JPH09258205A - Color liquid crystal display device - Google Patents

Color liquid crystal display device

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JPH09258205A
JPH09258205A JP6072996A JP6072996A JPH09258205A JP H09258205 A JPH09258205 A JP H09258205A JP 6072996 A JP6072996 A JP 6072996A JP 6072996 A JP6072996 A JP 6072996A JP H09258205 A JPH09258205 A JP H09258205A
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JP
Japan
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electrode
substrate
liquid crystal
crystal display
display device
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP6072996A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Kubota
篤 窪田
Kaoru Arai
薫 新井
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH09258205A publication Critical patent/JPH09258205A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simplify the constitution of electrode terminal part, to suppress the occurrence of electrical defect, to improve the adhesion property between a TFT substrate and a CF substrate, to improve the yield of production, and to decrease the number of production stages by forming the electrode terminal at the electrode terminal as a single layer. SOLUTION: An auxiliary electrode 26 consisting of CR is formed on the CF substrate 24 side. A gate electrode 22 consisting of AL and gate terminal 23 consisting of ITO are connected by a connector 28 consisting of Ag paste with the auxiliary electrode 26 as a joiner. The electrode terminal part of the TFT substrate 21 side is composed of the signal layer of the gate terminal 23 along in this constitution and therefore, the possibility that the electric defect arises is low. The adhesion property of the case the TFT substrate 21 and the CF substrate 24 are such to each other by using a sealing material 29 is good. Both of the gate electrode 22 and the gate terminal 23 are the single layers but the conductive connection is executed without direct contact with each other and, therefore, the problem of insufficient adhesion property does not occur.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー・フィルタ
基板並びにTFT(thin film transi
stor)基板を備え、電極端子構造を改良したカラー
液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter substrate and a thin film transistor (TFT).
Stor) substrate and an improved electrode terminal structure.

【0002】一般に、液晶表示装置は、薄型、軽量、低
消費電力などの利点を活かし、様々な分野で多用されて
いて、大型化、高精細化、大容量化、カラー化が要求さ
れていて、製造歩留りの向上及び高品質化が課題になっ
ている。
In general, liquid crystal display devices are widely used in various fields by taking advantage of thinness, light weight, low power consumption, etc., and are required to be large in size, high in definition, large in capacity, and color. However, improvement of manufacturing yield and improvement of quality have become problems.

【0003】本発明に依れば、前記したような要求或い
は課題に応える一手段を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide one means for responding to the above-mentioned requirements or problems.

【0004】[0004]

【従来の技術】現在、液晶の駆動方式は、TFT駆動方
式が主流であり、高品質の表示画像が得られるのである
が、多層の積層構造が必要である。
2. Description of the Related Art At present, as a liquid crystal driving method, a TFT driving method is mainly used and a high quality display image can be obtained, but a multilayer laminated structure is required.

【0005】図5は従来のTFT駆動方式に依る液晶表
示装置に於けるTFT基板の構成を表す要部切断側面図
である。
FIG. 5 is a cutaway side view of a main part showing a structure of a TFT substrate in a liquid crystal display device according to a conventional TFT driving method.

【0006】図に於いて、1はTFT基板に於けるガラ
ス基板、2はAlからなるゲート端子、3はSiNから
なる断線防止膜、4はTiからなる中間電極層、5はS
iNからなる断線防止膜、6はITO(indium
tin oxide)からなるゲート端子、7は電極端
子部をそれぞれ示している。
In the figure, 1 is a glass substrate in a TFT substrate, 2 is a gate terminal made of Al, 3 is a disconnection prevention film made of SiN, 4 is an intermediate electrode layer made of Ti, and 5 is S.
The disconnection prevention film made of iN, 6 is ITO (indium)
A gate terminal made of tin oxide, and 7 are electrode terminal portions, respectively.

【0007】Alからなるゲート端子2とITOからな
るゲート端子6を接続するのにTiからなる中間電極層
4を介在しているのは、ITOとAlとの密着性が悪
く、接触抵抗が高いのを解消させる為である。
The intermediary of the intermediate electrode layer 4 made of Ti for connecting the gate terminal 2 made of Al and the gate terminal 6 made of ITO is that the adhesion between ITO and Al is poor and the contact resistance is high. This is to eliminate the problem.

【0008】SiNからなる断線防止膜3或いは5は、
各電極・配線などを積層することで生成される段差に起
因して断線が起こるのを防ぐ役割を果たすものである。
The disconnection prevention film 3 or 5 made of SiN is
It plays a role of preventing disconnection due to a step generated by stacking each electrode / wiring.

