JPH09259423A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents

Magnetic recording medium and its production

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JPH09259423A
JPH09259423A JP6348396A JP6348396A JPH09259423A JP H09259423 A JPH09259423 A JP H09259423A JP 6348396 A JP6348396 A JP 6348396A JP 6348396 A JP6348396 A JP 6348396A JP H09259423 A JPH09259423 A JP H09259423A
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JP
Japan
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protective film
film
plasma
spherical
recording medium
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Application number
JP6348396A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Kurihara
研一 栗原
Masafumi Ata
誠文 阿多
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH09259423A publication Critical patent/JPH09259423A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a protective film excellent in mechanical strength by plasma- polymerizing Fullerene (spherical carbons) or its deriv. on a magnetic layer. SOLUTION: A magnetic layer, a protective layer and a lubricant layer are successively formed on a nonmagnetic substrate. The protective film has a structure formed by polymerizing Fullerene represented by Cn [where (n) is an integer capable of geometrically forming a spherical compd., e.g. 60, 70, 76 or 84] by addition bonding. This Cn polymerized structure is represented by the molecular formula (Cn+j )x [where (j) is a multiple of both -10 to +10 and 2 and shows the number of carbon atoms fallen form or added to a simple substance of Cn and (x) is a positive integer].

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フラーレンと称さ
れる球状炭素類またはその誘導体を保護膜の原料とする
磁気記録媒体及びその製造方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a magnetic recording medium using spherical carbons called fullerene or a derivative thereof as a raw material for a protective film, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】ダイヤモンド、グラファイトに次ぐ第3
の結晶炭素として、球状炭素化合物であるフラーレンの
存在が明かとされ、マクロ量の合成法が確率されたのは
1990年になってからである。
2. Description of the Related Art The third after diamond and graphite
It was only in 1990 that the presence of fullerene, which is a spherical carbon compound, was revealed as the crystalline carbon of, and a macroscopic synthesis method was established.

【0003】フラーレンは炭素のみからなる一連の球状
炭素化合物(Higher Fullereness)
の総称であり、12個の5員環と12個またはそれ以上
の6員環を含んでいる。すなわち、60個、70個、7
6個あるいは84個等(炭素数は幾何学的に球状構造を
形成し得る数から選択される)の炭素原子が球状に結合
してクラスターを構成してなる球状炭素Cnであって、
それぞれC60、C70、C76あるいはC84等のように表さ
れる。
[0003] Fullerenes are a series of spherical carbon compounds consisting only of carbon (Higher Fullerness).
And includes 12 5-membered rings and 12 or more 6-membered rings. That is, 60, 70, 7
A spherical carbon C n having 6 or 84 carbon atoms (the number of carbon atoms is selected from the number capable of geometrically forming a spherical structure) bonded in a spherical shape to form a cluster,
They are represented as C 60 , C 70 , C 76, C 84, etc., respectively.

【0004】例えばC60は、正二十面体の頂点を全て切
り落として正五角形を出した“切頭二十面体”と呼ばれ
る多面体構造を有し、図5に図示するように、この多面
体の60個の頂点を全て炭素原子Cで置換したクラスタ
ーであり、公式サッカーボール様の分子構造を有する。
また、C70は、図6に示すようないわばラグビーボール
様の分子構造を示し、C76あるいはC84等も同様な構造
を有する。
For example, C 60 has a polyhedral structure called a "truncated icosahedron" in which all the vertices of a regular icosahedron are cut off to form a regular pentagon. As shown in FIG. It is a cluster in which all the vertices are replaced with carbon atoms C, and has a formal soccer ball-like molecular structure.
Further, C 70 has a so-called rugby ball-like molecular structure as shown in FIG. 6, and C 76, C 84 and the like have the same structure.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のフラ
ーレンは、その用途を巡って各方面で研究が進められて
おり、その用途の一つとして磁気記録媒体用の保護膜の
原料が考えられている。
By the way, the above-mentioned fullerenes have been studied in various fields for their uses, and one of the uses is thought to be a raw material for a protective film for a magnetic recording medium. There is.

【0006】一般に、磁気記録媒体では磁性層側の表面
が磁気ヘッドに高速摺動されることから、その摺動に対
する耐久性を付与する目的で磁性層上に保護膜が設けら
れる。
Generally, in a magnetic recording medium, the surface on the magnetic layer side is slid on the magnetic head at a high speed. Therefore, a protective film is provided on the magnetic layer for the purpose of imparting durability against the sliding.

【0007】この磁気記録媒体用の保護膜としては、こ
れまで炭素原子がアモルファス状に分布しているものが
使用されている。このアモルファス状のカーボン保護膜
は、グラファイトとダイヤモンドの中間的な性質を有す
る。
As the protective film for the magnetic recording medium, one having carbon atoms distributed in an amorphous form has been used so far. This amorphous carbon protective film has an intermediate property between graphite and diamond.

【0008】このようなカーボン保護膜の成膜方法とし
ては、一般的にはスパッタリング法が用いられる。この
スパッタリング法では、黒鉛あるいはグラファイト等の
ターゲットにAr等の不活性ガスをイオン化して衝突さ
せ、その衝突エネルギーによって炭素原子を外部に放出
させ、放出した炭素原子を、磁性層表面に被着させるこ
とでカーボン膜を成膜する。
As a method for forming such a carbon protective film, a sputtering method is generally used. In this sputtering method, an inert gas such as Ar is ionized and collided with graphite or a target such as graphite, carbon atoms are released to the outside by the collision energy, and the released carbon atoms are deposited on the surface of the magnetic layer. As a result, a carbon film is formed.

【0009】このスパッタリング法では、原料が炭素原
子のみからなるため、成膜される保護膜中に、原料に由
来した不純物の混入がなく、また比較的簡単に成膜が行
えるといった長所を有する。しかし、成膜レートが非常
に遅いといった欠点があり、生産性の点で問題がある。
In this sputtering method, since the raw material is composed only of carbon atoms, there are advantages that impurities derived from the raw material are not mixed in the protective film to be formed and the film can be relatively easily formed. However, there is a drawback that the film forming rate is very slow, and there is a problem in terms of productivity.

