JPH0927603A - Master sliced gate array - Google Patents

Master sliced gate array

Info

Publication number
JPH0927603A
JPH0927603A JP17591195A JP17591195A JPH0927603A JP H0927603 A JPH0927603 A JP H0927603A JP 17591195 A JP17591195 A JP 17591195A JP 17591195 A JP17591195 A JP 17591195A JP H0927603 A JPH0927603 A JP H0927603A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
lines
divided
line
supply lines
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17591195A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2830781B2 (en
Inventor
Tomoyoshi Futagami
智至 二上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP7175911A priority Critical patent/JP2830781B2/en
Publication of JPH0927603A publication Critical patent/JPH0927603A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2830781B2 publication Critical patent/JP2830781B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable diversified requirements for a power supply to be met by a method wherein the power supply lines supplying the power to basic cells are divided into individual cells in the case of forming patterns so as to connect these divided power supply lines to specific power supply lines. SOLUTION: Within the power supply lines 1a, 2a, 2c and the grounding lines 1b, 2b, 2d corresponding to respective lines 1a, 2a, 2c, the divided power supply lines 1a, 2a and the grounding lines 1b, 2b of one line are divided at the time of forming wiring patterns so as to form the divided grounding lines while the power supply lines and the grounding lines of the other lines are formed as one power supply line and grounding line in time of the wiring patterns. On the other hand, respective power supply lines 1a, 2a, 2c and the divided grounding lines 1b, 2b, 2d are formed as the first wiring layers to be connected to either one of the power supply 3a or 4a as the second wiring and either one of the corresponding grounding lines 3b or 4b.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、マスタスライス型ゲー
トアレイに関し、特に1つの基板上で電位が相互に異な
る複数種類の電源を供給することを可能にしたマスタス
ライス型ゲートアレイに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a master slice type gate array, and more particularly to a master slice type gate array capable of supplying a plurality of types of power sources having different potentials on one substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4を参照して従来技術を説明する。同
図は、特開平5ー102441号公報に提案された、電
位が相互に異なる複数種類の電源の供給を可能にしたマ
スタスライス型ゲートアレイの例である。符号13aは
パッド領域を示し、該パッド領域13aには、外部との
インターフェイスを目的とするインターフェイスバッフ
ァに接続された信号用パッド及びゲートアレイに電源を
供給する電源用パッドが多数形成されている。各電源用
及び接地用パッドからは夫々、コンタクトホール18
a、18b、18c及び18dを経由して、主電源ライ
ン17a、17c及び主接地ライン17b、17dが、
内部ゲート領域16aに向かって延びている。各主電源
ライン17a、17c及び主接地ライン17b、17d
は、何れも第1層のアルミ配線層として形成されてお
り、第1の主電源ライン17a及び第2の主電源ライン
17cは夫々、相互に異なる第1及び第2の電位に設定
される。
2. Description of the Related Art A conventional technique will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows an example of a master slice type gate array proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-102441 which enables supply of a plurality of types of power sources having mutually different potentials. Reference numeral 13a denotes a pad region, in which a number of signal pads connected to an interface buffer for interfacing with the outside and a number of power supply pads for supplying power to the gate array are formed. The contact holes 18 from the power supply and ground pads are respectively provided.
a, 18b, 18c and 18d, the main power supply lines 17a and 17c and the main ground lines 17b and 17d
It extends toward the internal gate region 16a. Each main power supply line 17a, 17c and main ground line 17b, 17d
Are both formed as a first aluminum wiring layer, and the first main power supply line 17a and the second main power supply line 17c are set to different first and second potentials, respectively.

