JPH09249691A - ２５−ヒドロキシコレステロール類の製造法およびその合成中間体 - Google Patents
２５−ヒドロキシコレステロール類の製造法およびその合成中間体Info
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- JPH09249691A JPH09249691A JP8080470A JP8047096A JPH09249691A JP H09249691 A JPH09249691 A JP H09249691A JP 8080470 A JP8080470 A JP 8080470A JP 8047096 A JP8047096 A JP 8047096A JP H09249691 A JPH09249691 A JP H09249691A
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ジアゾメタンのような爆発性で毒性の強い化
学物質を使用せずに、コレン酸類を原料に、効率よく、
１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3の合成原料たる
２５−ヒドロキシコレステロール類を製造する方法、お
よびそれに用いられる合成中間体を見いだすこと。 【解決手段】 下記式（III）［式中、Ｒ1は、水素原
子、炭素数２〜８のアシル基、トリ（炭素数１〜６の炭
化水素基）置換シリル基、または１−（炭素数１〜４の
アルコキシ基）置換の炭素数１〜６のアルキル基を表
し、Ｒ2は水素原子またはＲ1Ｏ基を表す。］で表される
化合物を、そのニトロ基をカルボニル基に変換しうる反
応剤で処理することにより、下記式（IV）で表される化
合物とし、続いてメチル化剤と反応させ、さらに、必要
により水酸基の保護基を除去することを特徴とする下記
式（Ｖ）で表される２５−ヒドロキシコレステロール類
の製造法、ならびにこれに用いられる合成中間体。
学物質を使用せずに、コレン酸類を原料に、効率よく、
１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3の合成原料たる
２５−ヒドロキシコレステロール類を製造する方法、お
よびそれに用いられる合成中間体を見いだすこと。 【解決手段】 下記式（III）［式中、Ｒ1は、水素原
子、炭素数２〜８のアシル基、トリ（炭素数１〜６の炭
化水素基）置換シリル基、または１−（炭素数１〜４の
アルコキシ基）置換の炭素数１〜６のアルキル基を表
し、Ｒ2は水素原子またはＲ1Ｏ基を表す。］で表される
化合物を、そのニトロ基をカルボニル基に変換しうる反
応剤で処理することにより、下記式（IV）で表される化
合物とし、続いてメチル化剤と反応させ、さらに、必要
により水酸基の保護基を除去することを特徴とする下記
式（Ｖ）で表される２５−ヒドロキシコレステロール類
の製造法、ならびにこれに用いられる合成中間体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品として有用
な、１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3の製造法お
よびその製造法における合成中間体に関するものであ
る。詳細には１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3の
合成原料として有用な２５−ヒドロキシコレステロール
類の製造法およびその製造法における合成中間体に関す
る。
な、１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3の製造法お
よびその製造法における合成中間体に関するものであ
る。詳細には１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3の
合成原料として有用な２５−ヒドロキシコレステロール
類の製造法およびその製造法における合成中間体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】２５−ヒドロキシコレステロール類の合
成例としては、出発原料としてコレステロールを用いる
もの（Ａ．Ｌ．Ｊ．Ｂｅｃｋｗｉｔｈ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．，３１６２（１９６１））、スチグマステロー
ルを用いるもの（Ｊ．Ｊ．Ｐａｒｔｒｉｄｇｅら，Ｈｅ
ｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ．，５７，７６４（１９７
４））、アンドロステロノンを用いるもの（Ｊ．Ｗｉｃ
ｈａ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ，Ｃｏｍｍｕ
ｎ．，９６８（１９６１））、フコステロールを用いる
もの（Ｍ．Ｍｏｒｉｓａｋｉら，Ｃｈｅｍ．Ｐｈｒａ
ｍ．Ｂｕｌｌ．，２１，４５７（１９７３））、コレン
酸を用いるもの（Ｊ．Ａ．Ｃａｍｂｅｌｌら，Ｓｔｅｒ
ｏｉｄ，１３，５６７（１９６９））等が知られてい
る。これらの合成ルートは出発原料の入手の容易さによ
り選択されるべきものであるが、これらのうち、代表的
な合成例である、コレン酸を出発原料とする合成ルート
は以下に示すとおりである。
成例としては、出発原料としてコレステロールを用いる
もの（Ａ．Ｌ．Ｊ．Ｂｅｃｋｗｉｔｈ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．，３１６２（１９６１））、スチグマステロー
ルを用いるもの（Ｊ．Ｊ．Ｐａｒｔｒｉｄｇｅら，Ｈｅ
ｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ．，５７，７６４（１９７
４））、アンドロステロノンを用いるもの（Ｊ．Ｗｉｃ
ｈａ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ，Ｃｏｍｍｕ
ｎ．，９６８（１９６１））、フコステロールを用いる
もの（Ｍ．Ｍｏｒｉｓａｋｉら，Ｃｈｅｍ．Ｐｈｒａ
ｍ．Ｂｕｌｌ．，２１，４５７（１９７３））、コレン
酸を用いるもの（Ｊ．Ａ．Ｃａｍｂｅｌｌら，Ｓｔｅｒ
ｏｉｄ，１３，５６７（１９６９））等が知られてい
る。これらの合成ルートは出発原料の入手の容易さによ
り選択されるべきものであるが、これらのうち、代表的
な合成例である、コレン酸を出発原料とする合成ルート
は以下に示すとおりである。
【０００３】
【化７】
【０００４】本合成ルートにおいては、ジアゾメタンと
いう爆発性で、かつ、毒性の強い化学物質を使用する必
要があり、実用的な大量合成に向いている方法とはいえ
ない。このため、コレン酸が入手容易な物質であるにも
かかわらず、他の物質を出発原料とする合成ルートを選
択する傾向にあった。
いう爆発性で、かつ、毒性の強い化学物質を使用する必
要があり、実用的な大量合成に向いている方法とはいえ
ない。このため、コレン酸が入手容易な物質であるにも
かかわらず、他の物質を出発原料とする合成ルートを選
択する傾向にあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、ジアゾメタン
を使用せずにコレン酸より２５−ヒドロキシコレステロ
ール類が得られれば、コレン酸を出発原料とするより大
量合成に向く合成ルートとなりうる。
を使用せずにコレン酸より２５−ヒドロキシコレステロ
ール類が得られれば、コレン酸を出発原料とするより大
量合成に向く合成ルートとなりうる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者は、コレ
ン酸を出発原料とする実用的かつ大量合成に向いた合成
ルートの開拓を鋭意研究した結果、３β−置換コレン−
２４−アルデヒド類を６工程で２５−ヒドロキシコレス
テロール類に誘導することに成功し、本発明に到達し
た。
ン酸を出発原料とする実用的かつ大量合成に向いた合成
ルートの開拓を鋭意研究した結果、３β−置換コレン−
２４−アルデヒド類を６工程で２５−ヒドロキシコレス
テロール類に誘導することに成功し、本発明に到達し
た。
【０００７】すなわち、本発明は、下記式（III）
【０００８】
【化８】
【０００９】［式中、Ｒ1は水素原子、炭素数２〜８の
アシル基、トリ（炭素数１〜６の炭化水素基）置換シリ
ル基、または１−（炭素数１〜４のアルコキシ基）置換
の炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子ま
たはＲ1Ｏ基を表わす（Ｒ1は上記定義に同じ）。］で表
される化合物を、そのニトロ基をカルボニル基に変換し
うる反応剤で処理することにより、下記式（IV）
アシル基、トリ（炭素数１〜６の炭化水素基）置換シリ
ル基、または１−（炭素数１〜４のアルコキシ基）置換
の炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子ま
たはＲ1Ｏ基を表わす（Ｒ1は上記定義に同じ）。］で表
される化合物を、そのニトロ基をカルボニル基に変換し
うる反応剤で処理することにより、下記式（IV）
【００１０】
【化９】
【００１１】［式中、Ｒ1およびＲ2は、上記式（III）
における定義に同じである。］で表される化合物とし、
続いてメチル化剤と反応させ、さらに、必要により水酸
基の保護基を除去することを特徴とする下記式（Ｖ）
における定義に同じである。］で表される化合物とし、
続いてメチル化剤と反応させ、さらに、必要により水酸
基の保護基を除去することを特徴とする下記式（Ｖ）
【００１２】
【化１０】
【００１３】［式中、Ｒ1およびＲ2は、上記式（III）
における定義に同じである。］で表される２５−ヒドロ
キシコレステロール類の製造法である。
における定義に同じである。］で表される２５−ヒドロ
キシコレステロール類の製造法である。
【００１４】また、本発明は、かかる製造法において、
上記式（III）で表される出発原料として、下記式（I
I）
上記式（III）で表される出発原料として、下記式（I
I）
【００１５】
【化１１】
【００１６】［式中、Ｒ1およびＲ2は、上記式（III）
における定義に同じである。波線部分が結合している二
重結合についての幾何異性は、ＥまたはＺまたはそれら
の任意の割合の混合物である。］で表される化合物のニ
トロ基と共役する二重結合を還元して得たものを用い
る、上記式（Ｖ）で表される２５−ヒドロキシコレステ
ロール類の製造法である。
における定義に同じである。波線部分が結合している二
重結合についての幾何異性は、ＥまたはＺまたはそれら
の任意の割合の混合物である。］で表される化合物のニ
トロ基と共役する二重結合を還元して得たものを用い
る、上記式（Ｖ）で表される２５−ヒドロキシコレステ
ロール類の製造法である。
【００１７】本発明はさらに、この製造法において、上
記式（II）で表される化合物として、下記式（Ｉ）
記式（II）で表される化合物として、下記式（Ｉ）
【００１８】
【化１２】
【００１９】［式中、Ｒ1およびＲ2は、上記式（III）
における定義に同じである。］で表される化合物を脱水
剤と反応させることにより得たものを用いる、上記式
（Ｖ）で表される２５−ヒドロキシコレステロール類の
製造法である。
における定義に同じである。］で表される化合物を脱水
剤と反応させることにより得たものを用いる、上記式
（Ｖ）で表される２５−ヒドロキシコレステロール類の
製造法である。
【００２０】また、本発明は、かかる上記式（Ｉ）で表
される化合物として、下記式（VI）
される化合物として、下記式（VI）
【００２１】
【化１３】
【００２２】［式中、Ｒ1およびＲ2は、上記式（III）
における定義に同じである。］で表される化合物に、塩
基触媒存在下にニトロエタンを反応させることにより得
たものを用いる、上記式（Ｖ）で表される２５−ヒドロ
キシコレステロール類の製造法である。
における定義に同じである。］で表される化合物に、塩
基触媒存在下にニトロエタンを反応させることにより得
たものを用いる、上記式（Ｖ）で表される２５−ヒドロ
キシコレステロール類の製造法である。
【００２３】さらに、本発明には、２５−ヒドロキシコ
レステロール類の合成中間体たる上記式（Ｉ）で表され
る化合物、上記式（II）で表される化合物、および上記
式（III）で表される化合物も含まれる。
レステロール類の合成中間体たる上記式（Ｉ）で表され
る化合物、上記式（II）で表される化合物、および上記
式（III）で表される化合物も含まれる。
【００２４】ここで、上記式（VI）で表される出発原料
たる化合物は、５−コレン酸または１α−ヒドロキシ−
５−コレン酸より、例えばＪ．Ｓｔｅｒｏｌｄ Ｂｉｏ
ｃｈｅｍ．，２１，７３３（１９８４）等に記載の方法
により、（１）水酸基の保護、（２）カルボン酸の還
元、（３）還元 により生成したアルコールをアルデヒ
ドへ酸化することにより、以下のように容易に合成され
る。
たる化合物は、５−コレン酸または１α−ヒドロキシ−
５−コレン酸より、例えばＪ．Ｓｔｅｒｏｌｄ Ｂｉｏ
ｃｈｅｍ．，２１，７３３（１９８４）等に記載の方法
により、（１）水酸基の保護、（２）カルボン酸の還
元、（３）還元 により生成したアルコールをアルデヒ
ドへ酸化することにより、以下のように容易に合成され
る。
【００２５】
【化１４】
【００２６】
【発明の実施の形態】前記式（Ｉ）で表される化合物に
おいて、Ｒ1は水素原子、炭素数２〜８のアシル基、ト
リ（炭素数１〜６の炭化水素基）置換シリル基、または
１−（炭素数１〜４のアルコキシ基）置換の炭素数１〜
６のアルキル基を表す。Ｒ1の炭素数２〜８のアシル基
（炭素数にはカルボニル炭素を含む）としては、例え
ば、アセチル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、ベン
ゾイル基、エトキシカルボニル基などが挙げられ、好ま
しくはアセチル基が挙げられる。Ｒ1のトリ（炭素数１
〜６の炭化水素基）置換シリル基としては、例えば、ト
リメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジ
メチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基などが
挙げられ、好ましくはｔ−ブチルジメチルシリル基が挙
げられる。Ｒ1の１−（炭素数１〜４のアルコキシ基）
