JPH0863840A - Vtr head drum in which diamond-like hard carbon film is coated doubly and method and equipment for forming said coating layer - Google Patents

Vtr head drum in which diamond-like hard carbon film is coated doubly and method and equipment for forming said coating layer

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JPH0863840A
JPH0863840A JP7185474A JP18547495A JPH0863840A JP H0863840 A JPH0863840 A JP H0863840A JP 7185474 A JP7185474 A JP 7185474A JP 18547495 A JP18547495 A JP 18547495A JP H0863840 A JPH0863840 A JP H0863840A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a composition device which is suitable for mass-production by minimizing the friction between a head drum and a tape, improving the wear resistance and lubricity of the drum and protecting the tape, and uniformly forming a coating layer on a cylinder type disk substrate like the head drum without any special operation. SOLUTION: On the 1st coating layer 43 of a high-hardness diamond hard carbon film, the 2nd coating film 44 of a low-hardness diamond type hard carbon film to coat the disk with the double films which have mutually different characteristics. The hardness of the 2nd coating layer is less than that of the 1st coating layer. The double coating is carried out by the composition delay having a sample support base 2 which is mounted with the head drum and sticks on a power source electrode 1 and a reactor having a circular ground electrode 3 which is arranged concentrically at a specific distance from the surface of the laminated head drum. The sample support base includes a ring for space compensation for stably laminating the head drum.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はVTRヘッドドラムとそ
の製造方法に関するものであり、より詳しくは、A1合
金からなるVTRヘッドドラムに互いに異なる特性のダ
イヤモンド状硬質カーボンフィルムを二重コーティング
することにより、ドラムの耐磨耗性と潤滑性を向上する
と共にテープを保護することができるVTRヘッドドラ
ムとそのコーティング層の形成方法及び装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a VTR head drum and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a VTR head drum made of A1 alloy by double coating diamond hard carbon films having different characteristics. The present invention relates to a VTR head drum capable of improving abrasion resistance and lubricity of a drum and protecting a tape, and a method and apparatus for forming a coating layer thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】ビデオテープレコーダ(VTR)が小型
化、軽量化、更に高機能化するのに伴い、VTRテープ
とヘッドドラムとの間に存在しながら摩擦を最少化させ
るエアギャップの厚さが減少してテープとドラムとの間
の接触可能性が高まっている。かかる傾向は最近一般用
VTRにもジョグシャトル機能を導入することにより甚
だしくなり、ドラムとテープ相互間の磨耗が寿命に大き
い影響を及ぼすようになった。尚、VTRの小型化のた
めには小さい駆動力でもテープを安定に走行させなけれ
ばならず、このためにはテープとVTR各部品間の摩擦
を最少化する必要がある。
2. Description of the Related Art As video tape recorders (VTRs) have become smaller, lighter and more sophisticated, the air gap thickness between the VTR tape and the head drum has been reduced to minimize friction. The likelihood of contact between the tape and the drum is decreasing and increasing. Such a tendency has recently become severe by introducing a jog shuttle function into a general-purpose VTR, and the wear between the drum and the tape has a great influence on the life. In order to reduce the size of the VTR, the tape must be stably run even with a small driving force, and for this purpose, it is necessary to minimize the friction between the tape and each component of the VTR.

【0003】一方、Nikkei Electronics Asia の199
3年9月号の第40頁に記載されているデジタルVTR及
びHDTV用VTRに関する標準仕様によれば、情報の貯蔵
及び再生速度が現在の2倍に至っている。かかる高速情
報処理はドラムの回転速度向上を通じてのみ達成される
ので、次世代VTRのドラム回転速度が9000rpmに
至ると思われる。しかし、前記の速度においてはドラム
とテープ相互間の磨耗等がより深刻な問題として擡頭す
る。
On the other hand, 199 of Nikkei Electronics Asia
According to the standard specifications for digital VTRs and VTRs for HDTVs, which are described on page 40 of the September 3 issue, information storage and reproduction speeds are twice as fast as the present. Since such high-speed information processing is achieved only by improving the rotation speed of the drum, the drum rotation speed of the next-generation VTR is expected to reach 9000 rpm. However, at the above speed, abrasion between the drum and the tape becomes a more serious problem.

【0004】従って、このような問題を解決しようとす
る意図があり、その例を挙げると、李クァンリョル及び
殷クァンヨンにより大韓金属学会会報、6(4)、19
93年に発表された論文によれば、ダイヤモンド状硬質
カーボンフィルムは優れた機械的特性と耐酸性並びに潤
滑性を有しているので、磁気記録媒体(コンピュータ用
ハードディスク等)の保護コーティング、マイクロマシ
ンの潤滑コーティング、剃刀等各種カッティング材料の
コーティング、光繊維の保護コーティングそして人工関
節等生態材料のコーティングに至る多くの分野で応用研
究が行われている材料として記述されている。また、エ
イチ.ナカウエ(H. Nakaue )等によるThin Solid F
ilms,Vol. 212(1992)第240 頁においては、ダイヤモ
ンド状硬質カーボンフィルムをドラム側面部のテープと
相接する面にコーティングすることによりVTRの性能
と耐久性を向上する研究結果が発表されている。
Therefore, there is an intention to solve such a problem. For example, Lee Kwang-ryol and Yin Kwang-yong, Bulletin of Korean Institute of Metals, 6 (4), 19
According to a paper published in 1993, diamond-like hard carbon film has excellent mechanical properties, acid resistance and lubricity, so it is used as a protective coating for magnetic recording media (such as hard disks for computers) and for micromachines. It is described as a material that has been applied and researched in many fields, such as lubrication coating, coating of various cutting materials such as razors, protective coating of optical fibers, and coating of ecological materials such as artificial joints. Also, H. Thin Solid F by H. Nakaue
ilms, Vol. 212 (1992), p. 240, published the results of a study to improve the performance and durability of VTR by coating a diamond-like hard carbon film on the side of the drum that contacts the tape. There is.

【0005】しかし、前記のダイヤモンド状硬質カーボ
ンフィルムをコーティングしたドラムをVTRに装着し
て試験を行った結果、VTRテープが損傷してVTRテ
ープから分離された磁性粉末と結合材がドラムの表面を
甚だしく汚染する問題が発見された。さらに、分離され
た磁性粉末は硬度が高いためヘッドに激しい損傷を起こ
す。かかる問題はコーティングによりドラムの表面硬度
が大きく向上して、ドラムの表面に存在するコーティン
グの欠陥部やドラムの角によりテープが損傷されて生じ
るのである。
However, the drum coated with the diamond-like hard carbon film was mounted on a VTR and tested. As a result, the VTR tape was damaged and the magnetic powder and the binder separated from the VTR tape covered the surface of the drum. A serious pollution problem was discovered. Further, the separated magnetic powder has a high hardness, which causes severe damage to the head. This problem is caused by the coating, which greatly improves the surface hardness of the drum, and damages the tape due to the coating defects and the corners of the drum existing on the surface of the drum.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】よって、ヘッドドラム
とテープの摩擦に対する代案として耐久性向上のために
提案されたダイヤモンド状硬質カーボンフィルムコーテ
ィング方法の実用化には問題があり、上述したVTRテ
ープの損傷及びドラム表面の汚染問題を起こさずにドラ
ムの耐磨耗性及び耐久性を向上することができる方法を
図る必要性が依然として残ることになる。
Therefore, there is a problem in practical application of the diamond-like hard carbon film coating method proposed for improving durability as an alternative to the friction between the head drum and the tape. There remains a need to find ways to improve the wear resistance and durability of drums without causing damage and drum surface contamination problems.