【0009】ITOからなるゲート端子6を最上層にし
ている理由は、TAB(tapeautomated
bonding)などに於ける実装部品と接続した際の
密着力が高いことに依るものであり、Alなどの金属電
極に実装することは、可能ではあるが、密着力が低いの
で実用化されていない。
The reason why the gate terminal 6 made of ITO is the uppermost layer is that the TAB (tape automated) is used.
It is possible to mount it on a metal electrode such as Al, but it is not practically used because it has low adhesion. .

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】前記したように、従来
のTFT駆動方式の液晶表示装置に於いては、多層構成
になる為、製造プロセスが複雑で、コストが高くなる旨
の問題があり、特に、電極端子部に於いては、その多層
構成に起因して、導通不良や隣接導電パターン間の短絡
など、電気的な不良が発生し易い。
As described above, the conventional TFT driving type liquid crystal display device has a problem that the manufacturing process is complicated and the cost is high because of the multi-layer structure. In particular, in the electrode terminal portion, due to the multi-layer structure, electrical defects such as conduction defects and short circuits between adjacent conductive patterns are likely to occur.

【0011】また、TFT基板とカラー・フィルタ(c
olor filter:CF)基板とは、電極端子部
にシール材を設けて貼り合わせるようにしている。
Further, the TFT substrate and the color filter (c
A color filter (CF) substrate is provided with a sealing material on the electrode terminal portion to be bonded.

【0012】図6はTFT基板とCF基板とを貼り合わ
せる場合を説明する為の液晶表示装置を表す要部切断側
面図である。
FIG. 6 is a side sectional view showing a main part of a liquid crystal display device for explaining a case where a TFT substrate and a CF substrate are bonded together.

【0013】図に於いて、11はTFT基板、12は多
層の電極端子部、13はCF基板、14はシール材、1
5は液晶層をそれぞれ示している。
In the figure, 11 is a TFT substrate, 12 is a multi-layered electrode terminal portion, 13 is a CF substrate, 14 is a sealing material, 1
Reference numerals 5 denote liquid crystal layers, respectively.

【0014】このような構造であるから、電極端子部が
多層構造であれば、電極が単層である場合と比較する
と、TFT基板11とCF基板13間の密着力が小さい
ことは当然である。
Due to such a structure, if the electrode terminal portion is a multi-layer structure, the adhesive force between the TFT substrate 11 and the CF substrate 13 is naturally small as compared with the case where the electrode is a single layer. .

【0015】本発明は、液晶表示装置に於ける電極端子
部の構成を単純化し、電気的不良の発生を抑止すると共
にTFT基板とCF基板との密着性を改善し、製造歩留
りの向上と製造工程数の削減を実現しようとする。
The present invention simplifies the structure of the electrode terminal portion in the liquid crystal display device, suppresses the occurrence of electrical defects, improves the adhesion between the TFT substrate and the CF substrate, and improves the manufacturing yield and manufacturing. We try to realize the reduction of the number of processes.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明では、電極端子部
に於ける電極端子を単層化し、TFT基板とCF基板と
を貼り合わせる場合の密着性を向上させることが基本に
なっている。
According to the present invention, the electrode terminal in the electrode terminal portion is made into a single layer to improve the adhesion when the TFT substrate and the CF substrate are bonded together.

【0017】図1は本発明の原理を解説する為の液晶表
示装置の特に電極端子部近傍を表した要部切断側面図で
ある。
FIG. 1 is a sectional side view of a main part of the liquid crystal display device for explaining the principle of the present invention, particularly showing the vicinity of the electrode terminal part.

【0018】図に於いて、21はTFT基板、21Aは
ガラス基板、22はAlからなるゲート電極、23はI
TOからなるゲート端子、24はCF基板、24Aはガ
ラス基板、25はCrからなるブラック・マトリクス・
パターン、26はCrからなる補助電極、27はCFパ
ターン、28はAgペーストからなる接続体、29はシ
ール材をそれぞれ示している。
In the figure, 21 is a TFT substrate, 21A is a glass substrate, 22 is a gate electrode made of Al, and 23 is I.
A gate terminal made of TO, a CF substrate 24, a glass substrate 24A, and a black matrix 25 made of Cr.
A pattern, 26 is an auxiliary electrode made of Cr, 27 is a CF pattern, 28 is a connection body made of Ag paste, and 29 is a sealant.

