JPH09260855A - Multilayered wiring board manufacturing method - Google Patents
Multilayered wiring board manufacturing methodInfo
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- JPH09260855A JPH09260855A JP6563196A JP6563196A JPH09260855A JP H09260855 A JPH09260855 A JP H09260855A JP 6563196 A JP6563196 A JP 6563196A JP 6563196 A JP6563196 A JP 6563196A JP H09260855 A JPH09260855 A JP H09260855A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ビアホールを有す
る高密度な多層配線板の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a high-density multilayer wiring board having via holes.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、印刷配線板の配線の微細化、多層
化、層間接続孔の微小化に対応して、層間の導通をビア
ホールによって行い、高密度な多層配線板を製造するこ
とが行われている。2. Description of the Related Art In recent years, in response to the miniaturization of wiring in printed wiring boards, the increase in the number of layers, and the miniaturization of interlayer connection holes, it has been possible to manufacture a high-density multilayer wiring board by conducting vias between layers. It is being appreciated.
【0003】このようなビアホールを有する多層配線板
の製造方法としては、たとえば、特開昭61−1336
96号公報に記載されるものがある。この多層配線板の
製造方法の工程は図6に示されるものである。As a method of manufacturing a multilayer wiring board having such a via hole, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 61-1336 is used.
There is one described in Japanese Patent Publication No. 96. The steps of the method for manufacturing the multilayer wiring board are shown in FIG.
【0004】つまり、この図の(A)に示すように、絶
縁層5となる基材20にドリルなどの機械加工で下孔21を
形成し、(B)〜(C)に示すように、この基材20を銅
箔3とコア基材1との間に介して加熱加圧成形して多層
化し、この加熱加圧成形時に下孔21に樹脂を充填硬化さ
せている。そして、(D)に示すように、下孔21の径よ
り小さい層間接続孔22を、レーザ加工によってコア基材
1の導体回路10の深さまで形成している。さらに、
(E)に示すように、層間接続孔22内にめっきによる導
体形成およびエッチングなどの回路パターン形成を行っ
て、ビアホール4を形成した多層配線板を得ている。That is, as shown in (A) of this figure, a pilot hole 21 is formed in a base material 20 to be the insulating layer 5 by machining such as a drill, and as shown in (B) to (C), The base material 20 is heated and pressure-molded via the copper foil 3 and the core base material 1 to form a multilayer, and the pilot hole 21 is filled with a resin and cured at the time of the heat-pressure molding. Then, as shown in (D), an interlayer connection hole 22 smaller than the diameter of the pilot hole 21 is formed by laser processing to the depth of the conductor circuit 10 of the core base material 1. further,
As shown in (E), a conductor pattern by plating and circuit pattern formation such as etching are formed in the interlayer connection hole 22 to obtain a multilayer wiring board in which the via hole 4 is formed.
【0005】以上のようなレーザ加工による層間接続孔
22の形成は、機械加工に比較して、微小径で、かつコア
基材1の導体回路10の深さまでに行うことが極めて容易
であり、高密度な多層配線板の製造に好適な加工方法で
ある。Interlayer connection hole formed by laser processing as described above
22 is extremely easy to form up to the depth of the conductor circuit 10 of the core base material 1 as compared with machining, and is suitable for manufacturing a high-density multilayer wiring board. Is.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来例にあっては、機械加工による下孔21を形成する工
程が必要であって、工程が長くなるとともに、絶縁層5
となる基材20に含まれる無機フィラーの削りカスがでる
ため、多層配線板の導通不良および絶縁不良が発生しや
すい点で問題がある。However, in the above-mentioned conventional example, the step of forming the pilot hole 21 by machining is required, and the step becomes long and the insulating layer 5 is formed.
Since shavings of the inorganic filler contained in the base material 20 that becomes the base material are generated, there is a problem in that conduction failure and insulation failure of the multilayer wiring board are likely to occur.
【0007】なお、このような欠点を除くために、下孔
加工を省略すると、絶縁層5となる基材1に含まれる無
機フィラーが、層間接続孔内壁に突出する形状となるの
で、実用上用いられないし、下孔加工をレーザ加工によ
って行っても同様の問題点が改善されないのである。In order to eliminate such a defect, if the underhole processing is omitted, the inorganic filler contained in the base material 1 which becomes the insulating layer 5 has a shape protruding to the inner wall of the interlayer connection hole, which is practically used. It is not used, and the same problem cannot be solved by laser processing the prepared hole.
