JPH09260570A - Lead frame for semiconductor device, and manufacture of mold type semiconductor device - Google Patents

Lead frame for semiconductor device, and manufacture of mold type semiconductor device

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JPH09260570A
JPH09260570A JP6845996A JP6845996A JPH09260570A JP H09260570 A JPH09260570 A JP H09260570A JP 6845996 A JP6845996 A JP 6845996A JP 6845996 A JP6845996 A JP 6845996A JP H09260570 A JPH09260570 A JP H09260570A
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JP
Japan
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lead
semiconductor device
width
leads
lead frame
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Application number
JP6845996A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Yoshimura
淳 芳村
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a lead frame for a resin-sealed type semiconductor device which not only can avoid the abrasion, damage, etc., of a die-cutting punch, but also can surely secure the electric insulation between leads, and a highly reliable resin-sealed type semiconductor device. SOLUTION: For a lead frame for a semiconductor device, the width 6' of each of the regions that a tie bar 6 couples and unites is set in stepped width or swelling to the width of an inner lead or width of an outer lead 6b, in a lead frame for a semiconductor device which has a group of leads 6 where inner leads 6a and outer leads 6b are connected in succession and besides arranged in parallel, and tie bars 6 which couple and unite the adjacent leads 6 with each other.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置用のリー
ドフレームと、このリードフレームを使用するモールド
型半導体装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame for a semiconductor device and a method of manufacturing a mold type semiconductor device using this lead frame.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえばIC素子などの半導体装置は、
リードフレームなどに搭載・実装(もしくはボンディン
グ)し、外界(環境)に対する保護や安定した機能を確
保するため、樹脂を封止材とした樹脂モールド封止した
構成を一般的に採っている。図4は、一般的に使用され
ている半導体装置用のリードフレームを平面的に示した
ものである。
2. Description of the Related Art For example, semiconductor devices such as IC elements are
In general, a resin mold is used as a sealing material to mount and mount (or bond) on a lead frame or the like, and protect the environment (environment) and ensure a stable function. FIG. 4 is a plan view showing a generally used lead frame for a semiconductor device.

【0003】図4において、1はリード部であり、搭載
実装するIC素子の入出力端子側に一端側が接続するイ
ンナーリード1a、前記インナーリード1aの他端側に連接
・延出するアウターリード1bで形成されている。ここ
で、インナーリード1aは、搭載実装するIC素子の入出
力端子側に比べて他端側の幅が順次膨大化し、また、ア
ウターリード1bは、インナーリード1aに接続側がインナ
ーリード1aの膨大化部とほぼ同一幅をなし、他端側が狭
幅化されてリード部1を形成している。そして、搭載実
装するIC素子の入出力端子に対応して、前記リード部
1の複数本が並列的に配置形成されている。また、前記
並列的に隣接するリード部1相互間は、前記リードの幅
広部(膨大部)でタイバー2によって連結・一体化して
おり、前記搭載・実装するIC素子をモールド封止した
後に、ダイバー2を選択的に切断除去して、アウターリ
ード1bを分離するように構成されているとともに、メッ
キ処理によって安定性化を図っている。
In FIG. 4, reference numeral 1 denotes a lead portion, an inner lead 1a having one end connected to the input / output terminal side of an IC element to be mounted and mounted, and an outer lead 1b connected / extended to the other end of the inner lead 1a. Is formed by. Here, the width of the inner lead 1a on the other end side gradually increases as compared with the input / output terminal side of the IC element to be mounted and mounted, and the outer lead 1b has the inner lead 1a on the side connected to the inner lead 1a. The lead portion 1 has a width substantially the same as that of the lead portion 1 and is narrowed on the other end side. A plurality of the lead portions 1 are arranged and formed in parallel so as to correspond to the input / output terminals of the IC element to be mounted and mounted. In addition, the lead portions 1 adjacent in parallel are connected and integrated by a tie bar 2 at a wide portion (enlarged portion) of the lead, and after the IC element to be mounted / mounted is molded and sealed, the diver is provided. 2 is selectively cut and removed to separate the outer lead 1b, and stability is achieved by plating.

【0004】一方、上記リードフレームを使用した樹脂
モールド封止型半導体装置の製造は、次のような手順で
行われている。先ず、前記半導体装置用リードフレーム
に半導体素子を搭載・実装し、インナーリード1a領域を
含めて搭載・実装した半導体素子を、たとえばトランス
ファーモールド成型法で樹脂モールドする。図5は、こ
の樹脂モールド後の要部状態を模式的に拡大して示した
平面図で、3は樹脂モールド領域、4はアウターリード
1b延出側に膨出形成された格子状樹脂バリである。
On the other hand, the manufacturing of a resin mold-sealed semiconductor device using the above lead frame is performed in the following procedure. First, a semiconductor element is mounted and mounted on the semiconductor device lead frame, and the mounted and mounted semiconductor element including the inner lead 1a region is resin-molded by, for example, a transfer molding method. FIG. 5 is a plan view schematically enlarging and showing the state of the main part after the resin molding, 3 is a resin mold region, 4 is an outer lead
1b is a lattice-shaped resin burr bulged on the extension side.