【0019】図から明らかなように、本発明では、CF
基板24側にCrからなる補助電極26を形成してあ
り、この補助電極26を中継ぎとして、TFT基板21
に於けるAlからなるゲート電極22とITOからなる
ゲート端子23とをAgペーストからなる接続体28で
結んでいる。
As is clear from the figure, in the present invention, CF
An auxiliary electrode 26 made of Cr is formed on the substrate 24 side, and the auxiliary electrode 26 is used as a relay for the TFT substrate 21.
In the above, the gate electrode 22 made of Al and the gate terminal 23 made of ITO are connected by the connection body 28 made of Ag paste.

【0020】前記したところから、本発明に依る液晶表
示装置に於いては、
From the above, in the liquid crystal display device according to the present invention,

【0021】(1)相対向する一対の基板(例えばTF
T基板21及びCF基板24)に於ける一方の基板(例
えばTFT基板21)上に形成された電極(例えばAl
からなるゲート電極22)及び該電極とは電気的に隔離
されて同じ基板上に形成され且つ該電極を外部に導出す
る為の単層の端子(例えばITOからなるゲート端子2
3)と、前記一対の基板に於ける他方の基板(例えばC
F基板24)上に在って前記電極と前記端子との離隔さ
れた領域に対向して形成された補助電極(例えばCrか
らなる補助電極26)と、前記電極及び前記補助電極及
び前記端子とを電気的に接続する接続体(例えばAgペ
ーストからなる接続体28)と、前記相対向する一対の
基板を貼り合わせる為に介在し且つ少なくとも一部が前
記端子上に掛かって設けられたシール材(例えばシール
材29)とを備えてなることを特徴とするか、或いは、
(1) A pair of substrates facing each other (for example, TF)
An electrode (for example, Al) formed on one of the T substrate 21 and the CF substrate 24 (for example, the TFT substrate 21)
Gate electrode 22) and a single-layer terminal (for example, a gate terminal 2 made of ITO) that is electrically isolated from the electrode and is formed on the same substrate and leads the electrode to the outside.
3) and the other substrate of the pair of substrates (for example, C
An auxiliary electrode (for example, an auxiliary electrode 26 made of Cr) formed on the F substrate 24) so as to face a region where the electrode and the terminal are separated from each other, and the electrode, the auxiliary electrode, and the terminal. A sealant provided for electrically bonding a connector (for example, a connector 28 made of Ag paste) and at least a part of the sealant which is interposed to bond the pair of opposed substrates to each other. (For example, a sealing material 29), or

【0022】(2)前記(1)に於いて、相対向する一
対の基板がTFT基板及びカラー・フィルタ基板であっ
て且つ補助電極が該カラー・フィルタ基板に於けるブラ
ック・マトリクス・パターン(例えばブラック・マトリ
クス・パターン25)を構成する材料膜(例えばCr
膜)の一部を利用して形成したものであることを特徴と
するか、或いは、
(2) In the above (1), the pair of substrates facing each other is a TFT substrate and a color filter substrate, and the auxiliary electrode is a black matrix pattern (eg, a black matrix pattern) on the color filter substrate. Material film (eg, Cr) forming the black matrix pattern 25
Film) is formed by utilizing a part of the film, or

【0023】(3)前記(1)に於いて、相対向する一
対の基板がTFT基板及びカラー・フィルタ基板であっ
て且つ補助電極が該カラー・フィルタ基板に於ける表示
電極(例えば表示電極35:図2参照)を構成する材料
膜(例えばITO膜)の一部を利用して形成したもので
あることを特徴とするか、或いは、
(3) In (1), the pair of substrates facing each other are a TFT substrate and a color filter substrate, and the auxiliary electrode is a display electrode (for example, the display electrode 35) on the color filter substrate. : See FIG. 2), which is formed by utilizing a part of a material film (for example, an ITO film) constituting the film, or

【0024】(4)前記(1)に於いて、相対向する一
対の基板がTFT基板及びカラー・フィルタ基板であっ
て且つ補助電極が該カラー・フィルタ基板に於けるブラ
ック・マトリクス・パターンを構成する材料膜及び表示
電極を構成する材料膜が積層されたものを利用して形成
したことを特徴とするか、或いは、
(4) In the above (1), the pair of substrates facing each other are a TFT substrate and a color filter substrate, and the auxiliary electrodes form a black matrix pattern on the color filter substrate. Characterized in that it is formed by using a laminated material film for forming the material film and the material film forming the display electrode, or

