JPH09260268A - 露光量制御方式ならびに露光装置および方法 - Google Patents
露光量制御方式ならびに露光装置および方法Info
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- JPH09260268A JPH09260268A JP8091742A JP9174296A JPH09260268A JP H09260268 A JPH09260268 A JP H09260268A JP 8091742 A JP8091742 A JP 8091742A JP 9174296 A JP9174296 A JP 9174296A JP H09260268 A JPH09260268 A JP H09260268A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザ特性や光学特性等により生じる露光誤
差に対して、最良のスループットで、かつ露光量制御不
能に陥らずに高精度な露光量制御を行なう。 【解決手段】 光源としてのパルスレーザと、パルスレ
ーザの出力エネルギー制御手段と、パルスレーザのパル
ス毎の露光量検出手段と、該露光量検出手段より求めた
露光量をもとにパルスレーザの次パルス以降の出力エネ
ルギー値を演算する手段を具備し、パルスレーザを複数
回パルス発光させることにより被照射体を露光する装置
において、露光完了までに露光誤差を補正するために必
要な露光補正幅を求め、これと所要露光量とをもとにレ
ーザの最適な平均出力エネルギーおよび露光パルス数を
決定し、露光量制御を行なう。
差に対して、最良のスループットで、かつ露光量制御不
能に陥らずに高精度な露光量制御を行なう。 【解決手段】 光源としてのパルスレーザと、パルスレ
ーザの出力エネルギー制御手段と、パルスレーザのパル
ス毎の露光量検出手段と、該露光量検出手段より求めた
露光量をもとにパルスレーザの次パルス以降の出力エネ
ルギー値を演算する手段を具備し、パルスレーザを複数
回パルス発光させることにより被照射体を露光する装置
において、露光完了までに露光誤差を補正するために必
要な露光補正幅を求め、これと所要露光量とをもとにレ
ーザの最適な平均出力エネルギーおよび露光パルス数を
決定し、露光量制御を行なう。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光源としてエキシ
マ等のパルスレーザを用いる場合の露光量制御方式なら
びにその方式を適用した露光装置および方法に関し、特
に、高精度な露光量制御を必要とする半導体露光に適用
して好適なそれらに関するものである。
マ等のパルスレーザを用いる場合の露光量制御方式なら
びにその方式を適用した露光装置および方法に関し、特
に、高精度な露光量制御を必要とする半導体露光に適用
して好適なそれらに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体露光装置においては、半導体の高
集積化および高微細化に伴い、近年エキシマレーザなど
のパルスレーザが光源として使用されている。従来のパ
ルスレーザを用いた露光装置の露光量制御においては、
目標とする設定露光量Ｅdoseより、露光前に予め平均出
力エネルギーＥ0 および総露光パルス数Ｎを決定し、被
照射体の露光エネルギーが毎パルス一定となるように各
パルスの目標露光量を設定し露光量制御を行なってい
た。
集積化および高微細化に伴い、近年エキシマレーザなど
のパルスレーザが光源として使用されている。従来のパ
ルスレーザを用いた露光装置の露光量制御においては、
目標とする設定露光量Ｅdoseより、露光前に予め平均出
力エネルギーＥ0 および総露光パルス数Ｎを決定し、被
照射体の露光エネルギーが毎パルス一定となるように各
パルスの目標露光量を設定し露光量制御を行なってい
た。
【０００３】ただし、実際の露光シーケンスにおいて
は、レーザ特性や光学特性等に起因する露光誤差が発生
するため、この露光誤差を補正しながら露光量制御を行
なう必要がある。このため、例えば図５に示す露光アル