【0007】従って、本発明の目的はヘッドドラムとテ
ープとの間の摩擦を最少化し、ドラムの耐磨耗性と潤滑
性を向上しながら、同時にテープを保護することができ
るVTRヘッドドラムを提供することにある。即ち、コ
ーティングされたドラムによるテープの損傷を最少化
し、ヘッドドラムコーティングに基づく実使用時のヘッ
ドドラムの表面汚染が生じないようにダイヤモンド状硬
質カーボンフィルムでコーティングしたヘッドドラムを
提供することである。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a VTR head drum which minimizes friction between the head drum and the tape, improves wear resistance and lubricity of the drum, and at the same time protects the tape. To do. That is, to provide a head drum coated with a diamond-like hard carbon film so as to minimize the damage of the tape by the coated drum and prevent the surface contamination of the head drum during actual use based on the head drum coating.

【0008】本発明の他の目的は別段の操作なしで、ヘ
ッドドラムのようなシリンダー型の円形基板にコーティ
ング層を均一に形成することができ、大量生産に適する
合成装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a synthesizing apparatus which can uniformly form a coating layer on a cylinder type circular substrate such as a head drum without any special operation and is suitable for mass production. .

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の一つの特徴によ
れば、前述した目的はVTRヘッドドラムにダイヤモン
ド状硬質カーボンフィルムをコーティングするにおい
て、コーティングされたドラムによるテープの損傷を最
少化するために、ヘッドドラム上に形成した硬度が高い
フィルムコーティング層43上に更に硬度が低いフィル
ム44をコーティングして、ヘッドドラム上に互いに異
なる特性を有するダイヤモンド状硬質カーボンフィルム
を二重コーティングすることにより具現することができ
る。
In accordance with one aspect of the present invention, the foregoing objects are provided in coating a VTR head drum with a diamond-like hard carbon film to minimize damage to the tape by the coated drum. In addition, a film 44 having a lower hardness is coated on the film coating layer 43 having a higher hardness formed on the head drum, and the diamond-like hard carbon film having different characteristics is double-coated on the head drum. can do.

【0010】本発明の他の特徴によれば、上述した目的
は真空系10−2、ガス供給系10−3、電源供給系1
0−4及び反応器10−1で構成される合成装置10に
より達成される。前記反応器10−1は電源電極1と、
この電源電極1上に接触され、ヘッドドラム24、25
が積層される試片支持台2と、積層したドラム表面から
一定間隔で離された同心円上に配置された円形の接地電
極3、及び前記電極を反応器10−1の外皮から絶縁さ
せるための絶縁部4とを含む。前記試片支持台2は前記
電源電極1と接触され、周囲にヘッドドラムが積層され
る電源電極接触部21と、前記試片支持台2内の空いた
空間に配置され、ヘッドドラムを平らに積層して安定に
固定させるための空間補償用リング26、27、前記電
源電極接触部と積層したヘッドドラムとの上部に配置さ
れる良導体の上端キャップ22及び前記良導体の上端キ
ャップ上に配置される絶縁キャップ23を含む。
According to another feature of the present invention, the above-mentioned objects are vacuum system 10-2, gas supply system 10-3, and power supply system 1.
This is achieved by the synthesizer 10 composed of 0-4 and the reactor 10-1. The reactor 10-1 includes a power electrode 1 and
The head drums 24, 25 are brought into contact with the power electrode 1
For supporting the test piece support 2, a circular ground electrode 3 arranged on a concentric circle spaced apart from the surface of the stacked drum by a constant distance, and for insulating the electrode from the outer shell of the reactor 10-1. The insulating part 4 is included. The sample support base 2 is arranged in a vacant space in the sample support base 2 and the power electrode contact portion 21 around which the head drum is stacked, in contact with the power supply electrode 1, and the head drum is flattened. Space compensation rings 26 and 27 for stacking and stably fixing, a top cap 22 of a good conductor arranged above the power electrode contact portion and the head drum stacked, and a top cap of the good conductor. An insulating cap 23 is included.

【0011】[0011]

【作用】従って、本発明によるダイヤモンド状硬質カー
ボンフィルムの二重コーティングをヘッドドラムに行う
ことにより、最近ヘッドドラムの耐磨耗性向上のために
提示されている方法で生じたダイヤモンド状硬質カーボ
ンフィルムコーティング層によるテープ損傷問題を起こ
さず、ヘッドドラムの耐磨耗性及び潤滑性を向上するこ
とができるので、VTR性能の低下なしでVTRの小型
化、軽量化及び高機能化による要求条件を満たすことが
でき、また寿命を向上することができる。
Therefore, the double coating of the diamond-like hard carbon film according to the present invention is applied to the head drum, and the diamond-like hard carbon film produced by the method recently proposed for improving the wear resistance of the head drum. Since the abrasion resistance and lubricity of the head drum can be improved without causing the problem of tape damage due to the coating layer, the requirements for downsizing, weight saving and high performance of the VTR can be satisfied without deterioration of VTR performance. In addition, the life can be improved.

【0012】[0012]

【実施例】前述した本発明の特徴及び利点を含み、他の
本発明の特徴及び利点については、同一素子に同一参照
符号で併記された添付図面を参照して記述する以下の詳
細な説明により、本分野にて熟練された技術者が明らか
に認知することができる。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Other features and advantages of the invention, including the features and advantages of the invention described above, will now be described with reference to the accompanying drawings, in which like reference numerals refer to like elements. , Can be clearly recognized by a person skilled in the art.

【0013】先ず、第2図及び第3図を参照して本発明
の原理及び構成を説明する。前述した通り、ヘッドドラ
ムの磨耗を減少するために表面をダイヤモンド状硬質カ
ーボンフィルムでコーティングすると、ヘッドドラムの
磨耗は減少される。しかし、コーティング層の硬度が増
加するので、コーティング層上に欠陥部が存在する場
合、小さい欠陥であっても摩擦係数が大きく増加して、
動作の際このコーティング層によりテープが磨耗され、
その結果ドラム表面を汚染してヘッドドラムの性能が低
下する。従って、ヘッドドラムの保護のためにドラム表
面の硬度は増加させるが、テープと接する部分の硬度は
低くする必要がある。
First, the principle and configuration of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 and 3. As previously mentioned, head drum wear is reduced by coating the surface with a diamond-like hard carbon film to reduce head drum wear. However, since the hardness of the coating layer increases, when there are defects on the coating layer, the friction coefficient greatly increases even for small defects,
The tape is worn by this coating during operation,
As a result, the surface of the drum is contaminated and the performance of the head drum is deteriorated. Therefore, in order to protect the head drum, the hardness of the drum surface is increased, but the hardness of the portion in contact with the tape needs to be low.