【0005】すなわち、前記樹脂モールドによって、搭
載・実装された半導体素子およびインナーリード1aなど
が樹脂封止3されるとともに、アウターリード1bを相互
連結するタイバー2との間に形成される格子状空間部
4′へ、モールド用樹脂の一部が流れ出して格子状樹脂
バリ4が膨出形成される。次いで、図6に要部状態を模
式的に拡大して示すごとく、前記格子状樹脂バリ4の一
部とともにタイバー2を打抜きポンチ5で選択的に切断
除去し、リード1(アウターリード1b)を分離すること
によってモールド型半導体装置を製造する。
That is, the resin mold seals the mounted and mounted semiconductor element and the inner leads 1a with resin 3, and a lattice-like space formed between the outer leads 1b and the tie bars 2 interconnecting each other. Part of the molding resin flows out to the portion 4 ', and the lattice-shaped resin burr 4 is bulged and formed. Next, as shown in the enlarged schematic view of the essential parts in FIG. 6, the tie bar 2 together with a part of the lattice-shaped resin burr 4 is selectively cut and removed by a punch 5 to remove the lead 1 (outer lead 1b). A mold type semiconductor device is manufactured by separating.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の半導体装置用リードフレームを使用する樹脂封止型
半導体装置の製造手段には、次ぎのような不都合がしば
しば生じる。すなわち、樹脂モールド後において、打抜
きポンチ5によってタイバー2を切断除去するとき、格
子状樹脂バリ4の一部を同時に打抜く工程を採ってい
る。ところで、前記モールド封止用樹脂は、一般的に、
たとえばシリカ粉末などを分散含有した形態を採ってい
るため、打抜きポンチ5が摩耗し易く、切れ味が低減し
易い傾向がある。このように、切れ味が低下した状態
で、前記メッキ処理されているリードフレームのタイバ
ー2の切断を行うと、切断面からメッキ膜がヒゲ状に突
出して、隣接するアウターリード1b間で短絡を発生する
恐れがある。
However, the following inconveniences often occur in the means for manufacturing a resin-sealed semiconductor device using the lead frame for a semiconductor device having the above structure. That is, when the tie bar 2 is cut and removed by the punching punch 5 after the resin molding, a step of simultaneously punching out a part of the lattice-shaped resin burr 4 is adopted. By the way, the mold sealing resin is generally
For example, since it has a form in which silica powder or the like is dispersedly contained, the punching punch 5 is likely to be worn and the sharpness tends to be reduced. When the tie bar 2 of the plated lead frame is cut while the sharpness is reduced in this way, the plating film protrudes like a beard from the cut surface and a short circuit occurs between adjacent outer leads 1b. There is a risk of

【0007】この切断面からメッキ膜がヒゲ状に突出す
る問題に対応して、メッキ処理を省略したリードフレー
ムを使用し、樹脂モールド後、タイバー2を切断除去
し、互いに分離させてから、アウターリード1bにメッキ
処理を施すことも試みられているが、生産性が低下する
だけでなく、専用金型を新規に用意する必要もあって、
大幅な製造のコストアップとなる。また、このメッキ処
理においては、半田カスなどが、分離されたアウターリ
ード1b面に付着して、隣接するアウターリード1b同士で
短絡の発生を招来し易いという問題もある。
To cope with the problem that the plating film protrudes like a mustache from the cut surface, a lead frame without plating treatment is used, and after the resin molding, the tie bars 2 are cut and removed to be separated from each other, and then the outer It has also been attempted to perform plating treatment on the lead 1b, but this not only lowers productivity but also requires a new dedicated die,
This greatly increases the manufacturing cost. Further, in this plating treatment, there is also a problem that solder residue or the like is likely to adhere to the separated outer lead 1b surface and cause a short circuit between adjacent outer leads 1b.

【0008】本発明は、上記事情に対処してなされたも
ので、打抜きポンチの摩耗・損傷など回避できるだけで
なく、リード相互間の電気的な隔絶を確実に確保するこ
とができる、樹脂封止型半導体装置用のリードフレー
ム、および信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を低コス
トで製造できる製造方法の提供を目的とする。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and not only can avoid wear and damage of punching punches, but also can surely secure electrical isolation between leads. An object of the present invention is to provide a lead frame for a mold semiconductor device and a manufacturing method capable of manufacturing a highly reliable resin-sealed semiconductor device at low cost.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、イン
ナーリードおよびアウターリードが連接し、かつ並列的
に配置形成されたリード群と、前記隣接するリード相互
間を連結して一体化するタイバーとを有する半導体装置
用リードフレームにおいて、前記タイバーが連結・一体
化する領域のリード幅が、インナーリード幅およびアウ
ターリード幅に対して段付き型の広幅に設定されている
ことを特徴とする半導体装置用リードフレームである。
According to a first aspect of the present invention, a group of leads in which inner leads and outer leads are connected to each other and arranged in parallel with each other are integrated by connecting the adjacent leads to each other. In a lead frame for a semiconductor device having a tie bar, a lead width of a region where the tie bar is connected and integrated is set to be a stepped wide width with respect to an inner lead width and an outer lead width. It is a lead frame for a semiconductor device.