置換の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メ
トキシメチル基、（２−メトキシエトキシ）メチル基、
２−テトラヒドロピラニル基などが挙げられ、好ましく
はメトキシメチル基が挙げられる。
おいて、Ｒ1は水素原子、炭素数２〜８のアシル基、ト
リ（炭素数１〜６の炭化水素基）置換シリル基、または
１−（炭素数１〜４のアルコキシ基）置換の炭素数１〜
６のアルキル基を表す。Ｒ1の炭素数２〜８のアシル基
（炭素数にはカルボニル炭素を含む）としては、例え
ば、アセチル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、ベン
ゾイル基、エトキシカルボニル基などが挙げられ、好ま
しくはアセチル基が挙げられる。Ｒ1のトリ（炭素数１
〜６の炭化水素基）置換シリル基としては、例えば、ト
リメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジ
メチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基などが
挙げられ、好ましくはｔ−ブチルジメチルシリル基が挙
げられる。Ｒ1の１−（炭素数１〜４のアルコキシ基）
置換の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メ
トキシメチル基、（２−メトキシエトキシ）メチル基、
２−テトラヒドロピラニル基などが挙げられ、好ましく
はメトキシメチル基が挙げられる。
【００２７】前記式（Ｉ）で表される化合物において、
Ｒ2は水素原子またはＲ1Ｏ基を表わす（Ｒ1は上記定義
に同じ）。かかるＲ1基部分としては、前記式（Ｉ）の
Ｒ1について挙げた基と同様な基を好ましいものとして
挙げることができる。
Ｒ2は水素原子またはＲ1Ｏ基を表わす（Ｒ1は上記定義
に同じ）。かかるＲ1基部分としては、前記式（Ｉ）の
Ｒ1について挙げた基と同様な基を好ましいものとして
挙げることができる。
【００２８】前記式（VI）、前記式（II）、前記式（II
I）、前記式（IV）、および前記式（Ｖ）における、そ
れぞれのＲ1およびＲ2についての好ましい具体例として
は、前記式（Ｉ）について述べたものをそのまま挙げる
ことができる。
I）、前記式（IV）、および前記式（Ｖ）における、そ
れぞれのＲ1およびＲ2についての好ましい具体例として
は、前記式（Ｉ）について述べたものをそのまま挙げる
ことができる。
【００２９】前記式（Ｉ）で表される化合物は、前記式
（VI）で表される化合物を、塩基触媒存在下、有機溶媒
あるいは有機溶媒と水との混合溶媒中で、ニトロエタン
と反応させることにより得られる。適当な塩基として
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナト
リウムアルコキシド、カリウムアルコキシド、ランタン
アルコキシド、サマリウムアルコキシド、アルミナ、ブ
チルリチウム、塩基性イオン交換樹脂、テトラブチルア
ンモニウムフルオライド、またはトリエチルアミンに加
えて、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリドとテトラブチ
ルアンモニウムフルオライド等を用いるものが挙げられ
るが、なかでもトリエチルアミンに加えて、ｔ−ブチル
ジメチルシリルクロリドとテトラブチルアンモニウムフ
ルオライドを用いることが特に望ましい。かかる有機溶
媒としてはアルコール系溶媒、例えばメタノール、エタ
ノールなど、エーテル系溶媒、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテルなどが挙げられるが、テトラヒド
ロフランを用いることが好ましい。この反応は約−７０
℃から約６０℃の温度範囲で行われるが、約０℃から室
温の範囲が好ましい。
（VI）で表される化合物を、塩基触媒存在下、有機溶媒
あるいは有機溶媒と水との混合溶媒中で、ニトロエタン
と反応させることにより得られる。適当な塩基として
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナト
リウムアルコキシド、カリウムアルコキシド、ランタン
アルコキシド、サマリウムアルコキシド、アルミナ、ブ
チルリチウム、塩基性イオン交換樹脂、テトラブチルア
ンモニウムフルオライド、またはトリエチルアミンに加
えて、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリドとテトラブチ
ルアンモニウムフルオライド等を用いるものが挙げられ
るが、なかでもトリエチルアミンに加えて、ｔ−ブチル
ジメチルシリルクロリドとテトラブチルアンモニウムフ
ルオライドを用いることが特に望ましい。かかる有機溶
媒としてはアルコール系溶媒、例えばメタノール、エタ
ノールなど、エーテル系溶媒、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテルなどが挙げられるが、テトラヒド
ロフランを用いることが好ましい。この反応は約−７０
℃から約６０℃の温度範囲で行われるが、約０℃から室
温の範囲が好ましい。
【００３０】前記式（II）で表される化合物は、前記式
（Ｉ）で表される化合物を、有機溶媒中脱水剤と反応さ
せることにより得られる。脱水剤としてはフタル酸無水
物、ジシクロヘキシルカルボジイミド、および塩化メタ
ンスルホニルとトリエチルアミンの組み合わせ等が用い
られるが、塩化メタンスルホニルとトリエチルアミンの
組み合わせが特に好ましい。有機溶媒としては、炭化水
素系溶媒、例えばヘキサン、ベンゼンなど、エーテル系
溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルな
ど、ハロゲン系溶媒、例えばジクロロメタン、クロロホ
ルムなどが挙げられるが、ジクロロメタンが好ましい。
この反応は約０℃から約１２０℃の温度範囲で行われる
が、約０℃から室温の範囲が好ましい。
（Ｉ）で表される化合物を、有機溶媒中脱水剤と反応さ
せることにより得られる。脱水剤としてはフタル酸無水
物、ジシクロヘキシルカルボジイミド、および塩化メタ
ンスルホニルとトリエチルアミンの組み合わせ等が用い
られるが、塩化メタンスルホニルとトリエチルアミンの
組み合わせが特に好ましい。有機溶媒としては、炭化水
素系溶媒、例えばヘキサン、ベンゼンなど、エーテル系
溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルな
ど、ハロゲン系溶媒、例えばジクロロメタン、クロロホ
ルムなどが挙げられるが、ジクロロメタンが好ましい。
この反応は約０℃から約１２０℃の温度範囲で行われる
が、約０℃から室温の範囲が好ましい。
【００３１】前記式（III）で表される化合物は、前記
式（II）で表される化合物の二重結合を、有機溶媒、あ
るいは有機溶媒と水の混合溶媒中で、適当な還元剤で処
理することにより得られる。かかる還元剤としては、水
素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウ
ム、トリ（ｓ−ブチル）水素化ホウ素リチウム、トリエ
チル水素化ホウ素リチウムなどが挙げられるが、なかで
も、水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。また、有機溶
媒としては、アルコール系溶媒、例えばメタノール、エ
タノールなど、エーテル系溶媒、例えばテトラヒドロフ
ラン、ジオキサンなどが挙げられるが、なかでもエタノ
ールとジオキサンの混合溶媒が好ましい。この反応は約
０℃から約１００℃の温度範囲で行われるが、室温から
４０℃の範囲が好ましい。
式（II）で表される化合物の二重結合を、有機溶媒、あ
るいは有機溶媒と水の混合溶媒中で、適当な還元剤で処
理することにより得られる。かかる還元剤としては、水
素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウ
ム、トリ（ｓ−ブチル）水素化ホウ素リチウム、トリエ
チル水素化ホウ素リチウムなどが挙げられるが、なかで
も、水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。また、有機溶
媒としては、アルコール系溶媒、例えばメタノール、エ
タノールなど、エーテル系溶媒、例えばテトラヒドロフ
ラン、ジオキサンなどが挙げられるが、なかでもエタノ
ールとジオキサンの混合溶媒が好ましい。この反応は約
０℃から約１００℃の温度範囲で行われるが、室温から
４０℃の範囲が好ましい。
【００３２】前記式（IV）で表される化合物は、前記式
（III）で表される化合物を、そのニトロ基をカルボニ
ル基に変換しうる反応剤で処理することにより得られ
る。かかる変換反応はＮｅｆ（ネフ）反応と呼ばれる。
本反応に用いることができる反応剤は、総説（第４版実
験化学講座，２１，３３２−３３９（１９９０））に紹
介されており、基本的にはどの反応剤も用いることがで
きるが、強い塩基、例えば水酸化ナトリウム、ナトリウ
ムエトキシドなどと酸、例えば硫酸、塩酸などの組み合
わせ、酸化剤、例えば水酸化カリウム存在下の過マンガ
ン酸カリウム、亜硝酸ナトリウムと亜硝酸ｎ−プロピル
の組み合わせ、オゾン、塩基性シリカゲル、三塩化チタ
ン、トリエチルアミン存在下の硝酸セリウムアンモニウ
ム等が挙げられる。なかでも、水酸化カリウム存在下の
過マンガン酸カリウム、トリエチルアミン存在下の硝酸
セリウムアンモニウムが好ましく、特に水酸化カリウム
存在下の過マンガン酸カリウムが好ましい。この反応の
溶媒および温度は、反応剤の種類に応じて適切な溶媒が
選択されるが、水酸化カリウム存在下の過マンガン酸カ
リウムを用いる場合は、水とアルコール系溶媒、例えば
メタノールやエタノールなどの混合溶媒中、約−２０℃
から５０℃の温度範囲、好ましくは０℃から室温の範囲
で行われる。
（III）で表される化合物を、そのニトロ基をカルボニ
ル基に変換しうる反応剤で処理することにより得られ
る。かかる変換反応はＮｅｆ（ネフ）反応と呼ばれる。
本反応に用いることができる反応剤は、総説（第４版実
験化学講座，２１，３３２−３３９（１９９０））に紹
介されており、基本的にはどの反応剤も用いることがで
きるが、強い塩基、例えば水酸化ナトリウム、ナトリウ
ムエトキシドなどと酸、例えば硫酸、塩酸などの組み合
わせ、酸化剤、例えば水酸化カリウム存在下の過マンガ
ン酸カリウム、亜硝酸ナトリウムと亜硝酸ｎ−プロピル
の組み合わせ、オゾン、塩基性シリカゲル、三塩化チタ
ン、トリエチルアミン存在下の硝酸セリウムアンモニウ
ム等が挙げられる。なかでも、水酸化カリウム存在下の
過マンガン酸カリウム、トリエチルアミン存在下の硝酸
セリウムアンモニウムが好ましく、特に水酸化カリウム
存在下の過マンガン酸カリウムが好ましい。この反応の
溶媒および温度は、反応剤の種類に応じて適切な溶媒が
選択されるが、水酸化カリウム存在下の過マンガン酸カ
リウムを用いる場合は、水とアルコール系溶媒、例えば
メタノールやエタノールなどの混合溶媒中、約−２０℃
から５０℃の温度範囲、好ましくは０℃から室温の範囲
で行われる。
【００３３】また、前記式（IV）で表される化合物は、
前記式（II）で表される化合物をケトンに変換しうる反
応剤で処理しても得ることができる。このような、ニト
ロオレフィンを直接ケトンに変換しうる試薬としては、
酢酸中の亜鉛、塩酸中の鉄、ラネーニッケル、トリ（ｓ
−ブチル）水素化ホウ素リチウムと希硫酸の組み合わせ
などが用いられる。
前記式（II）で表される化合物をケトンに変換しうる反
応剤で処理しても得ることができる。このような、ニト
ロオレフィンを直接ケトンに変換しうる試薬としては、
酢酸中の亜鉛、塩酸中の鉄、ラネーニッケル、トリ（ｓ
−ブチル）水素化ホウ素リチウムと希硫酸の組み合わせ
などが用いられる。
【００３４】前記式（Ｖ）で表される２５−ヒドロキシ
コレステロール類は、前記式（IV）で表される化合物
を、メチル化剤、例えば、メチルリチウム、メチルマグ
ネシウムハライド、例えばメチルマグネシウムブロマイ
ドなどと反応させたのち、必要により、水酸基の保護基
の除去を行うことにより得られる。
コレステロール類は、前記式（IV）で表される化合物
を、メチル化剤、例えば、メチルリチウム、メチルマグ
ネシウムハライド、例えばメチルマグネシウムブロマイ
ドなどと反応させたのち、必要により、水酸基の保護基
の除去を行うことにより得られる。
【００３５】ところで、Ａｃｔａ Ｃｈｉｍｉｃａ Ｓ
ｉｎｉｃａ，４３，６９８（１９８５）に記載のよう
に、前記式（IV）で表される化合物のＲ1がアセチル基
であり、Ｒ2が水素原子のような化合物の場合は、メチ
ル化剤との反応により、水酸基の脱保護も同時に進行す
ることが知られている。上記の「必要により」とは、こ
のような場合を除く趣旨である。すなわち、メチル化剤
との反応により同時に脱保護が行えない場合は、２５−
ヒドロキシコレステロール、あるいは１α，２５−ジヒ
ドロキシコレステロールを得るために、水酸基の保護基
を除去する操作が別に必要である。
ｉｎｉｃａ，４３，６９８（１９８５）に記載のよう
に、前記式（IV）で表される化合物のＲ1がアセチル基
であり、Ｒ2が水素原子のような化合物の場合は、メチ
ル化剤との反応により、水酸基の脱保護も同時に進行す
ることが知られている。上記の「必要により」とは、こ
のような場合を除く趣旨である。すなわち、メチル化剤
との反応により同時に脱保護が行えない場合は、２５−
ヒドロキシコレステロール、あるいは１α，２５−ジヒ
ドロキシコレステロールを得るために、水酸基の保護基
を除去する操作が別に必要である。
【００３６】メチル化剤との反応は、エーテル系溶媒、
例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどの溶
媒中にて、約−７０℃から８０℃の温度範囲、好ましく
は約０℃から室温の範囲で行われる。水酸基の保護基の
除去は、その保護基の種類により一般的な方法で行うこ
とができる。
例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどの溶
媒中にて、約−７０℃から８０℃の温度範囲、好ましく
は約０℃から室温の範囲で行われる。水酸基の保護基の
除去は、その保護基の種類により一般的な方法で行うこ
とができる。