【0008】また、同上欠点の対策として、ガラスクロ
スなどの無機フィラーを含有しない樹脂を基材として用
いて、絶縁層5を形成することが考えられるが、加熱加
圧成形時に層間の絶縁性を確保することが困難である。As a countermeasure against the above-mentioned drawback, it is conceivable to form the insulating layer 5 by using a resin containing no inorganic filler, such as glass cloth, as a base material. It is difficult to secure.
【0009】また、別法として、絶縁層5となる基材20
を形成する前のガラスクロスなどの無機フィラーに、あ
らかじめレーザ加工によって下孔21を形成した後、樹脂
を含浸させ、絶縁層5となる基材20を形成する方法が考
えられる。しかし、この方法では、下孔21の位置精度が
不十分になりやすい欠点がある。また、絶縁層5となる
基材20を、未硬化樹脂を含浸したプリプレグとしても、
ほぼ同様の欠点が存在するのである。Alternatively, the base material 20 to be the insulating layer 5
A method is conceivable in which the inorganic filler such as glass cloth before forming is formed with the pilot holes 21 in advance by laser processing and is then impregnated with resin to form the base material 20 to be the insulating layer 5. However, this method has a drawback that the positional accuracy of the pilot hole 21 tends to be insufficient. Further, even if the base material 20 to be the insulating layer 5 is a prepreg impregnated with an uncured resin,
There are almost similar drawbacks.
【0010】本発明は、以上のような問題点を解決する
ためになされたものであり、その目的は、下孔を形成す
る工程を省とともに、絶縁層となる基材に含まれる無機
フィラーの削りカスが原因となる導通不良および絶縁不
良が発生せず、高密度かつ高信頼性の多層配線板の製造
方法の提供にある。The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to save the step of forming a pilot hole and to improve the inorganic filler contained in the base material to be an insulating layer. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a multilayer wiring board having high density and high reliability, which does not cause defective conduction or defective insulation due to scraps.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する請求
項1記載の発明は、導体回路10を有するコア基材1との
間に、絶縁層5を有するように銅箔3を加熱加圧成形し
て多層化し、前記導体回路10と前記銅箔3との層間接続
を行うビアホール4を、レーザ加工によって形成する多
層配線板の製造方法において、前記コア基材1と前記銅
箔3との間に、無機フィラーを含有させない絶縁層樹脂
8を介在させて加熱加圧成形することを特徴として構成
している。In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 heats and pressurizes a copper foil 3 so as to have an insulating layer 5 between the core substrate 1 having a conductor circuit 10. In the method for manufacturing a multilayer wiring board, the via hole 4 is formed by laser processing, the via hole 4 being formed into multiple layers and connecting the conductor circuit 10 and the copper foil 3 to each other. The insulating layer resin 8 that does not contain an inorganic filler is interposed therebetween to perform heat and pressure molding.
【0012】このような多層配線板の製造方法によれ
ば、絶縁層5が無機フィラーを含有させない絶縁層樹脂
8によって形成されるので、レーザ加工によるビアホー
ル4の孔の加工時に、無機フィラーなどの削りカスを発
生させることがなく、また、無機フィラーが孔内壁に突
出したりすることもなく、ビアホール4内壁が平滑に形
成される。According to such a method for manufacturing a multilayer wiring board, since the insulating layer 5 is formed of the insulating layer resin 8 which does not contain an inorganic filler, when the via hole 4 is processed by laser processing, an inorganic filler or the like is not formed. The inner wall of the via hole 4 is formed smoothly without generating shavings and without causing the inorganic filler to project to the inner wall of the hole.
【0013】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記コア基材1に前記絶縁層樹脂8を塗布
して硬化させ、この硬化させた前記絶縁層樹脂8に、さ
らに重ねて絶縁層樹脂8を塗布して加熱加圧成形するこ
とを特徴として構成している。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the insulating layer resin 8 is applied to the core base material 1 and cured, and the cured insulating layer resin 8 is further overlaid. The insulating layer resin 8 is applied and heat-pressed.
【0014】このような多層配線板の製造方法によれ
ば、先に硬化させた絶縁層樹脂8によって、絶縁層5の
厚みが略確保され、さらに重ねて塗布された絶縁層樹脂
8によって銅箔3との接着が確実に行われる。According to such a method for manufacturing a multilayer wiring board, the thickness of the insulating layer 5 is substantially ensured by the insulating layer resin 8 that has been cured previously, and the copper foil is further applied by the insulating layer resin 8 that is applied in layers. Adhesion with 3 is surely performed.
【0015】請求項3記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記コア基材1に前記絶縁層樹脂8を塗布
した後、このコア基材1にスペーサ9を載置して加熱加
圧成形することを特徴として構成している。According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, after the insulating layer resin 8 is applied to the core base material 1, a spacer 9 is placed on the core base material 1 and heated. It is characterized by being pressure molded.
