JPH1144881A - Liquid crystal display device and its production - Google Patents

Liquid crystal display device and its production

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Publication number
JPH1144881A
JPH1144881A JP32601697A JP32601697A JPH1144881A JP H1144881 A JPH1144881 A JP H1144881A JP 32601697 A JP32601697 A JP 32601697A JP 32601697 A JP32601697 A JP 32601697A JP H1144881 A JPH1144881 A JP H1144881A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
color filter
substrate
crystal display
display device
Prior art date
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Pending
Application number
JP32601697A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keiichi Tanaka
恵一 田中
Tomohiko Yamamoto
智彦 山本
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Priority to US09/199,408 priority patent/US6208394B1/en
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Priority to US09/736,372 priority patent/US6392728B2/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a display grade and to reduce a production cost by arranging layers (BM) consisting of a resin material in the positions corresponding the parts between color filter layers on a transparent conductive film. SOLUTION: The surface of a counter substrate 12 is provided with the color filter layers 18 of plural colors and counter electrodes 19 corresponding to respective picture element electrodes 17 on one surface 11. The resins BM of the prescribed thickness consisting of a light shieldable black resin, etc., are disposed on the counter electrodes 19 between the respective color filter layers 18. A liquid crystal layer 13 held between the substrates of this device is driven by the potential difference between the individual picture element electrodes 17 and the counter electrodes 19 on the counter substrate 12. At this time, the counter electrodes 19 on the counter substrate 12 corresponding to the parts between the picture element electrodes 17 are recessed to a recessed shape, into which the resins BM 20 are embedded. Then, the capacity between the counter electrodes 19 and source bus lines 14 is increased and the diagonal components of the electric fields between the counter electrodes 19 and the peripheral parts of the picture element electrodes 17 are increased as well.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、OA機器あるいは
AV機器などのディスプレイに利用される液晶表示装置
とその製造方法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a liquid crystal display device used for a display of OA equipment or AV equipment and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の液晶表示装置の概要を薄膜トラン
ジスタ型アクティブマトリクス駆動液晶表示装置を例に
して図面を用いて説明する。図7(a)は、従来の液晶
表示装置の斜視図であり、図7(b)は、図7(a)の
液晶表示装置におけるA−A線断面図である。
2. Description of the Related Art An outline of a conventional liquid crystal display device will be described with reference to the drawings, taking a thin film transistor type active matrix drive liquid crystal display device as an example. 7A is a perspective view of a conventional liquid crystal display device, and FIG. 7B is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of FIG.

【0003】このような液晶表示装置は、一方基板21
および対向基板22がある一定の間隔を形成して対向配
置されている。さらに、この両基板21、22の間には
液晶層23を備えている。この一方基板21は、マトリ
クス状に配置されたソースバスライン24、ゲートバス
ライン25およびそれらの交点に配置された薄膜トラン
ジスタ26などからなるスイッチング素子を備えてい
る。さらに、液晶層23中の液晶分子の配列方向を制御
するための電圧が印加される絵素電極27も複数備えて
いる。
[0003] Such a liquid crystal display device has one substrate 21
The opposing substrate 22 is arranged to face a certain interval. Further, a liquid crystal layer 23 is provided between the two substrates 21 and 22. The one substrate 21 includes switching elements including a source bus line 24, a gate bus line 25 arranged in a matrix, and a thin film transistor 26 arranged at an intersection thereof. Furthermore, a plurality of pixel electrodes 27 to which a voltage for controlling the alignment direction of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 23 is provided are provided.

【0004】一方、対向基板22は、一方基板21上の
各々の絵素電極27に対応する複数の色のカラーフィル
ター28および対向電極29を備えており、前記カラー
フィルター層28の各々の間には遮光材料でブラックマ
トリクス層(以下、BMと称す。)31を備えている。
このような液晶表示装置は、各バスライン24、25へ
順次信号電圧を印加し、これらの交点に配置された薄膜
トランジスタ26などからなる素子によりスイッチング
を行って、個々の絵素電極27毎に特定の信号電圧を書
き込み一定期間保持する。このような個々の絵素電極2
7と対向基板22上の対向電極29との間の電位差によ
り、基板21、22間に挾持された液晶層23を駆動し
ている。
On the other hand, the counter substrate 22 is provided with a plurality of color filters 28 and counter electrodes 29 corresponding to the respective pixel electrodes 27 on the one substrate 21, and between the color filter layers 28. Is a light shielding material and has a black matrix layer (hereinafter, referred to as BM) 31.
In such a liquid crystal display device, a signal voltage is sequentially applied to each of the bus lines 24 and 25, and switching is performed by an element including a thin film transistor 26 and the like arranged at the intersection of the bus lines 24 and 25. Is written and held for a certain period. Such individual picture element electrodes 2
The liquid crystal layer 23 sandwiched between the substrates 21 and 22 is driven by the potential difference between the substrate 7 and the opposite electrode 29 on the opposite substrate 22.

【0005】このようなカラーフィルター層28を備え
た対向基板22の一般的な2種類の作製方法について図
面を用いて説明する。図8(a)、図9(a)は、カラ
ーフィルター層を備えた対向基板の一般的な製造工程を
示したフローチャートであり、図8(b)、図9(b)
は、その製造工程に対応した対向基板の平面図および断
面図である。
[0005] Two general methods for fabricating the opposing substrate 22 having such a color filter layer 28 will be described with reference to the drawings. FIGS. 8A and 9A are flowcharts showing a general manufacturing process of a counter substrate provided with a color filter layer, and FIGS. 8B and 9B.
FIG. 2 is a plan view and a cross-sectional view of a counter substrate corresponding to the manufacturing process.

【0006】ここでは、図8(a)(b)の作成方法を
中心に説明する。ガラス基板30上に赤(以下、Rと称
す。)の顔料を分散した樹脂フィルム(以下、ドライフ
ィルムと称す。)を供給して貼り付け(以下、ラミネー
トと称す。)、露光、現像、ベークなどの工程を経て、
Rのパターン28aを形成する。
Here, a description will be given focusing on the creation method of FIGS. 8 (a) and 8 (b). A resin film (hereinafter, referred to as a dry film) in which a red (hereinafter, referred to as R) pigment is dispersed is supplied onto a glass substrate 30 and attached (hereinafter, referred to as a laminate), exposed, developed, and baked. After such a process,
An R pattern 28a is formed.

【0007】さらに、そのRのパターン28a上に重ね
て緑(以下、Gと称す。)の顔料を分散したドライフィ
ルムをラミネートし、露光、現像、ベークなどの工程を
経てGのパターン28bを形成する。
Further, a dry film in which a green (hereinafter, referred to as G) pigment is dispersed is laminated on the R pattern 28a, and a G pattern 28b is formed through processes such as exposure, development, and baking. I do.

【0008】そして、RおよびGと同様の工程を繰り返
して、青(以下、Bと称す。)のパターン28cを形成
し、3色のカラーフィルター層28のパターンを形成す
る。なお、ここでは、顔料を分散したドライフィルムを
使用した工程について説明したが、図9(a)(b)に
示すように、顔料を分散した樹脂材料を用いてスピンコ
ート法により全面塗布する作製方法でもよい。
Then, the same steps as those for R and G are repeated to form a blue (hereinafter, referred to as B) pattern 28c and a color filter layer 28 of three colors. Here, the process using the dry film in which the pigment is dispersed has been described. However, as shown in FIGS. 9A and 9B, the entire surface is applied by the spin coating method using the resin material in which the pigment is dispersed. It may be a method.

