5μm以上有して形成した。これにより、
従来、走査線のエッジ部で発生していた固定ドメイン
を、走査線内に抑えることができ、コントラスト比の向
上とそれに伴う開口率の向上を図ることができる。
【0013】更に、請求項4記載の液晶表示装置は、透
明導電膜と、透明導電膜の左右に位置する信号線とのオ
ーバラップ量を0.5μm以上有して形成した。そのた
め、薄膜トランジスタのスイッチングに合わせた白黒表
示が、信号線のエッジ部においても可能となり、これに
より、コントラスト比の向上およびそれに伴う開口率の
向上を図ることができる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態につき添付図面を参照して説明する。
【0015】先ず、図1を参照して本発明の液晶表示装
置の一例を説明する。図1は本発明の液晶表示装置の1
画素領域を示す平面図である。なお、従来技術で記載し
た事項と共通する部分には同一参照符合を付すものとす
る。
【0016】この表示素子は、駆動基板2に配設された
Hシフトレジスタ(図示省略)に接続されるとともに、
各画素部に映像信号を入力する信号線7A、7B、同じ
くVシフトレジスタに接続されるとともに、各画素部に
走査パルスを供給する走査線8A、8Bを内挿して構成
される。そして、例えば信号線7Aや走査線8Aの交差
部には各画素部をスイッチング駆動するTFTが配設さ
れ、TFTの1Poly(ソースS)は第1コンタクト
9を介して信号線7Aに接続され、TFTのゲートGは
走査線8Aに接続され、ドレインDは第2コンタクト1
0を介して透明導電膜20に接続されている。
【0017】本発明の特徴事項たる透明導電膜20は、
図示の如く、互いに隣合う透明導電膜20の上下左右の
間隔を1.5μm以上離して形成するとともに、透明導
電膜20と、透明導電膜20の下方に位置する走査線8
Bとのオーバラップ量を1.5μm以上備えて形成し
た。また、透明導電膜20と、透明導電膜20の両隣に
位置する信号線7A、7Bとのオーバラップ量を0.5
μm以上備えて形成した。
【0018】次に、本発明の液晶表示装置の断面構造を
図2に示して説明する。図2は図1におけるA−A線上
の断面図である。
【0019】図2に示した液晶表示装置1の駆動基板は
以下のように形成される。すなわち、透明ガラス基板上
に形状されたTFTと、このTFTをPSG、NSG等
の第1層間膜21で被覆する。その後、TFTのソース
側およびドレイン側となる部分をパターニング形成する
とともに、スパッタリング法またはCVD法にて信号線
等となる配線層22を成膜しパターニング形成する。
【0020】その後、PSG、NSG、SiO2 、Si
N等からなる第2層間膜23を成膜して覆い、ブラック
マスク24となるTi、Mo、W、Cr等の金属膜をス
パッタリング法やCVD法にて成膜してパターニング形
成する。ブラックマスク24は平坦化膜25によって被
覆される。ドレイン側配線層22にはコンタクトホール
を介して本発明の特徴事項たる透明導電膜20がITO
(Indium-Tin Oxide)膜等によって前述の如き平面形状で
形成される。透明導電膜20上には、図示を省略したポ
リイミド膜等の配向膜が形成される。
【0021】本発明の液晶表示装置は、透明導電膜20
を形成するに際し、互いに隣接する透明導電膜20の上
下左右の間隔を1.5μm以上離して形成した。これに
より、ラビング工程時に発生するバフカスによる画素間
のショートや画素欠陥の発生を抑えることができる。ま
た、透明導電膜20と、透明導電膜20の下方に位置す
る走査線8Bとのオーバラップ量を1.5μm以上有し
て形成したため、走査線8Bのエッジ部に発生していた
固定ドメインの発生を抑えることができる。
【0022】本発明は前記実施の形態例に限定されず、
種々の実施形態を採ることができる。例えば、本実施の
形態例では透明導電膜にITO膜を用いた例を例示した
が、SnO2 等の他の透明導電膜でも良く、駆動基板は
前述の構成に限定されない。また、本発明は以上示した
実施形態にとらわれず様々な形態に発展できることは言
うまでもない。
【0023】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の液晶表示装置によれば、駆動基板上に形成される透明
導電膜の平面形状を、透明導電膜の周辺に隣接する走査
線および信号線上に、所定量を有してオーバラップして
形成した。これにより、走査線および信号線のエッジ部
にも液晶が配向するようになり、かつエッジ部の反射に
よる光モレがなくなり、コントラストや開口率の向上を
図ることが可能となり、有用である。
【0024】請求項2記載の液晶表示装置では、互いに
隣接する透明導電膜の上下左右の間隔を1.5μm以上
離して形成したため、ラビング工程時に発生するラビン
グ材料カスの発生を抑え、バフカスによる画素間ショー
トや画素欠陥の発生を抑えることが可能となる。
【0025】請求項3記載の液晶表示装置では、透明導
電膜と、透明導電膜の下方に位置する走査線とのオーバ
ラップ量を1.5μm以上有して形成したため、従来、
走査線のエッジ部で発生していた固定ドメインを、走査
線内に抑えることができ、コントラスト比の向上と、そ
れに伴う開口率の向上を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の液晶表示装置の1画素領域を示す平
面図である。
【図2】 図1におけるA−A線上の断面図である。
【図3】 本発明に係わる液晶表示装置の基本的な構成
を模式的に示す断面図である。
【図4】 従来の液晶表示装置における1画素領域を示
す平面図である。
【符号の説明】
1…液晶表示装置、2…駆動基板、3…対向基板、4…
スペーサ、5…シール材、6…液晶、7A、7B…信号
線、8A、8B…走査線、9…第1コンタクト、10…
第2コンタクト、2A,20…透明導電膜、21…第1
層間膜、22…配線層、23…第2層間膜、24…ブラ
ックマスク、25…平坦化膜

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 互いに交差してマトリクス状に配設され
    た複数の走査線と、複数の信号線と、前記走査線および
    信号線の交差部に形成された薄膜トランジスタと、前記
    薄膜トランジスタに接続された画素電極となる透明導電
    膜とを備えた駆動基板を有する液晶表示装置において、 前記透明導電膜の平面形状を、透明導電膜の周辺に隣接
    する前記走査線および信号線上に、所定量を有してオー
    バラップして形成することを特徴とする液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 互いに隣接する透明導電膜の上下左右の
    間隔を、1.5μm以上離間して形成することを特徴と
    する請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 透明導電膜と、前記透明導電膜の下方に
    位置する走査線とのオーバラップ量を、1.5μm以上
    有して形成することを特徴とする請求項1に記載の液晶
    表示装置。
  4. 【請求項4】 透明導電膜と、前記透明導電膜の左右に
    位置する信号線とのオーバラップ量を、0.5μm以上
    有して形成することを特徴とする請求項1に記載の液晶
    表示装置。
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