【0025】(5)前記(1)又は(2)又は(4)に
於いて、補助電極が不透明な材料(例えば金属膜)から
なり且つ接続体との接続部分近傍に該接続体の位置を視
認する為の切欠部分(例えば切欠部分33A:図4参
照)が形成された補助電極を備えてなることを特徴とす
るか、或いは、
(5) In the above (1), (2) or (4), the auxiliary electrode is made of an opaque material (for example, a metal film) and the position of the connecting body is provided near the connecting portion with the connecting body. It is characterized by comprising an auxiliary electrode in which a notch portion (for example, notch portion 33A: see FIG. 4) for visual recognition is formed, or

【0026】(6)前記(1)乃至(5)の何れか1に
於いて、接続体が金属からなるバンプであることを特徴
とする。
(6) In any one of the above (1) to (5), the connecting body is a bump made of metal.

【0027】前記手段を採ることに依り、TFT基板側
の電極端子部は、ITOからなるゲート端子のみの単層
で構成されていることから電気的不良が起きる可能性は
非常に低くなり、そして、シール材を用いてTFT基板
とCF基板とを貼り合わせた場合の密着性は多層の場合
に比較すると遙に良好であり、また、TFT基板に於け
るゲート電極と電極端子部に於けるゲート端子は、両者
ともに単層でありながら、それ等の導電接続は直接接触
させることなく行われているので、両者間の密着性不良
の問題は発生しない。
By adopting the above means, since the electrode terminal portion on the TFT substrate side is composed of a single layer of only the gate terminal made of ITO, the possibility of electrical failure is extremely low, and Adhesion when a TFT substrate and a CF substrate are bonded together by using a sealing material is much better than that in the case of a multi-layer structure, and the gate electrode and the gate in the electrode terminal portion of the TFT substrate are much better. Although the terminals are both single-layered, their conductive connections are made without direct contact, so that the problem of poor adhesion between them does not occur.

【0028】このように、構成が簡単であることから、
多層構成の場合と比較して、成膜工程、リソグラフィ工
程、エッチング工程などパターン形成工程の全てに亙っ
て工程数を削減することができる為、製造歩留りの向上
及び高品質化を容易に達成することができる。
Since the structure is simple as described above,
Compared with the case of a multi-layer structure, the number of steps can be reduced throughout the pattern formation process such as film formation process, lithography process, etching process, etc., so improvement of manufacturing yield and high quality can be easily achieved. can do.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】図2及び図3は本発明に依る実施
の形態を製造する場合について解説する為の工程要所に
於ける液晶表示装置を表す要部切断側面図であり、以
下、これ等の図を参照しつつ説明する。
2 and 3 are side sectional views showing a liquid crystal display device in a process key point for explaining a case of manufacturing an embodiment according to the present invention. Description will be given with reference to these drawings.

【0030】図2(A)参照 2−(1) スパッタリング法を適用することに依り、ガラス基板3
1上に厚さが例えば0.1〔μm〕のCr膜を形成す
る。
See FIG. 2A. 2- (1) By applying the sputtering method, the glass substrate 3
A Cr film having a thickness of, for example, 0.1 [μm] is formed on 1.

【0031】2−(2) リソグラフィ技術に於けるレジスト・プロセス、及び、
エッチャントを硝酸第二セリウムアンモニウム水溶液と
するウエット・エッチング法を適用することに依り、前
記工程2−(1)で形成したCr膜のエッチングを行っ
てブラック・マトリクス・パターン32及び補助電極3
3を形成する。
2- (2) Resist process in lithography technology, and
By applying the wet etching method using an aqueous solution of ceric ammonium nitrate as an etchant, the Cr film formed in the step 2- (1) is etched to perform the black matrix pattern 32 and the auxiliary electrode 3.
Form 3

【0032】尚、前記したように、補助電極33を形成
するには、別個の工程は不要であって、ブラック・マト
リクス・パターン32を形成する工程を利用して同時に
形成することができるから、工程数の増加はない。
As described above, in order to form the auxiliary electrode 33, a separate step is not necessary, and the auxiliary electrode 33 can be formed simultaneously by using the step of forming the black matrix pattern 32. There is no increase in the number of processes.

【0033】2−(3) スピン・コート法を適用することに依り、赤色、緑色、
青色の何れか一種類の顔料を分散した厚さが例えば1.
5〔μm〕の紫外線硬化樹脂膜を全面に形成する。
2- (3) By applying the spin coating method, red, green,
The thickness obtained by dispersing any one of the blue pigments is, for example, 1.
An ultraviolet curable resin film of 5 μm is formed on the entire surface.