【0016】このような多層配線板の製造方法によれ
ば、スペーサ9によって絶縁層樹脂8の流出が抑制され
て絶縁層5の厚みが確保される。また、先に絶縁層樹脂
8を塗布するので、この塗布作業が容易に行われる。According to such a method for manufacturing a multilayer wiring board, the spacer 9 suppresses the outflow of the insulating layer resin 8 and secures the thickness of the insulating layer 5. Further, since the insulating layer resin 8 is applied first, this applying operation is easily performed.
【0017】請求項4記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記コア基材1にスペーサ9を載置した
後、このコア基材1に前記絶縁層樹脂8を塗布して加熱
加圧成形することを特徴として構成している。According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the spacer 9 is placed on the core base material 1, the insulating layer resin 8 is applied to the core base material 1 and heated. It is characterized by being pressure molded.
【0018】このような多層配線板の製造方法によれ
ば、スペーサ9によって絶縁層樹脂8の流出が抑制され
て絶縁層5の厚みが確保される。また、先にスペーサ9
を載置するので、正確な位置に容易に載置することがで
きる。According to such a method for manufacturing a multilayer wiring board, the spacer 9 suppresses the outflow of the insulating layer resin 8 and secures the thickness of the insulating layer 5. In addition, first the spacer 9
Since it is mounted, it can be easily mounted at an accurate position.
【0019】請求項5記載の発明は、導体回路10を有す
るコア基材1との間に、無機フィラーを有するプリプレ
グ6を介して銅箔3を加熱加圧成形して多層化し、前記
導体回路10と前記銅箔3との層間接続を行うビアホール
4を形成する多層配線板の製造方法において、前記コア
基材1の前記導体回路10と前記プリプレグ6との間に層
間導通用接続ピン7を配して加熱加圧成形することを特
徴として構成している。According to a fifth aspect of the present invention, the copper foil 3 is heat-pressed and formed into a multi-layer with the core base material 1 having the conductor circuit 10 via a prepreg 6 having an inorganic filler, and the conductor circuit is formed. In a method of manufacturing a multilayer wiring board for forming a via hole 4 for interlayer connection between the copper foil 3 and the copper foil 3, an interlayer conduction connection pin 7 is provided between the conductor circuit 10 of the core base material 1 and the prepreg 6. The feature is that they are arranged and heated and pressed.
【0020】このような多層配線板の製造方法によれ
ば、層間導通用接続ピン7によってビアホール4が形成
され、ビアホール4の孔明け加工が省略されている。According to such a method for manufacturing a multilayer wiring board, the via holes 4 are formed by the connection pins 7 for interlayer conduction, and the drilling of the via holes 4 is omitted.
【0021】[0021]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を添付図を参
照して以下に説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
【0022】第一の実施の形態を図1を参照して以下に
説明する。この図はこの実施の形態における多層配線板
の製造工程を順に示す説明図である。The first embodiment will be described below with reference to FIG. This drawing is an explanatory view showing in sequence the manufacturing steps of the multilayer wiring board in this embodiment.
【0023】この実施の形態は、導体回路10を有するコ
ア基材1との間に、絶縁層5を有するように銅箔3を加
熱加圧成形して多層化し、前記導体回路10と前記銅箔3
との層間接続を行うビアホール4を、レーザ加工によっ
て形成する際に、コア基材1と銅箔3との間に、無機フ
ィラーを含有させない絶縁層樹脂8を介在させて加熱加
圧成形することを特徴としている。In this embodiment, a copper foil 3 is heat-pressed and molded so as to have an insulating layer 5 between a core substrate 1 having a conductor circuit 10 and a multilayer structure. Foil 3
When forming the via hole 4 for interlayer connection with the core material 1 and the copper foil 3 by the laser processing, the insulating layer resin 8 containing no inorganic filler is interposed between the core material 1 and the copper foil 3 to perform heat and pressure molding. Is characterized by.
【0024】コア基材1としては、フィルムまたは板な
どのようにベースとなる基材表面に導体回路を形成した
ものを用いており、このようなコア基材1としては、エ
ポキシ樹脂またはポリイミド樹脂などのような、耐熱樹
脂を用いたガラス基材積層板などを、代表的に例示する
ことができる。そして、このようなコア基材1表面に絶
縁層樹脂8をカーテンコートによって塗布するなどして
介在させ、さらに銅箔3を重ねて加熱加圧成形して多層
化しているのである。また、この絶縁層樹脂8として
は、コア基材1に用いられているベース樹脂と同じもの
などを用いることができる。As the core base material 1, a base material such as a film or a plate having a conductor circuit formed on the surface of a base material is used. As such a core base material 1, an epoxy resin or a polyimide resin is used. As a typical example, a glass substrate laminated plate using a heat resistant resin such as the above can be exemplified. Then, the insulating layer resin 8 is applied to the surface of the core base material 1 by curtain coating or the like to intervene the copper base material 1 and the copper foil 3 is further laminated by heat and pressure to form a multilayer structure. The insulating layer resin 8 may be the same as the base resin used for the core substrate 1.