【0010】請求項2の発明は、インナーリードおよび
アウターリードが連接し、かつ並列的に配置形成された
リード群と、前記隣接するリード相互間を連結して一体
化するタイバーとを有する半導体装置用リードフレーム
において、前記タイバーが連結・一体化する領域のリー
ド幅が、インナーリード幅およびアウターリード幅に対
して段付き型に幅方向へ膨出されていることを特徴とす
る半導体装置用リードフレームである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device having a lead group in which inner leads and outer leads are connected and arranged in parallel, and a tie bar which connects and integrates the adjacent leads. In a lead frame for a semiconductor device, a lead width of a region where the tie bars are connected and integrated is bulged in a width direction in a stepped shape with respect to an inner lead width and an outer lead width. It is a frame.

【0011】請求項3の発明は、請求項1もしくは請求
項2記載の半導体装置用リードフレームにおいて、イン
ナーリードが被モールド樹脂領域にあることを特徴とす
る。請求項4の発明は、請求項1ないし請求項3いずれ
か一記載の半導体装置用リードフレームにおいて、タイ
バーがインナーリードから離隔して形成配置されている
ことを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the lead frame for a semiconductor device according to the first or second aspect, the inner leads are in the resin region to be molded. The invention of claim 4 is the lead frame for a semiconductor device according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the tie bar is formed and arranged apart from the inner lead.

【0012】請求項5の発明は、インナーリードおよび
アウターリードが連接し、かつ並列的に配置形成された
隣接するリード相互間をタイバーで連結・一体化された
半導体装置用リードフレームに半導体素子を搭載・実装
する工程と、前記インナーリード領域を含め搭載・実装
した半導体素子を樹脂モールドする工程と、前記樹脂モ
ールドでアウターリード延出側に膨出形成された格子状
樹脂バリの一部とともにタイバーを選択的に切断除去し
てリードを分離する工程とを有するモールド型半導体装
置の製造方法であって、前記リードフレームは、タイバ
ーが連結・一体化する領域のリード幅がインナーリード
幅およびアウターリード幅に対して段付き型の広幅に設
定されており、かつ広幅分をタイバーの切断除去時に同
時にほぼアウターリード幅に揃えて切断整形することを
特徴とするモールド型半導体装置の製造方法である。
According to a fifth aspect of the present invention, a semiconductor element is mounted on a lead frame for a semiconductor device in which inner leads and outer leads are connected to each other and adjacent leads formed in parallel are connected and integrated by a tie bar. Mounting and mounting process, resin molding of the mounted and mounted semiconductor element including the inner lead region, and tie bar with part of the lattice-shaped resin burr bulged on the outer lead extension side by the resin molding And a step of selectively cutting and removing the lead to separate the lead, wherein the lead frame has an inner lead width and an outer lead width in a region where the tie bars are connected and integrated. The width of the stepped type is set to the width, and the wide part is almost outer at the same time when cutting and removing the tie bar. A method of manufacturing molded semiconductor device characterized by cutting shaping aligned in over de width.

【0013】請求項6の発明は、インナーリードおよび
アウターリードが連接し、かつ並列的に配置形成された
隣接するリード相互間をタイバーで連結・一体化された
半導体装置用リードフレームに半導体素子を搭載・実装
する工程と、前記インナーリード領域を含め搭載・実装
した半導体素子を樹脂モールドする工程と、前記樹脂モ
ールドでアウターリード延出側に膨出形成された格子状
樹脂バリの一部とともにタイバーを選択的に切断除去し
てリードを分離する工程とを有するモールド型半導体装
置の製造方法であって、前記リードフレームは、タイバ
ーが連結・一体化する領域のリード幅がインナーリード
幅およびアウターリード幅に対して段付き型に幅方向へ
膨出させて設定されており、かつ膨出分をタイバーの切
断除去時に同時にほぼアウターリード幅に揃えて切断整
形することを特徴とするモールド型半導体装置の製造方
法である。 本発明において、連接してリードを形成す
るインナーリードおよびアウターリードは、搭載・実装
する半導体素子の入出力端子のピッチに対応して、それ
ぞれ設定される。ここで、リードフレームは、たとえば
42Ni-Cuアロイなどを素材とした本体に、表面メッキ処
理を施したものなどが挙げられる。
According to a sixth aspect of the present invention, the semiconductor element is mounted on a lead frame for a semiconductor device in which inner leads and outer leads are connected to each other and adjacent leads formed in parallel are connected and integrated by a tie bar. Mounting and mounting process, resin molding of the mounted and mounted semiconductor element including the inner lead region, and tie bar with part of the lattice-shaped resin burr bulged on the outer lead extension side by the resin molding And a step of selectively cutting and removing the lead to separate the lead, wherein the lead frame has an inner lead width and an outer lead width in a region where the tie bars are connected and integrated. The width is set so that it bulges in the widthwise direction with respect to the width, and the bulging portion is set at the same time when the tie bar is cut and removed. URN is a method for manufacturing a molded semiconductor device characterized by cutting shaping aligned to the outer lead width. In the present invention, the inner lead and the outer lead, which are connected to form a lead, are set corresponding to the pitch of the input / output terminals of the semiconductor element to be mounted / mounted. Here, the lead frame is, for example,
The main body is made of 42Ni-Cu alloy, etc., and the surface is plated.