【００３７】
［実施例１］
【００３８】
【化１５】
【００３９】テトラブチルアンモニウムフルオライド３
水和物（３５０ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（８
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ニトロエタン（０．２６ｍ
ｌ，３．６２ｍｍｏｌ）、３β−メトキシメトキシコレ
ン−２４−アルデヒド（１）（１．００ｇ，２．２５ｍ
ｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）、トリエチルアミ
ン（０．３２ｍｌ，２．３１ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルジ
メチルシリルクロリド（５５０ｍｇ，３．６５ｍｍｏ
ｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）を順次加え、室温で３
０分間攪拌した。反応終了後、水（４０ｍｌ）を加え、
酢酸エチル（４０ｍｌ）で抽出した。有機層は水、飽和
食塩水（各４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
上で乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。シリカゲ
ル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１
→８：１）でカラム精製することにより、目的物である
２４−ヒドロキシ−３β−メトキシメトキ−２５−ニト
ロ−２７−ノルコレスト−５−エン（２）（１．０７
ｇ，２．０６ｍｍｏｌ，９１％）を得た。
水和物（３５０ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（８
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ニトロエタン（０．２６ｍ
ｌ，３．６２ｍｍｏｌ）、３β−メトキシメトキシコレ
ン−２４−アルデヒド（１）（１．００ｇ，２．２５ｍ
ｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）、トリエチルアミ
ン（０．３２ｍｌ，２．３１ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルジ
メチルシリルクロリド（５５０ｍｇ，３．６５ｍｍｏ
ｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）を順次加え、室温で３
０分間攪拌した。反応終了後、水（４０ｍｌ）を加え、
酢酸エチル（４０ｍｌ）で抽出した。有機層は水、飽和
食塩水（各４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
上で乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。シリカゲ
ル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１
→８：１）でカラム精製することにより、目的物である
２４−ヒドロキシ−３β−メトキシメトキ−２５−ニト
ロ−２７−ノルコレスト−５−エン（２）（１．０７
ｇ，２．０６ｍｍｏｌ，９１％）を得た。
【００４０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６８（３Ｈ，ｓ） ０．９４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０１（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．４５（２８Ｈ，ｍ） ３．３７（３Ｈ，ｓ） ３．３５−３．５０（１Ｈ，ｍ） ３．７５−４．２０（１Ｈ，ｍ） ４．４５−４．６５（１Ｈ，ｍ） ４．６９（２Ｈ，ｓ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ）
【００４１】［実施例２］
【００４２】
【化１６】
【００４３】２４−ヒドロキシ−３β−メトキシメトキ
シ−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン
（２）（５１０ｍｇ，０．９８ｍｍｏｌ）をジクロロメ
タン（７．５ｍｌ）に溶解し、氷冷下、塩化メタンスル
ホニル（０．１１ｍ１，１．４２ｍｍｏｌ）を加え、ト
リエチルアミン（１．５ｍｌ，１０．９ｍｍｏｌ）をゆ
っくり滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応終了後、
１Ｎ ＨＣｌ水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４０
ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（４０ｍｌ）で
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮
し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲル（２０
ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１→２０：
１）で精製することにより、目的物である３β−メトキ
シメトキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５，
２４−ジエン（３）（３４３ｍｇ，０．６８ｍｍｏｌ，
７０％）を得た。
シ−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン
（２）（５１０ｍｇ，０．９８ｍｍｏｌ）をジクロロメ
タン（７．５ｍｌ）に溶解し、氷冷下、塩化メタンスル
ホニル（０．１１ｍ１，１．４２ｍｍｏｌ）を加え、ト
リエチルアミン（１．５ｍｌ，１０．９ｍｍｏｌ）をゆ
っくり滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応終了後、
１Ｎ ＨＣｌ水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４０
ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（４０ｍｌ）で
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮
し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲル（２０
ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１→２０：
１）で精製することにより、目的物である３β−メトキ
シメトキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５，
２４−ジエン（３）（３４３ｍｇ，０．６８ｍｍｏｌ，
７０％）を得た。
【００４４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６８（３Ｈ，ｓ） ０．９７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０１（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．４０（２８Ｈ，ｍ） ３．３７（３Ｈ，ｓ） ３．３５−３．５０（１Ｈ，ｍ） ４．６９（２Ｈ，ｓ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ） ７．１２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００４５】［実施例３］
【００４６】
【化１７】
【００４７】水素化ホウ素ナトリウム（１０８ｍｇ，
２．８３ｍｍｏｌ）をジオキサン（３ｍｌ）とエタノー
ル（３ｍｌ）に溶解し、３β−メトキシメトキシ−２５
−ニトロ−２７−ノルコレスト−５，２４−ジエン
（３）（２８５ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）のジオキサン
（３ｍｌ）溶液を室温でゆっくり滴下し、そのまま１時
間攪拌した。反応終了後、酢酸を発泡が無くなるまで加
えた後、水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４０ｍ
ｌ）で抽出した。有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液および飽和食塩水（各４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物を得
た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチ
ル（３０：１→１８：１）で精製することにより、目的
物である３β−メトキシメトキシ−２５−ニトロ−２７
−ノルコレスト−５−エン（４）（２０９ｍｇ，０．４
１ｍｍｏｌ，７３％）を得た。
２．８３ｍｍｏｌ）をジオキサン（３ｍｌ）とエタノー
ル（３ｍｌ）に溶解し、３β−メトキシメトキシ−２５
−ニトロ−２７−ノルコレスト−５，２４−ジエン
（３）（２８５ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）のジオキサン
（３ｍｌ）溶液を室温でゆっくり滴下し、そのまま１時
間攪拌した。反応終了後、酢酸を発泡が無くなるまで加
えた後、水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４０ｍ
ｌ）で抽出した。有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液および飽和食塩水（各４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物を得
た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチ
ル（３０：１→１８：１）で精製することにより、目的
物である３β−メトキシメトキシ−２５−ニトロ−２７
−ノルコレスト−５−エン（４）（２０９ｍｇ，０．４
１ｍｍｏｌ，７３％）を得た。
【００４８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．７０（３Ｈ，ｓ） ０．９４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０４（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．４０（２８Ｈ，ｍ） ３．４０（３Ｈ，ｓ） ３．３５−３．５０（１Ｈ，ｍ） ４．５０−４．６５（１Ｈ，ｍ） ４．６９（２Ｈ，ｓ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ）
【００４９】［実施例４］
【００５０】
【化１８】
【００５１】３β−メトキシメトキシ−２５−ニトロ−
２７−ノルコレスト−５−エン（４）（１６５ｍｇ，
０．３２ｍｍｏｌ）をメタノール（３．６ｍｌ）および
０．１Ｎ ＫＯＨのメタノール溶液（６．５ｍｌ）に溶
解し、氷冷下、過マンガン酸カリウム（３６ｍｇ，０．
２３ｍｍｏｌ）および無水硫酸マグネシウム（３６ｍ
ｇ，０．３０ｍｍｏｌ）の水溶液（６．５ｍｌ）を滴下
し、さらに１時間攪拌した。反応終了後、水（４０ｍ
ｌ）を加え、酢酸エチル（４０ｍｌ）で抽出した。有機
層は飽和食塩水（４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。こ
の粗生成物をシリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：
酢酸エチル（３０：１→１０：１）でカラム精製するこ
とにより、目的物である２５−オキソ−３β−メトキシ
メトキシ−２７−ノルコレスト−５−エン（５）（１３
２ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ，８７％）を得た。
２７−ノルコレスト−５−エン（４）（１６５ｍｇ，
０．３２ｍｍｏｌ）をメタノール（３．６ｍｌ）および
０．１Ｎ ＫＯＨのメタノール溶液（６．５ｍｌ）に溶
解し、氷冷下、過マンガン酸カリウム（３６ｍｇ，０．
２３ｍｍｏｌ）および無水硫酸マグネシウム（３６ｍ
ｇ，０．３０ｍｍｏｌ）の水溶液（６．５ｍｌ）を滴下
し、さらに１時間攪拌した。反応終了後、水（４０ｍ
ｌ）を加え、酢酸エチル（４０ｍｌ）で抽出した。有機
層は飽和食塩水（４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。こ
の粗生成物をシリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：
酢酸エチル（３０：１→１０：１）でカラム精製するこ
とにより、目的物である２５−オキソ−３β−メトキシ
メトキシ−２７−ノルコレスト−５−エン（５）（１３
２ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ，８７％）を得た。
【００５２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．７０（３Ｈ，ｓ） ０．９７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０４（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．１０（２１Ｈ，ｍ） ２．１８（３Ｈ，ｓ） ２．２０−２．５０（４Ｈ，ｍ） ３．４１（３Ｈ，ｓ） ３．３５−３．５５（１Ｈ，ｍ） ４．７３（２Ｈ，ｓ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ）
【００５３】［実施例５］
【００５４】
【化１９】
【００５５】２５−オキソ−３β−メトキシメトキシ−
２７−ノルコレスト−５−エン（５）（１０８ｍｇ，
０．２３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２ｍｌ）に溶解し、室温