【0003】内部ゲート領域16aには基本セル20が
マトリクス状に配列されており、各基本セル20に電源
を供給する、第2層の配線層から成る電源供給ライン1
4a、15a及び対応する接地ライン14b、15b
が、各基本セル20の列に沿って相互に平行に配置され
ている。第2層の電源供給ライン14a15a及び接地
ライン14b、15bは、夫々コンタクトホール18
e、18f、18g、18hを介して第1層の主電源ラ
イン17a、17c及び主接地ライン17b、17dに
接続されている。かかる構成により、内部ゲート領域の
各基本セル及びその周囲領域に配置されるバッファ回路
には、夫々に適した電源電圧が供給される。
In the internal gate region 16a, basic cells 20 are arranged in a matrix, and a power supply line 1 composed of a second wiring layer for supplying power to each basic cell 20 is provided.
4a, 15a and corresponding ground lines 14b, 15b
Are arranged in parallel with each other along the column of each basic cell 20. The power supply line 14a15a and the ground lines 14b, 15b of the second layer
e, 18f, 18g, and 18h are connected to the first-layer main power supply lines 17a and 17c and the main ground lines 17b and 17d. With this configuration, a suitable power supply voltage is supplied to each basic cell in the internal gate region and the buffer circuits arranged in the surrounding region.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】マスタスライス型ゲー
トアレイは、その種類がますます多様化しており、各基
本セルに供給する電源電圧も多様化している。例えば、
一部の回路に低電圧の電源を供給することで、半導体装
置全体の消費電力を削減する努力も試みられている。こ
こで、上記提案されたマスタスライス型ゲートアレイで
は、各電源供給ライン及び対応する接地ラインの延びる
方向によって、各基本セルに供給する電源に一定の制約
が生じるという問題がある。
The types of the master slice type gate array have been diversified, and the power supply voltage supplied to each basic cell has also been diversified. For example,
Attempts have also been made to reduce power consumption of the entire semiconductor device by supplying low-voltage power to some circuits. Here, in the proposed master slice type gate array, there is a problem that a certain restriction is imposed on the power supplied to each basic cell depending on the extending direction of each power supply line and the corresponding ground line.

【0005】上記に鑑み、本発明は、マスタスライス型
ゲートアレイの電源ラインを改良し、もって多様化した
電源供給の要請に応えることが出来るマスタスライス型
ゲートアレイを提供することを目的とする。
In view of the above, an object of the present invention is to provide a master slice type gate array which can improve the power supply line of the master slice type gate array and can respond to diversified demands of power supply.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、複数の基本セルがマトリクス状に配列さ
れた内部ゲート領域を備えるマスタスライス型ゲートア
レイにおいて、前記基本セルの配列に沿って相互に平行
に配置される複数の電源供給ラインを第1の配線層に備
え、少なくとも1つの前記電源供給ラインは前記基本セ
ルの配置に従って延長方向に2以上に分割されて分割電
源供給ラインを形成しており、該分割電源供給ラインの
夫々は、第2の配線層に形成された少なくとも2つの電
源ラインの何れかに接続されることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a master slice type gate array having an internal gate region in which a plurality of basic cells are arranged in a matrix. A plurality of power supply lines arranged in parallel along the first wiring layer, and at least one of the power supply lines is divided into two or more in the extension direction according to the arrangement of the basic cells, and the divided power supply lines And each of the divided power supply lines is connected to one of at least two power supply lines formed in the second wiring layer.

【0007】ここで、本発明における電源供給ライン、
電源ライン、主電源ライン等の材料には特に限定はな
く、従来からこの種の目的に利用されているいかなる材
料も使用できる。
Here, the power supply line according to the present invention,
The material of the power supply line, the main power supply line and the like is not particularly limited, and any material conventionally used for this kind of purpose can be used.

【0008】また、第1の配線層及び第2の配線層は夫
々、特に、その製造時に形成される順番としての配線第
1層及び配線第2層の意味を表わすものではなく、単に
1つの配線層及び他の配線層を示すものである。従っ
て、第1の配線層及び第2の配線層のいずれが上層又は
下層であってもよい。
The first wiring layer and the second wiring layer do not represent the meaning of the wiring first layer and the wiring second layer, respectively, in the order in which they are formed at the time of manufacturing, and only one wiring layer is used. 3 illustrates a wiring layer and another wiring layer. Therefore, either the first wiring layer or the second wiring layer may be an upper layer or a lower layer.

【0009】本発明における基本セルは、好ましくは、
各基本セル又は基本セル群毎にバックゲート拡散領域が
電気的に分離される。
[0009] The basic cell in the present invention is preferably
The back gate diffusion region is electrically isolated for each basic cell or basic cell group.

【0010】[0010]

【作用】本発明のマスタスライス型ゲートアレイの好適
な態様では、内部セル領域と入出力回路との間に配置さ
れる、相互に異なる電位を供給可能な複数の主電源ライ
ン及び主接地ラインを例えば配線第1層の配線層として
有し、これらはチップの周囲を回る周回電源配線及び周
回接地配線として構成される。配線第2層として構成さ
れ、基本セルの例えば列方向に延びる電源ライン及び対
応する接地ラインの1本が、基本セルの例えば2列毎に
配置される。各基本セルに直接に電源を供給する電源供
給ライン及びこれに対応する接地ラインは、何れも配線
第1層の配線層として形成され、列方向に延びる電源ラ
インとは直交して行方向に延び、基本セルの各行毎に夫
々1本の電源ライン及びこれに対応する接地ラインが配
設される。
In a preferred embodiment of the master slice type gate array of the present invention, a plurality of main power supply lines and a main ground line which can be provided between the internal cell region and the input / output circuit and which can supply mutually different potentials are provided. For example, it is provided as a first wiring layer, and these are configured as a circulating power supply wiring and a circulating ground wiring around the periphery of the chip. One of a power supply line and a corresponding ground line, which are configured as a second wiring layer and extend in, for example, the column direction of the basic cells, are arranged, for example, every two columns of the basic cells. A power supply line for directly supplying power to each basic cell and a corresponding ground line are formed as a first wiring layer, and extend in the row direction orthogonal to the power lines extending in the column direction. , One power supply line and a corresponding ground line are provided for each row of the basic cells.