ゴリズムが用いられていた。図５において、ステップ２
１で目標露光量Ｅdoseを設定する。また、初期パルス数
値ｉ＝１とする。ステップ２２で、Ｅdose＝Ｎ×Ｅ0 を
満足する露光の総パルス数Ｎと平均出力エネルギーＥ0
を決定する。ステップ２３でｉ−１パルス目までの露光
誤差Ｅerr ＝Ｅ0bj −Ｅmeasを求める。ここで、Ｅmeas
はｉ−１パルス目までの総実露光量、Ｅ0bj はｉ−１パ
ルス目までの総露光目標量であり、Ｅ0bj＝（ｉ−１）
Ｅ0 と表わすことができる。ステップ２４で、ｉパルス
目のレーザ出力エネルギー
は、レーザ特性や光学特性等に起因する露光誤差が発生
するため、この露光誤差を補正しながら露光量制御を行
なう必要がある。このため、例えば図５に示す露光アル
ゴリズムが用いられていた。図５において、ステップ２
１で目標露光量Ｅdoseを設定する。また、初期パルス数
値ｉ＝１とする。ステップ２２で、Ｅdose＝Ｎ×Ｅ0 を
満足する露光の総パルス数Ｎと平均出力エネルギーＥ0
を決定する。ステップ２３でｉ−１パルス目までの露光
誤差Ｅerr ＝Ｅ0bj −Ｅmeasを求める。ここで、Ｅmeas
はｉ−１パルス目までの総実露光量、Ｅ0bj はｉ−１パ
ルス目までの総露光目標量であり、Ｅ0bj＝（ｉ−１）
Ｅ0 と表わすことができる。ステップ２４で、ｉパルス
目のレーザ出力エネルギー
【０００４】
【数１】 を求める。ここで、右辺第二項が露光誤差を補正するた
めの補正量である。露光量制御を可能にするためには、
この補正量の補正範囲内でレーザ出力が可能であること
が要求される。すなわち、レーザ最大出力エネルギーに
対しある露光補正幅を持たせ、ステップ２２で露光の総
パルス数Ｎおよび平均出力エネルギーＥ0を決定するこ
とが必要である。ステップ２５で、エネルギーｙ[i] に
てレーザ出力する。ステップ２６でｉパルス目の露光量
を計測する。また、ｉパルス目までの実露光量の総和Ｅ
measを求める。ステップ２７でパルス数ｉを１つ増や
す。ステップ２３〜２７をＮ回繰り返して露光を終了す
る。
めの補正量である。露光量制御を可能にするためには、
この補正量の補正範囲内でレーザ出力が可能であること
が要求される。すなわち、レーザ最大出力エネルギーに
対しある露光補正幅を持たせ、ステップ２２で露光の総
パルス数Ｎおよび平均出力エネルギーＥ0を決定するこ
とが必要である。ステップ２５で、エネルギーｙ[i] に
てレーザ出力する。ステップ２６でｉパルス目の露光量
を計測する。また、ｉパルス目までの実露光量の総和Ｅ
measを求める。ステップ２７でパルス数ｉを１つ増や
す。ステップ２３〜２７をＮ回繰り返して露光を終了す
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、露光誤差の
原因となるレーザ特性や光学特性等の条件により露光誤
差を補正するために必要となる露光補正幅は異なるが、
上記従来技術においてはこれらの条件に基づいた露光量
制御時の露光補正幅の決定を行なっていなかった。
原因となるレーザ特性や光学特性等の条件により露光誤
差を補正するために必要となる露光補正幅は異なるが、
上記従来技術においてはこれらの条件に基づいた露光量
制御時の露光補正幅の決定を行なっていなかった。
【０００６】例えば、従来技術において示した露光アル
ゴリズムを用いて露光量制御を行なった場合、各パルス
の露光誤差を補正するための補正量ΔＥ[i] は、ステッ
プ２４より
ゴリズムを用いて露光量制御を行なった場合、各パルス
の露光誤差を補正するための補正量ΔＥ[i] は、ステッ
プ２４より
【０００７】
【数２】 であり、このΔＥ[i] （ｉ＝１，２，…，Ｎ）の最大値
が最適露光補正幅となる。レーザ特性および光学特性等
の条件により、このΔＥ[i] （ｉ＝１，２，…，Ｎ）の
最大値は異なるが、これらの条件に基づいた露光量制御
時の露光補正幅の決定を行なっていなかった。
が最適露光補正幅となる。レーザ特性および光学特性等
の条件により、このΔＥ[i] （ｉ＝１，２，…，Ｎ）の
最大値は異なるが、これらの条件に基づいた露光量制御