【0009】その後、カーボンが分散混入されたドライ
フィルムを用いてラミネートし、前記カラーフィルター
層28をマスクにして裏面から露光し、現像とベーク工
程を経てBM31のパターンを形成する。そして、全面
に対向電極29となる透明導電膜(ITO)を成膜し、
対向基板22を作製する。なお、このようなBM31と
しては、図9(a)(b)に示すような金属膜を用いた
ものも一般的に知られている。
Thereafter, lamination is performed using a dry film in which carbon is dispersed and mixed, and exposure is performed from the back using the color filter layer 28 as a mask, and a pattern of the BM 31 is formed through development and baking steps. Then, a transparent conductive film (ITO) to be the counter electrode 29 is formed on the entire surface,
The counter substrate 22 is manufactured. Note that, as such a BM 31, one using a metal film as shown in FIGS. 9A and 9B is generally known.

【0010】ここで、このような従来の液晶表示装置に
おけるコモン転移部の形状について図面を用いて説明す
る。図10(a)は、従来の液晶表示装置における一方
基板21側のコモン転移部を示した平面図とその断面図
であり、図10(b)は、従来の液晶表示装置における
対向基板22側のコモン転移部を示した平面図とその断
面図である。
Here, the shape of the common transition portion in such a conventional liquid crystal display device will be described with reference to the drawings. FIG. 10A is a plan view and a cross-sectional view showing a common transition portion on the one substrate 21 side in the conventional liquid crystal display device, and FIG. 10B is a plan view showing the common substrate on the counter substrate 22 side in the conventional liquid crystal display device. FIG. 2 is a plan view and a cross-sectional view showing a common transition portion of FIG.

【0011】図10(a)に示すように、一方基板21
側においては、ソース端子引き出し部の各ソースドライ
バ接続ブロックの間にコモン転移電極35の形成を行っ
ている。このコモン転移電極35は表示パネルの周辺部
においてコモンラインと接続されており、さらにカーボ
ンペースト36によって対向基板22との導通を行って
いる。このコモン転移電極35はパネルの精細度やサイ
ズ、対向側の透明電極との抵抗の違いなどによって個数
が決められており、例えば10型VGA程度のパネルで
あれば、通常4〜8個程度形成されるのが一般的であ
る。
[0011] As shown in FIG.
On the side, the common transition electrode 35 is formed between the source driver connection blocks of the source terminal lead-out portion. The common transfer electrode 35 is connected to a common line at a peripheral portion of the display panel, and is further connected to the counter substrate 22 by the carbon paste 36. The number of the common transfer electrodes 35 is determined by the definition and size of the panel, the difference in resistance from the transparent electrode on the opposite side, and the like. For example, a panel of about 10-inch VGA usually has about 4 to 8 pieces. It is generally done.

【0012】また、図10(b)に示すように、対向基
板22側においては、一方基板21側に形成されたコモ
ン転移電極34と対向する位置にITO29が残るよう
にマスクデポを行い、前記一方基板21におけるカーボ
ンペースト36との導通を行っている。また、マスクデ
ポを行わずに対向基板21側全面にITO29のデポを
行う場合も考えられるが、導通部の積層構造状態は、対
向基板/BM/ITO/カーボンペーストとなってお
り、ITO膜の成膜方法(マスクデポ、全面デポ)によ
らず同一の構造となっている。
As shown in FIG. 10B, on the counter substrate 22 side, mask deposition is performed so that ITO 29 remains at a position facing the common transfer electrode 34 formed on the one substrate 21 side. Conduction with the carbon paste 36 on the substrate 21 is performed. It is also conceivable to deposit the ITO 29 on the entire surface of the counter substrate 21 side without performing the mask deposition. However, the laminated structure state of the conductive portion is the counter substrate / BM / ITO / carbon paste, and the ITO film is formed. The structure is the same irrespective of the film method (mask deposition, full surface deposition).

【0013】このようにして作製された対向基板22と
一方基板21とは互いに一定間隔を保持して周辺部にシ
ール材33が配置され、両基板21、22間の間隙部に
液晶層23が供給封止されて液晶表示装置が作製され
る。このとき、例えば、TN液晶を用いてなる液晶表示
装置では、両基板21、22間の間隔が4〜6μmに設
定されるのが一般的であり、その際には4.5〜7μm
径の誘電体ビーズをいずれか一方の基板上の全面に散布
して形成されており、特段の凝集などが生じない限りに
おいては絵素電極27をも含めて不特定にこの誘電体ビ
ーズが分散されている。
The opposing substrate 22 and the one substrate 21 manufactured in this manner are provided with a sealing material 33 around the periphery thereof while maintaining a certain distance therebetween, and a liquid crystal layer 23 is provided in a gap between the two substrates 21 and 22. The liquid crystal display device is manufactured by being supplied and sealed. At this time, for example, in a liquid crystal display device using a TN liquid crystal, the interval between both substrates 21 and 22 is generally set to 4 to 6 μm, and in this case, 4.5 to 7 μm
The dielectric beads are formed by spraying dielectric beads having a diameter on the entire surface of one of the substrates, and the dielectric beads including the pixel electrodes 27 are dispersed in an unspecified manner as long as no particular aggregation or the like occurs. Have been.

【0014】次に、上記の液晶表示装置とは対向電極構
造が異なる第2の従来例について説明する。特許公報第
2520595号には、表示欠陥を低減するために対向
電極の構造をストライプ状としたものが示されている。
Next, a second conventional example having a counter electrode structure different from that of the above-described liquid crystal display device will be described. Japanese Patent Publication No. 2520595 discloses a structure in which a counter electrode has a stripe shape in order to reduce display defects.

【0015】また、第3の従来例として、特開平5−2
49494号公報および特開平7−20497号公報に
ついて説明する。これらはバスライン近傍の段差構造に
起因して配向膜形成工程で形成された配向処理不良から
生じる液晶分子の方向制御異常であるリバースチルトド
メイン領域を低減し、表示品位の向上を図ることを目的
としており、前者は基板表面の段差部の角度を規定し、
後者は互いに隣接する絵素電極部の間に表面上の凹溝を
形成したものが開示されている。
As a third conventional example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
JP-A-49494 and JP-A-7-20497 will be described. These are aimed at improving the display quality by reducing the reverse tilt domain region, which is an abnormal direction control of the liquid crystal molecules caused by the alignment processing defect formed in the alignment film forming process due to the step structure near the bus line. The former defines the angle of the step on the substrate surface,
The latter discloses that a concave groove is formed on the surface between adjacent pixel electrode portions.

【0016】さらに、第4の従来例として、特開平6−
82795号公報および特開平8−328020号公報
について説明する。これらは絵素電極部の表面に配置さ
れるビーズの数量を低減して表示品位の向上を図ること
を目的とし、金属などの配線領域とそれ以外の領域とで
電位差を与え、特定箇所にビーズを付着させるというも
のである。
Further, as a fourth conventional example, Japanese Patent Laid-Open Publication No.
No. 82795 and JP-A-8-328020 will be described. These are intended to improve the display quality by reducing the number of beads placed on the surface of the pixel electrode part, giving a potential difference between the wiring area such as metal and other areas, and applying beads to specific locations. Is attached.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】上述した第1の従来例
では、ソースバスライン24と対向電極29とは、図7
(b)にも示すように、液晶層23のみが介在する容量
成分を持ち、信号入力を行ったバスライン24と対向電
極29との容量結合210によりバスライン24上の信
号遅延が起こり、各バスライン24上の信号入力端側と
信号非入力端側とで書き込み電圧の違いが生じて液晶表
示装置としての表示品位の低下を招いていた。
In the above-mentioned first conventional example, the source bus line 24 and the counter electrode 29 are connected to each other as shown in FIG.
As shown in (b), a signal delay on the bus line 24 occurs due to the capacitive coupling 210 between the bus line 24 to which the signal has been input and the counter electrode 29, which has a capacitance component interposed only in the liquid crystal layer 23. A difference in writing voltage occurs between the signal input terminal side and the signal non-input terminal side on the bus line 24, which causes deterioration in display quality as a liquid crystal display device.