【0014】また、隣接するリード同士を連結・一体化
しているタイバーの形設・連結部は、前記インナーリー
ドに連接するアウターリード部で、かつ樹脂モールド予
定領域の外方である。そして、このタイバーの形設・連
結部は、インナーリード幅に対して段付き型に、かつア
ウターリード側においてもアウターリードとして実際的
に機能する領域もしくは部分の幅に対し段付きで広幅
に、あるいは膨大化しておく点で特徴付けられる。ここ
で、段付き型の広幅あるいは膨大化の程度は、タイバー
を打抜き,切断除去・分離するとき、たとえば打抜きポ
ンチがリードの側辺部を同時に打抜くことができる程度
であり、フレームリードの厚さなどにもよるが、一般的
に0.10〜0.20mm程度、段付きに広幅あるいは膨大化して
いることが望ましい。
The tie bar forming / connecting portion for connecting / integrating adjacent leads is an outer lead portion connected to the inner lead and outside the resin molding planned region. The tie bar forming / connecting portion is a stepped type with respect to the inner lead width, and also has a stepped width with respect to the width of the region or portion which actually functions as the outer lead even on the outer lead side, Or it is characterized in that it is huge. Here, the width or the degree of expansion of the stepped die is, for example, such that the punch punch can punch the side portions of the lead at the same time when the tie bar is punched, cut and removed, and separated. It is generally 0.10 to 0.20 mm, but it is desirable that the width is stepwise or enormous, depending on factors such as the size.

【0015】請求項1ないし4の発明では、上記のよう
に、リードフレームを構成したことによって、段付き型
に広幅化した領域のダイバーを切断除去してアウターリ
ードを分離するとき、たとえば樹脂モールド後、打抜き
具の打抜きポンチの刃は、格子状樹脂バリに当接する部
分と、金属面に当接する部分とが峻別されるだけでな
く、位置ズレなどの発生も抑制・防止される。つまり、
打抜きポンチの刃は、その刃先部が被切断面に対して全
体的に、ほぼ水平に対接するため、位置ズレなど起こす
恐れもなくなり、高精度に切断することができる。
According to the first to fourth aspects of the invention, when the lead frame is configured as described above, when the outer lead is separated by cutting and removing the diver in the region widened to the stepped type, for example, a resin mold. After that, the blade of the punching punch of the punching tool not only distinguishes between the portion that abuts the lattice-shaped resin burr and the portion that abuts the metal surface, but also suppresses / prevents the occurrence of misalignment. That is,
The blade of the punching punch contacts the surface to be cut substantially horizontally, so that there is no risk of misalignment and the cutting can be performed with high precision.

【0016】また、打抜きポンチの刃は対象領域が選別
化され、シリカ粉末などを分散含有した樹脂層の切断な
どによって摩耗・損傷した打抜きポンチ刃が、アウター
リード群を切断分離することも回避もしくは解消する。
したがって、前記ダイバーの切断除去などによって、メ
ッキ膜バリなどが発生する恐れも全面的になくなり、並
列的に隣接するアウターリード同士間の短絡問題も解消
される。
Also, it is avoided that the punching punch blades are cut off and separated from the outer lead group by the punching punch blades whose target regions are selected and are worn or damaged due to cutting of the resin layer containing dispersed silica powder or the like. Resolve.
Therefore, the risk of plating film burrs and the like occurring due to cutting and removal of the diver is completely eliminated, and the problem of short-circuiting between outer leads adjacent in parallel is eliminated.

【0017】請求項5および6の発明では、上記リード
フレームを樹脂封止型半導体装置の形成に使用したこと
により、リードフレームのダイバーを切断除去してアウ
ターリードを分離するとき、打抜き具の打抜きポンチの
刃は、格子状樹脂バリに当接する部分と、金属面に当接
する部分とが峻別されるだけでなく、位置ズレなどの発
生も抑制・防止される。つまり、打抜きポンチの刃は、
その刃先部が被切断面に対して全体的に、ほぼ水平に対
接するため、位置ズレなど起こす恐れもなくなり、高精
度に切断することができる。
According to the fifth and sixth aspects of the present invention, the lead frame is used for forming the resin-sealed semiconductor device. Therefore, when the outer lead is separated by cutting and removing the diver of the lead frame, the punching tool is punched. The punch blade not only distinguishes between a portion that contacts the lattice-shaped resin burr and a portion that contacts the metal surface, but also suppresses or prevents the occurrence of misalignment. In other words, the punch punch blade is
Since the blade edge portion is in contact with the surface to be cut almost horizontally, there is no risk of misalignment and highly accurate cutting is possible.

【0018】また、打抜きポンチの刃は対象領域が選別
化され、シリカ粉末などを分散含有した樹脂層の切断な
どによって摩耗・損傷した打抜きポンチ刃が、アウター
リード群を切断分離することも回避もしくは解消する。
したがって、前記ダイバーの切断除去などによって、メ
ッキ膜バリなどが発生する恐れも全面的になくなり、並
列的に隣接するアウターリード同士間の短絡問題も解消
され、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を、低コスト
で、かつ歩留まりよく提供することが可能となる。
Further, it is also avoided that the punching punch blade has a target area selected, and the punching punch blade, which is worn or damaged by cutting the resin layer containing dispersed silica powder or the like, cuts and separates the outer lead group. Resolve.
Therefore, the possibility of plating film burrs and the like occurring due to cutting and removal of the diver is completely eliminated, and the short circuit problem between outer leads adjacent in parallel is solved, and a highly reliable resin-sealed semiconductor device is obtained. Can be provided at low cost and with high yield.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、図1〜図3を参照して実施
例を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment will be described below with reference to FIGS.