時の露光補正幅の決定を行なっていなかった。
【０００８】このため、露光補正幅を最適補正幅より大
きく（したがって、平均出力エネルギーＥ0 を必要以上
に小さく）決定し、結果的にスループットを悪化させて
露光量制御を行なったり、露光補正幅を最適補正幅より
小さく決定し、露光量制御に必要な露光補正量が取れず
露光量制御不能に陥るという問題があった。
きく（したがって、平均出力エネルギーＥ0 を必要以上
に小さく）決定し、結果的にスループットを悪化させて
露光量制御を行なったり、露光補正幅を最適補正幅より
小さく決定し、露光量制御に必要な露光補正量が取れず
露光量制御不能に陥るという問題があった。
【０００９】本発明は、上記従来技術における課題を解
決するもので、照明光学系や投影光学系等におけるレー
ザ特性や光学特性等により生じる露光誤差に対して、露
光量制御不能に陥ることなく、最良のスループットで高
精度な露光量制御を行なうことを目的とする。
決するもので、照明光学系や投影光学系等におけるレー
ザ特性や光学特性等により生じる露光誤差に対して、露
光量制御不能に陥ることなく、最良のスループットで高
精度な露光量制御を行なうことを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明では、光源としてのパルスレーザと、パルス
レーザの出力エネルギー制御手段と、パルスレーザのパ
ルス毎の露光量検出手段と、該露光量検出手段より求め
た露光量をもとにパルスレーザの次パルス以降の出力エ
ネルギー値を演算する手段を具備し、パルスレーザを複
数回パルス発光させることにより被照射体を露光する装
置において、露光完了までに露光誤差を補正するために
必要な露光補正幅を求め、これと所要の露光量とをもと
にレーザの平均出力エネルギーおよび露光パルス数を決
定し、露光量制御を行なうことを特徴とする。
め、本発明では、光源としてのパルスレーザと、パルス
レーザの出力エネルギー制御手段と、パルスレーザのパ
ルス毎の露光量検出手段と、該露光量検出手段より求め
た露光量をもとにパルスレーザの次パルス以降の出力エ
ネルギー値を演算する手段を具備し、パルスレーザを複
数回パルス発光させることにより被照射体を露光する装
置において、露光完了までに露光誤差を補正するために
必要な露光補正幅を求め、これと所要の露光量とをもと
にレーザの平均出力エネルギーおよび露光パルス数を決
定し、露光量制御を行なうことを特徴とする。
【００１１】
【作用】このように露光完了までに露光誤差を補正する
ために必要な露光補正幅を求め、これをもとに最適なレ
ーザの平均出力エネルギーおよび総露光パルス数を決定
することにより、レーザ特性や光学特性等により生じる
露光誤差に対して、最良のスループットで、かつ、露光
量制御不能に陥らず高精度な露光量制御を行なうことが
可能となる。
ために必要な露光補正幅を求め、これをもとに最適なレ
ーザの平均出力エネルギーおよび総露光パルス数を決定
することにより、レーザ特性や光学特性等により生じる
露光誤差に対して、最良のスループットで、かつ、露光
量制御不能に陥らず高精度な露光量制御を行なうことが
可能となる。
【００１２】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。 （第１の実施例）図１は本発明の第一の実施例に係わる
露光量制御方式を用いた露光装置の概略構成を示す。同
図において、１はエキシマ等のレーザ光源、２は集積回
路パターンが形成されたレチクル、３は投影光学系、４
はウエハであり、レチクル２上に形成された集積回路パ
ターンを投影光学系３を介してウエハ４上に投影露光す
るようになっている。レーザ光源１からの光路上にはハ
ーフミラー５が配置され、ハーフミラー５より反射され
る光路上にはフォトセンサ６が配置されている。このフ
ォトセンサ６の出力はセンサアンプ７を経てレーザ１パ
ルス毎に露光量に変換される。ＣＰＵ８はフォトセンサ
６で計測した露光量に基づき次のレーザ出力値を演算
し、レーザ光源１に出力エネルギー指令値を与える。９
は後述する照度ムラ除去器を含む光学系である。