【0011】行方向に延びる各電源供給ライン及びこれ
に対応する接地ラインの少なくとも1つは、ゲートアレ
イに要求される機能に従って、任意数の基本セル毎に行
方向に分割されて、夫々分割電源供給ライン及び分割接
地ラインを構成する。各分割電源供給ライン及び分割接
地ライン、並びに、分割されない電源供給ライン及び接
地ラインは、夫々、対応するコンタクトホールを介し
て、配線第2層の電源ライン及びこれに対応する接地ラ
インに接続される。内部セル領域に配列された基本セル
のバックゲート拡散領域は、基本セル毎にあるいは基本
セル群毎に予め相互に電気的に分離されており、電源供
給ライン及び対応する接地ラインの任意の分割に対応し
ている。
At least one of the power supply lines extending in the row direction and the corresponding ground line is divided in the row direction for each of an arbitrary number of basic cells in accordance with a function required for the gate array. Construct a supply line and a split ground line. Each of the divided power supply line and the divided ground line, and the undivided power supply line and the ground line are respectively connected to the power supply line of the wiring second layer and the corresponding ground line via the corresponding contact hole. . The back gate diffusion regions of the basic cells arranged in the internal cell region are electrically separated from each other in advance for each basic cell or for each basic cell group, and can be divided into arbitrary divisions of a power supply line and a corresponding ground line. Yes, it is.

【0012】ここで、複数の接地ラインを各電源ライン
に対応して設ける上記構成に代えて、各電源ラインに共
通の1つの接地ラインを設けることも出来る。
Here, instead of the above configuration in which a plurality of ground lines are provided corresponding to each power supply line, a common ground line can be provided for each power supply line.

【0013】[0013]

【実施例】本発明の一実施例を示す図1及び図2を参照
して、本発明のマスタスライス型ゲートアレイについ
て、更に詳細に説明する。図2は、このマスタスライス
型ゲートアレイのチップ上の配置を模式的に示す平面図
であり、図1は図2の一部を示す平面図で、電源ライン
の接続及び内部ゲート領域の配置を例示する平面図であ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The master slice type gate array of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 1 and 2 showing an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view schematically showing an arrangement of the master slice type gate array on a chip. FIG. 1 is a plan view showing a part of FIG. 2, and shows the connection of power supply lines and the arrangement of internal gate regions. It is a top view which illustrates an example.

【0014】図2において、半導体チップ10aには、
周囲領域を成すパッド領域11aがチップ外周部分に配
置され、その内側に内部ゲート領域5cが配置される。
パッド領域11aと内部ゲート領域5cとの間には、周
回配線として形成された、配線第1層を形成する2種類
の主電源ライン3c、4c及び夫々に対応する主接地ラ
イン3d、4dが、周回電源配線及び周回接地配線とし
て順次に配置される。一方の周回電源ライン3cと、こ
れに対応する周回接地ライン3dとの間には、例えば、
5Vの電圧が印加され、他方の周回電源ライン4cと、
これに対応する周回接地ライン4dとの間には、例え
ば、3.3Vの電圧が印加される。
In FIG. 2, the semiconductor chip 10a includes:
A pad region 11a forming a peripheral region is arranged on the outer peripheral portion of the chip, and an internal gate region 5c is arranged inside the pad region 11a.
Between the pad region 11a and the internal gate region 5c, two types of main power supply lines 3c, 4c forming a first wiring layer and main ground lines 3d, 4d corresponding to the two types are formed as peripheral wirings. They are sequentially arranged as a circulating power supply wiring and a circulating ground wiring. Between one of the circulating power lines 3c and the corresponding circulating ground line 3d, for example,
A voltage of 5V is applied, and the other circulating power supply line 4c,
A voltage of, for example, 3.3 V is applied between the corresponding peripheral ground line 4d.

