JPH08102044A - Magnetic recording medium and production thereof - Google Patents

Magnetic recording medium and production thereof

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JPH08102044A
JPH08102044A JP23533494A JP23533494A JPH08102044A JP H08102044 A JPH08102044 A JP H08102044A JP 23533494 A JP23533494 A JP 23533494A JP 23533494 A JP23533494 A JP 23533494A JP H08102044 A JPH08102044 A JP H08102044A
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JP
Japan
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thin film
layer
recording medium
film
magnetic recording
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Application number
JP23533494A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noriyuki Kitaori
典之 北折
Osamu Yoshida
修 吉田
Shigemi Wakabayashi
繁美 若林
Hirohide Mizunoya
博英 水野谷
Akira Shiga
章 志賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To easily control the film properties such as surface roughness and hardness by forming a back coating layer comprising a carbon thin film by vapor depositing of carbon on the opposite side of a supporting body to the surface where a magnetic layer is vapor deposited. CONSTITUTION: A PTE film with a magnetic layer formed is set in the device shown in the figure and a diamond-like carbon thin film is formed by ECR plasma CVD method on the back surface of the PET film to form a back coating layer. By this method, the film forming rate of the back coating layer is improved, and even when a magnetic layer of a metal material having high rigidity such as cobalt is formed, a back coating layer having enough hardness corresponding to the magnetic layer can be easily formed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録媒体、例えば磁気テープには、
支持体であるフィルム上に磁性粉をバインダーに分散さ
せた磁性塗料を塗布してなる塗布型テープと、フィルム
上に真空中で金属を蒸着してなるバインダーを全く含ま
ない蒸着型テープとがある。蒸着型テープは、磁性層に
バインダーを含まないことから磁性材料の密度を高めら
れるため、高密度記録に有望であるとされている。
2. Description of the Related Art Magnetic recording media, such as magnetic tape,
There are coating tapes made by applying a magnetic paint in which magnetic powder is dispersed in a binder on a film that is a support, and vapor deposition tapes made by vapor-depositing a metal on a film and containing no binder at all. . The vapor-deposited tape is promising for high-density recording because the magnetic layer does not contain a binder and thus the density of the magnetic material can be increased.

【0003】現在発売又は開発されている蒸着型テープ
は、PET(ポリエチレンテレフタレート)、ポリイミ
ド、アラミド等の支持体上に、真空蒸着法を用いて金属
を蒸着させた磁性層を有する。更に、磁性層を保護し、
また記録・再生用ヘッドとの接触をスムーズにするため
の潤滑剤としての働きを持たせるためにトップコート層
が形成されたり、或いは、磁性層の反対側の面にカーボ
ンブラック及びセラミックス粉末 (粒径10〜100nm)をバ
インダー(塩ビ系、ウレタン系、硝化綿系などを単独又
は混合して用いる)中に分散させ、グラビア法、リバー
ス法又はダイ塗工方式で、乾燥後の厚さが 0.4〜1.0 μ
m になるように塗布してバックコート層を形成すること
が一般に行われてきた。
The vapor-deposited tapes currently on sale or under development have a magnetic layer formed by vapor-depositing a metal on a support such as PET (polyethylene terephthalate), polyimide or aramid using a vacuum vapor deposition method. Furthermore, protect the magnetic layer,
Further, a top coat layer is formed to have a function as a lubricant for smooth contact with the recording / reproducing head, or carbon black and ceramic powder (grains) are formed on the surface opposite to the magnetic layer. (Diameter 10 to 100 nm) is dispersed in a binder (a vinyl chloride type, a urethane type, a nitrified cotton type, etc. is used alone or as a mixture), and the thickness after drying is 0.4 by a gravure method, a reverse method or a die coating method. ~ 1.0 μ
It has been a common practice to apply a coating of m to form a backcoat layer.

【0004】しかしながら、バックコート層を先に塗布
してから磁性層を真空蒸着すると、真空系でバックコー
ト層からの脱ガス(バインダーの溶剤から発生する)を
生じ、真空度が落ちる結果、蒸着がうまくいかないとい
う問題点があり、従来は真空中で磁性層を蒸着した後、
大気中にテープを取出してから、バックコート層を塗布
している。
However, when the backcoat layer is first applied and then the magnetic layer is vacuum-deposited, degassing (generated from the solvent of the binder) is generated from the backcoat layer in a vacuum system, and the degree of vacuum is lowered. There is a problem that does not work, conventionally, after depositing the magnetic layer in vacuum,
The back coat layer is applied after the tape is taken out into the atmosphere.