【0010】一方、成膜レートが速いことから最近注目
されている成膜方法としてCVD(chemical
vapor deposition)法がある。
On the other hand, as a film forming method which has recently received attention because of its high film forming rate, CVD (chemical) is used.
There is a vapor deposition method.

【0011】このCVD法では、生成させようとする固
体生成物元素を含む原料ガス(この場合には、炭素を生
成させるため例えばCH4ガスなどが用いられる)とキ
ャリアガスとの混合ガスを、熱あるいはプラズマ等を利
用して反応させ、この反応によって生成された炭素原子
を磁性層表面に被着させ、カーボン保護膜を成膜する。
In this CVD method, a mixed gas of a source gas containing a solid product element to be produced (in this case, CH 4 gas or the like is used to produce carbon) and a carrier gas, A reaction is performed using heat or plasma, and carbon atoms generated by this reaction are deposited on the surface of the magnetic layer to form a carbon protective film.

【0012】このCVD法は、スパッタリング法に比べ
て5〜10倍程度の成膜レートが得られ、生産性を上げ
るには有利である。しかし、このCVD法にもいくつか
の問題点がある。例えば原料ガスの構成元素が炭素のみ
ではないために、炭素と分解し切れなかった水素等の他
元素が保護膜中に残存する、また排ガス処理が困難であ
るといったことである。
The CVD method can obtain a film formation rate about 5 to 10 times that of the sputtering method, and is advantageous for increasing productivity. However, this CVD method also has some problems. For example, since the constituent element of the raw material gas is not only carbon, other elements such as hydrogen that have not been decomposed into carbon remain in the protective film, and exhaust gas treatment is difficult.

【0013】この2種類の成膜方法が、現在、保護膜の
成膜方法として主に用いられており、このようにそれぞ
れ一長一短を有している。
These two types of film forming methods are currently mainly used as a method for forming a protective film, and each has its advantages and disadvantages.

【0014】これらの成膜方法での問題点を解消するも
のとして、先に示したフラーレンの使用が有望である。
As a solution to the problems in these film forming methods, the use of fullerenes shown above is promising.

【0015】まず、フラーレンは、炭素原子のみからな
ることから、成膜される保護膜中に炭素以外の元素を混
入させることがほとんどない。
First, since fullerene is composed of only carbon atoms, elements other than carbon are rarely mixed in the protective film to be formed.

【0016】また、フラーレンの球状分子同士の間には
ファンデルワールス力のみしか作用していないため、黒
鉛あるいはグラファイト等と異なり550℃程度の比較
的低温で昇華させることができる。
Further, since only the van der Waals force acts between the fullerene spherical molecules, it can be sublimated at a relatively low temperature of about 550 ° C. unlike graphite or graphite.

【0017】したがって、フラーレンを昇華源として蒸
着形成すれば、純度の高いカーボン保護膜を速い成膜レ
ートで成膜することが可能である。
Therefore, if fullerene is formed by vapor deposition using a sublimation source, it is possible to form a high-purity carbon protective film at a high film formation rate.

【0018】しかしながら、フラーレンの分子同士の間
は前述の如くファンデルワールス力のみしか作用してい
ない。このため、蒸着膜として成膜された状態で機械的
強度が弱く、剥離、膜の削れ等が起き易い。このことは
保護膜としては致命的な欠点である。
However, only the van der Waals force acts between the fullerene molecules as described above. For this reason, the mechanical strength of the film formed as a vapor deposition film is weak, and peeling and film abrasion are likely to occur. This is a fatal defect as a protective film.

【0019】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、純度が高く機械的強度に
優れた保護膜が速い成膜レートで成膜され、良好な走行
性、耐久性が得られるとともに生産性に優れた磁気記録
媒体及びその製造方法を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and a protective film having high purity and excellent mechanical strength is formed at a high film forming rate, and good running property, An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium which is durable and has excellent productivity, and a method for manufacturing the same.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成せんものと様々な角度から鋭意検討を重ねてき
た。その結果、Cnなる分子式で表される球状炭素類ま
たはその誘導体を、不活性ガスプラズマ中で蒸着させる
と、球状炭素類同士が重合し、機械的強度に優れたプラ
ズマ重合膜が得られるとの知見を得るに至った。
The present inventors have made intensive studies from various angles with the object of achieving the above object. As a result, when spherical carbons represented by the molecular formula C n or a derivative thereof is vapor-deposited in an inert gas plasma, the spherical carbons are polymerized with each other to obtain a plasma polymerized film having excellent mechanical strength. Came to obtain the knowledge of.

【0021】本発明は、このような知見に基づいて完成
されたものである。
The present invention has been completed based on these findings.

【0022】すなわち、本発明の磁気記録媒体は、非磁
性支持体上に、磁性層、保護膜及び潤滑剤層が順次形成
されてなり、上記保護膜は、Cn(但し、nは幾何学的
に球状化合物を形成し得る整数である。)で表される球
状炭素類またはその誘導体が、付加結合によって重合し
た構造を有することを特徴とするものである。
That is, the magnetic recording medium of the present invention comprises a magnetic layer, a protective film and a lubricant layer formed in this order on a non-magnetic support, and the protective film is made of C n (where n is a geometrical value). It is an integer capable of forming a spherical compound.), Or a spherical carbon or derivative thereof having a structure polymerized by an addition bond.

【0023】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、非磁性支持体上に磁性層を形成した後、Cn(但
し、nは幾何学的に球状化合物を形成し得る整数であ
る。)で表される球状炭素類またはその誘導体を昇華源
としてプラズマ重合を行うことによって、保護膜を成膜
した後、潤滑剤を塗布することを特徴とするものであ
る。
Further, in the method for producing a magnetic recording medium of the present invention, after forming a magnetic layer on a non-magnetic support, C n (where n is an integer capable of geometrically forming a spherical compound). ) A spherical carbon or a derivative thereof represented by the formula (4) is used for plasma polymerization using a sublimation source to form a protective film, and then a lubricant is applied.