【0015】図1において、各周回電源ライン3c、4
c及び対応する周回接地ライン3d、4d、並びに、内
部ゲート領域に配置された配線第2層を成す電源ライン
3a、4a及び対応する接地ライン3b、4bは、何れ
もアルミ配線層として形成されている。内部ゲート領域
の各電源ライン3a、4a及び各接地ライン3b、4b
は、2列の基本セル20毎に1本の電源ライン又は接地
ラインが交互に配置される。各電源ライン3a、4a及
び対応する各接地ライン3b、4bは夫々、対応するコ
ンタクトホール19a、19c、19b、19dを介し
て、その上層の周回電源ライン3c、4c及び周回接地
ライン3d、4dに接続されている。
In FIG. 1, each power supply line 3c, 4
c and the corresponding peripheral ground lines 3d and 4d, and the power supply lines 3a and 4a and the corresponding ground lines 3b and 4b, which form the second wiring layer disposed in the internal gate region, are formed as aluminum wiring layers. I have. Each power supply line 3a, 4a and each ground line 3b, 4b in the internal gate region
One power supply line or ground line is alternately arranged for every two rows of basic cells 20. The power supply lines 3a, 4a and the corresponding ground lines 3b, 4b are respectively connected to the upper peripheral power supply lines 3c, 4c and the peripheral ground lines 3d, 4d via the corresponding contact holes 19a, 19c, 19b, 19d. It is connected.

【0016】内部ゲート領域の基本セル20の各行毎
に、各1本の電源供給ライン及びこれに対応する接地ラ
インが、相互に対をなして行方向に延びている。電源供
給ライン1a、2a、2c及び夫々に対応する接地ライ
ン1b、2b、2dは、図示の例では、1つの行の分割
電源供給ライン1a、2a及び接地ライン1b、2b
が、配線パターン形成時に分割されて分割電源供給ライ
ン及び分割接地ラインを形成し、他の行の電源供給ライ
ン及び接地ラインは、配線パターン形成時に1本の電源
供給ライン及び接地ラインラインとして形成される。
For each row of the basic cells 20 in the internal gate region, one power supply line and a corresponding ground line extend in the row direction in pairs with each other. In the illustrated example, the power supply lines 1a, 2a, 2c and the corresponding ground lines 1b, 2b, 2d are divided power supply lines 1a, 2a and the ground lines 1b, 2b of one row.
Are divided at the time of forming the wiring pattern to form a divided power supply line and a divided ground line, and the power supply line and the ground line of another row are formed as one power supply line and the ground line at the time of forming the wiring pattern. You.

【0017】各電源供給ライン1a、2a、2c及び分
割接地ライン1b、2b、2dは、何れもアルミ配線第
1層として形成されており、配線第2層を成す電源ライ
ン3a又は4aの何れか及び対応する接地ライン3b、
4bの何れかと、夫々コンタクトホール6a、7a、6
b、7bを介して接続される。
Each of the power supply lines 1a, 2a, and 2c and the divided ground lines 1b, 2b, and 2d are formed as a first layer of aluminum wiring, and each of the power supply lines 3a or 4a forming the second layer of wiring is formed. And a corresponding ground line 3b,
4b and contact holes 6a, 7a, 6 respectively.
b, 7b.

【0018】基本セルは、図示の例では、一方の基本セ
ル群5aと他方の基本セル群5bとから成り、一方の基
本セル群5aの各基本セル20は、コンタクトホール8
a、8bを介して分割電源供給ライン1a及び対応する
分割接地ライン1bに接続され、これらを経由して第1
の電源ライン3a及び対応する接地ライン3bに接続さ
れる。また、他方の基本セル群5bの各基本セル20
は、コンタクトホール9a、9bを介して分割電源供給
ライン及び対応する分割接地ライン2a、2b、2c、
2dに接続され、これらを経由して第2の電源ライン4
a及び対応する接地ライン4bに接続される。
In the illustrated example, the basic cell is composed of one basic cell group 5a and the other basic cell group 5b, and each basic cell 20 of one basic cell group 5a
The divided power supply line 1a and the corresponding divided ground line 1b are connected via a and 8b, and the
Power line 3a and a corresponding ground line 3b. Also, each basic cell 20 of the other basic cell group 5b
Are divided power supply lines and corresponding divided ground lines 2a, 2b, 2c through contact holes 9a, 9b.
2d, and the second power supply line 4
a and the corresponding ground line 4b.