でメチルマグネシウムブロミドの０．９３Ｍ ＴＨＦ溶
液（１ｍｌ，０．９３ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で３
０分間攪拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液（２５ｍ
ｌ）を加え、酢酸エチル（２５ｍｌ）で抽出した。有機
層は無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、
粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲル（２０ｇ）
を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１→２０：１）
でカラム精製することにより、目的物である２５−ヒド
ロキシコレステロール−３−（Ｏ）−メトキシメチルエ
ーテル（６）（１０３ｍｇ，０．２１ｍｍｏｌ，９２
％）を得た。
２７−ノルコレスト−５−エン（５）（１０８ｍｇ，
０．２３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２ｍｌ）に溶解し、室温
でメチルマグネシウムブロミドの０．９３Ｍ ＴＨＦ溶
液（１ｍｌ，０．９３ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で３
０分間攪拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液（２５ｍ
ｌ）を加え、酢酸エチル（２５ｍｌ）で抽出した。有機
層は無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、
粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲル（２０ｇ）
を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１→２０：１）
でカラム精製することにより、目的物である２５−ヒド
ロキシコレステロール−３−（Ｏ）−メトキシメチルエ
ーテル（６）（１０３ｍｇ，０．２１ｍｍｏｌ，９２
％）を得た。
【００５６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６５（３Ｈ，ｓ） ０．９０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ０．９８（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．４０（２５Ｈ，ｍ） １．１８（６Ｈ，ｓ） ３．３６（３Ｈ，ｓ） ３．３５−３．５０（１Ｈ，ｍ） ４．６７（２Ｈ，ｓ） ５．２５−５．３５（１Ｈ，ｍ）
【００５７】［実施例６］
【００５８】
【化２０】
【００５９】２５−ヒドロキシコレステロール−３−
（Ｏ）−メトキシメチルエーテル（６）（７５ｍｇ，
０．１５ｍｍｏｌ，）のジオキサン（３ｍｌ）溶液に水
（３ｍｌ）およびｐ−トルエンスルホン酸三水和物（２
５ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１５時間
加熱攪拌した。反応終了後、水（３０ｍｌ）を加え、酢
酸エチル（３０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液および飽和食塩水（各３０ｍｌ）で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮
し、粗生成物を得た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘ
キサン：酢酸エチル（１０：１→１：１）で精製するこ
とにより、目的物である２５−ヒドロキシコレステロー
ル（７）（５２ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ，７１％）を得
た。
（Ｏ）−メトキシメチルエーテル（６）（７５ｍｇ，
０．１５ｍｍｏｌ，）のジオキサン（３ｍｌ）溶液に水
（３ｍｌ）およびｐ−トルエンスルホン酸三水和物（２
５ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１５時間
加熱攪拌した。反応終了後、水（３０ｍｌ）を加え、酢
酸エチル（３０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液および飽和食塩水（各３０ｍｌ）で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮
し、粗生成物を得た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘ
キサン：酢酸エチル（１０：１→１：１）で精製するこ
とにより、目的物である２５−ヒドロキシコレステロー
ル（７）（５２ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ，７１％）を得
た。
【００６０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６７（３Ｈ，ｓ） ０．９１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ０．９９（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．３５（２５Ｈ，ｍ） １．１９（６Ｈ，ｓ） ３．３６（３Ｈ，ｓ） ３．４０−３．６０（１Ｈ，ｍ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ）
【００６１】［実施例７］
【００６２】
【化２１】
【００６３】テトラブチルアンモニウムフルオライド３
水和物（３５０ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（８
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ニトロエタン（０．２６ｍ
ｌ，３．６２ｍｍｏｌ）、３β−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシコレン−２４−アルデヒド（８）（１．００
ｇ，２．１１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）、
トリエチルアミン（０．３２ｍｌ，２．３１ｍｍｏ
ｌ）、ｔ−ブチルジチルシリルクロリド（５５０ｍｇ，
３．６５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）を順次
加え、室温で３０分間攪拌した。反応終了後、水（４０
ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４０ｍｌ）で抽出した。有
機層は水、飽和食塩水（各４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫
酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物を
得た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エ
チル（３０：１→１０：１）でカラム精製することによ
り、目的物である３β−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−２４−ヒドロキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレ
スト−５−エン（９）（１．０２ｇ，１．８６ｍｍｏ
ｌ，８８％）を得た。
水和物（３５０ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（８
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ニトロエタン（０．２６ｍ
ｌ，３．６２ｍｍｏｌ）、３β−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシコレン−２４−アルデヒド（８）（１．００
ｇ，２．１１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）、
トリエチルアミン（０．３２ｍｌ，２．３１ｍｍｏ
ｌ）、ｔ−ブチルジチルシリルクロリド（５５０ｍｇ，
３．６５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）を順次
加え、室温で３０分間攪拌した。反応終了後、水（４０
ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４０ｍｌ）で抽出した。有
機層は水、飽和食塩水（各４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫
酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物を
得た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エ
チル（３０：１→１０：１）でカラム精製することによ
り、目的物である３β−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−２４−ヒドロキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレ
スト−５−エン（９）（１．０２ｇ，１．８６ｍｍｏ
ｌ，８８％）を得た。
【００６４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．０６（６Ｈ，ｓ） ０．６８（３Ｈ，ｓ） ０．８９（９Ｈ，ｓ） ０．９４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．００（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．３５（２８Ｈ，ｍ） ３．４０−３．６０（１Ｈ，ｍ） ３．８０−４．２０（１Ｈ，ｍ） ４．４５−４．６５（１Ｈ，ｍ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ）
【００６５】［実施例８］
【００６６】
【化２２】
【００６７】３β−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−
２４−ヒドロキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト
−５−エン（９）（８９０ｍｇ，１．６２ｍｍｏｌ）を
ジクロロメタン（１３ｍｌ）に溶解し、氷冷下、塩化メ
タンスルホニル（０．１９ｍ１，２．４４ｍｍｏｌ）を
加え、トリエチルアミン（２．８ｍｌ，２０．１ｍｍｏ
ｌ）をゆっくり滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応
終了後、１Ｎ ＨＣｌ水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチ
ル（４０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（４０
ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾
過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲ
ル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（４０：１
→３０：１）で精製することにより、目的物である３β
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２５−ニトロ−２
７−ノルコレスト−５，２４−ジエン（１０）（６７６
ｍｇ，１．２８ｍｍｏｌ，７９％）を得た。
２４−ヒドロキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト
−５−エン（９）（８９０ｍｇ，１．６２ｍｍｏｌ）を
ジクロロメタン（１３ｍｌ）に溶解し、氷冷下、塩化メ
タンスルホニル（０．１９ｍ１，２．４４ｍｍｏｌ）を
加え、トリエチルアミン（２．８ｍｌ，２０．１ｍｍｏ
ｌ）をゆっくり滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応
終了後、１Ｎ ＨＣｌ水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチ
ル（４０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（４０
ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾
過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲ
ル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（４０：１
→３０：１）で精製することにより、目的物である３β
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２５−ニトロ−２
７−ノルコレスト−５，２４−ジエン（１０）（６７６
ｍｇ，１．２８ｍｍｏｌ，７９％）を得た。
【００６８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．０７（６Ｈ，ｓ） ０．６９（３Ｈ，ｓ） ０．９０（９Ｈ，ｓ） ０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０１（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．４０（２８Ｈ，ｍ） ３．４０−３．６０（１Ｈ，ｍ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ） ７．１３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００６９】［実施例９］