【0034】2−(4) マスクを介して紫外線に依る露光を行って、前記工程2
−(3)で形成した顔料含有紫外線硬化樹脂膜の選択硬
化を行う。
2- (4) Exposure to ultraviolet rays is carried out through a mask to carry out the step 2
-Selectively cure the pigment-containing ultraviolet curable resin film formed in (3).

【0035】2−(5) アルカリ系現像液に浸漬し、未硬化の紫外線硬化樹脂膜
を除去すると、カラー・フィルタ・パターンが得られ
る。
2- (5) A color filter pattern is obtained by immersing in an alkaline developing solution and removing the uncured ultraviolet curable resin film.

【0036】2−(6) 前記工程2−(3)乃至2−(5)は、赤色のカラー・
フィルタ、緑色のカラー・フィルタ、青色のカラー・フ
ィルタのそれぞれを作成する為に繰り返され、図では、
そのようにして形成されるカラー・フィルタ・パターン
全体を総合して記号34で指示してある。
2- (6) In the steps 2- (3) to 2- (5), a red color
Repeated to create each of the filters, green color filter, blue color filter, in the figure,
The color filter pattern thus formed is generally designated by the reference numeral 34.

【0037】2−(7) スパッタリング法を適用することに依り、厚さが例えば
0.1〔μm〕のITO層を形成する。
2- (7) By applying the sputtering method, an ITO layer having a thickness of, for example, 0.1 [μm] is formed.

【0038】2−(8) リソグラフィ技術に於けるレジスト・プロセス、及び、
エッチャントを塩化鉄塩水溶液とするウエット・エッチ
ング法を適用することに依り、前記工程2−(7)で形
成したITO層のエッチングして表示電極35を形成す
る。以上のようにしてCF基板が完成する。
2- (8) Resist process in lithography technology, and
By applying a wet etching method using an iron chloride salt aqueous solution as an etchant, the display layer 35 is formed by etching the ITO layer formed in the step 2- (7). The CF substrate is completed as described above.

【0039】図2(B)参照 2─(9) 次に、TFT基板について説明するが、CF基板の作成
及びTFT基板の作成の順序など何れでも良いことは勿
論であり、両者は貼り合わせるものであるから、両方同
時に供給されることが望ましい。
Referring to FIG. 2 (B) 2- (9) Next, the TFT substrate will be described. However, it goes without saying that the order of forming the CF substrate and the order of forming the TFT substrate may be any, and both may be bonded together. Therefore, it is desirable to supply both at the same time.

【0040】さて、図示のTFT基板では、通常の技法
に依って、ガラス基板41にTFT(図示せず)が作り
込まれ、Alからなるゲート電極42、ITOからなる
ゲート端子43が形成されているものとする。
In the TFT substrate shown in the figure, a TFT (not shown) is formed on the glass substrate 41 by a usual technique, and a gate electrode 42 made of Al and a gate terminal 43 made of ITO are formed. Be present.

【0041】尚、図示されていないが、TFT基板及び
CF基板の何れに於いても、例えばポリイミド系の配向
材を塗布してからラビングを行って得られる配向膜層が
形成されている。
Although not shown, an alignment film layer obtained by applying a polyimide-based alignment material and then rubbing is formed on both the TFT substrate and the CF substrate.

【0042】図3参照 3−(1) スクリーン印刷法を適用することに依り、CF基板側或
いはTFT基板側の何れかにAgペーストからなる接続
体51を形成し、シール材52を施して両基板を貼り合
わせ、熱処理を行って接続体51並びにシール材52を
硬化させる。
See FIG. 3. 3- (1) By applying the screen printing method, a connecting body 51 made of Ag paste is formed on either the CF substrate side or the TFT substrate side, and a sealing material 52 is applied to both sides. The substrates are bonded together and heat treatment is performed to cure the connector 51 and the sealing material 52.

【0043】尚、シール材52としては、例えばアクリ
ル樹脂にグラスファイバを混入したものを用いて良い。
この場合、グラスファイバは、シール材52の高さ調整
の為に混入されるものである。
As the sealing material 52, for example, acrylic resin mixed with glass fiber may be used.
In this case, the glass fiber is mixed to adjust the height of the sealing material 52.

【0044】3−(2) この後、液晶を充填するなど、通常の技法を適用して、
カラー液晶表示装置を完成させる。
3- (2) After that, by applying a normal technique such as filling with liquid crystal,
Complete a color liquid crystal display device.

【0045】本発明に於いては、実施の形態として説明
した前記カラー液晶表示装置に限られず、他に多くの改
変を実現することができる。
The present invention is not limited to the color liquid crystal display device described as the embodiment, and many other modifications can be realized.