【0019】上記構成により、基本セル群5a内の各基
本セル20には例えば5Vの電源が供給され、また、基
本セル群5b内の各基本セル20には例えば3.3Vの
電源が供給される。2つの基本セル20から成る基本セ
ル対5a、5bのバックゲート拡散領域は、隣接する基
本セル対のバックゲート拡散領域と電気的に分離され
る。これにより、各基本セル対毎に電位が異なる任意の
電源接続が行われても、隣接する基本セル対間で電源の
混触が生じないように予め考慮されている。なお、この
電気的分離の単位は、各基本セルに供給する電源のパタ
ーンを考慮して、1以上の任意数に定めることが出来
る。
With the above configuration, for example, a power of 5 V is supplied to each of the basic cells 20 in the basic cell group 5a, and a power of, for example, 3.3 V is supplied to each of the basic cells 20 in the basic cell group 5b. You. The back gate diffusion regions of the basic cell pairs 5a and 5b composed of two basic cells 20 are electrically separated from the back gate diffusion regions of the adjacent basic cell pairs. Thereby, even if an arbitrary power supply connection having a different potential for each basic cell pair is performed, consideration is given in advance so that power supply does not touch between adjacent basic cell pairs. The unit of the electrical separation can be set to one or more arbitrary numbers in consideration of the pattern of the power supply supplied to each basic cell.

【0020】分割電源供給ラインの各分割位置は、基本
セル対の境界位置に対応している。実際にどの位置で分
割するかは、マスタスライス型ゲートアレイの用途に応
じた配線パターンの設計に際して定められる。従って、
例えば5V作動の基本セルと3.3V作動の基本セルと
がどのようなパターンで配置されても、これに対応する
ゲートアレイを、パターニングにより形成することが出
来る。
Each division position of the divided power supply line corresponds to a boundary position of a basic cell pair. The actual position of division is determined when designing the wiring pattern according to the application of the master slice type gate array. Therefore,
For example, even if the basic cells operating at 5V and the basic cells operating at 3.3V are arranged in any pattern, a gate array corresponding to this can be formed by patterning.

【0021】本発明を、周波数が相互に異なる2系統の
クロックラインからクロック信号を受けるマスタスライ
ス型ゲートアレイに適用することが出来る。例えば、周
波数が高い一方のクロックラインで制御される基本クロ
ック群に低電圧の電源を供給し、周波数が低い他方のク
ロックラインに制御される基本クロック群に高電圧の電
源を供給する。これにより、高い周波数で制御される基
本クロック群における消費電力を低減する。この場合、
電源種別をどのように複雑に区分けする場合でも、ある
位置の基本セルに何れの電源を供給するかは、その配線
パターンの設計の際に、電源供給ラインの分割位置の選
択及びその分割電源供給ラインを接続する電源ラインの
選択により容易に定められる。
The present invention can be applied to a master slice type gate array receiving clock signals from two clock lines having different frequencies. For example, low-voltage power is supplied to a basic clock group controlled by one clock line having a high frequency, and high-voltage power is supplied to a basic clock group controlled by the other clock line having a low frequency. As a result, power consumption in a basic clock group controlled at a high frequency is reduced. in this case,
Regardless of how the power supply type is divided in a complicated manner, which power supply is supplied to the basic cell at a certain position can be determined by selecting a power supply line dividing position and designing the divided power supply when designing the wiring pattern. It is easily determined by the selection of the power supply line connecting the lines.

【0022】図3は、本発明の第2の実施例のマスタス
ライス型ゲートアレイの構成を示す部分平面図である。
図3では、内部ゲート領域以外の部分は図示を省略して
いるが、その省略部分は図1の構成と同様である。ま
た、半導体チップの構成も図2に示したものと同じであ
る。
FIG. 3 is a partial plan view showing a configuration of a master slice type gate array according to a second embodiment of the present invention.
In FIG. 3, portions other than the internal gate region are not shown, but the omitted portion is the same as the configuration in FIG. The configuration of the semiconductor chip is the same as that shown in FIG.

【0023】本実施例のマスタスライス型ゲートアレイ
では、先の実施例と同様に、配線第2層を成す複数の電
源ライン及び対応する接地ラインが列方向に沿って延
び、他方、配線第1層を成す電源供給ライン及び対応す
る接地ラインが行方向に沿って延びる。各電源供給ライ
ン及び対応する接地ラインは、基本構造としては、何れ
も基本セル対毎に分割されており、実際の配線パターン
の設計に際して、必要に応じてその分割部分がマスク上
で修正される。
In the master slice type gate array of this embodiment, as in the previous embodiment, a plurality of power supply lines and a corresponding ground line forming the second layer of wiring extend along the column direction, while the first line of wiring Layered power supply lines and corresponding ground lines extend along the row direction. Each of the power supply lines and the corresponding ground line is divided into basic cell pairs for each basic cell structure, and the divided portions are corrected on a mask as necessary when designing an actual wiring pattern. .