【0024】球状炭素類またはその誘導体のプラズマ重
合では、CVD法と同等以上の成膜レートが得られ、そ
の一方、CVD法のように保護膜中に炭素以外の元素が
混入したり排ガス処理の問題が生じることがない。しか
も、成膜された膜は、分子同士が付加重合していること
から、真空蒸着によって形成された蒸着膜に比べて機械
的強度に優れている。
In the plasma polymerization of spherical carbons or their derivatives, a film formation rate equal to or higher than that of the CVD method can be obtained. On the other hand, unlike the CVD method, elements other than carbon are mixed in the protective film or exhaust gas treatment is performed. There is no problem. Moreover, the formed film is superior in mechanical strength to the vapor-deposited film formed by vacuum vapor deposition because the molecules are addition-polymerized with each other.

【0025】したがって、球状炭素類またはその誘導体
のプラズマ重合によって保護膜が形成され、この保護膜
上に潤滑剤層が形成された磁気記録媒体は、良好な走行
性、耐久性を得ることができ、また高い生産性が得られ
る。
Therefore, a magnetic recording medium in which a protective film is formed by plasma polymerization of spherical carbons or derivatives thereof and a lubricant layer is formed on this protective film can obtain good running properties and durability. Also, high productivity can be obtained.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.

【0027】この実施の形態に係る磁気記録媒体は、非
磁性支持体上に、磁性層、保護膜及び潤滑剤層が順次形
成されてなり、特に上記保護膜は、Cn(但し、nは6
0,70,76,84等より選ばれる幾何学的に球状化
合物を形成し得る整数である。)で表される球状炭素類
が、付加結合によって重合した構造を有している。
In the magnetic recording medium according to this embodiment, a magnetic layer, a protective film and a lubricant layer are sequentially formed on a non-magnetic support, and in particular, the protective film is C n (where n is 6
It is an integer capable of forming a geometrically spherical compound selected from 0, 70, 76, 84 and the like. ) Has a structure in which spherical carbons represented by () are polymerized by an addition bond.

【0028】このCn重合構造は、(Cn+jx(但し、
nは60,70,76,84等より選ばれる幾何学的に
球状化合物を形成し得る整数であり、jは−10〜10
の2の倍数、xは正の整数である。)なる分子式で表さ
れる。ここでjの値は、Cn単体からの炭素の欠落また
は付加の数を表している。つまり、Cnから炭素の欠落
または付加により、C58、C56・・・、あるいはC62
が得られ、それらが重合するため、このCn重合構造は
必ずしもCnの整数倍が重合体の骨格となっているとは
限らない。
This C n polymer structure has a structure of (C n + j ) x (provided that
n is an integer that can form a geometrically spherical compound selected from 60, 70, 76, 84 and the like, and j is -10 to 10
X is a positive integer. ). Here, the value of j represents the number of carbons missing or added from the C n simple substance. That is, C 58 , C 56, ..., C 62, etc. are obtained by the lack or addition of carbon from C n , and these are polymerized. Therefore, this C n polymerized structure does not necessarily have an integer multiple of C n It is not always the skeleton of.

【0029】このようなCn重合構造は、種々の形態を
とることができ、C60の2量体の場合を例にすると、図
1に示すようなC120の構造の他、炭素の欠落によって
得られる、図2に示すようなC118の構造、あるいは図
3に示すようなC116の構造等が存在する。重合度が進
んだものは、これらの結合形態が混在しているものと考
えられる。
Such a C n polymerized structure can take various forms. For example, in the case of a C 60 dimer, in addition to the C 120 structure shown in FIG. There is a C 118 structure as shown in FIG. 2 or a C 116 structure as shown in FIG. Those having a higher degree of polymerization are considered to have a mixture of these bond forms.

【0030】この保護膜は、これらのCn重合構造のみ
によって形成されていてもよいが、この場合にはCn
合構造が共有結合により網目状に全体に広がっているも
のと推測される。また、Cn重合構造を部分的に有する
場合には、このCn重合構造がアモルファス状に分布
し、重合していない部分ではファン・デル・ワールス力
によって結合しあっているものと推測される。なお、こ
の保護膜においては、上記したCn重合構造とともに、
原料であるC60等のCn単体分子が混在していても良
い。
This protective film may be formed only by these C n polymerized structures, but in this case, it is presumed that the C n polymerized structures are spread over the whole in a network form by covalent bonds. Further, if it has a C n polymerized structure partially, the C n polymerized structure distributed in amorphous, the portion not polymerized is presumed that are bound together by van der Waals forces . In addition, in this protective film, together with the above C n polymerization structure,
C n simple molecule such as C 60 as a raw material may be mixed.

【0031】原料として使用する球状炭素類Cnの炭素
数nは、原料の入手の容易さ、膜の強度の点から60で
あるのが好適である。これ以外の球状炭素類によっても
重合膜を形成することはできるが、例えば炭素数nが7
0、76、84等の高次の球状炭素類によって成膜され
る重合膜は、C60によって成膜される重合膜に比べて機
械的強度が劣る。また、C60以外の球状炭素類は、生産
収量が大幅に減少し産業上あまり利用価値がない。この
球状炭素類Cnには、炭化水素、ハロゲン、水酸基ある
いはカルボキシル基等が付加していても良い。但し、こ
れらの付加数が多いと球状炭素類同士の重合に不利とな
る。保護膜の機械的強度という観点からは、この付加数
は少ない方が好ましい。
The carbon number n of the spherical carbons C n used as a raw material is preferably 60 from the viewpoint of easy availability of the raw material and strength of the film. The polymer film can be formed by using other spherical carbons, but the carbon number n is 7
The polymer film formed by high-order spherical carbons such as 0, 76, 84 has inferior mechanical strength as compared with the polymer film formed by C 60 . In addition, spherical carbons other than C 60 have a large decrease in production yield and are not very useful industrially. Hydrocarbons, halogens, hydroxyl groups, carboxyl groups or the like may be added to the spherical carbons C n . However, if the number of these additions is large, it becomes disadvantageous in the polymerization of spherical carbons. From the viewpoint of the mechanical strength of the protective film, it is preferable that the number of additions is small.