【0020】図1は、半導体装置用リードフレームの一
構成例の要部を平面的に示したもので、6はインナーリ
ード6aおよびアウターリード6bが連接し、かつ並列的に
配置形成されたリード、7は前記隣接するリード1相互
間を連結して一体化するタイバーである。ここで、半導
体装置用リードフレームは、たとえば 42Ni-Cuアロイを
素材とし、厚さ0.01mmの外装メッキ層が表面に施されて
おり、また、隣接するアウターリード6b同士を連結する
タイバー7は幅 0.2mm,厚さ0.15mmで、このタイバー7
が連結している段付きの広幅領域6a′は0.46mmに設定さ
れている。さらに、インナーリード6aおよびアウターリ
ード6bは、前記段付きの広幅領域6a′に連設する側で、
ピッチ0.65mm,リード幅 0.3mm,リード厚0.15mmであ
る。
FIG. 1 is a plan view showing a main part of a constitutional example of a lead frame for a semiconductor device. Reference numeral 6 is a lead in which an inner lead 6a and an outer lead 6b are connected and arranged in parallel. , 7 are tie bars that connect and integrate the adjacent leads 1. Here, the lead frame for a semiconductor device is made of, for example, 42Ni-Cu alloy, has a 0.01 mm thick exterior plating layer on its surface, and the tie bar 7 connecting adjacent outer leads 6b has a width. 0.2mm, thickness 0.15mm, this tie bar 7
The stepped wide region 6a ′ connected to each other is set to 0.46 mm. Further, the inner lead 6a and the outer lead 6b are provided on the side continuously provided with the stepped wide region 6a ′,
The pitch is 0.65 mm, the lead width is 0.3 mm, and the lead thickness is 0.15 mm.

【0021】すなわち、この実施例の半導体装置用リー
ドフレームは、従来の半導体装置用リードフレームに比
較して、インナーリード6aおよび本来のアウターリード
6bに対して、アウターリード6bの一部を段付き型に、そ
の幅を幅広化もしくは膨大化させ、この幅広化もしくは
膨大化領域6a′をタイバー7による連結・一体化する領
域としている。そして、この実施例では、タイバー7を
切断除去して分離するときの打抜き位置のズレ(カット
偏芯)を考慮し、前記のごとく0.16mm広幅に(膨大状態
に)設定してある。なお、図1において、8はスリット
部である。
That is, the lead frame for a semiconductor device of this embodiment is different from the conventional lead frame for a semiconductor device in the inner lead 6a and the original outer lead.
In contrast to 6b, a part of the outer lead 6b is formed into a stepped type, and the width thereof is widened or enlarged, and the widened or enlarged region 6a 'is used as a region for connecting and integrating with the tie bar 7. Further, in this embodiment, the width of the punching position is set to 0.16 mm wide (in an enlarged state) in consideration of the deviation of the punching position (cut eccentricity) when cutting and removing the tie bar 7. In addition, in FIG. 1, 8 is a slit part.

【0022】次に、上記構成の半導体装置用リードフレ
ームを使用する樹脂封止型半導体装置の製造例を説明す
る。
Next, an example of manufacturing a resin-sealed semiconductor device using the semiconductor device lead frame having the above-described structure will be described.

【0023】先ず、隣接するリード6相互間をタイバー
7が連結・一体化する領域6′のリード幅を、インナー
リード6aおよび本来のアウターリード6b幅よりも段付き
の広幅(もしくは膨大)に設定し、この段付きの広幅
(もしくは膨大)領域をアウターリード6bの一部として
インナーリードが連接し、かつ並列的に配置形成されて
成る半導体装置用リードフレームを用意し、この半導体
装置用リードフレームに半導体素子(たとえばIC素
子)を搭載・実装する。次いで、前記半導体素子を搭載
・実装したリードフレームを所定の金型内にセットし、
たとえばトランスファーモールド装置にて、トランスフ
ァーモールド成型を行って、インナーリード6a領域を含
め搭載・実装した半導体素子を樹脂モールドする。この
樹脂モールド後、トランスファーモールド装置から金型
を取り外し、さらに、金型から成型体を取り出す。
First, the lead width of the area 6'where the tie bars 7 connect and integrate the adjacent leads 6 with each other is set to be wider (or larger) with a step than the inner lead 6a and the original outer lead 6b. Then, a lead frame for a semiconductor device is prepared in which the inner leads are connected and formed in parallel as a part of the outer leads 6b using the stepped wide (or enormous) area, and the lead frame for the semiconductor device is prepared. A semiconductor element (for example, an IC element) is mounted and mounted on. Next, the lead frame on which the semiconductor element is mounted and mounted is set in a predetermined mold,
For example, transfer molding is performed by a transfer molding device to resin-mold the mounted and mounted semiconductor element including the inner lead 6a region. After this resin molding, the mold is removed from the transfer mold device, and the molded body is taken out from the mold.