【0014】ダイヤモンド状のカーボンフィルムの硬度
等、機械的の特性及び物理化学的の特性は、合成に用い
られるイオンのエネルギーに大きく依存する。プラズマ
CVD方法では、イオンのエネルギーが基板のバイアス
電圧に比例するものであると知られている。従って、本
発明の発明者らはダイヤモンド状硬質カーボンフィルム
の硬度特性を調査するために、100%メタンを用い
て、反応圧力1Torr、高周波電流300mAにて、バイア
ス電圧が0V から−600V まで変更されるように直流
電圧を変化しながらダイヤモンド状硬質カーボンフィル
ムを形成して、ドラム基板に形成されるバイアス電圧の
大きさによるダイヤモンド状硬質カーボンフィルムのヌ
ープ微細硬度(knoop micro-hardness)値の変化を調査し
た。
Mechanical properties and physicochemical properties such as hardness of the diamond-like carbon film greatly depend on the energy of ions used for synthesis. In the plasma CVD method, it is known that the energy of ions is proportional to the bias voltage of the substrate. Therefore, in order to investigate the hardness characteristics of the diamond-like hard carbon film, the inventors of the present invention used 100% methane and changed the bias voltage from 0V to -600V at a reaction pressure of 1 Torr and a high frequency current of 300mA. To form a diamond-like hard carbon film while changing the DC voltage so that the Knoop micro-hardness value of the diamond-like hard carbon film changes depending on the magnitude of the bias voltage formed on the drum substrate. investigated.

【0015】その結果が第2図に示されている。第2図
を通じて分かるように、ダイヤモンド状硬質カーボンフ
ィルムの硬度はバイアス電圧が約−90V から−550
V に増加するに従って、硬度が1400Kgf/mm2 から2
050Kgf/mm2 に単調増加する傾向を示した。従って、
ヘッドドラムをコーティングしたダイヤモンド状硬質カ
ーボンフィルム上に第2図に示された特性を利用して、
前記コーティング層より硬度が低いダイヤモンド状低硬
度カーボンフィルムを形成することにより前述した問題
を解決することができる。
The results are shown in FIG. As can be seen from FIG. 2, the hardness of the diamond-like hard carbon film has a bias voltage of about -90V to -550V.
Hardness increases from 1400 Kgf / mm 2 to 2 as V increases
It showed a tendency of monotonically increasing to 050 Kgf / mm 2 . Therefore,
Utilizing the characteristics shown in FIG. 2 on the diamond-like hard carbon film coated with the head drum,
The problem described above can be solved by forming a diamond-like low hardness carbon film having a hardness lower than that of the coating layer.

【0016】即ち、第3図に示された通り、先ずA1合
金のドラム基板41にフィルムの接着力を向上させるた
めの転移形成層42を形成し、その上にヘッドドラムの
耐久性及び耐磨耗性を増加させるためにドラム表面保護
用第1コーティング層43を形成する。ところで、この
コーティング層43は基板のバイアス電圧が高い条件下
でダイヤモンド状硬質カーボンフィルムを形成し、高硬
度のフィルムになるようにする。
That is, as shown in FIG. 3, first, a transition forming layer 42 for improving the adhesive force of the film is formed on the drum substrate 41 of A1 alloy, and the durability and abrasion resistance of the head drum are formed thereon. A first coating layer 43 for protecting the drum surface is formed to increase wear resistance. By the way, this coating layer 43 forms a diamond-like hard carbon film under the condition that the bias voltage of the substrate is high, so that the film has a high hardness.

【0017】次いで、前記第1コーティング層上に、テ
ープ保護用第2コーティング層44を形成する。この第
2コーティング層44は基板のバイアス電圧を低くした
状態で形成して低硬度フィルムになるようにするが、形
成される第2コーティング層44の硬度はコーティング
層によるテープの磨耗を最少化するため、低い硬度にな
るようにする。
Next, a second tape-protecting coating layer 44 is formed on the first coating layer. The second coating layer 44 is formed with a low bias voltage of the substrate to form a low hardness film. The hardness of the second coating layer 44 formed minimizes the abrasion of the tape by the coating layer. Therefore, the hardness should be low.

【0018】前述した互いに異なる特徴のフィルムを二
重コーティングする作業は以下で詳しく説明する合成装
置を用いることにより達成できる。基板のバイアス電圧
は、印加された高周波電源により発生したプラズマによ
り形成される自体バイアス電圧と、これとは独立的に印
加された直流電源による直流バイアス電圧で区分するこ
とができる。従って、基板のバイアス電圧を適宜に低下
するためには、直流電源を遮断して高周波により発生す
る自体バイアス電圧のみを用いる方法とこれに高周波電
源の電圧も減少させ自体バイアス電圧をより低くする方
法とのいずれも使用することができる。
The above-mentioned double coating operation of the films having different characteristics can be achieved by using the synthesizing apparatus described in detail below. The bias voltage of the substrate can be divided into a self-bias voltage formed by plasma generated by the applied high frequency power source and a DC bias voltage by the DC power source applied independently of the bias voltage. Therefore, in order to appropriately reduce the bias voltage of the substrate, a method of cutting off the DC power supply and using only the self-bias voltage generated by high frequency, and a method of reducing the voltage of the high-frequency power supply and lowering the self-bias voltage Both can be used.

【0019】かかるヘッドドラムの表面に互いに異なる
特性を有する二重コーティングを形成する作業は第1図
(a)及び(b)に示した合成装置10により行うこと
ができる。第1図(a)に示されている通り、合成装置
10は大きく反応器10−1、真空系10−2、ガス供
給系10−3電源供給系10−4の四つの部分により構
成される。真空系10−2、ガス供給系10−3電源供
給系10−4は本出願人により1994年1月7日付け
で既出願された「ダイヤモンド状硬質カーボンフィルム
の形成法」との名称の韓国特許出願第94−201号に
提示されているプラズマCVD装置と類似している。よ
って、この装置も同じく韓国特許出願第94−201号
に記述されている通り、形成の主要変数である基板のバ
イアス電圧とプラズマ電流を独立的に調節することがで
きるようになっている。従って、本明細書では特許出願
第94−201号と類似する部分に対する詳細な説明を
省略する。
The operation of forming a double coating having different characteristics on the surface of the head drum can be performed by the synthesizing apparatus 10 shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b). As shown in FIG. 1 (a), the synthesizer 10 is mainly composed of four parts, a reactor 10-1, a vacuum system 10-2, a gas supply system 10-3 and a power supply system 10-4. . The vacuum system 10-2 and the gas supply system 10-3, the power supply system 10-4, are named “Diamond-like hard carbon film forming method” which was filed by the applicant of the present application on Jan. 7, 1994. It is similar to the plasma CVD apparatus presented in patent application No. 94-201. Therefore, also in this device, as described in Korean Patent Application No. 94-201, the bias voltage of the substrate and the plasma current, which are the main variables of formation, can be independently adjusted. Therefore, the detailed description of the portions similar to the patent application No. 94-201 is omitted in the present specification.