【0005】しかし、この方法によってもバックコート
層を塗布する工程で、磁性層が汚れたり、ゴミが付着し
て、ドロップアウト検査(磁気テープを検査用のカセッ
トデッキに入れて一定の信号を記録しつつ再生し、テー
プ表面の傷や異物の付着などによる再生信号の欠落であ
るところのドロップアウトを検出する検査)において、
ドロップアウト数を増加させるという問題点があった。
However, even with this method, in the step of applying the back coat layer, the magnetic layer becomes dirty or dust is attached, and a dropout inspection (a magnetic tape is put in a cassette deck for inspection and a certain signal is recorded). In the inspection to detect the dropout where the reproduction signal is missing due to scratches on the tape surface or adhesion of foreign matter).
There was a problem of increasing the number of dropouts.

【0006】また、カーボンブラックは導電性は良好で
あるが、バインダーを入れるため、導電性が低下してし
まい、帯電防止効果が低下するという問題点があった。
Further, although carbon black has good conductivity, there is a problem in that since the binder is added, the conductivity is lowered and the antistatic effect is lowered.

【0007】以上のような問題点を解決すべく、従来空
気中で塗布により形成していたバックコート層を真空中
での金属蒸着により形成することが行なわれている。
In order to solve the above problems, a back coat layer which has been conventionally formed by coating in air is formed by metal vapor deposition in vacuum.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、金属蒸
着により真空中でバックコート層を形成する場合、バッ
クコート層の表面粗さをコントロールすることが難し
く、特にRaを大きくするとこが困難である。
However, when the backcoat layer is formed in vacuum by metal deposition, it is difficult to control the surface roughness of the backcoat layer, and it is particularly difficult to increase Ra.

【0009】また、磁気特性に優れた金属材料、例えば
コバルトからなる磁性層を2000Å程度の厚さで形成して
性能を向上させようとする場合、バックコート層はこれ
に対抗し得る十分な硬さを有することが要求されるが、
そのような硬度を有するバックコート層を金属蒸着によ
り形成することは困難である。しかも、十分な硬度を得
るために膜厚を厚くしようとすると成膜速度が低下し、
生産性の低下につながる。
Further, when a magnetic layer made of a metal material having excellent magnetic properties, for example, cobalt is formed with a thickness of about 2000Å to improve the performance, the back coat layer has a sufficient hardness to withstand this. Is required to have
It is difficult to form a back coat layer having such hardness by metal vapor deposition. Moreover, when trying to increase the film thickness in order to obtain sufficient hardness, the film formation rate decreases,
This leads to a decrease in productivity.

【0010】そこで本発明の目的は、磁気記録媒体のバ
ックコート層の形成において、表面粗さや膜の硬度等の
膜質を容易に制御でき、且つ成膜速度が速く生産性を向
上できる方法を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a method capable of easily controlling film quality such as surface roughness and film hardness in forming a back coat layer of a magnetic recording medium, and increasing a film forming speed to improve productivity. It is to be.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の目的
を達成するために鋭意研究した結果、本発明を完成する
に至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted extensive studies to achieve the above object, and as a result, completed the present invention.

【0012】すなわち本発明は、支持体上の磁性層蒸着
面と反対側の面にバックコート層を形成するに際し、支
持体の前記反対側の面に蒸着により炭素を付着させて炭
素薄膜からなるバックコート層を形成することを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。
That is, according to the present invention, when a back coat layer is formed on the surface of the support opposite to the magnetic layer deposition surface, carbon is deposited by vapor deposition on the opposite surface of the support to form a carbon thin film. The present invention provides a method for manufacturing a magnetic recording medium, which comprises forming a back coat layer.

【0013】本発明の磁気記録媒体の製造方法におい
て、炭素の蒸着による炭素薄膜の形成は ECRプラズマCV
D 法或いはアーク放電により実施される。
In the method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention, the carbon thin film is formed by vapor deposition of carbon by ECR plasma CV.
D method or arc discharge is used.

【0014】〔ECRプラズマCVD法〕ECRプラズマCVD 法
は、高真空中で炭素源となるガスにマイクロ波を印加し
てガスをプラズマ化し、炭素薄膜を形成する方法であ
る。この方法では支持体の磁性層が形成される面と反対
の面にダイヤモンドライクカーボン薄膜からなるバック
コート層が形成される。ダイヤモンドライクカーボン薄
膜は非晶質炭素膜であり、グラファイト結合とダイヤモ
ンド結合が混在する構造と考えられている。
[ECR Plasma CVD Method] The ECR plasma CVD method is a method of applying a microwave to a gas serving as a carbon source in a high vacuum to convert the gas into a plasma to form a carbon thin film. In this method, a back coat layer made of a diamond-like carbon thin film is formed on the surface of the support opposite to the surface on which the magnetic layer is formed. The diamond-like carbon thin film is an amorphous carbon film and is considered to have a structure in which graphite bonds and diamond bonds are mixed.