【００７０】
【化２３】
【００７１】水素化ホウ素ナトリウム（２１５ｍｇ，
５．６６ｍｍｏｌ）をジオキサン（８ｍｌ）とエタノー
ル（５ｍｌ）に溶解し、３β−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５，２
４−ジエン（１０）（６００ｍｇ，１．１３ｍｍｏｌ）
のジオキサン（９ｍｌ）溶液を室温でゆっくり滴下し、
そのまま１時間攪拌した。反応終了後、酢酸を発泡が無
くなるまで加えた後、水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチ
ル（４０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液および飽和食塩水（各４０ｍｌ）で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮し、粗
生成物を得た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサ
ン：酢酸エチル（４０：１→３０：１）で精製すること
により、目的物である３β−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン
（１１）（５１７ｍｇ，０．９７ｍｍｏｌ，８６％）を
得た。
５．６６ｍｍｏｌ）をジオキサン（８ｍｌ）とエタノー
ル（５ｍｌ）に溶解し、３β−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５，２
４−ジエン（１０）（６００ｍｇ，１．１３ｍｍｏｌ）
のジオキサン（９ｍｌ）溶液を室温でゆっくり滴下し、
そのまま１時間攪拌した。反応終了後、酢酸を発泡が無
くなるまで加えた後、水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチ
ル（４０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液および飽和食塩水（各４０ｍｌ）で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮し、粗
生成物を得た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサ
ン：酢酸エチル（４０：１→３０：１）で精製すること
により、目的物である３β−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン
（１１）（５１７ｍｇ，０．９７ｍｍｏｌ，８６％）を
得た。
【００７２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．０７（６Ｈ，ｓ） ０．６８（３Ｈ，ｓ） ０．９０（９Ｈ，ｓ） ０．９２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０１（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．４０（２８Ｈ，ｍ） ３．４０−３．６０（１Ｈ，ｍ） ４．４０−４．６０（１Ｈ，ｍ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ）
【００７３】［実施例１０］
【００７４】
【化２４】
【００７５】３β−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−
２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン（１１）
（１６５ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）をメタノール（１６
ｍｌ）および０．１Ｎ ＫＯＨのメタノール溶液（２４
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、過マンガン酸カリウム（９０
ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）および無水硫酸マグネシウム
（９０ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）の水溶液（１６ｍｌ）
を滴下し、さらに１時間攪拌した。反応終了後、水（１
００ｍｌ）を加え、酢酸エチル（１００ｍｌ）で抽出し
た。有機層は飽和食塩水（１００ｍｌ）で洗浄し、無水
硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物
を得た。この粗生成物をシリカゲル（２０ｇ）を用い、
ヘキサン：酢酸エチル（４０：１→２５：１）でカラム
精製することにより、目的物である３β−ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−２５−オキソ−２７−ノルコレス
ト−５−エン（１２）（２８７ｍｇ，０．２８ｍｍｏ
ｌ，７１％）を得た。
２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン（１１）
（１６５ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）をメタノール（１６
ｍｌ）および０．１Ｎ ＫＯＨのメタノール溶液（２４
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、過マンガン酸カリウム（９０
ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）および無水硫酸マグネシウム
（９０ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）の水溶液（１６ｍｌ）
を滴下し、さらに１時間攪拌した。反応終了後、水（１
００ｍｌ）を加え、酢酸エチル（１００ｍｌ）で抽出し
た。有機層は飽和食塩水（１００ｍｌ）で洗浄し、無水
硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物
を得た。この粗生成物をシリカゲル（２０ｇ）を用い、
ヘキサン：酢酸エチル（４０：１→２５：１）でカラム
精製することにより、目的物である３β−ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−２５−オキソ−２７−ノルコレス
ト−５−エン（１２）（２８７ｍｇ，０．２８ｍｍｏ
ｌ，７１％）を得た。
【００７６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．０７（６Ｈ，ｓ） ０．６８（３Ｈ，ｓ） ０．９０（９Ｈ，ｓ） ０．９４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０１（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．５０（２５Ｈ，ｍ） ２．１５（３Ｈ，ｓ） ３．４０−３．６０（１Ｈ，ｍ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ）
【００７７】［実施例１１］
【００７８】
【化２５】
【００７９】３β−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−
２５−オキソ−２７−ノルコレスト−５−エン（１２）
（２００ｍｇ，０．４０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５ｍｌ）
に溶解し、室温でメチルマグネシウムブロミドの０．９
３Ｍ ＴＨＦ溶液（１．５ｍｌ，１．４０ｍｍｏｌ）を
滴下した。室温で３０分間攪拌後、飽和塩化アンモニウ
ム水溶液（５０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（５０ｍｌ）
で抽出した。有機層は無水硫酸マグネシウム上で乾燥
後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシ
リカゲル（１５ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３
０：１→２０：１）でカラム精製することにより、目的
物である２５−ヒドロキシコレステロール３−（Ｏ）−
ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル（１３）（１７３ｍ
ｇ，０．３３ｍｍｏｌ，８４％）を得た。
２５−オキソ−２７−ノルコレスト−５−エン（１２）
（２００ｍｇ，０．４０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５ｍｌ）
に溶解し、室温でメチルマグネシウムブロミドの０．９
３Ｍ ＴＨＦ溶液（１．５ｍｌ，１．４０ｍｍｏｌ）を
滴下した。室温で３０分間攪拌後、飽和塩化アンモニウ
ム水溶液（５０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（５０ｍｌ）
で抽出した。有機層は無水硫酸マグネシウム上で乾燥
後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシ
リカゲル（１５ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３
０：１→２０：１）でカラム精製することにより、目的
物である２５−ヒドロキシコレステロール３−（Ｏ）−
ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル（１３）（１７３ｍ
ｇ，０．３３ｍｍｏｌ，８４％）を得た。
【００８０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．０６（６Ｈ，ｓ） ０．６８（３Ｈ，ｓ） ０．８９（９Ｈ，ｓ） ０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．００（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．４０（２５Ｈ，ｍ） １．２０（６Ｈ，ｓ） ３．４０−３．６０（１Ｈ，ｍ） ５．２５−５．３５（１Ｈ，ｍ）
【００８１】［実施例１２］
【００８２】
【化２６】
【００８３】２５−ヒドロキシコレステロール３−
（Ｏ）−ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル（１３）
（８０ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ，）をＴＨＦ（１．５ｍ
ｌ）とアセトニトリル（３ｍｌ）に懸濁させ、フッ化水
素ピリジン錯体（１ｍｌ）を加え、室温で１時間攪拌し
た。反応終了後、水（３０ｍｌ）を加え、酢酸エチル
（３０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液および飽和食塩水（各３０ｍｌ）で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成
物を得た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢
酸エチル（２０：１→５：１）で精製することにより、
目的物である２５−ヒドロキシコレステロール（７）
（４４ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ，７３％）を得た。この
ものの1Ｈ−ＮＭＲは実施例６で得たものと一致した。
（Ｏ）−ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル（１３）
（８０ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ，）をＴＨＦ（１．５ｍ
ｌ）とアセトニトリル（３ｍｌ）に懸濁させ、フッ化水
素ピリジン錯体（１ｍｌ）を加え、室温で１時間攪拌し
た。反応終了後、水（３０ｍｌ）を加え、酢酸エチル
（３０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液および飽和食塩水（各３０ｍｌ）で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成
物を得た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢
酸エチル（２０：１→５：１）で精製することにより、
目的物である２５−ヒドロキシコレステロール（７）
（４４ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ，７３％）を得た。この
ものの1Ｈ−ＮＭＲは実施例６で得たものと一致した。
【００８４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６７（３Ｈ，ｓ） ０．９１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ０．９９（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．３５（２５Ｈ，ｍ） １．１９（６Ｈ，ｓ） ３．３６（３Ｈ，ｓ） ３．４０−３．６０（１Ｈ，ｍ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ）
【００８５】［実施例１３］
【００８６】
【化２７】
【００８７】テトラブチルアンモニウムフルオライド３
水和物（３５０ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（８
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ニトロエタン（０．２６ｍ
ｌ，３．６２ｍｍｏｌ）、３β−アセトキシコレン−２
４−アルデヒド（１４）（０．９５ｇ，２．１４ｍｍｏ
ｌ）のＴＨＦ溶液（９ｍｌ）、トリエチルアミン（０．
３２ｍｌ，２．３１ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルジメチルシ
リルクロリド（５５０ｍｇ，３．６５ｍｍｏｌ）のＴＨ
Ｆ溶液（３．５ｍｌ）を順次加え、室温で３０分間攪拌
した。反応終了後、水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチル
（４０ｍｌ）で抽出した。有機層は水、飽和食塩水（各
４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥
後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。シリカゲル（２０
ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１→６：
１）でカラム精製することにより、目的物である３β−
アセトキシ−２４−ヒドロキシ−２５−ニトロ−２７−
ノルコレスト−５−エン（１５）（０．８４ｇ，１．６
２ｍｍｏｌ，７６％）を得た。
水和物（３５０ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（８
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ニトロエタン（０．２６ｍ
ｌ，３．６２ｍｍｏｌ）、３β−アセトキシコレン−２
４−アルデヒド（１４）（０．９５ｇ，２．１４ｍｍｏ
ｌ）のＴＨＦ溶液（９ｍｌ）、トリエチルアミン（０．
３２ｍｌ，２．３１ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルジメチルシ
リルクロリド（５５０ｍｇ，３．６５ｍｍｏｌ）のＴＨ
Ｆ溶液（３．５ｍｌ）を順次加え、室温で３０分間攪拌
した。反応終了後、水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチル
（４０ｍｌ）で抽出した。有機層は水、飽和食塩水（各
４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥
後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。シリカゲル（２０
ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１→６：
１）でカラム精製することにより、目的物である３β−
アセトキシ−２４−ヒドロキシ−２５−ニトロ−２７−
ノルコレスト−５−エン（１５）（０．８４ｇ，１．６
２ｍｍｏｌ，７６％）を得た。
【００８８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６８（３Ｈ，ｓ） ０．９４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０２（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．４０（２８Ｈ，ｍ） ２．０４（３Ｈ，ｓ） ３．８０−４．２０（１Ｈ，ｍ） ４．４５−４．７０（２Ｈ，ｍ） ５．３５−５．４５（１Ｈ，ｍ）
【００８９】［実施例１４］
【００９０】
【化２８】
【００９１】３β−アセトキシ−２４−ヒドロキシ−２
５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン（１５）
（７２０ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン
（１１ｍｌ）に溶解し、氷冷下、塩化メタンスルホニル
（０．１６ｍ１，２．１１ｍｍｏｌ）を加え、トリエチ
ルアミン（２．４ｍｌ，１７．４ｍｍｏｌ）をゆっくり
滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応終了後、１Ｎ
ＨＣｌ水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４０ｍｌ）
で抽出した。有機層は飽和食塩水（４０ｍｌ）で洗浄
し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、
粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲル（２０ｇ）
を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１→２０：１）
で精製することにより、目的物である３β−アセトキシ
−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５，２４−ジエ
ン（１６）（５０８ｍｇ，１．０２ｍｍｏｌ，７３％）
を得た。
５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン（１５）
（７２０ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン
（１１ｍｌ）に溶解し、氷冷下、塩化メタンスルホニル
（０．１６ｍ１，２．１１ｍｍｏｌ）を加え、トリエチ
ルアミン（２．４ｍｌ，１７．４ｍｍｏｌ）をゆっくり
滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応終了後、１Ｎ
ＨＣｌ水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４０ｍｌ）
で抽出した。有機層は飽和食塩水（４０ｍｌ）で洗浄
し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、
粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲル（２０ｇ）
を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１→２０：１）
で精製することにより、目的物である３β−アセトキシ
−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５，２４−ジエ
ン（１６）（５０８ｍｇ，１．０２ｍｍｏｌ，７３％）
を得た。
【００９２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６９（３Ｈ，ｓ） ０．９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０２（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．４０（２８Ｈ，ｍ） ２．０４（３Ｈ，ｓ） ３．５０−３．７０（１Ｈ，ｍ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ） ７．１２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００９３】［実施例１５］
【００９４】
【化２９】
【００９５】水素化ホウ素ナトリウム（１４８ｍｇ，
３．９０ｍｍｏｌ）をジオキサン（５ｍｌ）とエタノー
ル（５ｍｌ）に溶解し、３β−アセトキシ−２５−ニト
ロ−２７−ノルコレスト−５，２４−ジエン（１６）
（３９０ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）のジオキサン（９ｍ
ｌ）溶液を室温でゆっくり滴下し、そのまま１時間攪拌
した。反応終了後、酢酸を発泡が無くなるまで加えた
後、水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４０ｍｌ）で
抽出した。有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およ
び飽和食塩水（各４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。シリ
カゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（４
０：１→２０：１）で精製することにより、目的物であ
る３β−アセトキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレス
ト−５−エン（１７）（２８８ｍｇ，０．５７ｍｍｏ
ｌ，７４％）を得た。
３．９０ｍｍｏｌ）をジオキサン（５ｍｌ）とエタノー
ル（５ｍｌ）に溶解し、３β−アセトキシ−２５−ニト
ロ−２７−ノルコレスト−５，２４−ジエン（１６）
（３９０ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）のジオキサン（９ｍ
ｌ）溶液を室温でゆっくり滴下し、そのまま１時間攪拌
した。反応終了後、酢酸を発泡が無くなるまで加えた
後、水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４０ｍｌ）で
抽出した。有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およ
び飽和食塩水（各４０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。シリ
カゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（４
０：１→２０：１）で精製することにより、目的物であ
る３β−アセトキシ−２５−ニトロ−２７−ノルコレス
ト−５−エン（１７）（２８８ｍｇ，０．５７ｍｍｏ
ｌ，７４％）を得た。
【００９６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６７（３Ｈ，ｓ） ０．９０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０２（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．４０（２８Ｈ，ｍ） ２．０３（３Ｈ，ｓ） ４．５０−４．７０（２Ｈ，ｍ） ５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ）
【００９７】［実施例１６］
【００９８】
【化３０】
【００９９】３β−アセトキシ−２５−ニトロ−２７−
ノルコレスト−５−エン（１７）（５０ｍｇ，０．１０
ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（１．４ｍｌ）およびトリ
エチルアミン（０．５ｍｌ）に溶解し、硝酸セリウムア
ンモニウム（２７５ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）の水溶液
（０．６ｍｌ）を滴下し、５５℃で２０時間加熱攪拌し
た。反応終了後、水（３０ｍｌ）を加え、酢酸エチル
（３０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（４０ｍ
ｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾
過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲ
ル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１
→２：１）でカラム精製することにより、目的物である
３β−アセトキシ−２５−オキソ−２７−ノルコレスト
−５−エン（１８）（２３ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ，４
９％）と脱アセチルした２５−オキソ−２７−ノルコレ
ステロール（１９）（１０ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ，２
４％）を得た。
ノルコレスト−５−エン（１７）（５０ｍｇ，０．１０
ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（１．４ｍｌ）およびトリ
エチルアミン（０．５ｍｌ）に溶解し、硝酸セリウムア
ンモニウム（２７５ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）の水溶液
（０．６ｍｌ）を滴下し、５５℃で２０時間加熱攪拌し
た。反応終了後、水（３０ｍｌ）を加え、酢酸エチル
（３０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（４０ｍ
ｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾
過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲ
ル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１
→２：１）でカラム精製することにより、目的物である
３β−アセトキシ−２５−オキソ−２７−ノルコレスト
−５−エン（１８）（２３ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ，４
９％）と脱アセチルした２５−オキソ−２７−ノルコレ
ステロール（１９）（１０ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ，２
４％）を得た。
【０１００】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ；化合物１８ ０．６９（３Ｈ，ｓ） ０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０３（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．５０（２５Ｈ，ｍ） ２．０５（３Ｈ，ｓ） ２．１６（３Ｈ，ｓ） ４．５５−４．７５（１Ｈ，ｍ） ５．３５−５．４５（１Ｈ，ｍ）化合物１９ ０．６９（３Ｈ，ｓ） ０．９４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０２（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．５０（２５Ｈ，ｍ） ２．１５（３Ｈ，ｓ） ３．４５−３．６０（１Ｈ，ｍ） ５．３５−５．４５（１Ｈ，ｍ）
【０１０１】［実施例１７］
【０１０２】
【化３１】