【0032】このような保護膜は、球状炭素類Cnまた
はその誘導体を昇華源としてプラズマ重合すること(気
相においてCn原料物質を昇華してプラズマを印加し、
n分子を重合させる。)によって成膜することができ
る。
Such a protective film is formed by plasma polymerization using spherical carbon C n or its derivative as a sublimation source (sublimates a C n raw material in a gas phase and applies plasma,
Polymerize C n molecules. Can be used to form a film.

【0033】球状炭素類Cnまたはその誘導体の最大の
利点は、分子同士の間にファンデルワールス力のみしか
作用していないことであり、黒鉛あるいはグラファイト
等と異なり550℃程度の比較的低温で昇華させること
が可能である。したがって、この球状炭素類Cnまたは
その誘導体を昇華源としてプラズマ重合することによっ
て、短時間に強固な膜を成膜することができる。
The greatest advantage of the spherical carbons C n or its derivative is that only the van der Waals force acts between the molecules, which is different from graphite or graphite at a relatively low temperature of about 550 ° C. It can be sublimated. Therefore, a strong film can be formed in a short time by plasma polymerization using the spherical carbons C n or its derivative as a sublimation source.

【0034】プラズマ発生の放電方式は、公知の直流放
電、低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電等の各種
方式が採用可能であり、また電極の種類及び放電発生方
式としては、内部電極方式、外部電極方式、導波管方
式、容量結合型、誘導結合型、無電極発振型等から選択
可能である。
Various types of known plasma discharge such as direct current discharge, low frequency discharge, high frequency discharge, microwave discharge, etc. can be adopted as the plasma generation discharge method, and the types of electrodes and the discharge generation method are the internal electrode method, An external electrode system, a waveguide system, a capacitive coupling type, an inductive coupling type, an electrodeless oscillation type, etc. can be selected.

【0035】プラズマ重合は、プラズマの均一性、安定
性等を向上させるという見地から、キャリアガスを併用
し、原料となる球状炭素類とキャリアガスの混合雰囲気
で行うのが望ましい。キャリアガスとしては、プラズマ
重合に一般に使用されているものがいずれも使用でき、
アルゴン、窒素、ヘリウム等が例示される。
From the standpoint of improving the uniformity and stability of plasma, it is desirable that the plasma polymerization be carried out in a mixed atmosphere of spherical carbons as a raw material and carrier gas together with a carrier gas. As the carrier gas, any of those commonly used in plasma polymerization can be used,
Examples include argon, nitrogen and helium.

【0036】放電条件は、直流放電ではガス圧力、電極
間距離、電圧の関係を示すパッシェンの法則が成立する
範囲、交流放電では放電可能範囲であれば重合に問題は
ない。ガス圧が好ましくは13パスカル(100mT)
以下である。
As for the discharge conditions, there is no problem in polymerization if the direct current discharge is within a range where the Paschen's law, which shows the relationship between the gas pressure, the electrode distance, and the voltage, is satisfied, and the alternating current discharge is within the dischargeable range. Gas pressure is preferably 13 Pascal (100 mT)
It is as follows.

【0037】本発明の磁気記録媒体には以上のような保
護膜が設けられ、さらにこの保護膜上に潤滑剤層が形成
される。磁気記録媒体の走行性、耐久性を改善するに
は、保護膜を形成するだけでは不十分であり、潤滑剤層
の併用が必須である。
The magnetic recording medium of the present invention is provided with the protective film as described above, and the lubricant layer is further formed on the protective film. In order to improve the running property and durability of the magnetic recording medium, it is not enough to form the protective film, and it is necessary to use the lubricant layer together.

【0038】この潤滑剤としては、例えばR−A(但
し、Rは疎水基であり、Aは親水基である。)あるいは
1−A−R2(但し、R1,R2は疎水基であり、Aは親
水基である。)で表される両親媒性化合物が用いられ
る。
Examples of the lubricant include RA (where R is a hydrophobic group and A is a hydrophilic group) or R 1 -A-R 2 (where R 1 and R 2 are hydrophobic groups). And A is a hydrophilic group) is used.

【0039】なお、この化合物において、疎水基R,R
1,R2としては、CH3(CH2m−,CH3(CH2m
−C64−(CH2n−,CF3(CF2m−(CH2
n−(但し、m,nは1以上の整数である)等が導入さ
れる。
In this compound, the hydrophobic groups R, R
1 and R 2 are CH 3 (CH 2 ) m −, CH 3 (CH 2 ) m
-C 6 H 4 - (CH 2 ) n -, CF 3 (CF 2) m - (CH 2)
n − (where m and n are integers of 1 or more) and the like are introduced.

【0040】また、親水基Aとしては、R−Aでは−S
i(OR33(但し、R3はCH3,C25である),−
SiCl3,−Ti(OR33(但し、R3はCH3,C2
5である),−COOH,−OH,−NH2等が導入さ
れ、R1−A−R2では−COO−、−CONH−等が導
入される。
The hydrophilic group A is -S in RA.
i (OR 3 ) 3 (provided that R 3 is CH 3 , C 2 H 5 ), −
SiCl 3, -Ti (OR 3) 3 ( where, R 3 is CH 3, C 2
H 5 a is), - COOH, -OH, -NH 2 or the like is introduced, the R 1 -A-R 2 -COO - , - CONH- , etc. is introduced.

【0041】磁気記録媒体を構成する他の材料、例えば
非磁性支持体や磁性層の材料としては、通常用いられて
いるものがいずれも使用可能である。
As the other material constituting the magnetic recording medium, for example, the material of the non-magnetic support or the magnetic layer, any of those usually used can be used.

【0042】例えば、非磁性支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート,ポリエチレン−2,6−ナフタレ
ート等のポリエステル類、ポリエチレン,ポリプロピレ
ン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート,
セルロースダイアセテート,セルローストリアセテート
ブチレート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル,ポ
リ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート
類、ポリアミドイミド類に代表されるような高分子材料
や、アルミニウム合金、チタン合金等からなる金属板、
アルミナガラス、セラミックス等により形成される支持
体等が挙げられる。その形態も何ら限定されるものでは
なく、テープ状、シート状、ドラム状等いかなる形態で
あってもよい。
For example, as the non-magnetic support, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, cellulose triacetate,
From cellulose derivatives such as cellulose diacetate and cellulose triacetate butyrate, vinyl resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, polymer materials such as polycarbonates and polyamideimides, aluminum alloys, titanium alloys, etc. Become a metal plate,
Examples of the support include a support formed of alumina glass, ceramics, and the like. The form is not limited at all, and may be any form such as a tape form, a sheet form, and a drum form.