【0015】ECR プラズマCVD により炭素薄膜からなる
バックコート層を形成する場合、炭素源としてはメタ
ン、エタン、プロパン、ブタン等の低級炭化水素のガス
の単独、或いはこれらとアルゴンガス或いは水素ガスを
混合した混合ガスを用いることもできる。
When the back coat layer consisting of a carbon thin film is formed by ECR plasma CVD, the carbon source may be a lower hydrocarbon gas such as methane, ethane, propane, butane, or a mixture thereof with an argon gas or a hydrogen gas. The mixed gas described above can also be used.

【0016】炭素源となるガスを最初に ECRプラズマCV
D 法にかけて成膜する場合、ECR プラズマCVD 法は炭素
薄膜を形成する公知の方法に準じて行えばよく、通常マ
イクロ波の波長は2.45GHz 、出力は500W程度であり、真
空度が10-4〜10-1Torrとなるように炭素源となるガスを
流す。
First, the carbon source gas is ECR plasma CV
When the film is formed by the D method, the ECR plasma CVD method may be performed according to a known method for forming a carbon thin film, and usually the microwave wavelength is 2.45 GHz, the output is about 500 W, and the degree of vacuum is 10 -4. A carbon source gas is flowed so as to be about 10 -1 Torr.

【0017】炭素薄膜を形成した後、当該炭素薄膜をエ
ッチングして所望の膜質に調整することが望ましい。炭
素薄膜をエッチングする方法はイオンエッチングが好ま
しく、具体的にはカウフマン型のイオンガンを用いて水
素ガスやアルゴンガスをイオン化してこれを炭素薄膜に
照射してグラファイト部分をエッチングする方法が最も
便利である。この場合も公知のイオンエッチング法に準
じて行えばよいが、イオン源となる水素ガスやアルゴン
ガスは真空度が10-6〜10-4Torrとなるように流し、出力
は 300〜2000 W程度である。
After the carbon thin film is formed, it is desirable to etch the carbon thin film to adjust it to a desired film quality. Ion etching is preferable as the method for etching the carbon thin film. Specifically, the most convenient method is to ionize hydrogen gas or argon gas using a Kauffman type ion gun and irradiate this on the carbon thin film to etch the graphite part. is there. In this case as well, it may be carried out according to a known ion etching method, but hydrogen gas or argon gas as an ion source is flown so that the degree of vacuum is 10 −6 to 10 −4 Torr, and the output is about 300 to 2000 W. Is.

【0018】また、炭素源となるガスと水素又はアルゴ
ンの混合ガスを用いる場合はその混合割合や流量等を調
節することにより所望の膜質を得ることができる。この
場合もダイヤモンドライクカーボン中のグラファイト部
分が水素イオンやアルゴンイオンによりエッチングさ
れ、よりダイヤモンドに近い膜が残るこの場合もECR プ
ラズマCVD 法は公知の方法に準じて行えばよい。
When a mixed gas of a carbon source gas and hydrogen or argon is used, a desired film quality can be obtained by adjusting the mixing ratio or flow rate. Also in this case, the graphite portion in the diamond-like carbon is etched by hydrogen ions or argon ions, and a film closer to diamond remains. In this case as well, the ECR plasma CVD method may be performed according to a known method.

【0019】〔アーク放電〕本発明において、炭素薄膜
の形成をアーク放電により行う場合、アーク放電は通常
の炭素膜作製用の装置を用いて行えばよい。アーク放電
には交流を用いる方法と交流を用いる方法があるが、そ
の何れでも適用できる。実施条件の一例としては、電極
としてグラファイトを用い、真空度10-3〜10-7Torr、電
極間の電圧は10〜200 V 、電流は100 A 以下、50〜100A
程度で行うが、直流法の場合はやや電流を低目とする。
[Arc Discharge] In the present invention, when the carbon thin film is formed by arc discharge, the arc discharge may be performed by using an ordinary apparatus for carbon film production. There are a method of using alternating current and a method of using alternating current for the arc discharge, and any of them can be applied. As an example of the implementation conditions, graphite is used as an electrode, the degree of vacuum is 10 -3 to 10 -7 Torr, the voltage between the electrodes is 10 to 200 V, the current is 100 A or less, and 50 to 100 A.
However, in the case of the DC method, the current is rather low.

【0020】また、ルツボを電極とした低電圧アーク放
電法で炭素薄膜を形成することもできる。低電圧アーク
放電法は、熱陰極槽のフィラメントと蒸発槽のアノード
(ルツボ)の間で低電圧・大電流(例えば200 V 以下、
30A 以上)のアーク放電を起こし、放電軸に平行な磁界
で集束し、ルツボの蒸発物質(この場合、グラファイト
等の炭素源)を加熱蒸発し炭素薄膜を形成する方法であ
る。
Further, the carbon thin film can be formed by a low voltage arc discharge method using a crucible as an electrode. The low-voltage arc discharge method uses a low-voltage, large-current (for example, 200 V or less,
This is a method of forming a carbon thin film by causing an arc discharge of 30 A or more), focusing in a magnetic field parallel to the discharge axis, and heating and evaporating the evaporation material of the crucible (in this case, a carbon source such as graphite).