【0020】本発明によるダイヤモンド状硬質カーボン
フィルム合成装置の一つの良好な実施例であるこの装置
は、生成されるプラズマの密度とイオンのエネルギーが
高い100KHz 〜15MHz 間の高周波を主電源とし、こ
れにイオンのエネルギーを調節するために直流を複合し
たプラズマCVD法に基づいて、円形の基板に均一な形
成が行われるように電極を配置したものである。
This apparatus, which is one of the preferred embodiments of the diamond-like hard carbon film synthesizing apparatus according to the present invention, uses as a main power source a high frequency of 100 KHz to 15 MHz in which the density of generated plasma and the energy of ions are high. Further, the electrodes are arranged so that uniform formation can be performed on a circular substrate based on the plasma CVD method in which a direct current is combined to adjust the ion energy.

【0021】反応器10−1について詳しく述べると、
反応器の下端中央に電源が供給される電極1を設け、V
TRヘッドドラムを積層する試片支持台2を電極1に取
付ける。試片支持台2に積層されたドラムの表面から1
cm〜10cm程離れた同心円上に円形のシールド型接地電
極3を設ける。ドラムの表面と接地電極間の距離が1cm
未満である場合は、プラズマが局部的に発生しながら、
円周上に不均一な速度のコーティングが行なわれる。前
記距離が増加するにつれプラズマの均一度も増加する
が、その距離が10cm以上になると、それ以上プラズマ
の均一性は増加しない。従って、10cm以上の距離に接
地電極を設置すると合成装置のサイズが大きすぎるた
め、非経済的な合成装置になる。
The reactor 10-1 will be described in detail below.
An electrode 1 to which power is supplied is provided at the center of the lower end of the reactor, and V
The sample support base 2 on which the TR head drum is laminated is attached to the electrode 1. From the surface of the drum laminated on the specimen support base 2 1
A circular shield type ground electrode 3 is provided on concentric circles separated by about 10 cm to 10 cm. The distance between the surface of the drum and the ground electrode is 1 cm
If less than, while the plasma is locally generated,
A non-uniform rate of coating is provided on the circumference. As the distance increases, the plasma uniformity increases, but when the distance becomes 10 cm or more, the plasma uniformity does not increase any more. Therefore, if the ground electrode is installed at a distance of 10 cm or more, the size of the synthesizer is too large, which makes the synthesizer uneconomical.

【0022】本実施例を更に詳しく説明すると次の通り
である。即ち、ヘッドドラム24、25にダイヤモンド
状のカーボンフィルムを形成する最適の高周波の周波数
と、積層されたドラムの表面から接地電極3までの距離
を決定するために高周波の周波数を100KHz 、250
KHz 、500KHz 及び13.56MHz に変化させ、前記
の距離を、1cmから10cmまで変化させた。尚、圧力を
0.1Torrから1Torrまで変化させた。更に、メタンガ
スを使用して高周波電圧700V にて10分間形成した
後、ドラムの表面温度の変化を測定した。圧力が高いほ
ど、また周波数が低いほど表面温度は増加する傾向を示
した。これはプラズマの密度とイオンのエネルギーが増
加するためである。イオンのエネルギーが高く、またド
ラムの表面温度が高いものがドラムとダイヤモンド状の
カーボンフィルムとの界面のA1−C混合層形成に有利
であるため、周波数が低く、かつ圧力が高いほどカーボ
ンフィルムの形成に有利であるのが分かる。しかし、ド
ラムへのコーティングには冷却水によるドラムの冷却が
不可能であるため、温度が高すぎないよう注意しなけれ
ばならない。本実施例においては、ドラムの温度が10
分後にも150℃以下を保持する250KHz と1Torrの
条件を使用した。
This embodiment will be described in more detail as follows. That is, the optimum high frequency for forming a diamond-like carbon film on the head drums 24 and 25 and the high frequency for determining the distance from the surface of the laminated drums to the ground electrode 3 are 100 KHz and 250.
KHz, 500 KHz and 13.56 MHz were changed and the distance was changed from 1 cm to 10 cm. The pressure was changed from 0.1 Torr to 1 Torr. Further, using methane gas, a high-frequency voltage of 700 V was formed for 10 minutes, and then the change in the surface temperature of the drum was measured. The surface temperature tended to increase as the pressure increased and the frequency decreased. This is because the plasma density and ion energy increase. Since high ion energy and high surface temperature of the drum are advantageous for forming the A1-C mixed layer at the interface between the drum and the diamond-like carbon film, the lower the frequency and the higher the pressure, It can be seen that it is advantageous for formation. However, care must be taken not to overheat the temperature of the drum as it is impossible to cool the drum with cooling water for coating the drum. In this embodiment, the drum temperature is 10
A condition of 250 KHz and 1 Torr was used to keep the temperature below 150 ° C even after a minute.

【0023】接地電極とドラム表面間の距離は、円周上
のプラズマ均一性に多くの影響を及ぼす。一定の圧力下
でその距離が短くなるとプラズマが局部的に発生するこ
とになり、かかる傾向は圧力が低いほど激しかった。プ
ラズマが円周上に局部的に発生することは、フィルムコ
ーティングの厚さが不均一になる結果をもたらす。前記
距離が増加するにつれプラズマの均一性は増加し、圧力
の増加によりプラズマが均一に生ずる最小の距離が減少
した。この距離を延ばすのは装備の大型化をもたらすこ
とになるため、この距離を最適化させる必要がある。本
実施例において、1Torrでは前記距離を4cmにすること
が好適であるとの結論を得た。
The distance between the ground electrode and the drum surface has many effects on the plasma uniformity on the circumference. When the distance was shortened under a constant pressure, plasma was locally generated, and this tendency was more intense at lower pressures. The localized generation of plasma on the circumference results in a non-uniform film coating thickness. The uniformity of the plasma increased as the distance increased, and the minimum distance at which the plasma was uniformly generated decreased with increasing pressure. It is necessary to optimize this distance because extending this distance will lead to larger equipment. In this example, it was concluded that it is preferable to set the distance to 4 cm at 1 Torr.

【0024】このような形態の電極配置は円形試片の表
面に非常に均一なプラズマを発生させるので、ヘッドド
ラムのような試片の表面を均一にコーティングするため
に試片を回転する等、他の操作を行う必要がない長所が
ある。また、電源電極と接地電極を一対でしたプラズマ
発生器を並列に多数連結することにより、大量生産でき
る装置への拡張が容易である。
Since the electrode arrangement having such a form generates a very uniform plasma on the surface of the circular sample, the sample is rotated to uniformly coat the surface of the sample such as a head drum. It has the advantage that no other operations need to be performed. Further, by connecting a large number of plasma generators each having a pair of a power electrode and a ground electrode in parallel, it is easy to expand the apparatus to mass production.