る。 （第１の実施例）図１は本発明の第一の実施例に係わる
露光量制御方式を用いた露光装置の概略構成を示す。同
図において、１はエキシマ等のレーザ光源、２は集積回
路パターンが形成されたレチクル、３は投影光学系、４
はウエハであり、レチクル２上に形成された集積回路パ
ターンを投影光学系３を介してウエハ４上に投影露光す
るようになっている。レーザ光源１からの光路上にはハ
ーフミラー５が配置され、ハーフミラー５より反射され
る光路上にはフォトセンサ６が配置されている。このフ
ォトセンサ６の出力はセンサアンプ７を経てレーザ１パ
ルス毎に露光量に変換される。ＣＰＵ８はフォトセンサ
６で計測した露光量に基づき次のレーザ出力値を演算
し、レーザ光源１に出力エネルギー指令値を与える。９
は後述する照度ムラ除去器を含む光学系である。
【００１３】半導体露光装置においては被照射面上の照
度が均一であることが要求される。ところが、光源とし
てレーザを用いた場合、レーザのビーム断面には照度ム
ラが生じているため、これに起因して被照射面上に照度
ムラが発生する。この照度ムラを除去するために、図２
に示すように、例えば平行平面板を回転させることによ
り被照射面と共役な面のレーザビームを時間的に振り分
け、照度を均一化する手段が考案されている。照度ムラ
除去器の例としては、これ以外にも、くさび状プリズム
やミラーを周期的に動かす例がある。
度が均一であることが要求される。ところが、光源とし
てレーザを用いた場合、レーザのビーム断面には照度ム
ラが生じているため、これに起因して被照射面上に照度
ムラが発生する。この照度ムラを除去するために、図２
に示すように、例えば平行平面板を回転させることによ
り被照射面と共役な面のレーザビームを時間的に振り分
け、照度を均一化する手段が考案されている。照度ムラ
除去器の例としては、これ以外にも、くさび状プリズム
やミラーを周期的に動かす例がある。
【００１４】ところが、照度ムラ除去器を周期的に回転
させることにより照度ムラは除去できるものの、照度ム
ラ除去器の回転に依存したウエハ面上の露光エネルギー
の周期的変動
させることにより照度ムラは除去できるものの、照度ム
ラ除去器の回転に依存したウエハ面上の露光エネルギー
の周期的変動
【００１５】
【数３】 が発生する。ここで、αは周期的変動の振幅、θ0 は周
期的変動の初期位相であり、ｆL はレーザの発振周波
数、ｆN は照度ムラ除去器の回転周波数である。すなわ
ち、レーザからエネルギーｙ[i] を出力した場合、照度
ムラ除去器の回転に依存し、ｉパルス目におけるウエハ
面上の露光エネルギーは、
期的変動の初期位相であり、ｆL はレーザの発振周波
数、ｆN は照度ムラ除去器の回転周波数である。すなわ
ち、レーザからエネルギーｙ[i] を出力した場合、照度
ムラ除去器の回転に依存し、ｉパルス目におけるウエハ
面上の露光エネルギーは、
【００１６】
【数４】 となる。この照度ムラ除去器の回転に依存する露光誤差
を補正しながら露光量制御を行なうことが必要となる。
を補正しながら露光量制御を行なうことが必要となる。
【００１７】例えば、従来技術で示した手段を用いてこ
の露光誤差を補正するためには、ステップ２４で示した
出力エネルギー
の露光誤差を補正するためには、ステップ２４で示した
出力エネルギー
【００１８】
【数５】 の最小値と最大値に相当するＥ0 −α〜Ｅ0 ＋αの範囲
でレーザ出力が可能であることが必要である。
でレーザ出力が可能であることが必要である。
【００１９】本実施例においては、照度ムラ除去器の回
転に依存する露光誤差を補正するために必要な露光補正
幅αを予め求め、これをもとに最適なレーザの平均出力
エネルギーＥ0 および総露光パルス数Ｎを決定する手段
を用いる。本手段を用いる場合の露光誤差要因と平均出
力エネルギーＥ0 の関係を図３に示す。
転に依存する露光誤差を補正するために必要な露光補正
幅αを予め求め、これをもとに最適なレーザの平均出力
エネルギーＥ0 および総露光パルス数Ｎを決定する手段
を用いる。本手段を用いる場合の露光誤差要因と平均出
力エネルギーＥ0 の関係を図３に示す。
【００２０】さらに本実施例を詳しく示す。図４に本実