【0024】例えば、図示の5e部分を1つの基本セル
群として、これに他の基本セル群5dとは別の電源を供
給することを考える。この場合、分割電源供給ライン1
2aを図示で左方向に延長し、第1の電源ライン3dの
下方部分まで延ばす。同時に、配線第1層と配線第2層
とをつなぐコンタクトホールにより、配線第2層の電源
ライン3dと延長した配線第1層の分割電源供給ライン
12aとを接続する。同様に、対応する分割接地ライン
12gを図示で右方向に延長して接地ライン3eと接続
する。
For example, consider the case where the part 5e shown in the figure is used as one basic cell group and a power source different from that of the other basic cell group 5d is supplied thereto. In this case, the divided power supply line 1
2a is extended leftward in the figure, and extends to a lower portion of the first power supply line 3d. At the same time, the power supply line 3d of the second wiring layer and the extended divided power supply line 12a of the first wiring layer are connected by a contact hole connecting the first wiring layer and the second wiring layer. Similarly, the corresponding divided ground line 12g is extended rightward in the figure and connected to the ground line 3e.

【0025】その他の基本セル群5dには共通の電源を
供給する。この場合、マスクパターンを利用したパター
ニングにより、共通の電源が供給される基本セル群5d
の各分割電源供給ライン12b、12c、12d、12
e、12f及び対応する接地ライン12h、12i、1
2j、12k、12lを、夫々行方向に延長して、隣接
する分割電源供給ライン及び対応する接地ラインに夫々
接続する。これと同時に、配線第1層及び第2層を接続
するコンタクトホールにより、相互接続された分割電源
供給ライン及び対応する接地ラインを、電源ライン4d
及び接地ライン4eに夫々接続する。この接続は、何れ
か1ヵ所でもよく、あるいは、対応する全ての電源ライ
ン及び接地ラインに接続してもよい。
A common power supply is supplied to the other basic cell groups 5d. In this case, the basic cell group 5d to which a common power is supplied by patterning using a mask pattern
Divided power supply lines 12b, 12c, 12d, 12
e, 12f and corresponding ground lines 12h, 12i, 1
2j, 12k and 121 are respectively extended in the row direction and connected to the adjacent divided power supply lines and the corresponding ground lines, respectively. At the same time, the divided power supply lines and the corresponding ground lines interconnected by the contact holes connecting the first and second wiring layers are connected to the power supply line 4d.
And the ground line 4e. This connection may be made at any one position, or may be made to all corresponding power supply lines and ground lines.

【0026】本実施例の場合の最終的な構成は、図1に
示したものと同様になる。一方の電源配線3dは、図1
と同様に、周回電源配線3cと接続され、また、他方の
電源配線4dは同様に周回電源配線4cと接続される。
図2において、周回電源配線3c及び4cには、パッド
領域11a内の電源パッドを介して相互に異なる電源電
圧が供給される。これにより、電源配線3dと4dとは
異なる電源電圧に設定される。また、接地ライン3e及
び4eはそれぞれ、同様に周回接地配線3d及び4dに
接続される。
The final configuration of this embodiment is the same as that shown in FIG. One power supply wiring 3d is shown in FIG.
Similarly, the power supply wiring 3c is connected, and the other power supply wiring 4d is similarly connected to the power supply wiring 4c.
In FIG. 2, the peripheral power supply lines 3c and 4c are supplied with different power supply voltages via the power supply pads in the pad region 11a. Thus, the power supply lines 3d and 4d are set to different power supply voltages. Also, the ground lines 3e and 4e are similarly connected to the surrounding ground wirings 3d and 4d, respectively.

【0027】上記実施例1及び2では、何れも、接地配
線を第1の電源ライン及び第2の電源ラインに対応して
別に設けた例を示したが、この構成に代えて、双方の電
源ラインに共通の接地配線を設けることも可能である。
その場合には、図2に示した接地配線3d、4dの一方
を削除して1本にまとめることが出来る。これに伴っ
て、接地配線は、分割電源供給ラインの電源種類に対応
して基本セル毎に分割することを要しない。
In each of the first and second embodiments, the example in which the ground wiring is separately provided in correspondence with the first power supply line and the second power supply line has been described. It is also possible to provide a common ground line for the lines.
In that case, one of the ground wirings 3d and 4d shown in FIG. 2 can be deleted and integrated. Accordingly, the ground wiring does not need to be divided for each basic cell in accordance with the power supply type of the divided power supply line.