【0018】また、絵素電極27は、その直上の対向電
極29領域からのみ影響を受けるのではなく、対向電極
29全面からの電界の影響を受けている。この点につい
ても図7(b)を用いて説明すると、絵素電極27上の
点B部近傍の液晶分子は、その近くの対向電極29上の
点D、点Eおよび点Fなどからの影響も強く、それらの
斜め成分を含む電界の影響も受けて、液晶分子の向きが
乱れる一因となっている。
The pixel electrode 27 is not only affected by the region of the opposing electrode 29 immediately above it, but is also affected by the electric field from the entire surface of the opposing electrode 29. This point will also be described with reference to FIG. 7B. The liquid crystal molecules near the point B on the pixel electrode 27 are affected by the points D, E, F, and the like on the counter electrode 29 nearby. It is also strong, and is affected by the electric field including those oblique components, which is one of the causes of the disturbance of the orientation of the liquid crystal molecules.

【0019】このようなことから、点Bのような絵素電
極24の周囲部では、バックライト光源から発して絵素
電極24の領域に入射してきた透過光が散乱されてしま
い、液晶表示装置のコントラストを低下させていた。
For this reason, in the peripheral portion of the pixel electrode 24, such as the point B, the transmitted light emitted from the backlight light source and incident on the region of the pixel electrode 24 is scattered. Had reduced the contrast.

【0020】このような斜め成分の電界の影響を改善す
るものとして、第2の従来例のようにストライプ状の対
向電極構造が考えられる。しかしながら、対向電極をパ
ターン形成するためにフォトリソ工程およびエッチング
工程を必要とし、工程数の増加や歩留の低下を伴い、製
品原価の増加を招くことになる。さらに、大型あるいは
高精細の液晶表示装置においては、対向電極の配線抵抗
が増加してしまい、表示品位が低下してしまう。
To improve the effect of the electric field of the oblique component, a stripe-shaped counter electrode structure as in the second conventional example can be considered. However, a photolithography step and an etching step are required to form a pattern of the counter electrode, and this leads to an increase in the number of steps and a decrease in yield, and an increase in product cost. Further, in a large-sized or high-definition liquid crystal display device, the wiring resistance of the counter electrode is increased, and the display quality is reduced.

【0021】また、第3の従来例のような一方基板側に
ついての構造では、リバースチルトドメインは軽減され
るものの、上述のような対向電極からの斜め成分の電界
の影響については解消されておらず、リバースチルトド
メインを完全に抑制することはできない。
Further, in the structure on the one substrate side as in the third conventional example, although the reverse tilt domain is reduced, the influence of the electric field of the oblique component from the counter electrode as described above is not solved. Therefore, the reverse tilt domain cannot be completely suppressed.

【0022】さらに、第4の従来例では、配線個々に帯
電処理をするため、帯電用の端子をほぼ均等な圧力で位
置合せするのに時間を要し、高精細の液晶表示装置では
微細配線のため端子接触時に傷ついて断線を生じること
もある。また、液晶表示装置の構造によっては一様な帯
電が困難で特別な配線構造や工程を設けることになり原
価の増加を招いてしまう。
Further, in the fourth conventional example, since the wiring is charged individually, it takes time to align the charging terminals with a substantially uniform pressure. In a high-definition liquid crystal display device, fine wiring is required. As a result, the terminal may be damaged at the time of contact with the terminal to cause disconnection. Further, depending on the structure of the liquid crystal display device, uniform charging is difficult, and a special wiring structure and a special step are provided, which leads to an increase in cost.

【0023】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、表示品位を向上して製造原価を低減す
ることができる液晶表示装置とその製造方法を提供する
ものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of improving display quality and reducing manufacturing costs, and a method of manufacturing the same.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、液晶層を挟んで互いに対向する一対の基板のうちの
一方に、複数色のカラーフィルター層がそれぞれ配置さ
れ、該複数色のカラーフィルター層上に透明導電膜が形
成され、該透明導電膜上であってかつ前記各カラーフィ
ルター層の間に対応する位置に絶縁性材料から成るブラ
ックマトリクス層が形成されていることを特徴としてお
り、そのことにより、上記目的が達成される。
According to the liquid crystal display device of the present invention, a plurality of color filter layers are arranged on one of a pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. A transparent conductive film is formed on the filter layer, and a black matrix layer made of an insulating material is formed on the transparent conductive film and at a position corresponding to between the respective color filter layers. Thereby, the above object is achieved.

【0025】このとき、前記ブラックマトリクス層の厚
さは、前記カラーフィルター層の厚さと同等もしくはそ
れ以下であることが好ましい。
At this time, the thickness of the black matrix layer is preferably equal to or less than the thickness of the color filter layer.

【0026】また、前記一方の基板上に形成された複数
色のカラーフィルター層のうちの少なくとも1層が、前
記液晶層を挟んで互いに対向する一対の基板間の導通を
行うコモン転移部にも形成されていることが好ましい。
Further, at least one of the color filter layers of a plurality of colors formed on the one substrate has a common transition portion for conducting between a pair of substrates facing each other with the liquid crystal layer interposed therebetween. Preferably, it is formed.

【0027】本発明の液晶表示装置の製造方法は、液晶
層を挟んで互いに対向する一対の基板のうちの一方に、
複数色のカラーフィルター層をそれぞれ形成する工程
と、前記カラーフィルター層上に透明導電膜を形成する
工程と、前記透明導電膜上に黒色の樹脂膜を形成すると
ともに、少なくとも前記各カラーフィルター層の間に対
応する位置以外に形成した該黒色の樹脂膜を除去して、
ブラックマトリクス層を形成する工程と、を含むことを
特徴としており、そのことにより、上記目的が達成され
る。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, one of a pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween is provided with:
A step of forming a plurality of color filter layers, a step of forming a transparent conductive film on the color filter layer, and a step of forming a black resin film on the transparent conductive film; Remove the black resin film formed at a position other than the position corresponding to
And a step of forming a black matrix layer, whereby the object is achieved.

【0028】このとき、前記一方の基板上に形成された
透明導電膜を正または負の電位に帯電し、該電位と同一
の極性電位を帯電させた粒状の誘電体ビーズを該一方の
基板上に供給し、前記ブラックマトリクス上に該誘電体
ビーズを付着させることが好ましい。
At this time, the transparent conductive film formed on the one substrate is charged to a positive or negative potential, and granular dielectric beads charged to the same polarity as the potential are placed on the one substrate. And adhering the dielectric beads on the black matrix.

【0029】また、前記一方の基板上に複数色のカラー
フィルター層をそれぞれ形成する工程の際に、該複数色
のカラーフィルター層のうちの少なくとも1層を、前記
液晶層を挟んで互いに対向する一対の基板間の導通を行
うコモン転移部にも形成することが好ましい。
In the step of forming a plurality of color filter layers on the one substrate, at least one of the plurality of color filter layers faces each other with the liquid crystal layer interposed therebetween. It is also preferable to form them at a common transition portion for conducting between a pair of substrates.