施例の露光アルゴリズムを示す。ステップ１１で目標露
光量Ｅdoseを設定する。また、初期パルス数値ｉ＝１と
する。ステップ１２で、照度ムラ除去器の回転に依存す
る露光誤差を補正するために必要な露光補正幅αを求め
る。この露光補正幅αは例えば図３に示すような特性を
予め実測してその変動幅の１／２の値を露光パラメータ
の一つとして記憶させておく。ステップ１３で、露光補
正幅αをもとに、設定露光量Ｅdose＝Ｎ×Ｅ0を満足す
る露光の総パルス数Ｎ、平均出力エネルギーＥ0 を決定
する。ここで、平均出力エネルギーＥ0 は、レーザの最
大出力エネルギーＥmax に対して、Ｅ0＝Ｅmax −αと
決定する。パルス数Ｎの少数部分は従来例と同様に端数
処理し、端数処理したパルス数Ｎに基づいて平均出力エ
ネルギーＥ0 も補正する。ステップ１４でｉ−１パルス
目までの露光誤差Ｅerr ＝Ｅ0bj −Ｅmeasを求める。こ
こで、Ｅmeasはｉ−１パルス目までの総実露光量、Ｅ
0bj はｉ−１パルス目までの総露光目標量であり、Ｅ
0bj ＝（ｉ−１）Ｅ0 と表わすことができる。ステップ
１５で、ｉパルス目のレーザ出力エネルギー
施例の露光アルゴリズムを示す。ステップ１１で目標露
光量Ｅdoseを設定する。また、初期パルス数値ｉ＝１と
する。ステップ１２で、照度ムラ除去器の回転に依存す
る露光誤差を補正するために必要な露光補正幅αを求め
る。この露光補正幅αは例えば図３に示すような特性を
予め実測してその変動幅の１／２の値を露光パラメータ
の一つとして記憶させておく。ステップ１３で、露光補
正幅αをもとに、設定露光量Ｅdose＝Ｎ×Ｅ0を満足す
る露光の総パルス数Ｎ、平均出力エネルギーＥ0 を決定
する。ここで、平均出力エネルギーＥ0 は、レーザの最
大出力エネルギーＥmax に対して、Ｅ0＝Ｅmax −αと
決定する。パルス数Ｎの少数部分は従来例と同様に端数
処理し、端数処理したパルス数Ｎに基づいて平均出力エ
ネルギーＥ0 も補正する。ステップ１４でｉ−１パルス
目までの露光誤差Ｅerr ＝Ｅ0bj −Ｅmeasを求める。こ
こで、Ｅmeasはｉ−１パルス目までの総実露光量、Ｅ
0bj はｉ−１パルス目までの総露光目標量であり、Ｅ
0bj ＝（ｉ−１）Ｅ0 と表わすことができる。ステップ
１５で、ｉパルス目のレーザ出力エネルギー
【００２１】
【数６】 を求める。ここで右辺第二項は露光誤差を補正するため
の補正量である。ステップ１６でエネルギーｙ[i] にて
レーザ出力する。ステップ１７でｉパルス目の露光量を
計測する。また、ｉパルス目までの実露光量の総和Ｅ
measを求める。ステップ１８でパルス数ｉを１つ増や
す。ステップ１４〜１８をＮ回繰り返し露光を終了す
る。
の補正量である。ステップ１６でエネルギーｙ[i] にて
レーザ出力する。ステップ１７でｉパルス目の露光量を
計測する。また、ｉパルス目までの実露光量の総和Ｅ
measを求める。ステップ１８でパルス数ｉを１つ増や
す。ステップ１４〜１８をＮ回繰り返し露光を終了す
る。
【００２２】本手段を用いることにより、照度ムラ除去
器の回転により発生する露光誤差に対して、最良のスル
ープットで、かつ、露光量制御不能に陥らず高精度な露
光量制御を行なうことが可能となる。
器の回転により発生する露光誤差に対して、最良のスル
ープットで、かつ、露光量制御不能に陥らず高精度な露
光量制御を行なうことが可能となる。
【００２３】（第２の実施例）露光誤差を発生する要因
としてレーザの出力ばらつきがある。本実施例において
は、レーザ出力ばらつきを測定し、レーザ出力ばらつき
に依存する露光誤差を補正するために必要な露光補正幅
を求め、これをもとに最適なレーザの平均出力エネルギ
ーＥ0 および総露光パルス数Ｎを決定する手段を用い
る。露光アルゴリズムは図４と同様に示すことができ
る。
としてレーザの出力ばらつきがある。本実施例において
は、レーザ出力ばらつきを測定し、レーザ出力ばらつき
に依存する露光誤差を補正するために必要な露光補正幅
を求め、これをもとに最適なレーザの平均出力エネルギ
ーＥ0 および総露光パルス数Ｎを決定する手段を用い