【0025】以下、図にしたがって、この製造工程を説
明する。まず(A)に示すような状態に絶縁層樹脂8を
コア基材1に塗布している。このコア基材1としては、
両面に銅箔を有する耐熱性プリント配線板用の基材を用
い、その両面に導体回路10、10a をパターン形成してい
る。この場合、下側の導体回路10a は略全面に残されて
いる。そして、この絶縁層樹脂8をある程度加熱して硬
化させた後、(B)に示すようにさらに重ねて絶縁層樹
脂8を塗布している。そして、さらにある程度硬化させ
た後、(C)に示すように銅箔3を重ねて加熱加圧成形
し、多層化した基板を得ている。このときの絶縁層樹脂
8の硬化の程度は、先に塗布した絶縁層樹脂8がもはや
流動しない状態に、また後の絶縁層樹脂8はある程度流
動する状態にしておくことによって、絶縁層5が適正な
厚みになるとともに、銅箔3とよく接着するのである。The manufacturing process will be described below with reference to the drawings. First, the insulating layer resin 8 is applied to the core base material 1 in the state as shown in FIG. As the core base material 1,
A base material for a heat-resistant printed wiring board having copper foils on both sides is used, and conductor circuits 10 and 10a are pattern-formed on both sides. In this case, the lower conductor circuit 10a is left on substantially the entire surface. Then, the insulating layer resin 8 is heated to some extent to be cured, and then the insulating layer resin 8 is further applied as shown in FIG. Then, after further curing to some extent, the copper foils 3 are stacked and heat-pressed as shown in (C) to obtain a multilayer substrate. The degree of curing of the insulating layer resin 8 at this time is set so that the insulating layer resin 8 applied earlier does not flow anymore and the insulating layer resin 8 afterwards flows to some extent. It has an appropriate thickness and adheres well to the copper foil 3.
【0026】さらに、(D)に示すように、銅箔5に対
して露光、現像、エッチングなどの回路形成作業を行っ
て回路パターン11とし、(E)に示すように、レーザ加
工によってビアホール4となる孔12を形成している。こ
の場合、回路パターン11はビアホール4の部分を略除去
して形成されているので、レーザ加工が容易になってい
る。さらに、(F)に示すように、前記孔12内に銅めっ
きを行って、表面の回路パターン11とコア基材1の導体
回路10とを導通接続して、ビアホール4を完成させた多
層配線板を得ている。Further, as shown in (D), the copper foil 5 is subjected to circuit forming work such as exposure, development and etching to form a circuit pattern 11, and as shown in (E), the via hole 4 is formed by laser processing. The hole 12 is formed. In this case, since the circuit pattern 11 is formed by substantially removing the via hole 4, the laser processing is facilitated. Further, as shown in (F), copper is plated in the hole 12 to electrically connect the circuit pattern 11 on the surface and the conductor circuit 10 of the core base material 1 to complete the via hole 4. I'm getting a board.
【0027】このような多層配線板の製造方法によれ
ば、絶縁層5が無機フィラーを含有させない絶縁層樹脂
8によって形成されるので、レーザ加工によるビアホー
ル4の孔12の加工時に、無機フィラーなどの削りカスを
発生させることがなく、その上、無機フィラーが孔12の
内壁に突出したりすることもなく、ビアホール4内壁が
平滑に形成される。According to such a method for manufacturing a multilayer wiring board, since the insulating layer 5 is formed of the insulating layer resin 8 which does not contain an inorganic filler, an inorganic filler or the like is processed at the time of processing the hole 12 of the via hole 4 by laser processing. The inner wall of the via hole 4 is formed smoothly without generating any shavings, and without the inorganic filler protruding to the inner wall of the hole 12.
【0028】したがって、従来のような下孔加工を必要
とせず、また、無機フィラーの削りカスが原因となる導
通不良および絶縁不良の発生がなくなっている。その
上、レーザ加工によって、無機フィラーが孔12の内壁に
突出したりすることもなく、ビアホール4内壁が平滑に
形成されるので、導通信頼性がより高くなるとともに、
レーザ加工によって、微小径の孔加工が容易になされる
ので、高密度な多層配線板を製造することができるので
ある。Therefore, it is not necessary to perform the conventional pilot hole processing, and the conduction failure and the insulation failure caused by the shavings of the inorganic filler are eliminated. Moreover, the laser processing prevents the inorganic filler from protruding to the inner wall of the hole 12, and the inner wall of the via hole 4 is formed smoothly, so that the conduction reliability is further increased and
Since the laser processing facilitates the processing of holes having a small diameter, it is possible to manufacture a high-density multilayer wiring board.