【0025】本発明による試片支持台2の断面を詳しく
示した第1図(b)を参照すると、試片支持台2はA1
或いはステンレススチール等の良導体材料によりなる電
源電極接触部21を通じて電源電極1を経由し、電源に
連結する。上位ヘッドドラム24と下位ヘッドドラム2
5の中央穴を利用して試片支持台2に交替に積層する。
この時形成される上位ヘッドドラムの上部表面とその上
に積層された下位ヘッドドラムの下部表面間の空間を空
間補償用リング26を利用して補償することにより、積
層されるドラムの表面が平滑になるようにする。また、
上位ヘッドドラムと下位ヘッドドラムとの中央穴の大き
さの差に基因する空間、即ち、電源電極接触部21と上
・下位ヘッドドラム中、相対的に大きい中央穴を有する
ヘッドドラム間の空間を空間補償用リング27で補償す
ることにより、ヘッドドラムの位置を安定に固定させ
る。積層上端には積層ドラムを固定するための良導体の
上端キャップ22を設け、その上端にテフロン(teflo
n)のような絶縁物質を用いて絶縁キャップ23を形成
し、絶縁させる。この絶縁キャップ23は如何なる絶縁
物質によっても形成できる。
Referring to FIG. 1 (b) showing a detailed cross section of the sample support base 2 according to the present invention, the sample support base 2 is A1.
Alternatively, it is connected to the power supply via the power electrode 1 through the power electrode contact portion 21 made of a good conductor material such as stainless steel. Upper head drum 24 and lower head drum 2
Using the central hole of 5, the test piece support base 2 is alternately laminated.
By compensating the space between the upper surface of the upper head drum formed at this time and the lower surface of the lower head drum laminated thereon by using the space compensating ring 26, the surface of the laminated drum is smoothed. Try to be. Also,
A space resulting from the difference in size of the central holes between the upper head drum and the lower head drum, that is, a space between the power electrode contact portion 21 and the head drum having a relatively large central hole in the upper and lower head drums. By compensating with the space compensating ring 27, the position of the head drum is stably fixed. An upper cap 22 of a good conductor for fixing the laminating drum is provided on the upper end of the stack, and a teflon (teflo) is provided on the upper end of the cap.
The insulating cap 23 is formed using an insulating material such as n) to insulate. The insulating cap 23 can be formed of any insulating material.

【0026】今までCVD法を利用した多層膜形成方法
を中心として本発明を説明したが、本発明による多層膜
を形成する技術はこれに局限されるのではない。ダイヤ
モンド状硬質カーボンフィルムを形成する方法にはイオ
ン蒸着法、イオンフレーティング、ECR、スーパタリ
ング、レーザアブレーション等多くの方法が公知されて
いる。ダイヤモンド状硬質カーボンフィルムの硬度は前
記の各方法における形成条件、特にイオンエネルギーを
変換するとにより、容易に変化させることができる。
Although the present invention has been described above centering on the method for forming a multilayer film using the CVD method, the technique for forming a multilayer film according to the present invention is not limited to this. As a method for forming a diamond-like hard carbon film, many methods such as an ion deposition method, an ion plating method, an ECR method, a sputtering method, and a laser ablation method are known. The hardness of the diamond-like hard carbon film can be easily changed by forming conditions in each of the above methods, particularly by converting ion energy.

【0027】尚、本発明によるダイヤモンド状硬質カー
ボンフィルムが二重コーティングされたヘッドドラム
と、単一特性のダイヤモンド状硬質カーボンフィルムが
コーティングされたヘッドドラムと、TiN がコーティン
グされたヘッドドラム並びにコーティングされていない
ヘッドドラムの特性及び性能を比較するために行った実
験結果に基づいて、本発明による二重コーティングされ
たヘッドドラムの効果及び優秀性について具体的に説明
する。
The head drum double coated with the diamond-like hard carbon film according to the present invention, the head drum coated with a single characteristic diamond-like hard carbon film, the head drum coated with TiN, and the coated head drum The effect and excellence of the double-coated head drum according to the present invention will be described in detail based on the results of experiments performed to compare the characteristics and performance of the uncoated head drum.

【0028】実験1:単一ダイヤモンド状硬質カーボン
フィルムがコーティングされたヘッドドラムとコーティ
ングされていないヘッドドラム並びにTiN がコーティン
グされたヘッドドラムとの特性比較 単一ダイヤモンド状硬質カーボンフィルムがコーティン
グされたヘッドドラムとTiN がコーティングされたヘッ
ドドラム並びにコーティングされていないヘッドドラム
の摩擦係数を比較分析してみた。
Experiment 1: Single diamond-like hard carbon
Film coated head drum and coaty
Unheaded head drum and TiN coated
Comparison of characteristics with a coated head drum A friction coefficient of a head drum coated with a single diamond-like hard carbon film, a head drum coated with TiN and an uncoated head drum was compared and analyzed.

【0029】直径62mmのVTRヘッドドラム4セットを
第1図(b)に示されている通り、試片支持台に積層
し、第1図のダイヤモンド状硬質カーボンフィルム合成
装置に装着した後、本出願人により1994年1月7日
付けで韓国特許出願した「ダイヤモンド状硬質カーボン
フィルムの接着力増進方法」という名称の出願番号第9
4−202号に提示されている方法でプラズマ洗滌等前
処理と転移形成を行った。その後、メタンを利用して反
応圧力1Torr、高周波電流300mA、 直流電流119m
A、基板バイアス電圧−550V の条件で40分間ダイ
ヤモンド状硬質カーボンフィルムを形成した。ダイヤモ
ンド状硬質カーボンフィルムの厚さは1.0μm で円周
方向に均一な厚さを示した。このように形成された単一
ダイヤモンド状硬質カーボンフィルムがコーティングさ
れたヘッドドラムと、TiN がコーティングされたヘッド
ドラム並びにコーティングされていないヘッドドラムに
おいて、耐磨耗試験前後のドラムとテープ間の摩擦係数
測定のために、本出願人による「円筒型物体側面の磨耗
特性試験及び摩擦係数測定方法及びその装置」という名
称の韓国特許出願第94−9687号の明細書に提示さ
れた磨耗試験器を用いて測定した。
As shown in FIG. 1 (b), 4 sets of VTR head drums having a diameter of 62 mm were laminated on a sample support base and mounted on the diamond-like hard carbon film synthesizing apparatus shown in FIG. The applicant filed a Korean patent application dated January 7, 1994, entitled “Adhesion Strengthening Method for Diamond-like Hard Carbon Film”, and application number 9
Pretreatment such as plasma washing and transition formation were performed by the method presented in No. 4-202. After that, using methane, reaction pressure 1 Torr, high frequency current 300mA, DC current 119m
A diamond-like hard carbon film was formed under conditions of A and substrate bias voltage of -550V for 40 minutes. The diamond-like hard carbon film had a thickness of 1.0 μm and showed a uniform thickness in the circumferential direction. The friction coefficient between the drum and tape before and after the abrasion resistance test was performed on the head drum coated with a single diamond-like hard carbon film thus formed, the head drum coated with TiN and the head drum not coated with TiN. For the measurement, the wear tester presented in the specification of Korean Patent Application No. 94-9687 named "Apparatus Applicant's Abrasion Characteristic Test on Side of Cylinder Object and Measuring Method of Friction Coefficient and Its Apparatus" is used. Measured.