【0024】前記一連の工程で樹脂モールドした成型体
(樹脂封止型半導体装置)は、図2に平面的に要部を示
すごとく、樹脂モールド領域(封止部)9からアウター
リード6b延出側スリット8aに、格子状樹脂バリ10が膨出
形成されているとともに、アウターリード6bはタイバー
7によって相互に連結・一体化しているので、たとえば
打抜きポンチによる打抜き加工で、前記格子状樹脂バリ
10の一部とともにタイバー7を選択的に切断除去してリ
ード6を分離することになる。図3 (a)は、この打抜き
加工の実施状態を模式的に示す平面図、図3 (b)は一部
断面図である。
The molded body (resin-encapsulated semiconductor device) resin-molded in the above series of steps extends from the resin-molded region (sealing portion) 9 to the outer lead 6b as shown in FIG. Since the lattice-shaped resin burr 10 is bulged in the side slit 8a and the outer leads 6b are connected and integrated with each other by the tie bar 7, for example, the lattice-shaped resin burr is punched by a punching punch.
The tie bar 7 along with a part of 10 is selectively cut and removed to separate the lead 6. FIG. 3 (a) is a plan view schematically showing the execution state of this punching process, and FIG. 3 (b) is a partial sectional view.

【0025】前記タイバー7を選択的に切断除去してリ
ード6を分離する工程においては、超硬質材(たとえば
東芝タンガロイ社,商品名EM10)製の打抜きポンチ11先
端幅方向辺が、格子状樹脂バリ10および隣接する段付き
の広幅部6′の一部に当接する一方、打抜きポンチ11の
先端長さ方向辺が、タイバー7で連結している段付き広
幅部6′の側辺部に当接して、格子状樹脂バリ10の一部
およびタイバー7を選択的に切断除去し、全段付き広幅
部6′の幅を狭めながらリード6を分離する。そして、
このタイバー7を切断除去する過程で、リード6に付着
していたメッキカスが除去されたり(図3 (a)で幅,長
さ方向の)、メッキカスが押し潰されたり(図3 (b)で
厚さ方向の)して、メッキカスに起因するリード6間の
短絡発生の恐れも解消する。なお、図3 (b)において、
12は超硬質材(たとえば東芝タンガロイ社,商品名EM1
0)製のダイバー切断台、13はたとえばダイス鋼製のス
トリッパーである。
In the step of selectively cutting and removing the tie bar 7 to separate the leads 6, a punching punch 11 made of an ultra-hard material (for example, Toshiba Tungaloy Co., Ltd., trade name EM10) has a lattice-like resin on the tip width direction side. While abutting on the burr 10 and a part of the adjacent stepped wide portion 6 ′, the side of the punched punch 11 in the tip length direction contacts the side portion of the stepped wide portion 6 ′ connected by the tie bar 7. In contact with each other, a part of the lattice-shaped resin burr 10 and the tie bar 7 are selectively cut and removed, and the leads 6 are separated while narrowing the width of the wide portion 6'with all the steps. And
In the process of cutting and removing the tie bar 7, the plating residue attached to the lead 6 is removed (in the width and length directions in FIG. 3 (a)), or the plating residue is crushed (in FIG. 3 (b)). The risk of a short circuit between the leads 6 due to plating residue is also eliminated. In addition, in FIG. 3 (b),
12 is a super hard material (eg Toshiba Tungaloy, trade name EM1
A diver cutting table made of 0), 13 is a stripper made of die steel, for example.

【0026】上記手段で、量産的に製造した樹脂封止型
半導体装置について、常套的な試験方法によって、外観
評価や特性評価などを行ったところ、タイバー7切断部
になどにメッキ膜のヒゲバリ発生も認められず、分離さ
れた各リード6相互は良好な絶縁性を維持しており、信
頼性の高い樹脂封止型半導体装置を歩留まりよく製造で
きることが確認された。また、前記タイバー7の切断除
去に当たって、打抜きポンチ11の当接・切断部は、格子
状樹脂バリ10領域とリート6領域とに峻別される。した
がって、打抜きポンチ11の摩耗,損傷などよるメッキ膜
のバリ発生などの恐れも容易に解消できるため、専用的
もしくは高価な加工具なども不要であり、コスト面およ
び生産性などの点でも多くの利点が認められる。
The resin-encapsulated semiconductor device mass-produced by the above-mentioned means was subjected to a visual evaluation and a characteristic evaluation by a conventional test method. It was confirmed that each of the separated leads 6 maintains a good insulating property, and a highly reliable resin-sealed semiconductor device can be manufactured with a high yield. When the tie bar 7 is cut and removed, the abutting / cutting portion of the punching punch 11 is sharply divided into a grid-shaped resin burr 10 region and a REIT 6 region. Therefore, it is possible to easily eliminate the risk of burrs of the plating film due to wear and damage of the punching punch 11, so that no dedicated or expensive processing tool is required, and there are many points in terms of cost and productivity. The benefits are recognized.

【0027】なお、本発明は、上記実施例に限定される
ものでなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲でいろいろの
変形を採ることができる。たとえば、リードフレームの
構成素材、リードフレームの寸法・構造などは、搭載・
実装する半導体装置に対応して適宜選択することができ
る。つまり、通常、樹脂封止型半導体用に使用されてい
るリードフレームの一部を変更(ダイバー連結部のリー
ド幅を段付き型に広幅もしくは膨大化)する形態で足り
る。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention. For example, the lead frame components, lead frame dimensions and structure, etc.
It can be appropriately selected according to the semiconductor device to be mounted. That is, it is usually sufficient to change a part of the lead frame used for the resin-encapsulated semiconductor (the lead width of the diver connecting portion is widened or enlarged to a stepped type).