【0043】金属磁性薄膜は、メッキあるいはスパッタ
リング,真空蒸着等のPVD(物理的蒸着)の手法によ
り連続膜として形成することができる。この金属磁性薄
膜としては、Fe,Co,Ni,Co−Ni系合金、C
o−Pt系合金、Co−Pt−Ni系合金、Fe−Co
系合金、Fe−Ni系合金、Fe−Co−Ni系合金、
Fe−Ni−B系合金、Fe−Co−B系合金、Fe−
Co−Ni−B系合金等からなる金属磁性薄膜等が例示
される。この場合、金属磁性薄膜の膜厚は50nm〜2
00nm程度であることが望ましい。
The metal magnetic thin film can be formed as a continuous film by a PVD (physical vapor deposition) method such as plating, sputtering, or vacuum vapor deposition. As the metal magnetic thin film, Fe, Co, Ni, Co-Ni based alloy, C
o-Pt-based alloy, Co-Pt-Ni-based alloy, Fe-Co
Alloys, Fe-Ni alloys, Fe-Co-Ni alloys,
Fe-Ni-B type alloy, Fe-Co-B type alloy, Fe-
An example is a magnetic metal thin film made of a Co-Ni-B alloy or the like. In this case, the thickness of the metal magnetic thin film is 50 nm to 2
It is preferably about 00 nm.

【0044】[0044]

【実施例】以下、本発明を適用した実施例について、具
体的な実験データを参照しながら詳細に説明する。
EXAMPLES Examples to which the present invention is applied will be described below in detail with reference to specific experimental data.

【0045】プラズマ重合装置 本発明においては、保護膜の成膜に際して各種プラズマ
重合装置が使用可能であるが、ここでは本実施例におい
て使用した平行平板電極式容量結合型のプラズマ装置の
構成について説明する。
Plasma Polymerization Device In the present invention, various plasma polymerization devices can be used for forming the protective film. Here, the configuration of the parallel plate electrode type capacitively coupled plasma device used in this embodiment will be described. To do.

【0046】図4は、本実施例で用いた平行平板電極式
容量結合型のプラズマ重合装置を示すものである。
FIG. 4 shows a parallel plate electrode type capacitively coupled plasma polymerization apparatus used in this embodiment.

【0047】このプラズマ重合装置は、容量約20リッ
トルの反応器1を備え、この反応器1にはガス供給管
2,3が設けられている。また、反応器1の底部には、
油拡散ポンプ4やロータリーポンプ5,6、液体窒素ト
ラップ7,8等から構成される真空排気系に連結された
排気口9が設けられている。
This plasma polymerization apparatus comprises a reactor 1 having a capacity of about 20 liters, and the reactor 1 is provided with gas supply pipes 2 and 3. Also, at the bottom of the reactor 1,
An exhaust port 9 connected to a vacuum exhaust system including an oil diffusion pump 4, rotary pumps 5 and 6, liquid nitrogen traps 7 and 8 is provided.

【0048】上記反応器1内には、プラズマ発生用電極
10,11が10cmの間隔を隔てて平行に配置され、
一方の電極10はインピーダンス整合器12を介してプ
ラズマ電源13に接続されている。また、上部の電極1
0からはキャリアガスがシャワー状にこれらの電極1
0,11間に導入されるようになっている。なお、ここ
では、キャリアガスとしてArガスまたはHeガスを使
用した。
In the reactor 1, plasma generating electrodes 10 and 11 are arranged in parallel at an interval of 10 cm,
One electrode 10 is connected to a plasma power supply 13 via an impedance matching device 12. Also, the upper electrode 1
Carrier gas in the form of a shower from 0
It is designed to be introduced between 0 and 11. Here, Ar gas or He gas was used as the carrier gas.

【0049】さらに、上記電極10,11間には、フラ
ーレン昇華用のモリブデンボート14及び試料15が1
0cmの間隔を隔てて対向して配置されており、モリブ
デンボート14には直流電源16が接続されている。
Further, a molybdenum boat 14 and a sample 15 for sublimation of fullerene are placed between the electrodes 10 and 11.
The molybdenum boat 14 is connected to the molybdenum boat 14 with a direct current power supply 16 connected to each other with a space of 0 cm therebetween.

【0050】プラズマ電源13の出力は、交流13.5
MHzのラジオ波である。ここでは、この出力を10W
から100Wまで変化させ、13.5パスカルに設定し
たキャリアガス一定流量系にてプラズマを発生させ、こ
のプラズマ中にモリブデンボート14に入れたフラーレ
ンを昇華させてプラズマ重合を行った。なお、重合中の
膜厚は、センサー17により連続的にモニターした。
The output of the plasma power supply 13 is AC 13.5.
It is a radio wave of MHz. Here, this output is 10W
To 100 W, plasma was generated in a carrier gas constant flow rate system set to 13.5 Pascal, and fullerene contained in the molybdenum boat 14 was sublimated in the plasma to perform plasma polymerization. The film thickness during the polymerization was continuously monitored by the sensor 17.

【0051】原料物質であるフラーレンは、He雰囲気
中、カーボングラファイト棒を電極として用いて直流ア
ーク放電を発生させ、その際に生成するススの中から得
た。すすの生成条件は、印加電圧が60V、放電電流が
200A、Heガス圧が100Torrである。
Fullerene, which is a raw material, was obtained from the soot produced at that time by generating a DC arc discharge using a carbon graphite rod as an electrode in a He atmosphere. The conditions for producing soot are an applied voltage of 60 V, a discharge current of 200 A, and a He gas pressure of 100 Torr.