【0021】〔バックコート層〕本発明により形成され
る炭素薄膜からなるバックコート層は単層でも重層でも
よい。バックコート層の厚さは限定されないが、 500〜
10000 Åが好ましい。
[Backcoat Layer] The backcoat layer formed of the carbon thin film according to the present invention may be a single layer or multiple layers. The thickness of the back coat layer is not limited, but 500 to
10000Å is preferred.

【0022】また、バックコート層の表面粗さ (Ra) は
10〜30nm、摩擦係数(μ)は0.1 〜0.5 程度を目標とす
べきであるが、もちろんこの範囲外であってもよい。
The surface roughness (Ra) of the back coat layer is
The target should be 10 to 30 nm and the friction coefficient (μ) should be about 0.1 to 0.5, but of course it may be outside this range.

【0023】〔磁性層〕本発明において磁性層は真空中
で蒸着により形成される。磁性層を形成する磁性材料と
しては、通常の金属薄膜型の磁気記録媒体の製造に用い
られる強磁性金属材料が挙げられ、例えばCo, Ni, Fe等
の強磁性金属、また、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co
−Ni、Fe−Fh、Fe−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Y 、Co−
La、Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−Cu、Mn−B
i、Mn−Sb、Mn−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co
−Cr、Ni−Co−Cr等の強磁性合金が挙げられる。磁性層
としては鉄の薄膜或いは鉄を主体とする強磁性合金の薄
膜が好ましく、特に、鉄、コバルト、ニッケルを主体と
する強磁性合金及びこれらの窒化物もしくは炭化物から
選ばれる少なくとも1種が好ましい。
[Magnetic Layer] In the present invention, the magnetic layer is formed by vacuum evaporation. Examples of the magnetic material forming the magnetic layer include ferromagnetic metal materials used in the production of ordinary metal thin film type magnetic recording media.For example, ferromagnetic metals such as Co, Ni and Fe, and Fe-Co, Fe-Ni, Co-Ni, Fe-Co
-Ni, Fe-Fh, Fe-Cu, Co-Cu, Co-Au, Co-Y, Co-
La, Co-Pr, Co-Gd, Co-Sm, Co-Pt, Ni-Cu, Mn-B
i, Mn-Sb, Mn-Al, Fe-Cr, Co-Cr, Ni-Cr, Fe-Co
Examples include ferromagnetic alloys such as -Cr and Ni-Co-Cr. As the magnetic layer, a thin film of iron or a thin film of a ferromagnetic alloy containing iron as a main component is preferable, and at least one selected from a ferromagnetic alloy containing iron, cobalt, nickel as a main component and nitrides or carbides thereof is preferable. .

【0024】高密度記録のためには磁気記録媒体の磁性
層は、斜め蒸着により基材上に形成することが好まし
い。斜め蒸着の方法は特に限定されず、従来公知の方法
に準ずる。蒸着の際の真空度は10-4〜10-7Torr程度であ
る。蒸着による磁性層は単層構造でも多層構造の何れで
も良く、特に、酸化性ガスを導入して磁性層表面に酸化
物を形成することにより、耐久性の向上を図ることがで
きる。なお、本発明においては、磁性層は一層或いは多
層とすることができるが、蒸着で多層の磁性層を形成す
る場合、磁性層の厚さは、二層の場合、下層の磁性層の
厚さが 100〜2000Å、上層の磁性層の厚さが50〜1000Å
が好ましく、三層の場合、下層の磁性層の厚さが100 〜
2000Å、中間の磁性層の厚さが 100〜1000Å、上層の磁
性層の厚さが50〜1000Åが好ましい。また、磁性層の数
は高周波記録に対応するには、多い方が良いが、実用的
な範囲としては二〜五層が適当と考えられる。
For high density recording, the magnetic layer of the magnetic recording medium is preferably formed on the substrate by oblique vapor deposition. The method of oblique vapor deposition is not particularly limited and is based on a conventionally known method. The degree of vacuum during vapor deposition is about 10 −4 to 10 −7 Torr. The magnetic layer formed by vapor deposition may have either a single-layer structure or a multi-layer structure, and in particular, the durability can be improved by introducing an oxidizing gas to form an oxide on the surface of the magnetic layer. In the present invention, the magnetic layer may be a single layer or a multi-layer. However, when forming a multi-layer magnetic layer by vapor deposition, the thickness of the magnetic layer is two, in the case of two layers, the thickness of the lower magnetic layer. Is 100-2000Å, the thickness of the upper magnetic layer is 50-1000Å
In the case of three layers, the thickness of the lower magnetic layer is 100 ~
It is preferable that the thickness of the magnetic layer in the middle is 2000Å, the thickness of the intermediate magnetic layer is 100 to 1000Å, and the thickness of the upper magnetic layer is 50 to 1000Å. Further, the number of magnetic layers is preferably as large as possible for high frequency recording, but it is considered that two to five layers are suitable as a practical range.