【0030】以下、本発明の作用について説明する。The operation of the present invention will be described below.

【0031】本発明の液晶表示装置においては、カラー
フィルタ層の上に平坦化膜などを介することなく透明導
電膜が配置されている。よって、透明導電膜により形成
される電極はカラーフィルター層に対応する絵素電極部
の間に凹部を形成し、最終構造で形成される基板表面の
突出部が少なく絵素電極上の配向膜形成を適切に行うこ
とが可能となる。
In the liquid crystal display device of the present invention, a transparent conductive film is disposed on the color filter layer without any intervening flattening film or the like. Therefore, the electrode formed by the transparent conductive film forms a concave portion between the pixel electrode portions corresponding to the color filter layer, and the projection on the substrate surface formed in the final structure is few and the alignment film is formed on the pixel electrode. Can be appropriately performed.

【0032】また、このような凹部は下層のカラーフィ
ルター層の表面構造を利用して形成されるので、特別に
凹部形成工程や部材を追加する必要がなく、低コストで
製造することができる。また、このような凹部の上には
樹脂材料からなるブラックマトリクス層(以下、樹脂B
Mと称す。)が配置されている。よって、ソースバスラ
インと絵素電極間の容量は液晶層に加え樹脂BMを介し
た結合容量となり、従来のような容量を介した信号遅延
を解消することが可能となる。さらに、対向電極からの
絵素電極周辺部への斜め方向の電界成分が従来よりも減
り、リバースチルトドメインが低減されて表示品位も向
上させることが可能となる。
Further, since such a concave portion is formed by utilizing the surface structure of the lower color filter layer, there is no need to add a special concave portion forming step or members, and the device can be manufactured at low cost. A black matrix layer made of a resin material (hereinafter referred to as resin B)
Called M. ) Is arranged. Therefore, the capacitance between the source bus line and the pixel electrode becomes a coupling capacitance via the resin BM in addition to the liquid crystal layer, and it is possible to eliminate the signal delay via the conventional capacitance. Furthermore, the electric field component in the oblique direction from the counter electrode to the peripheral portion of the picture element electrode is reduced as compared with the related art, the reverse tilt domain is reduced, and the display quality can be improved.

【0033】また、対向電極は対向基板のほぼ全面に連
続し、その上に部分的に絶縁性のブラックマトリクス層
が形成されているので、対向電極を破損することなく容
易に電圧印加し、対向基板の表面上ではカラーフィルタ
ー領域とそれ以外の領域との電位差を容易に生じさせる
ことができる。よって、帯電微粒子を容易に選択的に部
分配置させることが可能となる。
Further, since the opposing electrode is continuous over substantially the entire surface of the opposing substrate, and a partially insulative black matrix layer is formed thereon, a voltage can be easily applied without damaging the opposing electrode. On the surface of the substrate, a potential difference between the color filter region and the other region can be easily generated. Therefore, it is possible to easily and selectively arrange the charged fine particles.

【0034】また、前記BM層の厚みを前記カラーフィ
ルター層の厚みと同等もしくはそれ以下とすることによ
り、対向基板表面上の突出部を少なくすることができ
る。よって、対向電極上に形成する配向処理を均一にす
ることができるので、リバースチルト領域をなくすこと
が可能となる。
By making the thickness of the BM layer equal to or less than the thickness of the color filter layer, the number of protrusions on the surface of the counter substrate can be reduced. Therefore, since the alignment process formed on the counter electrode can be made uniform, the reverse tilt region can be eliminated.

【0035】さらに、カラーフィルターのパターンを形
成する際に、一方基板側に形成されたコモン転移電極に
対応する位置にまでカラーフィルターを延ばして形成し
ていることにより、一方基板と対向基板との良好な導通
状態(コモン転移)を確保することができ、また、この
際、カラーフィルターを複数積層することにより、コモ
ン転移部におけるセル厚が小さくなり、カーボンペース
トの使用量や短絡に関する高信頼性をも確保することが
可能となる。
Further, when the color filter pattern is formed, the color filter is formed to extend to a position corresponding to the common transition electrode formed on the one substrate side. A good conduction state (common transition) can be ensured. At this time, by stacking a plurality of color filters, the cell thickness at the common transition portion is reduced, and the amount of carbon paste used and high reliability with respect to short circuits are high. Can also be secured.

【0036】本発明の液晶表示装置の製造方法において
は、カラーフィルタ層の上に平坦化膜などを介すること
なくその上に透明導電膜を形成する。よって、透明導電
膜により形成される電極はカラーフィルター層に対応す
る絵素電極部の間に凹部を形成し最終構造で形成される
基板表面の突出部が少なく絵素電極上の配向膜形成が適
切に行われる。また、このような凹部は下層のカラーフ
ィルター層の表面構造を利用して形成するので、特別に
凹部形成工程や部材を追加する必要がなく、低コストで
製造することができる。
In the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, a transparent conductive film is formed on a color filter layer without a flattening film or the like interposed therebetween. Therefore, the electrode formed by the transparent conductive film has a concave portion formed between the pixel electrode portions corresponding to the color filter layer, and the projection on the substrate surface formed in the final structure is small, and the alignment film on the pixel electrode is formed. Done properly. In addition, since such a concave portion is formed using the surface structure of the lower color filter layer, it is not necessary to add a special concave portion forming step or a member, and it is possible to manufacture the concave portion at low cost.

【0037】また、このような凹部の上には樹脂BM層
を形成する。よってソースバスラインと絵素電極間の容
量は、液晶層に加え樹脂BMを介した結合容量となり、
従来のような容量を介した信号遅延を解消することが可
能となる。さらに、対向電極からの絵素電極周辺部への
斜め方向の電界成分も従来より減り、リバースチルトド
メインが低減されて表示品位を向上させることができ
る。
A resin BM layer is formed on such a concave portion. Therefore, the capacitance between the source bus line and the pixel electrode becomes a coupling capacitance via the resin BM in addition to the liquid crystal layer,
It is possible to eliminate the signal delay via the capacitor as in the related art. Further, the electric field component in the oblique direction from the counter electrode to the peripheral portion of the pixel electrode is reduced as compared with the conventional case, and the reverse tilt domain is reduced, so that the display quality can be improved.

【0038】また、前記一方基板上の前記透明導電膜を
正または負の電位に帯電し、前記電位と同一の極性電位
を帯電させた粒状の誘電体ビーズを前記一方基板上に供
給して、前記BM上に多くの前記誘電体ビーズを付着さ
せることにより、誘電体ビーズを容易にBM上のみに、
選択的に供給することができる。よって、画素電極上に
おける液晶層の透過光の散乱が軽減されて高品質な液晶
表示装置を製造することができる。
Further, the transparent conductive film on the one substrate is charged to a positive or negative potential, and granular dielectric beads charged to the same polarity as the potential are supplied onto the one substrate, By depositing many of the dielectric beads on the BM, the dielectric beads can be easily placed only on the BM,
Can be supplied selectively. Therefore, scattering of light transmitted through the liquid crystal layer over the pixel electrode is reduced, and a high-quality liquid crystal display device can be manufactured.