【0028】また、上記の実施例1及び2では、何れも
2つの異なる電源電圧を供給する場合を例として説明し
たが、周回電源配線及び対応する電源ラインの本数、並
びに電源供給ラインの分割数を増やすことにより、2種
類以上任意の数の異なる電源の供給も可能となる。
In the first and second embodiments, the case where two different power supply voltages are supplied has been described as an example. However, the number of circuit power supply lines and corresponding power supply lines, and the number of divided power supply lines , It is possible to supply two or more types of arbitrary power sources.

【0029】以上、本発明をその好適な実施例に基づい
て説明したが、本発明のマスタスライス型ゲートアレイ
は、上記実施例の構成にのみ限定されるものではなく、
上記実施例の構成から種々の修正及び変更を加えたもの
も本発明のマスタスライス型ゲートアレイに含まれる。
Although the present invention has been described based on the preferred embodiment, the master slice type gate array of the present invention is not limited to the configuration of the above embodiment.
Various modifications and changes from the configuration of the above embodiment are also included in the master slice type gate array of the present invention.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明のマスタスライス型ゲートアレイ
は、基本セルに電源を直接に供給する電源供給ライン
を、配線パターンの形成時に基本セル又は基本セル群毎
に分割できる構造とし、これにより得られた分割電源供
給ラインを所望の電源ラインに接続できる構造としたの
で、各基本セルへの電源の供給に自由度が高まり、本発
明は、低消費電力の半導体装置を供給することが特に容
易なマスタスライス型ゲートアレイを提供した顕著な効
果を奏する。
The master slice type gate array of the present invention has a structure in which a power supply line for directly supplying power to the basic cells can be divided into basic cells or basic cell groups when forming a wiring pattern. Since the divided power supply lines can be connected to desired power supply lines, the degree of freedom in supplying power to each basic cell is increased, and the present invention makes it particularly easy to supply a semiconductor device with low power consumption. A remarkable effect is provided by providing a simple master slice type gate array.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例のマスタスライス型ゲー
トアレイの要部構造を示す平面図。
FIG. 1 is a plan view showing a main structure of a master slice type gate array according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1及び第2の実施例のマスタスライ
ス型ゲートアレイのチップ平面図。
FIG. 2 is a plan view of a chip of a master slice type gate array according to first and second embodiments of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施例のマスタスライス型ゲー
トアレイの要部構造を示す平面図。
FIG. 3 is a plan view showing a main structure of a master slice type gate array according to a second embodiment of the present invention.

【図4】従来のマスタスライス型ゲートアレイの要部平
面図。
FIG. 4 is a plan view of a main part of a conventional master slice type gate array.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a、2a、2c、12a〜12f 分割電源供給ライ
ン 1b、2b、2d、12g〜12l 接地ライン 3a、3d、4a、4d、14a、14b 電源ライ
ン 3b、3e、4b、4e、15a、15b 接地ライ
ン 5a、5b、5d 基本セル群 6a、6b、7a、7b、8a、8b コンタクトホー
ル 9a、9b コンタクトホール 3c、4c 周回電源配線(主電源配線) 3d、4d 周回接地配線(主電源配線) 5c 内部ゲート領域 10a 半導体チップ 11a パッド領域 20 基本セル
1a, 2a, 2c, 12a to 12f Divided power supply line 1b, 2b, 2d, 12g to 12l Ground line 3a, 3d, 4a, 4d, 14a, 14b Power line 3b, 3e, 4b, 4e, 15a, 15b Ground line 5a, 5b, 5d Basic cell group 6a, 6b, 7a, 7b, 8a, 8b Contact hole 9a, 9b Contact hole 3c, 4c Circular power supply wiring (main power supply wiring) 3d, 4d Circular ground wiring (main power supply wiring) 5c Inside Gate region 10a Semiconductor chip 11a Pad region 20 Basic cell