【0025】〔支持体〕本発明の磁気記録媒体の製造方
法において、支持体としては、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレートのようなポリエステ
ル;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン; セルローストリアセテート、セルロースジアセテー
ト等のセルロース誘導体;ポリカーボネート;ポリ塩化
ビニル;ポリイミド;芳香族ポリアミド等のプラスチッ
ク等が使用される。これらの支持体の厚さは3〜50μm
程度である。
[Support] In the method for producing a magnetic recording medium of the present invention, the support includes polyester such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyolefin such as polyethylene and polypropylene; cellulose such as cellulose triacetate and cellulose diacetate. Derivatives; polycarbonate; polyvinyl chloride; polyimide; plastics such as aromatic polyamide are used. The thickness of these supports is 3-50 μm
It is a degree.

【0026】〔本発明の製造方法〕本発明の磁気記録媒
体の製造方法は、磁性層とバックコート層の両方を真空
中の蒸着により形成する。この場合、各層を形成する工
程を通じて真空状態を保って行うことも、或いはそれぞ
れの層を形成する工程で一旦真空を破って行うことはで
きるが、生産性の面からは真空を破らずに連続的に両方
の層を形成することが望ましい。また各層の形成順序は
問わない。
[Production Method of the Present Invention] In the production method of the magnetic recording medium of the present invention, both the magnetic layer and the back coat layer are formed by vapor deposition in vacuum. In this case, it is possible to maintain the vacuum state during the process of forming each layer, or to break the vacuum once in the process of forming each layer, but from the viewpoint of productivity, it is possible to continue without breaking the vacuum. It is desirable to form both layers. Further, the order of forming each layer does not matter.

【0027】〔本発明の磁気記録媒体〕本発明の磁気記
録媒体は、支持体の一方の面に形成された磁性層と、当
該磁性層が形成されている面と反対の面に形成されたバ
ックコート層とを有する磁気記録媒体において、前記バ
ックコート層が炭素薄膜からなることを特徴とする。磁
性層の厚さ、種類、バックコート層の厚さ、形成方法等
は前記した通りである。本発明の磁気記録媒体は、コバ
ルト等の剛性の高い磁性材料から形成された磁性層に対
抗できる硬度を有する。
[Magnetic Recording Medium of the Present Invention] A magnetic recording medium of the present invention is formed on a magnetic layer formed on one surface of a support and on a surface opposite to the surface on which the magnetic layer is formed. In a magnetic recording medium having a back coat layer, the back coat layer is made of a carbon thin film. The thickness and type of the magnetic layer, the thickness of the back coat layer, the forming method and the like are as described above. The magnetic recording medium of the present invention has a hardness that can withstand a magnetic layer formed of a magnetic material having high rigidity such as cobalt.

【0028】[0028]

【実施例】以下に本発明の一実施例を説明するが、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

【0029】実施例1 先ず、厚さ6.5 μm のPET フィルム上に真空蒸着法によ
りコバルトを付着させ、厚さ1000Åの磁性層を形成し
た。
Example 1 First, cobalt was deposited on a PET film having a thickness of 6.5 μm by a vacuum vapor deposition method to form a magnetic layer having a thickness of 1000 Å.

【0030】次に、磁性層を形成したPET フィルムを図
1に示す装置にセットし、PET フィルムの裏面(磁性層
が形成されている面と反対の面)に、 ECRプラズマCVD
法によるダイヤモンドライクカーボン薄膜の形成を行
い、バックコート層を形成した。かかる装置はチャンバ
1と、 ECRプラズマCVD 装置2と、磁性層が形成された
支持体6が走行する冷却キャン3と、イオンガン4、巻
き出しロール5と、巻き取りロール7を有する。図1
中、Aは炭素源となるガス、Bはマイクロ波、Cは水素
又はアルゴンガスを意味する。本実施例ではイオンガン
によるエッチングは行わなかった。
Next, the PET film on which the magnetic layer was formed was set in the apparatus shown in FIG. 1, and ECR plasma CVD was performed on the back surface of the PET film (the surface opposite to the surface on which the magnetic layer was formed).
A diamond-like carbon thin film was formed by the method to form a back coat layer. Such an apparatus has a chamber 1, an ECR plasma CVD apparatus 2, a cooling can 3 on which a support 6 having a magnetic layer formed thereon runs, an ion gun 4, an unwinding roll 5, and a winding roll 7. FIG.
Among them, A means a gas serving as a carbon source, B means a microwave, and C means hydrogen or argon gas. In this example, etching by an ion gun was not performed.