【0039】さらに、カラーフィルターのパターンを形
成する際に、一方基板側に形成されたコモン転移電極に
対応する位置にまでカラーフィルターを延ばして形成す
ることにより、工程を増やすことなく、一方基板と対向
基板との良好な導通状態(コモン転移)を確保すること
ができ、また、この際、カラーフィルターを複数積層す
ることにより、コモン転移部におけるセル厚が小さくな
り、カーボンペーストの使用量や短絡に関する高信頼性
をも確保することができる。
Further, when forming the pattern of the color filter, the color filter is formed to extend to a position corresponding to the common transition electrode formed on the one substrate side. A good conduction state (common transition) with the opposing substrate can be ensured. At this time, by stacking a plurality of color filters, the cell thickness at the common transition portion becomes small, and the amount of carbon paste used and short-circuiting occur. High reliability can be ensured.

【0040】[0040]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の液晶表示装置およびその製造方法について説明する。
図1(a)は、本実施の形態における液晶表示装置の斜
視図であり、図1(b)は、図1(a)の液晶表示装置
におけるA−A線断面図である。また、図2(a)は、
本実施の形態におけるカラーフィルター層を備えた対向
基板の製造工程を示したフローチャートであり、図2
(b)は、その製造工程に対応した対向基板の平面図お
よび断面図である。さらに、図3は、本実施の形態にお
ける液晶セル厚保持のための誘電体ビーズ散布工程を示
した対向基板の断面図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a liquid crystal display device of the present invention and a method of manufacturing the same will be described with reference to the drawings.
FIG. 1A is a perspective view of the liquid crystal display device according to the present embodiment, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA of the liquid crystal display device of FIG. FIG. 2 (a)
FIG. 2 is a flowchart showing a manufacturing process of a counter substrate provided with a color filter layer in the present embodiment, and FIG.
FIG. 2B is a plan view and a cross-sectional view of the counter substrate corresponding to the manufacturing process. FIG. 3 is a cross-sectional view of the counter substrate showing a step of dispersing dielectric beads for maintaining the thickness of the liquid crystal cell in the present embodiment.

【0041】まず、図1(a)に示す斜視図および図1
(b)に示す断面図を用いて本実施の形態を説明する。
First, the perspective view shown in FIG.
This embodiment will be described with reference to the cross-sectional view shown in FIG.

【0042】一方基板11と対向基板12とがある一定
の間隔を形成して対向配置されている。そして、この両
基板11、12との間には液晶層13が備えられてい
る。この一方基板11上には、マトリクス状に配置され
たソースバスライン4、ゲートバスライン15およびそ
れらの交点に配置された薄膜トランジスタ16からなる
スイッチング素が備えられている。さらに、液晶層13
中の液晶分子の配列方向を制御するための電圧が印加さ
れる絵素電極17も複数備えられている。
On the other hand, the substrate 11 and the opposing substrate 12 are opposed to each other with a certain space therebetween. A liquid crystal layer 13 is provided between the two substrates 11 and 12. On the other hand, on the one substrate 11, a switching element including a source bus line 4, a gate bus line 15, and a thin film transistor 16 arranged at an intersection thereof is provided. Further, the liquid crystal layer 13
A plurality of pixel electrodes 17 to which a voltage for controlling the arrangement direction of the liquid crystal molecules therein is applied are also provided.

【0043】一方、対向基板12上には、一方基板11
上の各々の絵素電極17に対応して1.4から1.5μ
m程度の厚さの複数色のカラーフィルター層18および
対向電極19が備えられ、前記カラーフィルター層18
の各々の間であって、かつ前記対向電極19の上には、
遮光性の黒色樹脂などからなり、1.2から1.4μm
程度の厚さの樹脂BM20が備えられている。このよう
な液晶表示装置は各バスライン14、15へ順次信号電
圧を印加し、これらの交点の薄膜トランジスタ16から
なる素子によりスイッチングを行って、個々の絵素電極
17毎に特定の信号電圧を書き込み一定期間保持する。
On the other hand, on the counter substrate 12, the one substrate 11
1.4 to 1.5 μ corresponding to each of the pixel electrodes 17 above
a plurality of color filter layers 18 having a thickness of about m and a counter electrode 19.
And on the counter electrode 19,
Made of light-shielding black resin, etc., 1.2 to 1.4 μm
A resin BM20 having a thickness of about the same is provided. In such a liquid crystal display device, a signal voltage is sequentially applied to each of the bus lines 14 and 15, and switching is performed by an element including a thin film transistor 16 at the intersection thereof, and a specific signal voltage is written for each pixel electrode 17. Hold for a certain period.

【0044】このようにして個々の絵素電極17と対向
基板12上の対向電極19との間の電位差により基板間
に挾持された液晶層13は駆動される。このとき、絵素
電極17の間に対応する対向基板12上では、対向電極
19が凹状に窪み、かつ樹脂BM20が埋め込まれてい
る。よって、対向電極19とソースバスライン14との
間の容量が増加し、かつ対向電極19と絵素電極17の
周辺部との間の電界の斜め成分も低減されるので、高コ
ントラストで表示品位が良好な液晶表示装置を実現する
ことができる。
In this way, the liquid crystal layer 13 sandwiched between the substrates is driven by the potential difference between each of the pixel electrodes 17 and the counter electrode 19 on the counter substrate 12. At this time, on the opposite substrate 12 corresponding to between the pixel electrodes 17, the opposite electrode 19 is concavely recessed and the resin BM 20 is embedded. Therefore, the capacitance between the opposing electrode 19 and the source bus line 14 increases, and the oblique component of the electric field between the opposing electrode 19 and the peripheral portion of the pixel electrode 17 is reduced. , A liquid crystal display device having a good quality can be realized.

【0045】その際、前記樹脂BM20はカラーフィル
ター層18の厚みと同等もしくはそれ以下で、樹脂BM
20が前述の対向電極19の凹部を完全に埋めてかつ表
面からの突出がない平坦な表面となるように形成すれ
ば、樹脂BM20の遮光性が良好となり、しかも配向処
理が均質におこなわれるので一層表示品位を良好とする
ことができる。
At this time, the thickness of the resin BM 20 is equal to or less than the thickness of the color filter
When the resin 20 is formed so as to completely fill the concave portion of the above-mentioned counter electrode 19 and have a flat surface with no protrusion from the surface, the light shielding property of the resin BM 20 becomes good and the alignment process is performed uniformly. The display quality can be further improved.

【0046】なお、本実施の形態では、ゲートバスライ
ンおよびソースバスラインを同一基板に形成したアクテ
ィブマトリクス駆動液晶表示装置を例に説明したが、本
発明はこれに限らず、ソースバスラインをストライプ状
に形成してゲートバスライン形成基板と異なる側の対向
基板に形成したものや単純マトリクス型などの他の液晶
表示装置にも適用することができる。
In this embodiment, an active matrix driving liquid crystal display device in which gate bus lines and source bus lines are formed on the same substrate has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and the source bus lines may be formed in stripes. The present invention can be applied to a liquid crystal display device of a simple matrix type or a liquid crystal display device formed on a counter substrate on a side different from the gate bus line forming substrate.

【0047】つぎに、図2(a)に示すフローチャー
ト、図2(b)に示す平面図と断面図、図3に示す断面
図を用いて本実施の形態における製造方法を説明する。
Next, the manufacturing method according to the present embodiment will be described with reference to a flowchart shown in FIG. 2A, a plan view and a sectional view shown in FIG. 2B, and a sectional view shown in FIG.