【0029】なお、上記のレーザ加工を、プラズマまた
はケミカルエッチングなどのような手法によって行うこ
ともできる。このような方法による孔明けは、ドリル加
工のような機械加工と異なり、同様に上記した無機フィ
ラーが孔12の内壁に突出する問題および削りカスによる
導通信頼性の低下を排除することができ、微小径で高信
頼性のビアホール4を形成することができる。The above laser processing can be performed by a method such as plasma or chemical etching. Drilling by such a method, unlike mechanical processing such as drilling, it is possible to eliminate the problem that the above-mentioned inorganic filler protrudes on the inner wall of the hole 12 and a decrease in conduction reliability due to shavings, The via hole 4 having a small diameter and high reliability can be formed.
【0030】第二の実施の形態を図2ないし図3を参照
して以下に説明する。図2はこの実施の形態における多
層配線板の製造工程を順に示す説明図であり、図3はこ
の製造工程で使用されるスペーサ9を示す斜視図であ
る。A second embodiment will be described below with reference to FIGS. FIG. 2 is an explanatory view sequentially showing the manufacturing process of the multilayer wiring board in this embodiment, and FIG. 3 is a perspective view showing the spacer 9 used in this manufacturing process.
【0031】図2に示すように、この実施の形態では、
コア基材1に絶縁層樹脂8を塗布した後、このコア基材
1にスペーサ9を載置して加熱加圧成形するようにして
いる。As shown in FIG. 2, in this embodiment,
After applying the insulating layer resin 8 to the core base material 1, the spacers 9 are placed on the core base material 1 and heat-pressed.
【0032】図3に示すように、このスペーサ9は、ビ
アホール4の形成されない部分をくり抜いて窓を明けた
形状に形成されるものであり、絶縁層樹脂8が加熱加圧
成形によって流出することを防ぐ機能を有する絶縁性の
材料が用いられる。具体的に例示すれば、コア基材1と
同種の樹脂によるプリプレグなどを用いることができ
る。As shown in FIG. 3, this spacer 9 is formed in a shape in which a window is opened by hollowing out a portion where the via hole 4 is not formed, and the insulating layer resin 8 flows out by heat and pressure molding. An insulating material having a function of preventing the above is used. As a specific example, a prepreg made of the same resin as the core substrate 1 can be used.
【0033】以下、図にしたがって、この製造工程を説
明する。まず(A)に示すような状態に、コア基材1に
絶縁層樹脂8を塗布し、スペーサ9をこのコア基材1の
上に載置し、さらに銅箔3を重ねる。そして、(B)に
示すように、加熱加圧成形して多層化した基板を得てい
る。さらに、(C)に示すように、銅箔5に対して露
光、現像、エッチングなどの回路形成作業を行い、回路
パターン11とし、(D)に示すように、レーザ加工によ
ってビアホール4となる孔12を形成し、(E)に示すよ
うに、前記孔12内に銅めっきを行って、表面の回路パタ
ーン11とコア基材1の導体回路10とを接続して、ビアホ
ール4を完成させた多層配線板を得ている。The manufacturing process will be described below with reference to the drawings. First, in the state as shown in (A), the insulating layer resin 8 is applied to the core base material 1, the spacer 9 is placed on the core base material 1, and the copper foil 3 is further stacked. Then, as shown in (B), heat and pressure molding is performed to obtain a multilayer substrate. Further, as shown in (C), a circuit forming operation such as exposure, development, and etching is performed on the copper foil 5 to form a circuit pattern 11, and as shown in (D), a via hole 4 to be a via hole 4 by laser processing. 12 is formed, and as shown in (E), the hole 12 is copper-plated to connect the circuit pattern 11 on the surface and the conductor circuit 10 of the core substrate 1 to complete the via hole 4. You have a multilayer wiring board.
【0034】このような多層配線板の製造方法によれ
ば、絶縁層樹脂8が銅箔3に対して接着力があって、加
熱加圧成形時に流動しやすい状態であっても、スペーサ
9によって絶縁層5の厚みが確保される。また、先に絶
縁層樹脂8を塗布するので、この塗布作業が容易に行わ
れる。According to such a method for manufacturing a multilayer wiring board, even if the insulating layer resin 8 has an adhesive force with respect to the copper foil 3 and is easily fluidized at the time of heat and pressure molding, the spacer 9 allows the insulating layer resin 8 to flow. The thickness of the insulating layer 5 is secured. Further, since the insulating layer resin 8 is applied first, this applying operation is easily performed.