【０１０３】テトラブチルアンモニウムフルオライド３
水和物（３５０ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（８
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ニトロエタン（０．２６ｍ
ｌ，３．６２ｍｍｏｌ）、１α，３β−ビス（メトキシ
メトキシ）コレン−２４−アルデヒド（２０）１．００
ｇ，１．９８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）、
トリエチルアミン（０．３２ｍｌ，２．３１ｍｍｏ
ｌ）、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（５５０ｍ
ｇ，３．６５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）を
順次加え、室温で３０分間攪拌した。反応終了後、水
（５０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（５０ｍｌ）で抽出し
た。有機層は水、飽和食塩水（各５０ｍｌ）で洗浄し、
無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、粗生
成物を得た。シリカゲル（３０ｇ）を用い、ヘキサン：
酢酸エチル（２０：１→１０：１）でカラム精製するこ
とにより、目的物である１α，３β−ビス（メトキシメ
トキシ）−２４−ヒドロキシ−２５−ニトロ−２７−ノ
ルコレスト−５−エン（２１）（１．２５ｇ，１．９８
ｍｍｏｌ，１００％）を得た。
水和物（３５０ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（８
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ニトロエタン（０．２６ｍ
ｌ，３．６２ｍｍｏｌ）、１α，３β−ビス（メトキシ
メトキシ）コレン−２４−アルデヒド（２０）１．００
ｇ，１．９８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）、
トリエチルアミン（０．３２ｍｌ，２．３１ｍｍｏ
ｌ）、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（５５０ｍ
ｇ，３．６５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５．５ｍｌ）を
順次加え、室温で３０分間攪拌した。反応終了後、水
（５０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（５０ｍｌ）で抽出し
た。有機層は水、飽和食塩水（各５０ｍｌ）で洗浄し、
無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾過、濃縮し、粗生
成物を得た。シリカゲル（３０ｇ）を用い、ヘキサン：
酢酸エチル（２０：１→１０：１）でカラム精製するこ
とにより、目的物である１α，３β−ビス（メトキシメ
トキシ）−２４−ヒドロキシ−２５−ニトロ−２７−ノ
ルコレスト−５−エン（２１）（１．２５ｇ，１．９８
ｍｍｏｌ，１００％）を得た。
【０１０４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６８（３Ｈ，ｓ） ０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０２（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．５５（２６Ｈ，ｍ） ３．３７（３Ｈ，ｓ） ３．４１（３Ｈ，ｓ） ３．７０−３．９５（２Ｈ，ｍ） ４．４５−４．８０（１Ｈ，ｍ） ４．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ４．６８（２Ｈ，ｓ） ４．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ５．５０−５．６０（１Ｈ，ｍ）
【０１０５】［実施例１８］
【０１０６】
【化３２】
【０１０７】１α，３β−ビス（メトキシメトキシ）−
２４−ヒドロキシ−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−
エン（２１）（１．１０ｇ，１．９０ｍｍｏｌ）をジク
ロロメタン（１５ｍｌ）に溶解し、氷冷下、塩化メタン
スルホニル（０．２２ｍ１，２．８４ｍｍｏｌ）を加
え、トリエチルアミン（３．３ｍｌ，２４．０ｍｍｏ
ｌ）をゆっくり滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応
終了後、１Ｎ ＨＣｌ水（８０ｍｌ）を加え、酢酸エチ
ル（８０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（８０
ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾
過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲ
ル（３０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（２０：１
→５：１）で精製することにより、目的物である１α，
３β−ビス（メトキシメトキシ）−２５−ニトロ−２７
−ノルコレスト−５，２４−ジエン（２２）（６５８ｍ
ｇ，１．１７ｍｍｏｌ，６２％）を得た。
２４−ヒドロキシ−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−
エン（２１）（１．１０ｇ，１．９０ｍｍｏｌ）をジク
ロロメタン（１５ｍｌ）に溶解し、氷冷下、塩化メタン
スルホニル（０．２２ｍ１，２．８４ｍｍｏｌ）を加
え、トリエチルアミン（３．３ｍｌ，２４．０ｍｍｏ
ｌ）をゆっくり滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応
終了後、１Ｎ ＨＣｌ水（８０ｍｌ）を加え、酢酸エチ
ル（８０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（８０
ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾
過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲ
ル（３０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（２０：１
→５：１）で精製することにより、目的物である１α，
３β−ビス（メトキシメトキシ）−２５−ニトロ−２７
−ノルコレスト−５，２４−ジエン（２２）（６５８ｍ
ｇ，１．１７ｍｍｏｌ，６２％）を得た。
【０１０８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６９（３Ｈ，ｓ） ０．９７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０３（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．５５（２６Ｈ，ｍ） ３．３６（３Ｈ，ｓ） ３．４１（３Ｈ，ｓ） ３．７０−４．００（１Ｈ，ｍ） ４．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ４．６８（２Ｈ，ｓ） ４．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ５．５０−５．６０（１Ｈ，ｍ） ７．１２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【０１０９】［実施例１９］
【０１１０】
【化３３】
【０１１１】水素化ホウ素ナトリウム（１８６ｍｇ，
４．８９ｍｍｏｌ）をジオキサン（７ｍｌ）とエタノー
ル（４ｍｌ）に溶解し、１α，３β−ビス（メトキシメ
トキシ）−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５，２
４−ジエン（２２）（５５０ｍｇ，０．９８ｍｍｏｌ）
のジオキサン（１０ｍｌ）溶液を室温でゆっくり滴下
し、そのまま１時間攪拌した。反応終了後、酢酸を発泡
が無くなるまで加えた後、水（８０ｍｌ）を加え、酢酸
エチル（８０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液および飽和食塩水（各８０ｍｌ）で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮し、
粗生成物を得た。シリカゲル（２５ｇ）を用い、ヘキサ
ン：酢酸エチル（２０：１→５：１）で精製することに
より、目的物である１α，３β−ビス（メトキシメトキ
シ）−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン
（２３）（３６５ｍｇ，０．６５ｍｍｏｌ，６６％）を
得た。
４．８９ｍｍｏｌ）をジオキサン（７ｍｌ）とエタノー
ル（４ｍｌ）に溶解し、１α，３β−ビス（メトキシメ
トキシ）−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５，２
４−ジエン（２２）（５５０ｍｇ，０．９８ｍｍｏｌ）
のジオキサン（１０ｍｌ）溶液を室温でゆっくり滴下
し、そのまま１時間攪拌した。反応終了後、酢酸を発泡
が無くなるまで加えた後、水（８０ｍｌ）を加え、酢酸
エチル（８０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液および飽和食塩水（各８０ｍｌ）で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮し、
粗生成物を得た。シリカゲル（２５ｇ）を用い、ヘキサ
ン：酢酸エチル（２０：１→５：１）で精製することに
より、目的物である１α，３β−ビス（メトキシメトキ
シ）−２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン
（２３）（３６５ｍｇ，０．６５ｍｍｏｌ，６６％）を
得た。
【０１１２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６９（３Ｈ，ｓ） ０．９１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０１（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．５５（２６Ｈ，ｍ） ３．３７（３Ｈ，ｓ） ３．４１（３Ｈ，ｓ） ３．７０−４．００（１Ｈ，ｍ） ４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ４．６８（２Ｈ，ｓ） ４．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ５．５０−５．６０（１Ｈ，ｍ）
【０１１３】［実施例２０］
【０１１４】
【化３４】
【０１１５】１α，３β−ビス（メトキシメトキシ）−
２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン（２３）
（２７０ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）を０．１Ｎ ＫＯＨ
のメタノール溶液（１５ｍｌ）に溶解し、氷冷下、過マ
ンガン酸カリウム（５３ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）およ
び無水硫酸マグネシウム（５３ｍｇ，０．４４ｍｍｏ
ｌ）の水溶液（１０ｍｌ）を滴下し、さらに１時間攪拌
した。反応終了後、水（８０ｍｌ）を加え、酢酸エチル
（８０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（８０ｍ
ｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾
過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲ
ル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１
→２：１）でカラム精製することにより、目的物である
１α，３β−ビス（メトキシメトキシ）−２５−オキソ
−２７−ノルコレスト−５−エン（２４）（１３２ｍ
ｇ，０．２８ｍｍｏｌ，８７％）を得た。
２５−ニトロ−２７−ノルコレスト−５−エン（２３）
（２７０ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）を０．１Ｎ ＫＯＨ
のメタノール溶液（１５ｍｌ）に溶解し、氷冷下、過マ
ンガン酸カリウム（５３ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）およ
び無水硫酸マグネシウム（５３ｍｇ，０．４４ｍｍｏ
ｌ）の水溶液（１０ｍｌ）を滴下し、さらに１時間攪拌
した。反応終了後、水（８０ｍｌ）を加え、酢酸エチル
（８０ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（８０ｍ
ｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、濾
過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲ
ル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（３０：１
→２：１）でカラム精製することにより、目的物である
１α，３β−ビス（メトキシメトキシ）−２５−オキソ
−２７−ノルコレスト−５−エン（２４）（１３２ｍ
ｇ，０．２８ｍｍｏｌ，８７％）を得た。