【0046】例えば、補助電極33として、ブラック・
マトリクス・パターン32を構成するCr膜の一部を流
用したが、これは、表示電極35を構成するITO膜の
一部を代替流用することも可能である。
For example, as the auxiliary electrode 33, black
Although a part of the Cr film forming the matrix pattern 32 is used, a part of the ITO film forming the display electrode 35 can be used as an alternative.

【0047】また、補助電極33を低抵抗化する為、ブ
ラック・マトリクス・パターン32を構成するCr膜と
表示電極35を構成するITO膜とを積層した構造にし
ても良い。
In order to reduce the resistance of the auxiliary electrode 33, a structure in which a Cr film forming the black matrix pattern 32 and an ITO film forming the display electrode 35 are laminated may be used.

【0048】更にまた、補助電極33とゲート電極42
並びにゲート端子43とを接続するAgペーストからな
る接続体51は、それに代えて、補助電極33上に電解
鍍金法を適用して金(Au)からなるバンプを形成して
も良い。但し、その場合、バンプを形成すべき箇所以外
は例えばレジスト膜などのマスクで覆う必要がある。
Furthermore, the auxiliary electrode 33 and the gate electrode 42
Also, instead of the connection body 51 made of Ag paste for connecting to the gate terminal 43, a bump made of gold (Au) may be formed on the auxiliary electrode 33 by applying an electrolytic plating method. However, in that case, it is necessary to cover with a mask such as a resist film other than the place where the bump is to be formed.

【0049】前記したように、補助電極33を形成する
場合、ブラック・マトリクス・パターン32を作成する
為のCr膜を利用するか、或いは、表示電極35を作成
する為のITO膜を利用するか何れかの手段があること
を説明した。
As described above, when the auxiliary electrode 33 is formed, whether the Cr film for forming the black matrix pattern 32 or the ITO film for forming the display electrode 35 is used. It has been explained that either means is available.

【0050】その際、表示電極35の構成材料であるI
TO膜を利用するのであれば、透明であるから、Agペ
ーストからなる接続体51を形成したとき、印刷ずれな
どは視認することが可能であるが、ブラック・マトリク
ス・パターン32の構成材料であるCr膜を利用した場
合、不透明であるから視認は困難であり、従って、何ら
かの対策が必要である。
At this time, I, which is a constituent material of the display electrode 35, is used.
If the TO film is used, since it is transparent, when the connecting body 51 made of Ag paste is formed, print misalignment and the like can be visually recognized, but it is a constituent material of the black matrix pattern 32. When a Cr film is used, it is difficult to visually recognize it because it is opaque, and therefore some measure is required.

【0051】図4は対策を施した補助電極の構成を説明
する為の要部平面図であり、図2乃至図3に於いて用い
た記号と同記号は同部分を表すか或いは同じ意味を持つ
ものとする。
FIG. 4 is a plan view of an essential part for explaining the structure of the auxiliary electrode having a countermeasure, and the same symbols as those used in FIGS. 2 to 3 represent the same parts or have the same meanings. I have it.

【0052】図に於いて、33Aは補助電極33の両端
に形成した切欠部分、61は切欠部分33Aの形成に依
って高くなった抵抗値を低下させる為のITOからなる
導電膜をそれぞれ示している。
In the figure, 33A is a notched portion formed at both ends of the auxiliary electrode 33, and 61 is a conductive film made of ITO for reducing the resistance value increased due to the formation of the notched portion 33A. There is.

【0053】図4(A)及び(B)から明らかなよう
に、補助電極33の両端、即ち、Agペーストからなる
接続体51をコンタクトさせるべき箇所には、切欠部分
33Aが形成されているので、Agペーストからなる接
続体51を形成した場合、その位置ずれなどを容易に確
認することができる。
As is apparent from FIGS. 4A and 4B, since the notch 33A is formed at both ends of the auxiliary electrode 33, that is, at the position where the connection body 51 made of Ag paste is to be contacted. When the connection body 51 made of Ag paste is formed, it is possible to easily confirm the positional deviation and the like.