【0035】第三の実施の形態を図4を参照して以下に
説明する。この図はこの実施の形態における多層配線板
の製造工程を順に示す説明図である。The third embodiment will be described below with reference to FIG. This drawing is an explanatory view showing in sequence the manufacturing steps of the multilayer wiring board in this embodiment.
【0036】この実施の形態では、第二の実施の形態と
異なり、(A)〜(B)に示すように、コア基材1にス
ペーサ9を載置した後、このコア基材1に絶縁層樹脂8
を塗布して加熱加圧成形している。そして、この後の工
程は、図3のものと全く同様にできるのである。In this embodiment, unlike the second embodiment, as shown in (A) to (B), after the spacer 9 is placed on the core base material 1, the core base material 1 is insulated. Layer resin 8
Is applied and heat-pressed and molded. The subsequent steps can be performed in exactly the same way as in FIG.
【0037】したがって、この実施の形態の方法では、
上記第二の実施の形態と同様に、スペーサ9によって絶
縁層5の厚みが確保されるものであるが、先にスペーサ
9を載置するので、正確な位置に容易にスペーサ9を載
置することができる利点がある。Therefore, in the method of this embodiment,
Similar to the second embodiment, the thickness of the insulating layer 5 is ensured by the spacer 9. However, since the spacer 9 is placed first, the spacer 9 can be easily placed at the correct position. There is an advantage that can be.
【0038】第四の実施の形態を図5を参照して以下に
説明する。この図はこの実施の形態における多層配線板
の製造工程を順に示す説明図である。The fourth embodiment will be described below with reference to FIG. This drawing is an explanatory view showing in sequence the manufacturing steps of the multilayer wiring board in this embodiment.
【0039】この図に示すように、この実施の形態で
は、導体回路10を有するコア基材1との間に、無機フィ
ラーを有するプリプレグ6を介して銅箔3を加熱加圧成
形して多層化し、前記導体回路10と前記銅箔3との層間
接続を行うビアホール4を形成する方法であって、コア
基材1の導体回路10とプリプレグ6との間に、層間導通
用接続ピン7を配して加熱加圧成形することを特徴とし
ているものである。As shown in this figure, in this embodiment, a copper foil 3 is heat-press molded with a core base material 1 having a conductor circuit 10 via a prepreg 6 having an inorganic filler to form a multilayer. And forming a via hole 4 for connecting the conductor circuit 10 and the copper foil 3 to each other between the conductor circuit 10 and the prepreg 6 of the core base material 1. It is characterized in that they are arranged and heated and pressed.
【0040】したがって、層間導通用接続ピン7によっ
てビアホール4が形成されるので、ビアホール4の孔明
け加工およびめっき工程が省略されるものである。ま
た、絶縁層5を形成するためには、絶縁層樹脂8を用い
ずにプリプレグ6を用いているため、絶縁層樹脂8の塗
布作業が省略され、簡単な工程でビアホール4を有する
多層配線板を製造することができるものである。Therefore, since the via hole 4 is formed by the connection pin 7 for interlayer conduction, the drilling process and the plating process of the via hole 4 are omitted. Further, since the prepreg 6 is used in order to form the insulating layer 5 without using the insulating layer resin 8, the application work of the insulating layer resin 8 is omitted, and the multilayer wiring board having the via holes 4 in a simple process. Can be manufactured.
【0041】以下、図にしたがって上記工程を説明す
る。すなわち、(A)に示すように、まず、コア基材1
におけるビアホール4を形成する導体回路10の上に層間
導通用接続ピン7を導電性接着剤によって接着固定し、
このコア基材1の上にプリプレグ6と銅箔3とを重ねて
加熱加圧成形する。(B)はこのようにして得られた多
層化した状態の基板を示し、この基板にレーザまたは電
子ビームなどのビーム13を照射して、銅箔3と層間導通
用接続ピン7とを溶接する。さらに、(C)に示すよう
に、銅箔5に対して露光、現像、エッチングなどの回路
パターン形成作業を行って回路パターン11とし、この回
路パターン11とコア基材1の導体回路10とを層間導通用
接続ピン7によって接続した多層配線板を得ている。The above steps will be described below with reference to the drawings. That is, as shown in FIG.
An interlayer conductive connection pin 7 is adhered and fixed on the conductor circuit 10 forming the via hole 4 in FIG.