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の基本セルがマトリクス状に配列さ
れた内部ゲート領域を備えるマスタスライス型ゲートア
レイにおいて、 前記基本セルの配列に沿って相互に平行に配置される複
数の電源供給ラインを第1の配線層に備え、少なくとも
1つの前記電源供給ラインは前記基本セルの配置に従っ
て延長方向に2以上に分割されて分割電源供給ラインを
形成しており、該分割電源供給ラインの夫々は、第2の
配線層に形成された少なくとも2つの電源ラインの何れ
かに接続されることを特徴とするマスタスライス型ゲー
トアレイ。
1. A master slice type gate array having an internal gate region in which a plurality of basic cells are arranged in a matrix, wherein a plurality of power supply lines are arranged in parallel with each other along the arrangement of the basic cells. In one wiring layer, at least one power supply line is divided into two or more in the extension direction according to the arrangement of the basic cells to form a divided power supply line, and each of the divided power supply lines is A master slice type gate array, which is connected to any one of at least two power supply lines formed in two wiring layers.
【請求項2】 前記内部ゲート領域の周囲部分に配置さ
れる入出力回路領域と、該入出力回路領域と前記内部ゲ
ート領域との間に配置され前記各電源ラインの夫々に対
応して形成される複数の主電源ラインとを更に備え、該
主電源ラインの夫々は、対応する前記電源ラインに接続
される、請求項1に記載のマスタスライス型ゲートアレ
イ。
2. An input / output circuit region arranged in the peripheral portion of the internal gate region, and is formed between the input / output circuit region and the internal gate region and formed corresponding to each of the power supply lines. The master slice type gate array according to claim 1, further comprising a plurality of main power supply lines, each of the main power supply lines being connected to the corresponding power supply line.
【請求項3】 前記各基本セルのバックゲート拡散領域
が基本セル又は基本セル群毎に電気的に分離される、請
求項1又は2に記載のマスタスライス型ゲートアレイ。
3. The master slice type gate array according to claim 1, wherein the back gate diffusion region of each basic cell is electrically isolated for each basic cell or basic cell group.
JP7175911A 1995-07-12 1995-07-12 Master slice type gate array Expired - Lifetime JP2830781B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7175911A JP2830781B2 (en) 1995-07-12 1995-07-12 Master slice type gate array

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7175911A JP2830781B2 (en) 1995-07-12 1995-07-12 Master slice type gate array

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0927603A true JPH0927603A (en) 1997-01-28
JP2830781B2 JP2830781B2 (en) 1998-12-02

Family

ID=16004406

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7175911A Expired - Lifetime JP2830781B2 (en) 1995-07-12 1995-07-12 Master slice type gate array

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2830781B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002040961A (en) * 2000-07-28 2002-02-08 Nec Corp Display device
JP2014033109A (en) * 2012-08-03 2014-02-20 Renesas Electronics Corp Semiconductor chip

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01243541A (en) * 1988-03-25 1989-09-28 Hitachi Ltd Semiconductor device
JPH01273332A (en) * 1988-04-26 1989-11-01 Nec Ic Microcomput Syst Ltd Large-scale integrated circuit device
JPH0262062A (en) * 1988-08-26 1990-03-01 Nec Corp Master slice type semiconductor device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01243541A (en) * 1988-03-25 1989-09-28 Hitachi Ltd Semiconductor device
JPH01273332A (en) * 1988-04-26 1989-11-01 Nec Ic Microcomput Syst Ltd Large-scale integrated circuit device
JPH0262062A (en) * 1988-08-26 1990-03-01 Nec Corp Master slice type semiconductor device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002040961A (en) * 2000-07-28 2002-02-08 Nec Corp Display device
JP4593740B2 (en) * 2000-07-28 2010-12-08 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Display device
JP2014033109A (en) * 2012-08-03 2014-02-20 Renesas Electronics Corp Semiconductor chip

Also Published As

Publication number Publication date
JP2830781B2 (en) 1998-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2580301B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2004022877A (en) Standard cell for multiple power sources, standard cell library for automatic arrangement and wiring, power supply wiring method, and semiconductor integrated device
US4499484A (en) Integrated circuit manufactured by master slice method
JPH0480538B2 (en)
JP2001044397A (en) Semiconductor integrated circuit
EP0021661B1 (en) Semiconductor master-slice device
US5434436A (en) Master-slice type semiconductor integrated circuit device having multi-power supply voltage
JP2830781B2 (en) Master slice type gate array
JPH10284605A (en) Semiconductor integrated circuit, and semiconductor integrated circuit with layout designed according to cell-base scheme
JPS62104153A (en) Integrated logic circuit
JPS6329826B2 (en)
JPH10163458A (en) Clock driver circuit and semiconductor integrated circuit device
JPS6070742A (en) Master slice type semiconductor device
JPS62150844A (en) Logic integrated circuit device
JPS63199444A (en) Standard cell system semiconductor device
JP2551499B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH0677445A (en) Master slice layout integrated circuit
JP3132604B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JPS6248042A (en) Master/slice type semiconductor integrated circuit
JPS59132144A (en) Manufacture of semiconductor integrated circuit device
JPS6295853A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0645566A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH0548048A (en) Master slice tyep semiconductor integrated circuit device
JPS6248043A (en) Semiconductor integrated circuit
JP2707705B2 (en) Master slice type semiconductor integrated device