【0048】まず、図2(a)(b)に示すように、対
向基板11上にRの顔料を分散したドライフィルムをラ
ミネートし、露光、現像、べーク工程を経て所定のRの
パターン18aを形成する。同様の工程を経てGのパタ
ーン18b、Bのパターン18cを形成する。
First, as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), a dry film in which an R pigment is dispersed is laminated on the counter substrate 11, and a predetermined R pattern is formed through exposure, development and baking steps. 18a is formed. Through similar steps, a G pattern 18b and a B pattern 18c are formed.

【0049】つぎに、対向電極19となるITOをその
上に積層し、黒色のドライフィルムをラミネートする。
その状態で既に形成したR、G、Bの各パターン18
a、18b、18cをマスクとして基板裏面から露光を
行い、所定の樹脂BM20のパターンを形成する。
Next, ITO serving as the counter electrode 19 is laminated thereon, and a black dry film is laminated.
R, G, B patterns 18 already formed in that state
Exposure is performed from the back surface of the substrate using a, 18b, and 18c as a mask to form a predetermined resin BM20 pattern.

【0050】このようにドライフィルム法と裏面露光と
を組み合わせることにより、所定の厚さと面積の樹脂B
M20を精度良く余分なマスクを必要とすることなく、
簡単に形成することができ、しかも樹脂BM20の突出
部が少ない平坦な基板表面を形成することが可能とな
る。
As described above, by combining the dry film method and the back surface exposure, the resin B having a predetermined thickness and area is obtained.
M20 can be precisely manufactured without requiring an extra mask,
It can be formed easily, and a flat substrate surface with few projecting portions of the resin BM 20 can be formed.

【0051】引き続きその上に、配向膜50としてのポ
リイミドを印刷形成しラビング処理を施す。つぎに、図
3に示すように、対向電極19に正の電圧を印加し、正
に帯電させた状態で、液晶セル厚保持のための誘電体ビ
ーズ51も正に帯電させて対向基板12上に散布する。
このようにして絵素電極17に対向するカラーフィルタ
ー層18上の対向電極部では誘電体ビーズ51が静電気
力で反発して、樹脂BM20上へ選択的に配置される。
Subsequently, a polyimide as an orientation film 50 is printed thereon and subjected to a rubbing treatment. Next, as shown in FIG. 3, a positive voltage is applied to the opposing electrode 19, and in a state of being positively charged, the dielectric beads 51 for maintaining the thickness of the liquid crystal cell are also positively charged, and Spray.
In this manner, the dielectric beads 51 are repelled by the electrostatic force at the opposing electrode portion on the color filter layer 18 opposing the picture element electrode 17 and are selectively disposed on the resin BM 20.

【0052】なお、上述したような本発明の構成では、
対向基板12側のコモン転移部の構造が従来のままで
は、対向側基板/ITO/BM/カーボンペーストの積
層構造となってしまい、一方基板11との間で導通を行
うことができず、また、このためだけに新たな加工を施
すことも工程増加などの問題を招くことになるため、工
程増加を伴うことなく良好な導通状態を確保する必要が
ある。
In the configuration of the present invention as described above,
If the structure of the common transfer portion on the side of the opposing substrate 12 is unchanged, the laminated structure of the opposing substrate / ITO / BM / carbon paste will be formed, and conduction with the substrate 11 cannot be performed. However, performing new processing solely for this purpose also causes problems such as an increase in the number of steps. Therefore, it is necessary to secure a good conduction state without increasing the number of steps.

【0053】そこで、本発明のコモン転移部の構造につ
いて、図面を用いて簡単に説明する。図4(a)は、本
実施の形態の液晶表示装置における対向基板側のコモン
転移部を示した平面図であり、図4(b)は、そのA−
A線断面図、図4(c)は、そのB−B線断面図であ
る。
Therefore, the structure of the common transition portion of the present invention will be briefly described with reference to the drawings. FIG. 4A is a plan view showing a common transition portion on the counter substrate side in the liquid crystal display device of the present embodiment, and FIG.
FIG. 4C is a sectional view taken along the line BB of FIG.

【0054】図4(a)(b)(c)に示すように、対
向基板11上に赤(R)の顔料を分散したドライフィル
ムをラミネートし、露光、現像、べーク工程を経て所定
のRのパターン18aを形成し、同様の工程を経てGの
パターン18b、Bのパターン18cを形成するが、こ
のカラーフィルター18のパターンを形成する際に、一
方基板11側に形成されたコモン転移電極に対応する位
置にまでカラーフィルター18を延ばして形成してお
く。
As shown in FIGS. 4 (a), 4 (b) and 4 (c), a dry film in which a red (R) pigment is dispersed is laminated on the opposing substrate 11, and exposed to light, developed and baked to obtain a predetermined film. The R pattern 18a is formed, and the G pattern 18b and the B pattern 18c are formed through the same steps. When the color filter 18 is formed, the common transfer pattern formed on one substrate 11 side is formed. The color filter 18 is formed to extend to a position corresponding to the electrode.

【0055】そして対向電極19となるITOをその上
に積層し、黒色のドライフィルムをラミネートする。そ
の状態で既に形成したR、G、Bの各パターン18a、
18b、18cをマスクとして基板裏面から露光を行い
所定の樹脂BM20のパターンを形成するが、この樹脂
BM20のパターンを形成する際には、上述したコモン
転移部に対応する位置には、カラーフィルター18が形
成されているため、樹脂BM20は形成されない。つま
り、図4(c)に示すように、本発明におけるパネル周
辺部は、コモン転移部の積層構造状態が、対向基板/カ
ラーフィルター層/ITO/カーボンペーストとなって
おり、また、それ以外の箇所の積層構造状態が、対向基
板/ITO/樹脂BMとなっており、このため、一方基
板11と対向基板12との良好な導通状態を確保するこ
とが可能となっている。
Then, ITO serving as the counter electrode 19 is laminated thereon, and a black dry film is laminated. In this state, each of the R, G, and B patterns 18a,
Exposure is performed from the back surface of the substrate using the masks 18b and 18c as masks to form a predetermined resin BM20 pattern. When the resin BM20 pattern is formed, the color filter 18 is located at a position corresponding to the above-described common transition portion. Is formed, the resin BM20 is not formed. That is, as shown in FIG. 4C, in the panel peripheral portion in the present invention, the laminated structure state of the common transition portion is such that the counter substrate / color filter layer / ITO / carbon paste is used. The laminated structure state of the location is opposite substrate / ITO / resin BM, and therefore, it is possible to ensure a good conduction state between the one substrate 11 and the opposite substrate 12.

【0056】なお、上述した本実施の形態におけるコモ
ン転移部の構造においては、例えば図5(a)(b)に
示すように、カラーフィルター18のパターンを形成す
る際に、一方基板11側に形成されたコモン転移電極に
対応する位置にまで複数のカラーフィルター18a、1
8bを延ばして形成してもよく、この場合には、コモン
転移部の積層構造状態が、対向基板/カラーフィルター
層/カラーフィルター層/ITO/カーボンペーストと
なるため、コモン転移部における透過率を単色で形成し
たときと比べて格段に低下させることが可能となる。
In the structure of the common transfer portion in the above-described embodiment, for example, as shown in FIGS. 5A and 5B, when the pattern of the color filter 18 is formed, The plurality of color filters 18a, 1a are arranged at positions corresponding to the formed common transition electrodes.
8b may be extended, and in this case, the laminated structure state of the common transition portion is opposite substrate / color filter layer / color filter layer / ITO / carbon paste, so that the transmittance at the common transition portion is reduced. Compared with the case of forming a single color, it is possible to significantly reduce.