【0030】第4図には耐磨耗試験前のテープ印加張力
(tension) によるVTRテープと、コーティングされた
ドラムとの間の接触摩擦係数をグラフで示した。第4図
を参照すると、接触摩擦条件である回転速度50rpm で
単一フィルム層がコーティングされたヘッドドラムの摩
擦係数は0.2であり、これはコーティングされていな
いドラム又はTiN がコーティングされたドラムの摩擦係
数0.25より若干小さい値である。また、第4図に示
されている通り、ダイヤモンド状硬質カーボンフィルム
がコーティングされた場合は摩擦係数の印加張力への依
存性が顕著に低い。
FIG. 4 shows the tension applied to the tape before the abrasion resistance test.
The coefficient of contact friction between the VTR tape according to the (tension) and the coated drum is shown graphically. Referring to FIG. 4, the coefficient of friction of a head drum coated with a single film layer at a rotational speed of 50 rpm, which is a contact friction condition, is 0.2, which is an uncoated drum or a TiN coated drum. The friction coefficient is slightly smaller than 0.25. Further, as shown in FIG. 4, when the diamond-like hard carbon film is coated, the dependence of the friction coefficient on the applied tension is remarkably low.

【0031】第5図には前記ドラムに400gfの張力を
印加し、3000rpm と0rpm で各々10秒間ずつの条
件で4時間磨耗試験を行った後、測定した接触摩擦係数
をグラフで示した。コーティングされていないドラム又
はTiN がコーティングされたドラムの場合は耐磨耗試験
前に比べて摩擦係数が顕著に増加し、印加張力の変化に
よりそれぞれ0.27〜0.43、0.24〜0.3範
囲の値を示していた。しかし、ダイヤモンド状硬質カー
ボンフィルムがコーティングされたドラムの摩擦係数は
印加張力の変化により0.2〜0.25範囲の値を示し
た。
In FIG. 5, a tension of 400 gf was applied to the drum, an abrasion test was conducted for 4 hours under conditions of 3000 rpm and 0 rpm for 10 seconds each, and the contact friction coefficient measured was shown in a graph. In the case of the uncoated drum or the drum coated with TiN, the friction coefficient increases remarkably compared to before the abrasion resistance test, and due to the change of applied tension, 0.27 to 0.43 and 0.24 to 0 respectively. A value in the range of 0.3 was shown. However, the friction coefficient of the drum coated with the diamond-like hard carbon film showed a value in the range of 0.2 to 0.25 depending on the change in applied tension.

【0032】一方、ドラムの表面とテープとの間にエア
ギャップを形成する1500rpm では磨耗試験前に試片
全てが0.05の非常に小さい摩擦係数を示していた
が、磨耗試験後にはコーティングされていないドラムは
印加張力が200gfから600gfに増加するにより0.
16〜0.42範囲の摩擦係数値を示し、TiN がコーテ
ィングされたドラムの場合は0.1〜0.22範囲の摩
擦係数を示した。しかし、ダイヤモンド状硬質カーボン
フィルムがコーティングされたドラムの場合は磨耗試験
前と殆ど類似した値を示していた。これはダイヤモンド
状硬質カーボンフィルムがコーティングされたドラムの
場合には、耐磨耗試験により表面の損傷が殆ど生じてい
ないことを意味する。耐磨耗試験後、コーティングされ
ていないドラムの場合は平面の微細組織が甚だしく損傷
されていたが、ダイヤモンド状硬質カーボンフィルムが
コーティングされたドラムの場合は表面の損傷が全然観
察されなかった。
On the other hand, at 1500 rpm, which forms an air gap between the surface of the drum and the tape, all the specimens had a very small coefficient of friction of 0.05 before the abrasion test, but they were coated after the abrasion test. The drum that is not installed has a tension of 0. 0 due to the applied tension increasing from 200 gf to 600 gf.
Friction coefficient values in the range of 16 to 0.42 were exhibited, with TiN coated drums exhibiting friction coefficients in the range of 0.1 to 0.22. However, the drum coated with the diamond-like hard carbon film showed a value almost similar to that before the abrasion test. This means that in the case of a drum coated with a diamond-like hard carbon film, the abrasion resistance test shows almost no surface damage. After the abrasion resistance test, the flat microstructure was severely damaged in the uncoated drum, but no surface damage was observed in the diamond-like hard carbon film coated drum.

【0033】実験2:単一ダイヤモンド状硬質カーボン
フィルムがコーティングされたヘッドドラムの実装試験 実験1におけるドラムをVTRに装着して温度40℃、
相対湿度70%で走行試験を、温度30℃、相対湿度4
0%でFF(11秒)、REW (9秒)、CUE (11秒)、
REV (8秒)と同一な条件でモード変換試験を1000
時間反復施行した。
Experiment 2: Single diamond-like hard carbon
Mounting test of film-coated head drum The drum in Test Experiment 1 was mounted on a VTR and the temperature was 40 ° C.
Running test with relative humidity 70%, temperature 30 ℃, relative humidity 4
At 0%, FF (11 seconds), REW (9 seconds), CUE (11 seconds),
1000 mode conversion tests under the same conditions as REV (8 seconds)
Repeatedly administered for a time.

【0034】この実装試験の結果、単一ダイヤモンド状
硬質カーボンフィルムがコーティングされたドラムの表
面に多くの異物質が付着した現象が観察された。この異
物質はEDS 析結果テープから分離された磁性粉末と結合
材であることが分かった。この試験により分かるように
高硬度を有するフィルムのみをコーティングした場合
は、ドラムの保護効果は優れているが、テープの損傷が
甚だしいという問題がある。
As a result of this mounting test, it was observed that many foreign substances adhered to the surface of the drum coated with the single diamond-like hard carbon film. This foreign substance was found to be the magnetic powder and the binder separated from the tape by EDS analysis. As can be seen from this test, when only a film having high hardness is coated, the drum protecting effect is excellent, but there is a problem that the tape is seriously damaged.

【0035】実験3:互いに異なる特性のダイヤモンド
状硬質カーボンフィルムで二重コーティングされたドラ
ムの特性試験及び実装試験 先ず、第1図に示した合成装置10を用いて実験1と同
様な条件で10分間第1ダイヤモンド状硬質カーボンフ
ィルムを形成した後、直流電源を遮断し、反応圧力1To
rr、高周波電流250A 、基板バイアス電圧−250の
条件で10分間第2コーティング層を形成して二重膜を
形成した。第2コーティング層の硬度は1600Kgf/mm
2 であって第1コーティング層の硬度2050Kgf/mm2
に比べて低い値にした。
Experiment 3: Diamonds having different characteristics
Dora double coated with hard carbon film
Beam characteristics test and implement test First, after forming a first diamond-like hard carbon film 10 minutes under the same conditions as in Experiment 1 by using the synthesis apparatus 10 shown in FIG. 1, blocks the DC power supply, the reaction pressure 1 To
The second coating layer was formed for 10 minutes under the conditions of rr, high frequency current 250A, and substrate bias voltage -250 to form a double film. The hardness of the second coating layer is 1600 Kgf / mm
2 and the hardness of the first coating layer is 2050 Kgf / mm 2
It was set to a lower value than.