【0052】このようにして生成したススから、ベンゼ
ンまたはトルエン等の有機溶媒による抽出によってCn
の混合物が得られる。このCnの混合物を、ベンゼンま
たはトルエンを展開溶媒としてシリカゲルカラムにか
け、C60あるいはC70等を分離した。そして、各分離抽
出液を乾燥することでプラズマ重合の原料を得た。
[0052] From soot generated in this manner, C n by extraction with an organic solvent such as benzene or toluene
Is obtained. The mixture of C n was applied to a silica gel column using benzene or toluene as a developing solvent to separate C 60 or C 70 . Then, each separated extract was dried to obtain a raw material for plasma polymerization.

【0053】実施例1 10μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に
斜方蒸着法によりCo−Ni系合金を被着させ、膜厚1
00nmの金属磁性薄膜を形成し、長さ20cm、幅8
mmの裁断した。
Example 1 A Co-Ni-based alloy was deposited on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 10 μm by an oblique vapor deposition method to give a film thickness of 1
A metal magnetic thin film of 00 nm is formed, length 20 cm, width 8
It was cut into mm.

【0054】この金属磁性薄膜表面に、C60フラーレン
単独を昇華源として、上述のプラズマ重合装置を用いて
厚さ10nmのプラズマ重合膜(保護膜)を成膜した。
なお、プラズマは、Arガスプラズマであり、10Wの
出力で発生させた。
A plasma-polymerized film (protective film) having a thickness of 10 nm was formed on the surface of the metal magnetic thin film by using C 60 fullerene alone as a sublimation source and using the plasma polymerization apparatus described above.
The plasma was Ar gas plasma and was generated at an output of 10W.

【0055】次いで、この保護膜上に、ヘプチルステア
レートのトルエン溶液をヘプチルステアレートの塗布量
が5mg/m2となるように塗布することで潤滑剤層を
形成し、サンプルテープを作製した。
Next, a toluene solution of heptyl stearate was applied on the protective film so that the amount of heptyl stearate applied was 5 mg / m 2 , to form a lubricant layer, and a sample tape was prepared.

【0056】実施例2〜実施例6 プラズマ重合膜を成膜するに際して、プラズマ電源の出
力を表1に示すように変えたこと以外は実施例1と同様
にしてサンプルテープを作製した。
Examples 2 to 6 Sample tapes were prepared in the same manner as in Example 1 except that the output of the plasma power source was changed as shown in Table 1 when forming the plasma polymerized film.

【0057】実施例7 プラズマ重合膜を成膜するに際して、40Wの出力でH
eガスプラズマを発生させたこと以外は実施例1と同様
にしてサンプルテープを作製した。
Example 7 At the time of forming a plasma polymerized film, H at an output of 40 W was used.
A sample tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that e-gas plasma was generated.

【0058】実施例8,実施例9 プラズマ重合膜を成膜するに際して、プラズマ電源の出
力を表1に示すように変えたこと以外は実施例7と同様
にしてサンプルテープを作製した。
Examples 8 and 9 Sample tapes were produced in the same manner as in Example 7 except that the output of the plasma power source was changed as shown in Table 1 when forming the plasma polymerized film.

【0059】実施例10 プラズマ重合膜を成膜するに際して、C60とC70を5:
5(モル比)なる割合で混合した混合物(C60/C70
ラーレン)を昇華源として用い、60Wの出力でArガ
スプラズマを発生させたこと以外は、実施例1と同様に
してサンプルテープを作製した。
Example 10 When forming a plasma polymerized film, C 60 and C 70 were set to 5:
A sample tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixture (C 60 / C 70 fullerene) mixed at a ratio of 5 (molar ratio) was used as a sublimation source and Ar gas plasma was generated at an output of 60 W. It was made.

【0060】実施例11 プラズマ重合膜を成膜するに際して、C70フラーレン単
独を昇華源として用い、60Wの出力でArガスプラズ
マを発生させたこと以外は、実施例1と同様にしてサン
プルテープを作製した。
Example 11 A sample tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that C 70 fullerene was used alone as a sublimation source to form a plasma polymerized film, and Ar gas plasma was generated at an output of 60 W. It was made.

【0061】実施例12 プラズ重合膜を成膜するに際して、C60とC76を5:5
(モル比)なる割合で混合した混合物(C60/C76フラ
ーレン)を昇華源として用い、60Wの出力でArガス
プラズマを発生させたこと以外は、実施例1と同様にし
てサンプルテープを作製した。
Example 12 C 60 and C 76 were mixed in a ratio of 5: 5 when forming a plasm polymer film.
A sample tape was produced in the same manner as in Example 1 except that a mixture (C 60 / C 76 fullerene) mixed at a ratio (molar ratio) was used as a sublimation source and Ar gas plasma was generated at an output of 60 W. did.

【0062】実施例13 プラズ重合膜を成膜するに際して、C60:C84を5:5
(モル比)なる割合で混合した混合物(C60/C84フラ
ーレン)を昇華源として用い、60Wの出力でArガス
プラズマを発生させたこと以外は、実施例1と同様にし
てサンプルテープを作製した。
Example 13 When forming a plas-polymerized film, C 60 : C 84 was changed to 5: 5.
A sample tape was produced in the same manner as in Example 1 except that a mixture (C 60 / C 84 fullerene) mixed at a ratio (molar ratio) was used as a sublimation source and Ar gas plasma was generated at an output of 60 W. did.

【0063】[0063]

【表1】 [Table 1]

【0064】比較例1 プラズマ重合膜を成膜する代わりに、C60フラーレン単
独を昇華源として10-3パスカルの真空下で蒸着を行
い、保護膜を成膜したこと以外は、実施例1と同様にし
てサンプルテープを作製した。
Comparative Example 1 Instead of forming a plasma-polymerized film, vapor deposition was performed under a vacuum of 10 −3 Pascal using C 60 fullerene alone as a sublimation source, and the protective film was formed. A sample tape was produced in the same manner.

【0065】比較例2 プラズマ重合膜を成膜する代わりに、スパッタリング法
によってカーボン保護膜を成膜した。
Comparative Example 2 Instead of forming a plasma polymerized film, a carbon protective film was formed by a sputtering method.