【0057】一般に、このコモン転移部は、一方基板1
1側のコモン転移電極などにより遮光されているが、パ
ネルの貼り合わせ工程などにより光漏れを伴う可能性も
秘めており、このことからも対向基板12側のコモン転
移部においてもカラーフィルター18を複数積層して透
過率を減少させておくことが望ましい。従って、R、
G、B、3色のカラーフィルター18a、18b、18
cを積層することにより、図6に示す表からも分かるよ
うに、さらに最大透過率を減少させることが可能であ
る。
Generally, this common transition portion is formed on one side of the substrate 1.
Although the light is shielded by the common transfer electrode on one side, there is a possibility that light leakage may occur due to the panel bonding process and the like. It is desirable to reduce the transmittance by laminating a plurality of layers. Therefore, R,
G, B, three color filters 18a, 18b, 18
By laminating c, it is possible to further reduce the maximum transmittance, as can be seen from the table shown in FIG.

【0058】また、例えば通常のTN液晶モードなどで
は、セル厚が約4.5μm程度であるのが一般的である
が、本発明のようにコモン転移部においてカラーフィル
ター18を2層、3層の積層構造とすることにより、コ
モン転移部におけるセル厚が小さくなるため、カーボン
ペースト36の使用量や短絡に関する高信頼性も確保す
ることが可能となっている。
For example, in a normal TN liquid crystal mode or the like, the cell thickness is generally about 4.5 μm. However, as in the present invention, two or three color filters 18 are provided at the common transition portion. Since the thickness of the cell at the common transition portion is reduced by adopting the laminated structure of the above, it is possible to secure high reliability regarding the amount of the carbon paste 36 used and short circuit.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
装置によれば、カラーフィルター層の上に透明導電膜が
配置されており、この透明導電膜上であって前記各カラ
ーフィルター層の間に対応する位置に樹脂材料からなる
ブラックマトリクス層が配置されている。これにより、
透明導電膜の絵素領域以外の部分に凹部を容易に形成す
ることができ、その凹部に遮光を兼ねた樹脂からなるブ
ラックマトリクス層を形成しているので、対向電極とバ
スラインとの容量を増加し、さらに絵素電極に加わる不
要な横電界成分を低減することができるので、液晶表示
装置の表示品位を向上させることが可能となる。
As described above, according to the liquid crystal display device of the present invention, the transparent conductive film is disposed on the color filter layer, and the transparent conductive film is disposed on the transparent conductive film. A black matrix layer made of a resin material is arranged at a position corresponding to the space therebetween. This allows
A concave portion can be easily formed in a portion other than the pixel region of the transparent conductive film, and a black matrix layer made of a resin that also functions as a light shield is formed in the concave portion, so that the capacitance between the counter electrode and the bus line is reduced. As a result, unnecessary horizontal electric field components applied to the pixel electrodes can be reduced, so that the display quality of the liquid crystal display device can be improved.

【0060】また、本発明の液晶表示装置の製造方法に
よれば、カラーフィルター層の上に透明導電膜を形成
し、この透明導電膜の上にフィルム状の黒色樹脂膜を配
置し、前記各カラーフィルター層の間にブラックマトリ
クス層を形成することによりブラックマトリクス層の膜
厚が安定し、精度よくかつ突出部を少なくして容易に形
成でき、良好な配向処理と精度良く遮光特性と容量を形
成することができるので、液晶表示装置の表示品位を向
上させることが可能となる。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, a transparent conductive film is formed on a color filter layer, and a film-like black resin film is disposed on the transparent conductive film. By forming a black matrix layer between the color filter layers, the thickness of the black matrix layer is stabilized, and it can be formed easily with high accuracy and a small number of protrusions. Since it can be formed, the display quality of the liquid crystal display device can be improved.

【0061】また、本発明の液晶表示装置の製造方法に
よれば、カラーフィルター層の上に平坦化膜などを介す
ることなく透明導電膜を形成する。よって、透明導電膜
により形成される電極は、カラーフィルター層に対応す
る絵素電極部の間に凹部を形成し最終構造で形成される
基板表面の突出部が少なく絵素電極上の配向膜形成が適
切に行われる。また、このような凹部は下層のカラーフ
ィルター層の表面構造を利用して形成されるので特別に
凹部形成工程や部材を追加する必要がなく低コストで製
造することが可能となる。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, a transparent conductive film is formed on a color filter layer without a flattening film or the like. Therefore, the electrode formed by the transparent conductive film has a concave portion formed between the pixel electrode portions corresponding to the color filter layer, and the projection on the substrate surface formed in the final structure is few and the alignment film is formed on the pixel electrode. Is done properly. In addition, since such a concave portion is formed using the surface structure of the lower color filter layer, it is possible to manufacture the concave portion at a low cost without requiring any special concave portion forming step or additional member.

【0062】また、前記一方基板上の前記透明導電膜を
正または負の電位に帯電し、前記電位と同一の極性電位
を帯電させた粒状の誘電体ビーズを前記一方基板上に供
給して、前記BM上に多くの前記誘電体ビーズを付着さ
せることにより、誘電体ビーズを容易にBM上のみに、
選択的に供給することができる。よって、画素電極上に
おける液晶層の透過光の散乱が軽減されて高品質な液晶
表示装置を製造することが可能となる。
In addition, the transparent conductive film on the one substrate is charged to a positive or negative potential, and granular dielectric beads charged to the same polarity potential as the potential are supplied onto the one substrate, By depositing many of the dielectric beads on the BM, the dielectric beads can be easily placed only on the BM,
Can be supplied selectively. Accordingly, scattering of light transmitted through the liquid crystal layer over the pixel electrode is reduced, and a high-quality liquid crystal display device can be manufactured.

【0063】さらに、カラーフィルターのパターンを形
成する際に、一方基板側に形成されたコモン転移電極に
対応する位置にまでカラーフィルターを延ばして形成し
ていることにより、一方基板と対向基板との良好な導通
状態(コモン転移)を確保することができ、また、この
際、カラーフィルターを複数積層することにより、コモ
ン転移部におけるセル厚が小さくなり、カーボンペース
トの使用量や短絡に関する高信頼性をも確保することが
できる。
Further, when the color filter pattern is formed, the color filter is formed to extend to a position corresponding to the common transition electrode formed on the one substrate side. A good conduction state (common transition) can be ensured. At this time, by stacking a plurality of color filters, the cell thickness at the common transition portion is reduced, and the amount of carbon paste used and high reliability with respect to short circuits are high. Can also be secured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明の実施形態の液晶表示装置の斜
視図と断面図である。
FIG. 1 is a perspective view and a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図2(a)は、本実施の形態におけるカラーフ
ィルター層を備えた対向基板の製造工程を示したフロー
チャートであり、図2(b)は、その製造工程に対応し
た対向基板の平面図および断面図である。
FIG. 2A is a flowchart showing a manufacturing process of a counter substrate provided with a color filter layer in the present embodiment, and FIG. 2B is a flowchart of a counter substrate corresponding to the manufacturing process. It is a top view and a sectional view.

【図3】図3は、本実施の形態における液晶セル厚保持
のための誘電体ビーズ散布工程を示した対向基板の断面
図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of the counter substrate showing a step of dispersing dielectric beads for maintaining the thickness of the liquid crystal cell in the present embodiment.

【図4】図4(a)は、本発明の液晶表示装置における
対向基板側のコモン転移部を示した平面図であり、図4
(b)は、そのA−A線断面図、図4(c)は、そのB
−B線断面図である。
FIG. 4A is a plan view showing a common transition portion on the counter substrate side in the liquid crystal display device of the present invention.
FIG. 4B is a sectional view taken along the line AA, and FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line B.