【0031】得られたバックコート層の厚さは500 Å
(オージェ電子分光により測定)であった。なお、ECR
プラズマCVD 法による成膜条件は以下の通りである。 マイクロ波波長:2.45GHz マイクロ波パワー:1kW 使用ガス: C2H6 ガス 100 SCCM , H2 ガス 40SCCM 真空度:4×10-3Torr フィルム走行速度:0.5m/分 更に、磁性層及びバックコート層が形成された上記PET
フィルムを大気中に取り出し、フィルムの両面に、パー
フルオロポリエーテル「FOMBLIN Z DOL 」〔アルコール
変性、モンテカチーニ (株) 製〕の0.05重量%溶液〔溶
媒はフッ素系の不活性液体「PF-5080 」(住友スリーエ
ム社)〕を、乾燥後の厚さが15Åとなるように塗布し、
次いで100 ℃で乾燥した。
The thickness of the obtained back coat layer is 500Å
(Measured by Auger electron spectroscopy). ECR
The film forming conditions by the plasma CVD method are as follows. Microwave wavelength: 2.45 GHz Microwave power: 1 kW Working gas: C 2 H 6 gas 100 SCCM, H 2 gas 40 SCCM Vacuum degree: 4 × 10 -3 Torr Film running speed: 0.5 m / min Furthermore, magnetic layer and back coat PET with the layer formed
The film was taken out into the air, and a 0.05 wt% solution of perfluoropolyether "FOMBLIN Z DOL" [alcohol-modified, Montecatini Co., Ltd.] was used on both sides of the film [solvent was a fluorine-based inert liquid "PF-5080"]. (Sumitomo 3M Co., Ltd.)] so that the thickness after drying is 15Å,
It was then dried at 100 ° C.

【0032】その後、磁気テープを大気中に取出し、8
mm幅にスリッタ(裁断)し、8mmのカセットに挿入し、
Hi−8用のビデオカセットを作製した。
After that, the magnetic tape was taken out into the atmosphere, and
Slit to a mm width and insert into an 8mm cassette,
A video cassette for Hi-8 was made.

【0033】<性能評価>上記により得たビデオカセッ
トの走行耐久性、ドロップアウト、平均表面粗さ(Ra)
及び摩擦係数(μ)を測定した。その結果を表1に示
す。
<Performance Evaluation> Running durability, dropout, and average surface roughness (Ra) of the video cassette obtained above.
And the friction coefficient (μ) were measured. Table 1 shows the results.

【0034】走行耐久性 ビデオカセットを1000回再生・録画を繰り返し、ジッタ
ー(画面のぶれ)の増加を市販のHi−8用VTR装置に
ジッターメーターを接続して測定した。
Running Durability The video cassette was repeatedly reproduced and recorded 1,000 times, and the increase in jitter (screen shake) was measured by connecting a jitter meter to a commercially available Hi-8 VTR device.

【0035】ドロップアウト ドロップアウトの測定は、ドロップアウトカウンタを用
い、10μs の間に−16dB出力が低下したものをドロッ
プアウトとした。表中には1分当りのドロップアウトの
数を示した。
Dropout For the measurement of dropout, a dropout counter was used, and a dropout of -16 dB output during 10 μs was taken as a dropout. The number of dropouts per minute is shown in the table.

【0036】実施例2 先ず、厚さ6.5 μm のPET フィルム上に真空蒸着法によ
りコバルトを付着させ、厚さ1000Åの磁性層を形成し
た。
Example 2 First, cobalt was deposited on a PET film having a thickness of 6.5 μm by a vacuum vapor deposition method to form a magnetic layer having a thickness of 1000 Å.

【0037】次に、磁性層を形成したPET フィルムを図
2に示す装置にセットし、PET フィルムの裏面(磁性層
が形成されている面と反対の面)に、アーク放電により
厚さが800 Å(オージェ電子分光により測定)となるよ
うに炭素薄膜を形成した。なお、アーク放電による成膜
条件は以下の通りである。 使用ガス: C2H6 ガス 100 SCCM 真空度:4×10-3Torr フィルム走行速度:0.5m/分 図2に示す装置はチャンバ1と、磁性層が形成された支
持体6が走行する冷却キャン3と、イオンガン4、巻き
出しロール5と、巻き取りロール7と、炭素棒8を有す
る。図2中、Cは水素又はアルゴンガスを意味する。
Next, the PET film having the magnetic layer formed thereon was set in the apparatus shown in FIG. 2, and a thickness of 800 was formed on the back surface of the PET film (the surface opposite to the surface on which the magnetic layer was formed) by arc discharge. A carbon thin film was formed so as to be Å (measured by Auger electron spectroscopy). The film forming conditions by arc discharge are as follows. Gas used: C 2 H 6 gas 100 SCCM Vacuum degree: 4 × 10 −3 Torr Film running speed: 0.5 m / min The apparatus shown in FIG. 2 is a cooling system in which a chamber 1 and a support 6 on which a magnetic layer is formed run. It has a can 3, an ion gun 4, an unwinding roll 5, a winding roll 7, and a carbon rod 8. In FIG. 2, C means hydrogen or argon gas.