The prepreg 6 and the copper foil 3 are superposed on the core substrate 1 and heat-pressed. (B) shows the thus obtained multilayer substrate, which is irradiated with a beam 13 such as a laser or an electron beam to weld the copper foil 3 and the connection pin 7 for interlayer conduction. . Further, as shown in (C), a circuit pattern forming operation such as exposure, development, and etching is performed on the copper foil 5 to form a circuit pattern 11, and the circuit pattern 11 and the conductor circuit 10 of the core base material 1 are formed. A multilayer wiring board connected by the connection pins 7 for interlayer conduction is obtained.
【0042】つまり、層間導通用接続ピン7によって、
ビアホール4が形成されているのであって、ビアホール
4の孔明け加工を省略することができる簡単な工程によ
って、接続信頼性の高いビアホール形成を容易に行うこ
とができている。That is, by the inter-layer conduction connecting pin 7,
Since the via hole 4 is formed, the via hole with high connection reliability can be easily formed by a simple process that can omit the drilling process of the via hole 4.
【0043】[0043]
【発明の効果】請求項1記載の発明では、絶縁層が無機
フィラーを含有しないので、レーザ加工によるビアホー
ルの孔の加工時に、無機フィラーなどの削りカスを発生
させることがない。したがって、従来の下孔加工を必要
とせず、また、このような無機フィラーの削りカスが原
因となる導通不良および絶縁不良が発生しない多層配線
板を容易に製造することができる。According to the first aspect of the present invention, since the insulating layer does not contain the inorganic filler, shavings of the inorganic filler or the like are not generated when the via hole is processed by the laser processing. Therefore, it is possible to easily manufacture a multilayer wiring board which does not require conventional pilot hole processing and does not cause conduction failure and insulation failure caused by such shavings of the inorganic filler.
【0044】その上、レーザ加工によって、無機フィラ
ーが孔内壁に突出したりすることもなく、ビアホール内
壁が平滑に形成されるので、導通信頼性がより高くなる
とともに、レーザ加工によって、微小径の孔加工が容易
になされるので、高密度な多層配線板を製造することが
できる。In addition, since the inorganic filler does not project to the inner wall of the hole by the laser processing and the inner wall of the via hole is formed smoothly, the conduction reliability is further improved, and the laser processing makes the hole of a minute diameter small. Since the processing is facilitated, a high-density multilayer wiring board can be manufactured.
【0045】請求項2記載の発明では、先に硬化させた
絶縁層樹脂によって、絶縁層の厚みが略確保されるとと
もに、重ねて塗布した絶縁層樹脂によって銅箔との接着
が確実に行われる。つまり、無機フィラーを有せず、請
求項1記載の発明の上記効果を奏する絶縁層を、適正な
厚みに、銅箔とよく接着するように形成することができ
る。According to the second aspect of the invention, the thickness of the insulating layer is substantially ensured by the insulating layer resin which has been previously cured, and the insulating layer resin applied in layers ensures the adhesion to the copper foil. . That is, it is possible to form an insulating layer having no inorganic filler and having the above effect of the invention of claim 1 so as to have a proper thickness and to be well adhered to the copper foil.
【0046】請求項3記載の発明では、スペーサによっ
て絶縁層の厚みが確保されるとともに、スペーサを載置
するに先立って、絶縁層樹脂の塗布するので、この塗布
作業を容易に行うことができる。According to the third aspect of the invention, the thickness of the insulating layer is ensured by the spacer, and the insulating layer resin is applied prior to placing the spacer. Therefore, this applying operation can be easily performed. .
【0047】請求項4記載の発明では、スペーサによっ
て絶縁層の厚みが確保されるとともに、スペーサの載置
を絶縁層樹脂の塗布に先立って行うので、スペーサを正
確な位置に容易に載置することができる。According to the fourth aspect of the present invention, the thickness of the insulating layer is ensured by the spacer, and the spacer is placed prior to the application of the insulating layer resin. Therefore, the spacer can be easily placed at a correct position. be able to.
【0048】請求項5記載の発明では、層間導通用接続
ピンによってビアホールが形成されるので、ビアホール
の孔明け加工を省略することができ、接続信頼性の高い
ビアホール形成を容易に行うことができる。According to the fifth aspect of the present invention, since the via hole is formed by the connection pin for interlayer conduction, it is possible to omit the drilling process of the via hole and easily form the via hole with high connection reliability. .
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本発明の第一の実施の形態における多層配線板
の製造工程を順に示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory view sequentially showing a manufacturing process of a multilayer wiring board according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第二の実施の形態における多層配線板
の製造工程を順に示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory view sequentially showing a manufacturing process of a multilayer wiring board according to a second embodiment of the present invention.