る。露光アルゴリズムは図４と同様に示すことができ
る。
【００２４】本手段を用いることにより、レーザの出力
ばらつきにより発生する露光誤差に対して、最良のスル
ープットで、かつ、露光量制御不能に陥らず高精度な露
光量制御を行なうことが可能となる。
ばらつきにより発生する露光誤差に対して、最良のスル
ープットで、かつ、露光量制御不能に陥らず高精度な露
光量制御を行なうことが可能となる。
【００２５】（第３の実施例）本手段は露光途中で残露
光量に対して適用することが可能である。すなわち、露
光完了までに、露光誤差を補正するために必要な露光補
正幅を求め、残露光量に対して最適なレーザの平均出力
エネルギーＥ0 および残露光パルス数Ｎを決定し、露光
量制御を行なうことが可能である。
光量に対して適用することが可能である。すなわち、露
光完了までに、露光誤差を補正するために必要な露光補
正幅を求め、残露光量に対して最適なレーザの平均出力
エネルギーＥ0 および残露光パルス数Ｎを決定し、露光
量制御を行なうことが可能である。
【００２６】上述の各実施例において、露光完了までに
露光誤差を補正するために必要な露光補正幅は、例え
ば、予め、前記パルスレーザ１を最大出力エネルギーで
複数回発光させ、そのときのフォトセンサ６の出力より
露光量の変動幅を求め、その変動幅の１／２を露光補正
幅αとし、Ｅmax −αを平均出力エネルギーＥ0 とす
る。または、実露光中の出力エネルギー算出値ｙ[i] と
その算出値ｙ[i] を制御量として発光したときのフォト
センサ６による露光量検出値との比の変動幅を求め、こ
の変動幅ｋより、例えばα＝ｋＥmax ／２のように算出
してもよい。
露光誤差を補正するために必要な露光補正幅は、例え
ば、予め、前記パルスレーザ１を最大出力エネルギーで
複数回発光させ、そのときのフォトセンサ６の出力より
露光量の変動幅を求め、その変動幅の１／２を露光補正
幅αとし、Ｅmax −αを平均出力エネルギーＥ0 とす
る。または、実露光中の出力エネルギー算出値ｙ[i] と
その算出値ｙ[i] を制御量として発光したときのフォト
センサ６による露光量検出値との比の変動幅を求め、こ
の変動幅ｋより、例えばα＝ｋＥmax ／２のように算出
してもよい。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、露
光完了までに露光誤差を補正するために必要な露光補正
幅を求め、これをもとに最適なレーザの出力エネルギー
および総露光パルス数を決定することにより、レーザ特
性や光学特性等により発生する露光誤差に対して、最良
のスループットで、かつ、露光量制御不能に陥らず高精
度な露光量制御を行なうことが可能となる。
光完了までに露光誤差を補正するために必要な露光補正
幅を求め、これをもとに最適なレーザの出力エネルギー
および総露光パルス数を決定することにより、レーザ特
性や光学特性等により発生する露光誤差に対して、最良
のスループットで、かつ、露光量制御不能に陥らず高精
度な露光量制御を行なうことが可能となる。
【図１】 本発明の第一の実施例に係わる露光装置の概
略構成図である。
略構成図である。
【図２】 照度ムラ除去器の例を示す図である。
【図３】 本発明の第一の実施例に係わる露光誤差要因
と平均出力エネルギーＥ0 の関係を示す図である。
と平均出力エネルギーＥ0 の関係を示す図である。
【図４】 図１の装置における露光アルゴリズムを表わ
す図である。
す図である。
【図５】 従来例の露光アルゴリズムを表わす図であ
る。
る。
【符号の説明】 １：レーザ光源、２：レチクル、３：投影光学系、４：
ウエハ、５：ハーフミラー、６：フォトセンサー、７：
センサーアンプ、８：ＣＰＵ、９：光学系。
ウエハ、５：ハーフミラー、６：フォトセンサー、７：
センサーアンプ、８：ＣＰＵ、９：光学系。
Claims (6)
- 【請求項１】 光源としてパルスレーザを用い、パルス
レーザを複数回パルス発光させることにより被照射体を
露光する装置において、パルスレーザの出力エネルギー
制御手段と、パルスレーザのパルス毎の露光量検出手段