【0054】然しながら、そのようにすると、補助電極
33と接続体51との接触面積は小さくなって、接触抵
抗は高くなるから、図4(C)から明らかなように、切
欠部分33A近傍、或いは、全体にITOからなる導電
膜61を形成して回避すると良い。
However, by doing so, the contact area between the auxiliary electrode 33 and the connecting body 51 becomes small and the contact resistance becomes high. Therefore, as is apparent from FIG. 4C, in the vicinity of the notch 33A, or The conductive film 61 made of ITO may be formed on the entire surface to avoid it.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明に依るカラー液晶表示装置に於い
ては、一対の基板に於ける一方の基板上に形成された電
極及び電極とは電気的に隔離されて同じ基板上に形成さ
れ且つ電極を外部に導出する為の単層の端子、一対の基
板に於ける他方の基板上に在って電極と端子との離隔さ
れた領域に対向して形成された補助電極と、電極及び補
助電極及び端子とを電気的に接続する接続体と、一対の
基板を貼り合わせる為に介在し且つ少なくとも一部が端
子上に掛かって設けられたシール材とを備える。
In the color liquid crystal display device according to the present invention, the electrodes formed on one of the pair of substrates and the electrodes are electrically isolated from each other and formed on the same substrate. A single-layer terminal for leading out the electrode to the outside, an auxiliary electrode formed on the other substrate of the pair of substrates so as to face a separated region between the electrode and the terminal, and the electrode and the auxiliary A connection body that electrically connects the electrodes and the terminals, and a seal material that is interposed to bond the pair of substrates and that is provided so as to hang at least a part of the terminals are provided.

【0056】前記構成を採ることに依り、TFT基板側
の電極端子部は、ITOからなるゲート端子のみの単層
で構成されていることから電気的不良が起きる可能性は
非常に低くなり、そして、シール材を用いてTFT基板
とCF基板とを貼り合わせた場合の密着性は多層の場合
に比較すると遙に良好であり、また、TFT基板に於け
るゲート電極と電極端子部に於けるゲート端子は、両者
ともに単層でありながら、それ等の導電接続は直接接触
させることなく行われているので、両者間の密着性不良
の問題は発生しない。
By adopting the above structure, since the electrode terminal portion on the TFT substrate side is composed of a single layer of the gate terminal made of ITO, the possibility of electrical failure is extremely low, and Adhesion when a TFT substrate and a CF substrate are bonded together by using a sealing material is much better than that in the case of a multi-layer structure, and the gate electrode and the gate in the electrode terminal portion of the TFT substrate are much better. Although the terminals are both single-layered, their conductive connections are made without direct contact, so that the problem of poor adhesion between them does not occur.

【0057】このように、構成が簡単であることから、
多層構成の場合と比較して、成膜工程、リソグラフィ工
程、エッチング工程などパターン形成工程の全てに亙っ
て工程数を削減することができる為、製造歩留りの向上
及び高品質化を容易に達成することができる。
Thus, since the structure is simple,
Compared with the case of a multi-layer structure, the number of steps can be reduced throughout the pattern formation process such as film formation process, lithography process, etching process, etc., so improvement of manufacturing yield and high quality can be easily achieved. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の原理を解説する為の液晶表示装置の特
に電極端子部近傍を表した要部切断側面図である。
FIG. 1 is a sectional side view of a main part of a liquid crystal display device for explaining the principle of the present invention, particularly showing the vicinity of an electrode terminal part.

【図2】本発明に依る実施の形態を製造する場合につい
て解説する為の工程要所に於ける液晶表示装置を表す要
部切断側面図である。
FIG. 2 is a side sectional view showing a main part of a liquid crystal display device at a process step for explaining a case of manufacturing an embodiment according to the present invention.

【図3】本発明に依る実施の形態を製造する場合につい
て解説する為の工程要所に於ける液晶表示装置を表す要
部切断側面図である。
FIG. 3 is a side sectional view showing a main part of a liquid crystal display device at a process key point for explaining a case of manufacturing an embodiment according to the present invention.

【図4】対策を施した補助電極の構成を説明する為の要
部平面図である。
FIG. 4 is a plan view of relevant parts for explaining the configuration of an auxiliary electrode having a countermeasure.

【図5】従来のTFT駆動方式に依る液晶表示装置に於
けるTFT基板の構成を表す要部切断側面図である。
FIG. 5 is a cutaway side view of a main part showing a configuration of a TFT substrate in a liquid crystal display device according to a conventional TFT driving method.