【図5】図5(a)は、本発明の液晶表示装置における
別の対向基板側のコモン転移部を示した平面図であり、
図5(b)は、そのB−B線断面図である。
FIG. 5 (a) is a plan view illustrating another common transition portion on the side of another counter substrate in the liquid crystal display device of the present invention,
FIG. 5B is a sectional view taken along the line BB.

【図6】図6は、積層色の違いによる透過率を示した表
である。
FIG. 6 is a table showing transmittance according to a difference in a lamination color.

【図7】図7(a)は、従来の液晶表示装置の斜視図で
あり、図7(b)は、図7(a)の液晶表示装置におけ
るA−A線断面図である。
FIG. 7A is a perspective view of a conventional liquid crystal display device, and FIG. 7B is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of FIG.

【図8】図8(a)は、カラーフィルター層を備えた対
向基板の一般的な製造工程を示したフローチャートであ
り、図8(b)は、その製造工程に対応した対向基板の
平面図および断面図である。
FIG. 8A is a flowchart showing a general manufacturing process of a counter substrate provided with a color filter layer, and FIG. 8B is a plan view of the counter substrate corresponding to the manufacturing process. FIG.

【図9】図9(a)は、カラーフィルター層を備えた対
向基板の一般的な製造工程を示したフローチャートであ
り、図9(b)は、その製造工程に対応した対向基板の
平面図および断面図である。
9A is a flowchart showing a general manufacturing process of a counter substrate having a color filter layer, and FIG. 9B is a plan view of the counter substrate corresponding to the manufacturing process. FIG.

【図10】図10(a)は、従来の液晶表示装置におけ
る一方基板側のコモン転移部を示した平面図とその断面
図であり、図10(b)は、従来の液晶表示装置におけ
る対向基板側のコモン転移部を示した平面図とその断面
図である。
FIG. 10A is a plan view and a cross-sectional view showing a common transition portion on one substrate side in a conventional liquid crystal display device, and FIG. 10B is a cross-sectional view thereof. It is the top view which showed the common transfer part on the board | substrate side, and its sectional drawing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 一方基板 12 対向基板 13 液晶層 14 ソースバスライン 15 ゲートバスライン 16 薄膜トランジスタ 17 絵素電極 18 カラーフィルター層 18a 赤のカラーフィルター層 18b 緑のカラーフィルター層 18c 青のカラーフィルター層 19 対向電極 20 樹脂BM 21 一方基板 22 対向基板 23 液晶層 24 ソースバスライン 25 ゲートバスライン 26 薄膜トランジスタ 27 絵素電極 28 カラーフィルター層 28a 赤のカラーフィルター層 28b 緑のカラーフィルター層 28c 青のカラーフィルター層 29 対向電極 30 ガラス基板 31 樹脂BM 33 シール材 34 コモン転移電極(対向側) 35 コモン転移電極(一方側) 36 カーボンペースト 110 ソースバスラインと対向電極間の容量 210 ソースバスラインと対向電極間の容量 Reference Signs List 11 one substrate 12 counter substrate 13 liquid crystal layer 14 source bus line 15 gate bus line 16 thin film transistor 17 picture element electrode 18 color filter layer 18a red color filter layer 18b green color filter layer 18c blue color filter layer 19 counter electrode 20 resin BM 21 One substrate 22 Counter substrate 23 Liquid crystal layer 24 Source bus line 25 Gate bus line 26 Thin film transistor 27 Pixel electrode 28 Color filter layer 28a Red color filter layer 28b Green color filter layer 28c Blue color filter layer 29 Counter electrode 30 Glass substrate 31 Resin BM 33 Sealing material 34 Common transfer electrode (opposite side) 35 Common transfer electrode (one side) 36 Carbon paste 110 Capacitance between source bus line and counter electrode 210 Capacitance between bus lines and the counter electrode

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶層を挟んで互いに対向する一対の基
板のうちの一方に、複数色のカラーフィルター層がそれ
ぞれ配置され、該複数色のカラーフィルター層上に透明
導電膜が形成され、該透明導電膜上であってかつ前記各
カラーフィルター層の間に対応する位置に絶縁性材料か
ら成るブラックマトリクス層が形成されていることを特
徴とする液晶表示装置。
A plurality of color filter layers disposed on one of a pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween; a transparent conductive film formed on the plurality of color filter layers; A liquid crystal display device, wherein a black matrix layer made of an insulating material is formed on the transparent conductive film and at a position corresponding to between the color filter layers.
【請求項2】 前記ブラックマトリクス層の厚さは、前
記カラーフィルター層の厚さと同等もしくはそれ以下で
あることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the thickness of the black matrix layer is equal to or less than the thickness of the color filter layer.
【請求項3】 前記一方の基板上に形成された複数色の
カラーフィルター層のうちの少なくとも1層が、前記液
晶層を挟んで互いに対向する一対の基板間の導通を行う
コモン転移部にも形成されていることを特徴とする請求
項1または2に記載の液晶表示装置。
3. A liquid crystal display according to claim 1, wherein at least one of the color filter layers of a plurality of colors formed on said one substrate also has a common transition portion for conducting between a pair of substrates facing each other with said liquid crystal layer interposed therebetween. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is formed.
【請求項4】 液晶層を挟んで互いに対向する一対の基
板のうちの一方に、複数色のカラーフィルター層をそれ
ぞれ形成する工程と、 前記カラーフィルター層上に透明導電膜を形成する工程
と、 前記透明導電膜上に黒色の樹脂膜を形成するとともに、
少なくとも前記各カラーフィルター層の間に対応する位
置以外に形成した該黒色の樹脂膜を除去して、ブラック
マトリクス層を形成する工程と、を含むことを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法。
4. a step of forming a plurality of color filter layers on one of a pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween; and a step of forming a transparent conductive film on the color filter layers. While forming a black resin film on the transparent conductive film,
Removing the black resin film formed at a position other than at least between the respective color filter layers to form a black matrix layer.
【請求項5】 前記一方の基板上に形成された透明導電
膜を正または負の電位に帯電し、該電位と同一の極性電
位を帯電させた粒状の誘電体ビーズを該一方の基板上に
供給し、前記ブラックマトリクス上に該誘電体ビーズを
付着させることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示
装置の製造方法。
5. The transparent conductive film formed on the one substrate is charged to a positive or negative potential, and granular dielectric beads charged to the same polarity as the potential are placed on the one substrate. 5. The method according to claim 4, wherein the dielectric beads are supplied to adhere the dielectric beads on the black matrix.
【請求項6】 前記一方の基板上に複数色のカラーフィ
ルター層をそれぞれ形成する工程の際に、該複数色のカ
ラーフィルター層のうちの少なくとも1層を、前記液晶
層を挟んで互いに対向する一対の基板間の導通を行うコ
モン転移部にも形成することを特徴とする請求項4また
は5に記載の液晶表示装置の製造方法。
6. A step of forming a plurality of color filter layers on the one substrate, wherein at least one of the plurality of color filter layers faces each other with the liquid crystal layer interposed therebetween. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 4, wherein the liquid crystal display device is formed also at a common transition portion that conducts between a pair of substrates.
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US09/736,372 US6392728B2 (en) 1997-11-27 2000-12-15 LCD with color filter substrate with tapering color filter portions overlapped by electrode and black matrix layers

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