【0036】耐磨耗試験前後の摩擦係数の変化程度と磨
耗程度は実験1における単一ダイヤモンド状の硬質カー
ボンフィルムがコーティングされたヘッドドラムの場合
と類似しており、何らの差異が発見されなかった。しか
し、実験2と同様な実装試験の結果、ヘッドドラム表面
の汚染は全然観察されなかった。かかる結果は、高い硬
度を有する第1コーティング層の上に低い硬度の第2コ
ーティング層を設けることにより、ヘッドドラムの耐磨
耗性を保持しながらテープの損傷を最小化させることが
できるのを意味する。
The degree of change in the friction coefficient and the degree of wear before and after the abrasion resistance test are similar to those of the head drum coated with the single diamond-like hard carbon film in Experiment 1, and no difference was found. It was However, as a result of the same mounting test as in Experiment 2, no contamination of the head drum surface was observed. As a result, by providing the second coating layer having the low hardness on the first coating layer having the high hardness, the damage of the tape can be minimized while maintaining the wear resistance of the head drum. means.

【0037】[0037]

【発明の効果】従って、本発明による二重のダイヤモン
ド状硬質カーボンフィルムをヘッドドラム表面にコーテ
ィングすることにより、VTR 作動の際テープの損傷によ
るヘッドドラムの性能低下がなく、ヘッドドラムの摩擦
係数を低くし、かつ耐久性を増加することができる。
Therefore, by coating the double-layered diamond-like hard carbon film according to the present invention on the surface of the head drum, the performance of the head drum is not deteriorated due to the damage of the tape during VTR operation, and the friction coefficient of the head drum is reduced. It can be lowered and the durability can be increased.

【0038】本発明を例示的な実施例を参照して説明し
たが、本発明は前述の実施例に限定されるのではない。
本発明に関連する技術分野にて通常の知識を持っている
者であれば、本発明の詳細な説明を参照して前記例示的
な実施例の多様な変更又は組合せが可能であることが十
分理解できる。従って、本発明はこのような変更及び実
施例を全て含み、前記の特許請求の範囲によってのみ制
限される。
Although the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is not limited to the embodiments described above.
Those having ordinary skill in the technical field related to the present invention should be able to make various changes or combinations of the exemplary embodiments with reference to the detailed description of the present invention. Understandable. Accordingly, the invention includes all such modifications and embodiments and is limited only by the scope of the following claims.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は本発明に用いた合成装置の断面模式図
である。(b)は本発明に用いた試片支持台の断面詳細
図である。
FIG. 1 (a) is a schematic sectional view of a synthesizing apparatus used in the present invention. (B) is a detailed cross-sectional view of the sample support base used in the present invention.

【図2】高周波形成電流下で形成したダイヤモンド状硬
質カーボンフィルムのクロム硬度測定値を示した図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing measured values of chromium hardness of a diamond-like hard carbon film formed under a high-frequency forming current.

【図3】二重膜がコーティングされたドラムの断面図で
ある
FIG. 3 is a cross-sectional view of a double film coated drum.

【図4】耐磨耗試験前コーティングされないドラム、Ti
N がコーティングされたドラム及びダイヤモンド状の硬
質カーボンフィルムがコーティングされたドラムの接触
摩擦係数を示すグラフである。
[Fig. 4] Uncoated drum before wear test, Ti
3 is a graph showing the contact friction coefficient of a drum coated with N 2 and a drum coated with a diamond-like hard carbon film.

【図5】耐磨耗試験後コーティングされないドラム、Ti
N がコーティングされたドラム及びダイヤモンド状の硬
質カーボンフィルムがコーティングされたドラムの接触
摩擦係数を示すグラフである。
Figure 5: Drum uncoated after abrasion test, Ti
3 is a graph showing the contact friction coefficient of a drum coated with N 2 and a drum coated with a diamond-like hard carbon film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:電源電極 2:試片支持台 3:接地電極 4:絶縁部 21:電源電極接触部 22:上端キャップ 23:絶縁キャップ 24、25:ヘッドドラム 26、27:空間補償用リング 41:ドラム基板 42:接着補助用中間層(転移形成層) 43:ドラム表面保護用高硬度層(1次コーティング
層) 44:テープ保護用低硬度層(2次コーティング層)
1: Power supply electrode 2: Test piece support 3: Ground electrode 4: Insulation part 21: Power supply electrode contact part 22: Upper end cap 23: Insulation cap 24, 25: Head drum 26, 27: Space compensation ring 41: Drum substrate 42: Intermediate layer for adhesion assistance (transfer forming layer) 43: High hardness layer for drum surface protection (primary coating layer) 44: Low hardness layer for tape protection (secondary coating layer)