【0066】比較例3 プラズマ重合膜を成膜する代わりに、CVD法によって
カーボン保護膜を成膜した。
Comparative Example 3 Instead of forming a plasma polymerized film, a carbon protective film was formed by a CVD method.

【0067】比較例4 プラズマ重合膜上に、潤滑剤を塗布しないこと以外は実
施例1と同様にしてサンプルテープを作製した。
Comparative Example 4 A sample tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lubricant was not applied on the plasma polymerized film.

【0068】以上のようにして作製したサンプルテープ
について、摩擦係数、スチル特性及びひっかき強度の測
定を行った。その結果を表2に示す。なお、これらの測
定方法は下記の通りである。
With respect to the sample tape manufactured as described above, the friction coefficient, still characteristics and scratch strength were measured. Table 2 shows the results. In addition, these measuring methods are as follows.

【0069】摩擦係数:サンプルテープのステンレスガ
イドピンに対する摩擦係数であり、シャトル走行を20
0回行ったときの200回目の摩擦係数を示す。この数
値が小さい程、摩擦が低く、走行性が良いことを表す。
Friction coefficient: This is the coefficient of friction of the sample tape with respect to the stainless steel guide pin, and is 20 when the shuttle travels.
It shows the coefficient of friction at the 200th time when it is performed 0 times. The smaller the value, the lower the friction and the better the running performance.

【0070】スチル特性:8mmビデオデッキを耐久性
試験用に改造したものを使用した。この耐久性試験用の
ビデオデッキは、回転ドラムと記録再生システムを有
し、サンプルテープの同一部分のみの出力変化がモニタ
されるようになっている。このデッキによって、出力が
再生1回目の半分の値になるまでの時間(分)を測定し
た。この数値が大きい程、耐久性が良いことを示す。な
お、測定は最長120分とした。
Still characteristics: An 8 mm video deck modified for a durability test was used. The video deck for durability test has a rotating drum and a recording / reproducing system, and the output change of only the same portion of the sample tape is monitored. Using this deck, the time (minutes) required for the output to reach half the value of the first reproduction was measured. The larger the value, the better the durability. The measurement was performed for a maximum of 120 minutes.

【0071】ひっかき強度:それぞれサンプルテープに
成膜したのと同じ条件で、ガラス板上に保護膜を成膜し
た。そして、この保護膜をピンセットで擦り、そのとき
の保護膜の傷の様子を目視で観察した。◎は傷がほとん
ど認められない場合、○はわずかに傷が認められるがほ
とんど問題がない場合、△は多少傷が認められる場合、
×は傷が多く見受けられ、耐久性の点で問題になる場合
を示す。
Scratch strength: A protective film was formed on a glass plate under the same conditions as when forming a film on each sample tape. Then, the protective film was rubbed with tweezers, and the state of scratches on the protective film at that time was visually observed. ◎: When scars are scarcely recognized, ○: Slight scratches are recognized but almost no problem, △: When scratches are slightly recognized,
X shows the case where many scratches are seen and becomes a problem in terms of durability.

【0072】[0072]

【表2】 [Table 2]

【0073】表2の結果から明らかなように、フラーレ
ンのプラズマ重合膜を保護膜として形成した実施例1〜
実施例13のサンプルテープは、フラーレンの蒸着膜を
保護膜として形成した比較例1のサンプルテープに比べ
て、強度の高い保護膜が形成されており、耐久性に優れ
ている。これは、フラーレンの蒸着膜では、フラーレン
分子同士の間でファンデルワールス力しか作用しないの
に対して、フラーレンのプラズマ重合膜の場合ではフラ
ーレン分子同士で付加重合が起こっており、強固な膜を
形成するからである。
As is clear from the results of Table 2, Examples 1 to 1 in which a plasma-polymerized film of fullerene was formed as a protective film
The sample tape of Example 13 has a protective film having higher strength than the sample tape of Comparative Example 1 in which a vapor deposition film of fullerene is formed as a protective film, and is excellent in durability. This is because in a fullerene vapor deposited film, only van der Waals force acts between fullerene molecules, whereas in the case of a fullerene plasma polymerized film, addition polymerization occurs between fullerene molecules and a strong film is formed. It is because it forms.

【0074】これらのプラズマ重合膜は、比較例2で形
成したスパッタカーボン膜あるいは比較例3で形成した
CVDカーボン膜と比較しても、同等の強度、耐久性を
有している。
These plasma-polymerized films have the same strength and durability as the sputter carbon film formed in Comparative Example 2 or the CVD carbon film formed in Comparative Example 3.

【0075】ここで、スパッタリング法は成膜レートが
低く、またCVD法は膜の純度が低いことと排ガス処理
の問題がある。一方、フラーレンのプラズマ重合ではC
VD法と同等の成膜レートが得られ、短時間に純度の高
い重合膜を成膜することができ、しかも成膜された薄膜
は強度、耐久性に優れている。つまり、フラーレンのプ
ラズマ重合膜は、機械的特性と生産性のいずれの点にお
いても優れたものであると言える。
Here, the sputtering method has a low film formation rate, and the CVD method has a problem of low film purity and exhaust gas treatment. On the other hand, in plasma polymerization of fullerene, C
A film formation rate equivalent to that of the VD method can be obtained, a high-purity polymer film can be formed in a short time, and the formed thin film has excellent strength and durability. That is, it can be said that the fullerene plasma-polymerized film is excellent in both mechanical properties and productivity.

【0076】但し、プラズマ重合膜上に潤滑剤を塗布し
ていない比較例4のサンプルテープは、摩擦係数が高
く、スチル耐久性も劣っている。このことから、プラズ
マ重合膜を磁気記録媒体の保護膜として用いるには、潤
滑剤の併用が必須であることがわかる。
However, the sample tape of Comparative Example 4 in which the lubricant was not applied on the plasma polymerized film had a high friction coefficient and poor still durability. From this, it can be seen that the use of the lubricant is indispensable for using the plasma polymerized film as the protective film of the magnetic recording medium.