【0038】その後、水素ガスとアルゴンガスの混合ガ
ス(1:1、流量 120SCCM)をカウフマン型イオン銃4
を用い、出力 800 W、加速電圧1kVでイオン化して炭素
薄膜に照射した。
After that, a mixed gas of hydrogen gas and argon gas (1: 1, flow rate 120 SCCM) was applied to the Kauffman type ion gun 4.
Was used for ionization at an output of 800 W and an acceleration voltage of 1 kV to irradiate a carbon thin film.

【0039】なお、アーク放電は交流法で行い、その成
膜条件は以下の通りである。図2中、8のグラファイト
電極に150Vの電圧をかけ、電流を50A 流してアーク放電
を起こさせ、グラファイトをフィルム上に付着させた。
この放電部の真空度は5×10-4Torrであった。
The arc discharge is performed by an alternating current method, and the film forming conditions are as follows. In FIG. 2, a voltage of 150 V was applied to the graphite electrode 8 and a current of 50 A was applied to cause arc discharge to deposit graphite on the film.
The degree of vacuum of this discharge part was 5 × 10 −4 Torr.

【0040】更に、磁性層及びバックコート層が形成さ
れた上記PET フィルムを大気中に取り出し、フィルムの
両面に、パーフルオロポリエーテル「FOMBLIN Z DOL 」
〔アルコール変性、モンテカチーニ (株) 製〕の0.05重
量%溶液〔溶媒はフッ素系の不活性液体「PF-5080 」
(住友スリーエム社)〕を、乾燥後の厚さが15Åとなる
ように塗布し、次いで100 ℃で乾燥した。
Further, the PET film having the magnetic layer and the back coat layer formed thereon was taken out into the air, and a perfluoropolyether "FOMBLIN Z DOL" was formed on both sides of the film.
0.05% by weight solution of [alcohol modified, Montecatini Co., Ltd.] [solvent is fluorine-based inert liquid "PF-5080"
(Sumitomo 3M Co., Ltd.)] was applied so that the thickness after drying would be 15Å, and then dried at 100 ° C.

【0041】その後実施例1と同様にビデオカセットを
作製し、実施例1と同様の評価を行った。その結果を表
1に示す。
After that, a video cassette was manufactured in the same manner as in Example 1, and the same evaluation as in Example 1 was performed. Table 1 shows the results.

【0042】実施例3 実施例1と同様にビデオカセットを作製し、実施例1と
同様の評価を行った。但し、バックコート層の形成は、
最初に ECRプラズマCVD 法によるダイヤモンドライクカ
ーボン薄膜の形成を行い、次いで当該ダイヤモンドライ
クカーボン薄膜をイオンエッチングして行った。
Example 3 A video cassette was manufactured in the same manner as in Example 1 and evaluated in the same manner as in Example 1. However, the formation of the back coat layer is
First, a diamond-like carbon thin film was formed by the ECR plasma CVD method, and then the diamond-like carbon thin film was ion-etched.

【0043】なお、ECR プラズマCVD 法による成膜条件
は以下の通りである。 マイクロ波波長:2.45GHz マイクロ波パワー:1kW 使用ガス: C2H6 ガス 100 SCCM 真空度:4×10-3Torr フィルム走行速度:0.5m/分 また、イオンエッチングの条件は以下の通りである。水
素とアルゴンの混合ガス(2:1、流量100SCCM )をカ
ウフマン型イオン銃を用い、出力1kW、加速電圧1kV加
速でイオン化してフィルムに照射した。またフィルムの
走行スピードは1m/分であった。表1に結果を示す。
The film forming conditions by the ECR plasma CVD method are as follows. Microwave wavelength: 2.45 GHz Microwave power: 1 kW Working gas: C 2 H 6 gas 100 SCCM Vacuum degree: 4 × 10 -3 Torr Film running speed: 0.5 m / min The conditions of ion etching are as follows: . A mixed gas of hydrogen and argon (2: 1, flow rate 100 SCCM) was ionized with a Kauffman type ion gun at an output of 1 kW and an acceleration voltage of 1 kV to irradiate the film. The running speed of the film was 1 m / min. The results are shown in Table 1.