【図3】同上の製造工程で使用されるスペーサを示す斜
視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a spacer used in the above manufacturing process.
【図4】本発明の第三の実施の形態における多層配線板
の製造工程を順に示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram sequentially showing a manufacturing process of a multilayer wiring board according to a third embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第四の実施の形態における多層配線板
の製造工程を順に示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram sequentially showing a manufacturing process of a multilayer wiring board according to a fourth embodiment of the present invention.
【図6】従来の多層配線板の製造工程を順に示す説明図
である。FIG. 6 is an explanatory view sequentially showing a manufacturing process of a conventional multilayer wiring board.
1 コア基材 2 絶縁層 3 銅箔 4 ビアホール 5 絶縁層 6 プリプレグ 7 層間導通用接続ピン 8 絶縁層樹脂 9 スペーサ 10 導体回路 11 回路パターン 12 孔 13 ビーム 20 基材 21 下孔 22 層間接続孔 1 core base material 2 insulating layer 3 copper foil 4 via hole 5 insulating layer 6 prepreg 7 connecting pin for interlayer conduction 8 insulating layer resin 9 spacer 10 conductor circuit 11 circuit pattern 12 hole 13 beam 20 base material 21 lower hole 22 interlayer connecting hole
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 健一郎 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Kenichiro Tanaka Inventor Kenichiro Tanaka 1048, Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Works Co., Ltd.
Claims (5)
縁層を有するように銅箔を熱圧成形して多層化し、前記
導体回路と前記銅箔との層間接続を行うビアホールを、
レーザを照射して形成する多層配線板の製造方法におい
て、前記コア基材と前記銅箔との間に、無機フィラーを
含有させない絶縁層樹脂を介在させて加熱加圧成形する
ことを特徴とする多層配線板の製造方法。1. A via hole for performing interlayer connection between the conductor circuit and the copper foil by thermocompressing a copper foil so as to have an insulating layer between the core substrate having the conductor circuit and the core substrate,
In the method for manufacturing a multilayer wiring board formed by irradiating with a laser, an insulating layer resin that does not contain an inorganic filler is interposed between the core base material and the copper foil, and heat and pressure molding is performed. Manufacturing method of multilayer wiring board.
て硬化させ、この硬化させた前記絶縁層樹脂に、さらに
重ねて絶縁層樹脂を塗布して加熱加圧成形することを特
徴とする請求項1記載の多層配線板の製造方法。2. The core layer is coated with the insulating layer resin and cured, and the cured insulating layer resin is further overlaid with the insulating layer resin and heat-pressed. The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1.
た後、このコア基材にスペーサを載置して加熱加圧成形
することを特徴とする請求項1記載の多層配線板の製造
方法。3. The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1, wherein after applying the insulating layer resin to the core base material, a spacer is placed on the core base material and heat-pressed. Method.
後、このコア基材に前記絶縁層樹脂を塗布して加熱加圧
成形することを特徴とする請求項1記載の多層配線板の
製造方法。4. The multilayer wiring board according to claim 1, wherein after mounting the spacer on the core base material, the insulating layer resin is applied to the core base material and heat-pressed. Production method.
機フィラーを有するプリプレグを介して銅箔を加熱加圧
成形して多層化し、前記導体回路と前記銅箔との層間接
続を行うビアホールを形成する多層配線板の製造方法に
おいて、前記コア基材の前記導体回路と前記プリプレグ
との間に層間導通用接続ピンを配して加熱加圧成形する
ことを特徴とする多層配線板の製造方法。5. A copper foil is heat-press-molded between a core substrate having a conductor circuit and a prepreg containing an inorganic filler to form a multilayer, and interlayer connection between the conductor circuit and the copper foil is performed. In a method for manufacturing a multilayer wiring board in which a via hole is formed, an interlayer conduction connection pin is arranged between the conductor circuit of the core base material and the prepreg, and heat press molding is performed. Production method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6563196A JPH09260855A (en) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | Multilayered wiring board manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6563196A JPH09260855A (en) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | Multilayered wiring board manufacturing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09260855A true JPH09260855A (en) | 1997-10-03 |
Family
ID=13292569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6563196A Pending JPH09260855A (en) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | Multilayered wiring board manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09260855A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009239147A (en) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Toshiba Corp | Integrated semiconductor device, and integrated three-dimensional semiconductor device |
-
1996
- 1996-03-22 JP JP6563196A patent/JPH09260855A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009239147A (en) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Toshiba Corp | Integrated semiconductor device, and integrated three-dimensional semiconductor device |
JP4538058B2 (en) * | 2008-03-28 | 2010-09-08 | 株式会社東芝 | Integrated semiconductor device and integrated three-dimensional semiconductor device |
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