【0077】なお、さらに詳細に実験データを見ると、
特に実施例4〜実施例6あるいは実施例8,実施例9の
ように、高いプラズマパワーで形成された重合膜は、よ
り優れた強度、耐久性が得られているのがわかる。ま
た、実施例7〜実施例9のように、Heガスをプラズマ
に用いてもArガスを使用した場合と同等の特性が得ら
れている。
Looking at the experimental data in more detail,
It can be seen that particularly the polymer films formed with high plasma power as in Examples 4 to 6 or Examples 8 and 9 have more excellent strength and durability. Further, as in Examples 7 to 9, even when He gas is used for plasma, the same characteristics as when Ar gas is used are obtained.

【0078】実施例10〜実施例13では、昇華源とし
てC60にC70あるいはC76等の高次フラーレンを混合し
たもの、あるいはこれらの高次フラーレンを単独で使用
している。これらのプラズマ重合膜も、比較例1のフラ
ーレン蒸着膜に比べれば強度は高いものの、C60を単独
で使用して成膜されたプラズマ重合膜に比べると、スチ
ル特性あるいはひっかき強度が劣っている。これは、実
験によって確認されているがC60に比べてC70あるいは
76等の高次フラーレンではフラーレン分子同士の重合
が起こり難いからである。また、C70等の高次フラーレ
ンは、生産収量が非常に少ないため、工業的観点からも
不利となる。したがって、特性及び工業的観点から昇華
源としてはC60を使用するのが望ましい。
In Examples 10 to 13, a mixture of C 60 and higher fullerenes such as C 70 or C 76 , or these higher fullerenes were used alone as a sublimation source. These plasma-polymerized films also have higher strength than the fullerene vapor-deposited film of Comparative Example 1, but are still inferior in still characteristics or scratch strength to the plasma-polymerized film formed by using C 60 alone. . This has been confirmed by experiments, but it is difficult for higher-order fullerenes such as C 70 or C 76 to polymerize fullerene molecules with each other as compared with C 60 . Further, higher fullerenes such as C 70 have a very low production yield, which is disadvantageous from an industrial viewpoint. Therefore, it is desirable to use C 60 as sublimation source from properties and industrial point of view.

【0079】[0079]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明においては、磁気記録媒体の磁性層上に、球状炭素類
またはその誘導体をプラズマ重合させることで保護膜を
形成し、さらにこの保護膜上に潤滑剤層を形成するの
で、CVD法と同等以上の成膜レートで機械的強度に優
れた保護膜が形成できる。また、このプラズマ重合で
は、CVD法と異なり、保護膜中に原料由来の不純物が
混入したり、排ガス処理の問題が生じることがない。
As is apparent from the above description, in the present invention, a protective film is formed on the magnetic layer of the magnetic recording medium by plasma polymerization of spherical carbons or their derivatives, and this protective film is further formed. Since the lubricant layer is formed on the film, a protective film excellent in mechanical strength can be formed at a film formation rate equal to or higher than that of the CVD method. Also, in this plasma polymerization, unlike the CVD method, impurities originating from the raw material are not mixed into the protective film and no problem of exhaust gas treatment occurs.

【0080】したがって、このような保護膜が形成され
た磁気記録媒体は、良好な走行性、耐久性を得ることが
でき、また高い生産性が得られ、工業的にも非常に有利
である。
Therefore, the magnetic recording medium having such a protective film formed thereon can have good running properties and durability, high productivity, and is industrially very advantageous.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】C120の構造を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing the structure of C 120 .

【図2】C118の構造を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing the structure of C 118 .

【図3】C116の構造を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing the structure of C 116 .

【図4】プラズマ重合装置の一構成例を示す概略断面図
である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing one structural example of a plasma polymerization apparatus.

【図5】C60フラーレンの構造を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing the structure of C 60 fullerene.

【図6】C70フラーレンの構造を示す模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing the structure of C 70 fullerene.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性支持体上に、磁性層、保護膜及び
潤滑剤層が順次形成されてなり、 上記保護膜は、Cn(但し、nは幾何学的に球状化合物
を形成し得る整数である。)で表される球状炭素類また
はその誘導体が、付加結合によって重合した構造を有す
ることを特徴とする磁気記録媒体。
1. A magnetic layer, a protective film, and a lubricant layer are sequentially formed on a non-magnetic support, and the protective film is C n (where n can form a geometrically spherical compound). A magnetic recording medium characterized in that the spherical carbons represented by the formula (1) or a derivative thereof has a structure polymerized by an addition bond.
【請求項2】 上記保護膜は、(Cn+jx(但し、nは
幾何学的に球状化合物を形成し得る整数であり、jは−
10〜10の2の倍数、xは正の整数である。)なる分
子式で表される重合体またはその誘導体によって構成さ
れ、この重合体またはその誘導体がアモルファス状であ
ることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
2. The protective film comprises (C n + j ) x (where n is an integer capable of geometrically forming a spherical compound, and j is −).
X is a positive integer that is a multiple of 2 of 10 to 10. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium is composed of a polymer represented by the following formula or a derivative thereof, and the polymer or derivative thereof is amorphous.
【請求項3】 非磁性支持体上に磁性層を形成した後、
n(但し、nは幾何学的に球状化合物を形成し得る整
数である。)で表される球状炭素類またはその誘導体を
昇華源としてプラズマ重合を行うことによって、保護膜
を成膜した後、潤滑剤を塗布することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
3. After forming a magnetic layer on a non-magnetic support,
After forming a protective film by plasma polymerization using spherical carbons represented by C n (where n is an integer capable of geometrically forming a spherical compound) or a derivative thereof as a sublimation source. A method for manufacturing a magnetic recording medium, which comprises applying a lubricant.
【請求項4】 昇華源として、異なる球状炭素類を混合
して用いることを特徴とする請求項3記載の磁気記録媒
体の製造方法。
4. The method for producing a magnetic recording medium according to claim 3, wherein different spherical carbons are mixed and used as a sublimation source.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11223815A (en) * 1998-02-06 1999-08-17 Sony Corp Liquid crystal element and its production as well as orientation layer or its composition
US7324305B2 (en) 2004-05-14 2008-01-29 Fujitsu Limited Magnetic recording medium including a magnetic layer with first magnetic particles and a protective layer with second magnetic particles

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