【0044】比較例1 実施例1と同様にビデオカセットを作製し、実施例1と
同様の評価を行った。但し、バックコート層はフィルム
にCu−Al合金(15/85重量比)を厚さが1000Åとなるよ
うに蒸着して形成した。評価結果を表1に示す。
Comparative Example 1 A video cassette was manufactured in the same manner as in Example 1 and evaluated in the same manner as in Example 1. However, the back coat layer was formed by vapor-depositing a Cu-Al alloy (15/85 weight ratio) on the film to a thickness of 1000 liters. Table 1 shows the evaluation results.

【0045】[0045]

【表1】 [Table 1]

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、特
にコバルトのような剛性の高い磁性層が形成された磁気
記録媒体においても、これに十分対抗し得る硬度のバッ
クコート層を容易に形成することができる。しかも硬度
以外の表面粗さ等の膜質の制御も容易であり、走行耐久
性等も向上する。更に、バックコート層を形成する際の
成膜速度が向上するため、生産性の向上・品質の向上が
達成できる。
As described above, according to the present invention, even in a magnetic recording medium in which a magnetic layer having a high rigidity such as cobalt is formed, a back coat layer having a hardness that can sufficiently oppose this can be easily formed. Can be formed. Moreover, it is easy to control the film quality such as surface roughness other than hardness, and the running durability and the like are improved. Further, since the film forming speed at the time of forming the back coat layer is improved, the productivity and the quality can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明で用いる ECRプラズマCVD 装置の概略
図。
FIG. 1 is a schematic diagram of an ECR plasma CVD apparatus used in the present invention.

【図2】本発明で用いるアーク放電装置の概略図。FIG. 2 is a schematic diagram of an arc discharge device used in the present invention.

【図3】実施例で形成された炭素薄膜のEELSによる分析
結果を示すチャート。
FIG. 3 is a chart showing the results of EELS analysis of the carbon thin films formed in the examples.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チャンバ 2 ECR プラズマCVD 装置 3 冷却キャン 4 イオンガン 8 炭素棒 1 chamber 2 ECR plasma CVD equipment 3 cooling can 4 ion gun 8 carbon rod

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水野谷 博英 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606番地 花 王株式会社情報科学研究所内 (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606番地 花 王株式会社情報科学研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hirohide Mizunoya 2606 Akabane, Kaigamachi, Haga-gun, Tochigi Prefecture Kao Corporation Information Science Research Institute (72) Inventor Akira Shiga 2606 Akabane, Kaiga-cho, Haga-gun, Tochigi Prefecture Hana Information Science Laboratory, Wang Co., Ltd.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上の磁性層蒸着面と反対側の面に
バックコート層を形成するに際し、支持体の前記反対側
の面に蒸着により炭素を付着させて炭素薄膜からなるバ
ックコート層を形成することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
1. When forming a backcoat layer on the surface of the support opposite to the magnetic layer deposition surface, carbon is deposited by vapor deposition on the opposite surface of the support to form a backcoat layer comprising a carbon thin film. Forming a magnetic recording medium.
【請求項2】 前記蒸着を ECRプラズマCVD 法により行
う請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法。
2. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the vapor deposition is performed by an ECR plasma CVD method.
【請求項3】 前記蒸着をアーク放電により行う請求項
1記載の磁気記録媒体の製造方法。
3. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the vapor deposition is performed by arc discharge.
【請求項4】 前記炭素薄膜をイオンエッチングする工
程を含む請求項1〜3の何れか1項記載の磁気記録媒体
の製造方法。
4. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, including a step of ion-etching the carbon thin film.
【請求項5】 更にバックコート層上に潤滑剤を付着さ
せてトップコート層を形成する工程を含む請求項1〜4
の何れか1項記載の磁気記録媒体の製造方法。
5. The method further comprising the step of forming a top coat layer by attaching a lubricant onto the back coat layer.
A method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of 1.
【請求項6】 支持体の一方の面に形成された磁性層
と、当該磁性層が形成されている面と反対の面に形成さ
れたバックコート層とを有する磁気記録媒体において、
前記バックコート層が炭素薄膜からなることを特徴とす
る磁気記録媒体。
6. A magnetic recording medium having a magnetic layer formed on one surface of a support and a back coat layer formed on the surface opposite to the surface on which the magnetic layer is formed.
A magnetic recording medium, wherein the back coat layer comprises a carbon thin film.
【請求項7】 前記炭素薄膜が、ダイヤモンドライクカ
ーボン薄膜である請求項6記載の磁気記録媒体。
7. The magnetic recording medium according to claim 6, wherein the carbon thin film is a diamond-like carbon thin film.
【請求項8】 前記炭素薄膜が、グラファイト薄膜であ
る請求項6記載の磁気記録媒体。
8. The magnetic recording medium according to claim 6, wherein the carbon thin film is a graphite thin film.
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