と、該露光量検出手段より求めた露光量をもとにパルス
レーザの次パルス以降の出力エネルギー値を演算する手
段を具備し、露光完了までに露光誤差を補正するために
必要な露光補正幅を求め、これと所要露光量とをもとに
レーザの平均出力エネルギーおよび露光パルス数を決定
し、露光量制御を行なうことを特徴とする露光量制御方
式。 - 【請求項２】 上記露光誤差の発生要因として、照度ム
ラを除去することを目的とした照度ムラ除去器の駆動に
伴う被照射体への露光エネルギー変動を含む請求項１に
記載の露光量制御方式。 - 【請求項３】 上記露光誤差の発生要因として、レーザ
の出力ばらつきを含む請求項１に記載の露光量制御方
式。 - 【請求項４】 光源としてパルスレーザを用い、パルス
レーザを複数回パルス発光させることにより被照射体を
露光する装置において、露光完了までに露光誤差を補正
するために必要な露光補正幅を求め、これと露光完了ま
でに必要な露光量とをもとにレーザの１パルス当たりの
平均出力エネルギーおよび露光パルス数を決定する手段
と、パルスレーザの出力エネルギー制御手段と、パルス
レーザのパルス毎の露光量検出手段と、該露光量検出手
段より求めた累算露光量と残露光パルス数をもとにパル
スレーザの次パルス以降の出力エネルギー値を演算する
手段とを具備することを特徴とする露光装置。 - 【請求項５】 前記露光補正幅を、前記出力エネルギー
制御手段が前記パルスレーザを最大出力エネルギーで発
光させるべく出力制御して複数回パルス発光させたとき
の前記露光量検出手段の検出値の変動幅の１／２に設定
し、前記平均出力エネルギーを前記検出値の最大値から
前記露光補正幅を差し引いた値に設定することを特徴と
する請求項４に記載の露光装置。 - 【請求項６】 光源としてパルスレーザを用い、パルス
レーザを複数回パルス発光させることにより被照射体を
露光する方法において、露光完了までに露光誤差を補正
するために必要な露光補正幅を求め、これと露光完了ま
でに必要な露光量とをもとにレーザの１パルス当たりの
平均出力エネルギーおよび露光パルス数を決定し、レー
ザの１パルス毎の出力エネルギーを制御してパルス発光
させ、１パルス発光毎の露光量を検出して累算し、累算
露光量と残露光パルス数をもとにパルスレーザの次パル
ス以降の出力エネルギー値を演算して次にパルス発光す
べきレーザの出力エネルギーを算出することを特徴とす
る露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8091742A JPH09260268A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 露光量制御方式ならびに露光装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8091742A JPH09260268A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 露光量制御方式ならびに露光装置および方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09260268A true JPH09260268A (ja) | 1997-10-03 |
Family
ID=14034990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8091742A Pending JPH09260268A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 露光量制御方式ならびに露光装置および方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09260268A (ja) |
-
1996
- 1996-03-22 JP JP8091742A patent/JPH09260268A/ja active Pending
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