【０１１６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６９（３Ｈ，ｓ） ０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０３（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．５５（２３Ｈ，ｍ） ２．１４（３Ｈ，ｓ） ３．３６（３Ｈ，ｓ） ３．４０（３Ｈ，ｓ） ３．７０−４．００（１Ｈ，ｍ） ４．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ４．６７（２Ｈ，ｓ） ４．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ５．５０−５．６０（１Ｈ，ｍ）
【０１１７】［実施例２１］
【０１１８】
【化３５】
【０１１９】１α，３β−ビス（メトキシメトキシ）−
２５−オキソ−２７−ノルコレスト−５−エン（２４）
（１５０ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３ｍｌ）
に溶解し、室温でメチルマグネシウムブロミドの０．９
３Ｍ ＴＨＦ溶液（１．２ｍｌ，１．１１ｍｍｏｌ）を
滴下した。室温で３０分間攪拌後、飽和塩化アンモニウ
ム水溶液（２５ｍｌ）を加え、酢酸エチル（２５ｍｌ）
で抽出した。有機層は無水硫酸マグネシウム上で乾燥
後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシ
リカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（２
０：１−２：１）でカラム精製することにより、目的物
である１α，２５−ジヒドロキシコレステロール−１，
３−（Ｏ）ビスメトキシメチルエーテル（２５）（１３
１ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ，８５％）を得た。
２５−オキソ−２７−ノルコレスト−５−エン（２４）
（１５０ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３ｍｌ）
に溶解し、室温でメチルマグネシウムブロミドの０．９
３Ｍ ＴＨＦ溶液（１．２ｍｌ，１．１１ｍｍｏｌ）を
滴下した。室温で３０分間攪拌後、飽和塩化アンモニウ
ム水溶液（２５ｍｌ）を加え、酢酸エチル（２５ｍｌ）
で抽出した。有機層は無水硫酸マグネシウム上で乾燥
後、濾過、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシ
リカゲル（２０ｇ）を用い、ヘキサン：酢酸エチル（２
０：１−２：１）でカラム精製することにより、目的物
である１α，２５−ジヒドロキシコレステロール−１，
３−（Ｏ）ビスメトキシメチルエーテル（２５）（１３
１ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ，８５％）を得た。
【０１２０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．７０（３Ｈ，ｓ） ０．９４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０４（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．５５（２３Ｈ，ｍ） １．２３（６Ｈ，ｓ） ３．３７（３Ｈ，ｓ） ３．４１（３Ｈ，ｓ） ３．７０−４．００（１Ｈ，ｍ） ４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ４．６８（２Ｈ，ｓ） ４．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） ５．５０−５．６０（１Ｈ，ｍ）
【０１２１】［実施例２２］
【０１２２】
【化３６】
【０１２３】１α，２５−ジヒドロキシコレステロール
−１，３−（Ｏ）ビスメトキシメチルエーテル（２５）
（１６ｍｇ，０．０２９ｍｍｏｌ）のメタノール（１ｍ
ｌ）溶液に水（３ｍｌ）およびｐ−トルエンスルホン酸
一水和物（１０ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を加え、５０
℃で２時間加熱攪拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液（３０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（３０
ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（各３０ｍｌ）
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮
し、粗生成物を得た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘ
キサン：酢酸エチル（５：１→１：５）で精製すること
により、目的物である１α，２５−ジヒドロキシコレス
テロール（２６）（１１ｍｇ，０．０２６ｍｍｏｌ，９
１％）を得た。
−１，３−（Ｏ）ビスメトキシメチルエーテル（２５）
（１６ｍｇ，０．０２９ｍｍｏｌ）のメタノール（１ｍ
ｌ）溶液に水（３ｍｌ）およびｐ−トルエンスルホン酸
一水和物（１０ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を加え、５０
℃で２時間加熱攪拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液（３０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（３０
ｍｌ）で抽出した。有機層は飽和食塩水（各３０ｍｌ）
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮
し、粗生成物を得た。シリカゲル（２０ｇ）を用い、ヘ
キサン：酢酸エチル（５：１→１：５）で精製すること
により、目的物である１α，２５−ジヒドロキシコレス
テロール（２６）（１１ｍｇ，０．０２６ｍｍｏｌ，９
１％）を得た。
【０１２４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）δ； ０．６９（３Ｈ，ｓ） ０．９４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．０４（３Ｈ，ｓ） ０．８５−２．３５（２４Ｈ，ｍ） １．２２（６Ｈ，ｓ） ３．８０−４．２０（１Ｈ，ｍ） ５．６０−５．７０（１Ｈ，ｍ）
【０１２５】
【発明の効果】以上示した反応は、すべて操作が容易
で、かつ、収率も比較的高い。したがって、本発明によ
れば、ジアゾメタンのような爆発性で毒性の強い化学物
質を使用せずに、コレン酸を原料に、効率よく、簡便に
１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3の合成原料であ
る２５−ヒドロキシコレステロール類を製造することが
できる。また、本発明の製造法における新規な合成中間
体類は、他のビタミンＤ3誘導体の合成中間体としても
有用な物質である。
で、かつ、収率も比較的高い。したがって、本発明によ
れば、ジアゾメタンのような爆発性で毒性の強い化学物
質を使用せずに、コレン酸を原料に、効率よく、簡便に
１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3の合成原料であ
る２５−ヒドロキシコレステロール類を製造することが
できる。また、本発明の製造法における新規な合成中間
体類は、他のビタミンＤ3誘導体の合成中間体としても
有用な物質である。
Claims (17)
- 【請求項１】 下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1は水素原子、炭素数２〜８のアシル基、ト
リ（炭素数１〜６の炭化水素基）置換シリル基、または
１−（炭素数１〜４のアルコキシ基）置換の炭素数１〜
６のアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子またはＲ1Ｏ基を
表わす（Ｒ1は上記定義に同じ）。］で表される化合
物。 - 【請求項２】 下記式（II） 【化２】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、上記式（Ｉ）における定義に
同じである。波線部分が結合している二重結合について
の幾何異性は、ＥまたはＺまたはそれらの任意の割合の
混合物である。］で表される化合物。 - 【請求項３】 下記式（III） 【化３】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、上記式（Ｉ）における定義に
同じである。］で表される化合物。 - 【請求項４】 請求項１から３のいずれかに記載の化合
物において、その化合物に対応する上記式中、Ｒ1がメ
トキシメチル基であり、Ｒ2が水素原子である化合物。 - 【請求項５】 請求項１から３のいずれかに記載の化合
物において、その化合物に対応する上記式中、Ｒ1がメ
トキシメチル基であり、Ｒ2がメトキシメトキシ基であ
る化合物。 - 【請求項６】 上記式（III）で表される化合物を、そ
のニトロ基をカルボニル基に変換しうる反応剤で処理す
ることにより、下記式（IV） 【化４】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、上記式（Ｉ）における定義に
同じである。］で表される化合物とし、続いてメチル化
剤と反応させ、さらに、必要により水酸基の保護基を除
去することを特徴とする下記式（Ｖ） 【化５】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、上記式（Ｉ）における定義に
同じである。］で表される２５−ヒドロキシコレステロ
ール類の製造法。 - 【請求項７】 ニトロ基をカルボニル基に変換しうる反
応剤が、水酸化カリウム存在下の過マンガン酸カリウム
である請求項６に記載の２５−ヒドロキシコレステロー
ル類の製造法。 - 【請求項８】 メチル化剤が、臭化メチルマグネシウム
である請求項６に記載の２５−ヒドロキシコレステロー
ル類の製造法。 - 【請求項９】 上記式（II）で表される化合物のニトロ
基と共役する二重結合を還元し、上記式（III）で表さ
れる化合物を得たのち、請求項６から８のいずれかに記
載の反応に付すことを特徴とする、上記式（Ｖ）で表さ
れる２５−ヒドロキシコレステロール類の製造法。 - 【請求項１０】 ニトロ基と共役する二重結合を還元す
るのに用いる反応剤が、水素化ホウ素ナトリウムである
請求項９に記載の２５−ヒドロキシコレステロール類の
製造法。 - 【請求項１１】 上記式（Ｉ）で表される化合物を脱水
剤と反応させることにより上記式（II）で表される化合
物を得たのち、請求項９または１０に記載の反応に付す
ことを特徴とする、上記式（Ｖ）で表される２５−ヒド
ロキシコレステロール類の製造法。 - 【請求項１２】 脱水剤が塩化メタンスルホニルとトリ
エチルアミンの組合せである、請求項１１に記載の２５
−ヒドロキシコレステロール類の製造法。 - 【請求項１３】 下記式（VI） 【化６】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、上記式（Ｉ）における定義に
同じである。］で表される化合物に、塩基触媒存在下に
ニトロエタンを反応させることにより上記式（Ｉ）で表
される化合物を得たのち、請求項１１または１２に記載
の反応に付すことを特徴とする、上記式（Ｖ）で表され
る２５−ヒドロキシコレステロール類の製造法。 - 【請求項１４】 塩基性触媒が、トリエチルアミン、ｔ
−ブチルジメチルシリルクロリド、およびテトラブチル
アンモニウムフルオライドの組合せである、請求項１３
に記載の２５−ヒドロキシコレステロール類の製造法。 - 【請求項１５】 請求項６から１４のいずれかに記載の
２５−ヒドロキシコレステロール類の製造法において、
その製造法に対応する上記各式中、Ｒ1がメトキシメチ
ル基であり、Ｒ2が水素原子である、２５−ヒドロキシ
コレステロール類の製造法。 - 【請求項１６】 請求項６から１４のいずれかに記載の
２５−ヒドロキシコレステロール類の製造法において、
その製造法に対応する上記各式中、Ｒ1がメトキシメチ
ル基であり、Ｒ2がメトキシメトキシ基である、２５−
ヒドロキシコレステロール類の製造法。 - 【請求項１７】 請求項６から１４のいずれかに記載の
２５−ヒドロキシコレステロール類の製造法において、
その製造法に対応する上記各式中、Ｒ1が水素原子であ
り、Ｒ2が水酸基である、２５−ヒドロキシコレステロ
ール類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8080470A JPH09249691A (ja) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | ２５−ヒドロキシコレステロール類の製造法およびその合成中間体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8080470A JPH09249691A (ja) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | ２５−ヒドロキシコレステロール類の製造法およびその合成中間体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09249691A true JPH09249691A (ja) | 1997-09-22 |
Family
ID=13719159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8080470A Pending JPH09249691A (ja) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | ２５−ヒドロキシコレステロール類の製造法およびその合成中間体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09249691A (ja) |
-
1996
- 1996-03-11 JP JP8080470A patent/JPH09249691A/ja active Pending
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