【0028】[0028]

【発明の効果】請求項1〜4の発明によれば、樹脂モー
ルド後、タイバーを切断除去してアウターリードを分離
するとき、モールド樹脂バリの切断によって摩耗・損傷
などした打抜きポンチの打抜き刃が、リードの切断部に
関与しなくなるため、メッキ膜のバリなど発生すること
もなくなり、尖鋭な切断を持続できる。つまり、タイバ
ーの切断除去に伴うリードの尖鋭な切断,分離という点
からみると、打抜きポンチの刃の耐使用性(摩耗・損傷
による使用限界)は、従来比の約10倍にもなる。また、
前記タイバーの打抜き加工で、メッキ膜バリなどの発生
が全面的に回避されることは、リード間の短絡発生の恐
れも解消することになり、信頼性の高い半導体装置の提
供に大きく寄与する。
According to the invention of claims 1 to 4, when the tie bar is cut and removed after the resin molding to separate the outer leads, the punching blade of the punching punch which is worn or damaged due to the cutting of the mold resin burr is removed. Since it is no longer involved in the cutting portion of the lead, burrs of the plating film will not occur and sharp cutting can be maintained. In other words, from the viewpoint of sharp cutting and separation of the lead caused by cutting and removing the tie bar, the durability of the blade of the punching punch (usage limit due to wear and damage) is about 10 times that of the conventional one. Also,
Completely avoiding the occurrence of plating film burrs and the like in the punching process of the tie bar also eliminates the possibility of short-circuiting between leads, which greatly contributes to the provision of a highly reliable semiconductor device.

【0029】請求項5〜6の発明によれば、上記請求項
1〜4の発明の作用効果、すなわち、タイバーの打抜き
加工後にメッキ処理する必要性をなくすこと(メッキ処
理後にタイバーの打抜き加工できること)で工程の煩雑
化を回避でき、また、タイバーカット専用の装置や治具
が不要であること、および前記摩耗・損傷による使用限
界の向上と相俟って、樹脂封止型半導体装置の生産性お
よびコスト面でも多くの利点をもたらす。
According to the inventions of claims 5 to 6, the effect of the inventions of claims 1 to 4 is eliminated, that is, the necessity of plating after the tie bar punching process is eliminated (the tie bar can be punched after the plating process. ), It is possible to avoid complication of the process, and there is no need for a device or jig dedicated to tie bar cutting, and in combination with the improvement of the usage limit due to the above-mentioned wear and damage, the production of resin-sealed semiconductor devices. There are many advantages in terms of both sex and cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】一実施例の半導体装置用リードフレームの要部
構成を示す平面図。
FIG. 1 is a plan view showing a main part configuration of a semiconductor device lead frame according to an embodiment.

【図2】図1のリードフレームを樹脂モールドした状態
を拡大して模式的に示す平面図。
FIG. 2 is an enlarged schematic plan view of a resin-molded state of the lead frame of FIG.

【図3】図2の樹脂モールドしたリードフレームのタイ
バー切断除去の状態を拡大して模式的に示すもので、
(a)は平面図、 (b)は一部の断面図。
FIG. 3 is an enlarged schematic view showing the state of cutting and removing the tie bar of the resin-molded lead frame of FIG.
(a) is a plan view, (b) is a partial sectional view.

【図4】従来の半導体装置用リードフレームの要部構成
を示す平面図。
FIG. 4 is a plan view showing a main part configuration of a conventional semiconductor device lead frame.

【図5】図4のリードフレームを樹脂モールドした状態
を拡大して模式的に示す平面図。
5 is an enlarged schematic plan view showing a resin-molded state of the lead frame of FIG. 4. FIG.

【図6】図5の樹脂モールドしたリードフレームのタイ
バー切断除去の状態を拡大して模式的に示す平面図。
6 is an enlarged schematic plan view of the resin-molded lead frame of FIG. 5 with the tie bar cut and removed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,6……リード 1a,6a……インナーリード 1b,6b……アウターリード 2,7……タイバー 3,9……樹脂モールド領域(樹脂封止部) 4,9……格子状樹脂バリ 5,11……打抜きポンチ 6′……リード広幅部(膨大部) 8……スリット 8a……格子状樹脂バリが形成されるスリット 1,6 ...... Lead 1a, 6a …… Inner lead 1b, 6b …… Outer lead 2,7 …… Tie bar 3,9 …… Resin mold area (resin encapsulation part) 4,9 …… Lattice resin burr 5 , 11 …… Punch punch 6 ′ …… Wide wide part (enlarged part) 8 …… Slit 8a …… Slit where lattice-shaped resin burr is formed