【図6】TFT基板とCF基板とを貼り合わせる場合を
説明する為の液晶表示装置を表す要部切断側面図であ
る。
FIG. 6 is a side sectional view showing a main part of a liquid crystal display device for explaining a case where a TFT substrate and a CF substrate are bonded together.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21 TFT基板 21A ガラス基板 22 Alからなるゲート電極 23 ITOからなるゲート端子 24 CF基板 24A ガラス基板 25 Crからなるブラック・マトリクス・パターン 26 Crからなる補助電極 27 CFパターン 28 Agペーストからなる接続体 29 シール材 21 TFT substrate 21A Glass substrate 22 Gate electrode made of Al 23 Gate terminal made of ITO 24 CF substrate 24A Glass substrate 25 Black matrix pattern made of Cr 26 Auxiliary electrode made of Cr 27 CF pattern 28 Connection made of Ag paste 29 Seal material

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】相対向する一対の基板に於ける一方の基板
上に形成された電極及び該電極とは電気的に隔離されて
同じ基板上に形成され且つ該電極を外部に導出する為の
単層の端子と、 前記一対の基板に於ける他方の基板上に在って前記電極
と前記端子との離隔された領域に対向して形成された補
助電極と、 前記電極及び前記補助電極及び前記端子とを電気的に接
続する接続体と、 前記相対向する一対の基板を貼り合わせる為に介在し且
つ少なくとも一部が前記端子上に掛かって設けられたシ
ール材とを備えてなることを特徴とするカラー液晶表示
装置。
1. An electrode formed on one of a pair of substrates facing each other, and an electrode electrically isolated from the electrode and formed on the same substrate and for leading out the electrode to the outside. A single-layer terminal; an auxiliary electrode formed on the other substrate of the pair of substrates so as to face a region where the electrode and the terminal are separated from each other; the electrode, the auxiliary electrode, and A connecting body for electrically connecting the terminals, and a sealing material interposed to bond the pair of substrates facing each other and at least partially hooked on the terminals. Characteristic color liquid crystal display device.
【請求項2】相対向する一対の基板がTFT基板及びカ
ラー・フィルタ基板であって且つ補助電極が該カラー・
フィルタ基板に於けるブラック・マトリクス・パターン
を構成する材料膜の一部を利用して形成したものである
ことを特徴とする請求項1記載のカラー液晶表示装置。
2. A pair of substrates facing each other is a TFT substrate and a color filter substrate, and the auxiliary electrode is the color substrate.
2. The color liquid crystal display device according to claim 1, wherein the color liquid crystal display device is formed by using a part of a material film forming a black matrix pattern on the filter substrate.
【請求項3】相対向する一対の基板がTFT基板及びカ
ラー・フィルタ基板であって且つ補助電極が該カラー・
フィルタ基板に於ける表示電極を構成する材料膜の一部
を利用して形成したものであることを特徴とする請求項
1記載のカラー液晶表示装置。
3. A pair of substrates facing each other is a TFT substrate and a color filter substrate, and an auxiliary electrode is the color substrate.
2. The color liquid crystal display device according to claim 1, wherein the color liquid crystal display device is formed by using a part of a material film forming a display electrode on the filter substrate.
【請求項4】相対向する一対の基板がTFT基板及びカ
ラー・フィルタ基板であって且つ補助電極が該カラー・
フィルタ基板に於けるブラック・マトリクス・パターン
を構成する材料膜及び表示電極を構成する材料膜が積層
されたものを利用して形成したことを特徴とする請求項
1記載のカラー液晶表示装置。
4. A pair of substrates facing each other is a TFT substrate and a color filter substrate, and the auxiliary electrode is the color substrate.
2. The color liquid crystal display device according to claim 1, wherein the filter substrate is formed by using a laminate of a material film forming a black matrix pattern and a material film forming a display electrode.
【請求項5】補助電極が不透明な材料からなり且つ接続
体との接続部分近傍に該接続体の位置を視認する為の切
欠部分が形成された補助電極を備えてなることを特徴と
する請求項1或いは2或いは4記載のカラー液晶表示装
置。
5. The auxiliary electrode is made of an opaque material, and the auxiliary electrode is provided with a notch portion for visually recognizing the position of the connection body in the vicinity of the connection portion with the connection body. Item 5. A color liquid crystal display device according to item 1, 2 or 4.
【請求項6】接続体が金属からなるバンプであることを
特徴とする請求項1乃至5の何れか1記載のカラー液晶
表示装置。
6. The color liquid crystal display device according to claim 1, wherein the connection body is a bump made of metal.
JP6072996A 1996-03-18 1996-03-18 Color liquid crystal display device Withdrawn JPH09258205A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100475552B1 (en) * 2001-11-26 2005-03-11 가부시끼가이샤 도시바 Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
KR100561645B1 (en) * 2003-10-13 2006-03-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Liquid Crystal Display Panel and Method of Fabricating the same
US9091892B2 (en) 2013-03-15 2015-07-28 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and manufacturing method thereof

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