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ヘッドドラムと、 このヘッドドラムの表面上に形成されたヘッドドラム保
護用コーティング層と、 前記ヘッドドラム保護用コーティング層上に形成され、
前記ヘッドドラム保護用コーティング層の硬度より低い
硬度を有する低硬度のテープ保護用コーティング層とを
含むことを特徴とする互いに異なる特性のフィルムで二
重コーティングされたVTRヘッドドラム。
1. A head drum, a coating layer for protecting the head drum formed on the surface of the head drum, and a coating layer formed on the coating layer for protecting the head drum,
A VTR head drum double-coated with films having different characteristics, comprising a low hardness tape protection coating layer having a hardness lower than that of the head drum protection coating layer.
【請求項2】 ヘッドドラムと、 このヘッドドラム上に形成されたフィルムの接着力を増
進させるための中間層と、 この中間層上に形成された第1ダイヤモンド状硬質カー
ボンフィルムと、 前記第1ダイヤモンド状硬質カーボンフィルム上に形成
された、前記第1ダイヤモンド状硬質カーボンフィルム
の硬度より低い硬度を有する低硬度の第2ダイヤモンド
状硬質カーボンフィルムとを含むことを特徴とする互い
に異なる特性のダイヤモンド状硬質カーボンフィルムで
二重コーティングされたVTRヘッドドラム。
2. A head drum, an intermediate layer for increasing the adhesive force of the film formed on the head drum, a first diamond-like hard carbon film formed on the intermediate layer, and the first layer. A diamond-shaped hard carbon film having a different hardness, the second diamond-shaped hard carbon film having a hardness lower than that of the first diamond-shaped hard carbon film formed on the diamond-shaped hard carbon film; VTR head drum double coated with hard carbon film.
【請求項3】 VTRヘッドドラムの耐磨耗性を保持し
ながらテープを保護するためのダイヤモンド状硬質カー
ボンフィルムコーティング層をヘッドドラム上に形成す
る方法において、 前処理及び転移形成を行う段階と、 第1基板バイアス電圧下で、前記転移形成層上に高硬度
の第1ダイヤモンド状硬質カーボンフィルムを形成する
段階と、 前記第1基板バイアス電圧より低い第2基板バイアス電
圧下で、前記第1ダイヤモンド状硬質カーボンフィルム
の硬度より低い低硬度の第2ダイヤモンド状硬質カーボ
ンフィルムを前記第1フィルム上に形成する段階とを含
むことを特徴とする互いに異なる特性の二重コーティン
グ層の形成方法。
3. A method for forming a diamond-like hard carbon film coating layer on a head drum for protecting a tape while maintaining abrasion resistance of a VTR head drum, wherein pretreatment and transition formation are performed, Forming a high hardness first diamond-like hard carbon film on the transition forming layer under a first substrate bias voltage; and, under a second substrate bias voltage lower than the first substrate bias voltage, the first diamond. Forming a second diamond-like hard carbon film having a hardness lower than that of the hard carbon film on the first film, the double coating layer having different characteristics.
【請求項4】 前記低硬度の第2フィルムを形成する段
階は、合成装置の直流電源を遮断することにより、第2
基板バイアス電圧が低硬度のダイヤモンド状硬質カーボ
ンフィルムが形成される基板バイアス電圧になるよう
に、前記バイアス電圧を低める段階を含むことを特徴と
する請求項3記載の互いに異なる特性の二重コーティン
グ層の形成方法。
4. The step of forming the second film having a low hardness includes the step of cutting off the direct current power of the synthesizing device.
4. The double coating layer having different characteristics according to claim 3, further comprising lowering the bias voltage so that the substrate bias voltage becomes a substrate bias voltage that forms a diamond-like hard carbon film having a low hardness. Forming method.
【請求項5】 前記低硬度の第2フィルムを形成する段
階は、合成装置の直流電源を遮断し、付随的に高周波電
源の電圧を減少することにより、第2基板バイアス電圧
が低硬度のダイヤモンド状硬質カーボンフィルムが形成
される基板バイアス電圧になるように、前記バイアス電
圧を低める段階を含むことを特徴とする請求項3記載の
互いに異なる特性の二重コーティング層の形成方法。
5. A diamond having a low second substrate bias voltage is formed by cutting off the DC power supply of the synthesizer and incidentally reducing the voltage of the high frequency power supply in the step of forming the second film having a low hardness. The method of claim 3, further comprising lowering the bias voltage so that the substrate-like bias voltage of the hard carbon film is formed.
【請求項6】 前記高硬度の第1ダイヤモンド状硬質カ
ーボンフィルムを形成する段階は、反応圧力1Torr、高
周波電流300mA、直流電流119mA及び前記第1の基
板バイアス電圧−550V の条件で10分間行われるこ
とを特徴とする請求項3記載の互いに異なる特性の二重
コーティング層の形成方法。
6. The step of forming the high hardness first diamond-like hard carbon film is performed for 10 minutes under the conditions of a reaction pressure of 1 Torr, a high frequency current of 300 mA, a direct current of 119 mA, and the first substrate bias voltage of −550 V. The method for forming a double coating layer having different characteristics according to claim 3,
【請求項7】 前記第2基板バイアス電圧は−250V
であることを特徴とする請求項4又は5記載の互いに異
なる特性の二重コーティング層の形成方法。
7. The second substrate bias voltage is -250V.
The method for forming a double coating layer having different characteristics according to claim 4 or 5, wherein
【請求項8】 真空系と、ガス供給系と、電源供給系及
びこの電源供給系に電気的に連結されている反応器とを
含む多層フィルムを形成するための合成装置において、 前記反応器は前記反応器の下端中央部に配置される電源
電極と、 この電源電極上に接触され、ヘッドドラムが積層される
試片支持台と、 積層したヘッドドラム表面から同一距離程離れている同
心円上に配置された円形の接地電極とを含むことを特徴
とする合成装置。
8. A synthesizer for forming a multilayer film comprising a vacuum system, a gas supply system, a power supply system and a reactor electrically connected to the power supply system, wherein the reactor is A power electrode arranged at the center of the lower end of the reactor, a test piece support base that is in contact with the power electrode and on which the head drum is laminated, and a concentric circle that is separated from the surface of the laminated head drum by the same distance. And a circular ground electrode that is arranged.
【請求項9】 前記反応器は前記電極を前記反応器の外
皮から絶縁させるための絶縁部を更に含むことを特徴と
する請求項8記載の合成装置。
9. The synthesizing apparatus of claim 8, wherein the reactor further includes an insulating part for insulating the electrode from the outer shell of the reactor.
【請求項10】 前記試片支持台は、 前記電源電極と接触される電源電極接触部と、 前記試片支持台内の空いた空間に配置され、ヘッドドラ
ムを平らにかつ安定に固定するための空間補償用リング
と、 前記電源電極接触部と積層されたヘッドドラムとの上部
に配置する良導体の上端キャップと、 前記良導体の上端キャップ上に配置する絶縁キャップと
を含むことを特徴とする請求項8記載の合成装置。
10. The test piece support base is disposed in a power electrode contact portion that is in contact with the power supply electrode and an empty space in the test piece support base to fix the head drum flatly and stably. A space compensating ring, an upper cap of a good conductor arranged above the head electrode laminated with the power electrode contact portion, and an insulating cap arranged on the upper cap of the good conductor. Item 8. The synthesizing apparatus according to item 8.
【請求項11】 前記空間補償用リングは、 上位ヘッドドラムの上部表面とその上に積層された下位
ヘッドドラムの下部表面間の空間を補償し、ヘッドドラ
ムを平らに積層するための第1空間補償用リングと、 前記電源電極接触部と上・下位ヘッドドラムの中で相対
的に大きい中央穴を有するヘッドドラム間の空間を補償
し、ヘッドドラムを安定に固定させるための第2空間補
償用リングとを含むことを特徴とする請求項10記載の
合成装置。
11. The space compensating ring compensates for a space between an upper surface of the upper head drum and a lower surface of the lower head drum laminated on the upper head drum, and a first space for flatly laminating the head drum. Compensation ring and second space compensation for compensating the space between the power electrode contact portion and the head drum having a relatively large central hole in the upper and lower head drums to stably fix the head drum. The synthesizing apparatus according to claim 10, further comprising a ring.
【請求項12】 前記円形接地電極は前記積層されたヘ
ッドドラムの表面から1cm 乃至10cm離れていることを特
徴とする請求項8記載の合成装置。
12. The synthesizing apparatus according to claim 8, wherein the circular ground electrode is separated from the surface of the laminated head drum by 1 cm to 10 cm.
【請求項13】 前記円形の接地電極は円形のシールド
形態の接地電極であることを特徴とする請求項8記載の
合成装置。
13. The synthesizer according to claim 8, wherein the circular ground electrode is a circular shield-shaped ground electrode.
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