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 インナーリードおよびアウターリードが
連接し、かつ並列的に配置形成されたリード群と、 前記隣接するリード相互間を連結して一体化するタイバ
ーとを有する半導体装置用リードフレームにおいて、 前記タイバーが連結・一体化する領域のリード幅が、イ
ンナーリード幅およびアウターリード幅に対して段付き
型の広幅に設定されていることを特徴とする半導体装置
用リードフレーム。
1. A lead frame for a semiconductor device, comprising: a lead group in which inner leads and outer leads are connected to each other and arranged in parallel; and a tie bar for connecting and integrating the adjacent leads. A lead frame for a semiconductor device, wherein a lead width of a region where the tie bars are connected / integrated is set to be a stepped type wider than an inner lead width and an outer lead width.
【請求項2】 インナーリードおよびアウターリードが
連接し、かつ並列的に配置形成されたリード群と、 前記隣接するリード相互間を連結して一体化するタイバ
ーとを有する半導体装置用リードフレームにおいて、 前記タイバーが連結・一体化する領域のリード幅が、イ
ンナーリード幅およびアウターリード幅に対して段付き
型に幅方向へ膨出されていることを特徴とする半導体装
置用リードフレーム。
2. A lead frame for a semiconductor device, comprising: a lead group in which inner leads and outer leads are connected and arranged in parallel, and a tie bar that connects and integrates the adjacent leads. A lead frame for a semiconductor device, wherein a lead width of a region where the tie bars are connected / integrated is bulged in a width direction in a stepped shape with respect to an inner lead width and an outer lead width.
【請求項3】 インナーリードが被モールド樹脂領域に
あることを特徴とする請求項1もしくは請求項2記載の
半導体装置用リードフレーム。
3. The lead frame for a semiconductor device according to claim 1, wherein the inner lead is in a resin region to be molded.
【請求項4】 タイバーがインナーリードから離隔して
形成配置されていることを特徴とする請求項1ないし請
求項3いずれか一記載の半導体装置用リードフレーム。
4. The lead frame for a semiconductor device according to claim 1, wherein the tie bar is formed and arranged apart from the inner lead.
【請求項5】 インナーリードおよびアウターリードが
連接し、かつ並列的に配置形成された隣接するリード相
互間をタイバーで連結・一体化された半導体装置用リー
ドフレームに半導体素子を搭載・実装する工程と、 前記インナーリード領域を含め搭載・実装した半導体素
子を樹脂モールドする工程と、 前記樹脂モールドでアウターリード延出側に膨出形成さ
れた格子状樹脂バリの一部とともにタイバーを選択的に
切断除去してリードを分離する工程とを有するモールド
型半導体装置の製造方法であって、 前記リードフレームは、タイバーが連結・一体化する領
域のリード幅がインナーリード幅およびアウターリード
幅に対して段付き型の広幅に設定されており、かつ広幅
分をタイバーの切断除去時に同時にほぼアウターリード
幅に揃えて切断整形することを特徴とするモールド型半
導体装置の製造方法。
5. A step of mounting and mounting a semiconductor element on a lead frame for a semiconductor device, in which inner leads and outer leads are connected to each other and adjacent leads formed in parallel are connected and integrated by a tie bar. And a step of resin-molding the mounted and mounted semiconductor element including the inner lead region, and selectively cutting the tie bar together with a part of the lattice-shaped resin burr bulged on the outer lead extension side by the resin molding. A method of manufacturing a molded semiconductor device, comprising: a step of removing the leads to separate the leads, wherein the lead frame has a step in which a lead width in a region where the tie bars are connected and integrated is different from an inner lead width and an outer lead width. It is set to the wide width of the attached type, and the wide part is aligned with the outer lead width at the same time when the tie bar is cut and removed. A method of manufacturing a mold-type semiconductor device, which comprises cutting and shaping.
【請求項6】 インナーリードおよびアウターリードが
連接し、かつ並列的に配置形成された隣接するリード相
互間をタイバーで連結・一体化された半導体装置用リー
ドフレームに半導体素子を搭載・実装する工程と、 前記インナーリード領域を含め搭載・実装した半導体素
子を樹脂モールドする工程と、 前記樹脂モールドでアウターリード延出側に膨出形成さ
れた格子状樹脂バリの一部とともにタイバーを選択的に
切断除去してリードを分離する工程とを有するモールド
型半導体装置の製造方法であって、 前記リードフレームは、タイバーが連結・一体化する領
域のリード幅がインナーリード幅およびアウターリード
幅に対して段付き型に幅方向へ膨出させて設定されてお
り、かつ膨出分をタイバーの切断除去時に同時にほぼア
ウターリード幅に揃えて切断整形することを特徴とする
モールド型半導体装置の製造方法。
6. A step of mounting and mounting a semiconductor element on a lead frame for a semiconductor device in which an inner lead and an outer lead are connected to each other and adjacent leads formed in parallel are connected and integrated by a tie bar. And a step of resin-molding the mounted and mounted semiconductor element including the inner lead region, and selectively cutting the tie bar together with a part of the lattice-shaped resin burr bulged on the outer lead extension side by the resin molding. A method of manufacturing a molded semiconductor device, comprising: a step of removing the leads to separate the leads, wherein the lead frame has a step in which a lead width in a region where the tie bars are connected and integrated is different from an inner lead width and an outer lead width. It is set to bulge in the width direction on the attached mold, and the bulging part is almost outer at the same time when cutting and removing the tie bar. A method for manufacturing a mold-type semiconductor device, which comprises cutting and shaping in accordance with the width of the mold.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014207261A (en) * 2013-04-10 2014-10-30 株式会社デンソー Semiconductor device and method for manufacturing the same

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