JPH09249606A - ２，３，５−トリメチルハイドロキノンを製造する方法 - Google Patents
２，３，５−トリメチルハイドロキノンを製造する方法Info
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- JPH09249606A JPH09249606A JP8062645A JP6264596A JPH09249606A JP H09249606 A JPH09249606 A JP H09249606A JP 8062645 A JP8062645 A JP 8062645A JP 6264596 A JP6264596 A JP 6264596A JP H09249606 A JPH09249606 A JP H09249606A
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、２，３，６−トリメチルフェノー
ルから２，３，５−トリメチルハイドロキノンを高收率
でかつ容易に（一段で）製造する方法を提供することを
課題とする。 【解決手段】 本発明の課題は、２，３，６−トリメチ
ルフェノールを、ルイス酸を共存させて、ケトンの存在
下に過酸化水素で酸化することを特徴とする２，３，５
−トリメチルハイドロキノンを製造する方法によって達
成される。
ルから２，３，５−トリメチルハイドロキノンを高收率
でかつ容易に（一段で）製造する方法を提供することを
課題とする。 【解決手段】 本発明の課題は、２，３，６−トリメチ
ルフェノールを、ルイス酸を共存させて、ケトンの存在
下に過酸化水素で酸化することを特徴とする２，３，５
−トリメチルハイドロキノンを製造する方法によって達
成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、合成ビタミンＥの
原料として有用な２，３，５−トリメチルハイドロキノ
ンを製造する方法に関する。
原料として有用な２，３，５−トリメチルハイドロキノ
ンを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】２，３，５−トリメチルハイドロキノン
を製造する方法としては、（１）２，３，６−トリメチ
ルフェノールをスルホン化し、更に酸化して２，３，５
−トリメチルベンゾキノンとした後、これを水素還元し
て２，３，５−トリメチルハイドロキノンを得る方法
（西独特許第１９３２３６２号明細書、同第２２２５５
４３号明細書）、（２）２，３，６−トリメチルフェノ
ールを酸化して２，３，５−トリメチルベンゾキノンと
した後、これを水素還元して２，３，５−トリメチルハ
イドロキノンを得る方法（特開昭６１−２７９３６号公
報）、（３）２，３，６−トリメチルフェノールを、必
要であれば触媒として硫酸もしくはその塩又はスルホン
酸もしくはその塩を存在させて、ケトンの存在下に過酸
化水素で酸化して２，３，５−トリメチルハイドロキノ
ンを得る方法（特公昭５５−３０６９３号公報）、
（４）２，３，６−トリメチルフェノールを硫酸もしく
はその塩又はスルホン酸もしくはその塩の存在下にケト
ンパーオキサイドで酸化して２，３，５−トリメチルハ
イドロキノンを得る方法（特公昭５５−３１７６３号公
報）が知られている。
を製造する方法としては、（１）２，３，６−トリメチ
ルフェノールをスルホン化し、更に酸化して２，３，５
−トリメチルベンゾキノンとした後、これを水素還元し
て２，３，５−トリメチルハイドロキノンを得る方法
（西独特許第１９３２３６２号明細書、同第２２２５５
４３号明細書）、（２）２，３，６−トリメチルフェノ
ールを酸化して２，３，５−トリメチルベンゾキノンと
した後、これを水素還元して２，３，５−トリメチルハ
イドロキノンを得る方法（特開昭６１−２７９３６号公
報）、（３）２，３，６−トリメチルフェノールを、必
要であれば触媒として硫酸もしくはその塩又はスルホン
酸もしくはその塩を存在させて、ケトンの存在下に過酸
化水素で酸化して２，３，５−トリメチルハイドロキノ
ンを得る方法（特公昭５５−３０６９３号公報）、
（４）２，３，６−トリメチルフェノールを硫酸もしく
はその塩又はスルホン酸もしくはその塩の存在下にケト
ンパーオキサイドで酸化して２，３，５−トリメチルハ
イドロキノンを得る方法（特公昭５５−３１７６３号公
報）が知られている。
【０００３】しかしながら、（１）及び（２）の方法で
は、産業廃棄物を副生し、しかも多段の反応であるため
に煩雑で工業的には好ましくないという問題がある。ま
た、（３）及び（４）の方法では、２，３，５−トリメ
チルハイドロキノンの收率が低く工業的に満足できるも
のではないという問題がある。
は、産業廃棄物を副生し、しかも多段の反応であるため
に煩雑で工業的には好ましくないという問題がある。ま
た、（３）及び（４）の方法では、２，３，５−トリメ
チルハイドロキノンの收率が低く工業的に満足できるも
のではないという問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、２，３，６
−トリメチルフェノールから２，３，５−トリメチルハ
イドロキノンを高收率でかつ容易に（一段で）製造する
方法を提供することを課題とするものである。
−トリメチルフェノールから２，３，５−トリメチルハ
イドロキノンを高收率でかつ容易に（一段で）製造する
方法を提供することを課題とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは２，３，６
−トリメチルフェノールから２，３，５−トリメチルハ
イドロキノンを製造する方法について鋭意研究した結
果、意外にもルイス酸を共存させて、２，３，６−トリ
メチルフェノールをケトンの存在下に過酸化水素で酸化
することにより、従来の方法よりも著しく高い收率で
２，３，５−トリメチルハイドロキノンを製造できるこ
とを見いだして本発明を完成した。
−トリメチルフェノールから２，３，５−トリメチルハ
イドロキノンを製造する方法について鋭意研究した結
果、意外にもルイス酸を共存させて、２，３，６−トリ
メチルフェノールをケトンの存在下に過酸化水素で酸化
することにより、従来の方法よりも著しく高い收率で
２，３，５−トリメチルハイドロキノンを製造できるこ
とを見いだして本発明を完成した。
【０００６】即ち、本発明の課題は、２，３，６−トリ
メチルフェノールを、ルイス酸を共存させて、ケトンの
存在下に過酸化水素で酸化することを特徴とする２，
３，５−トリメチルハイドロキノンを製造する方法によ
って達成される。
メチルフェノールを、ルイス酸を共存させて、ケトンの
存在下に過酸化水素で酸化することを特徴とする２，
３，５−トリメチルハイドロキノンを製造する方法によ
って達成される。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明で使用されるケトンは特に
限定されるものではないが、例えば次のものが挙げられ
る。
限定されるものではないが、例えば次のものが挙げられ
る。
【０００８】（１）次の一般式（Ｉ）で表される炭素数
３〜２０のケトン：
３〜２０のケトン：
【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は炭素数１〜１８を有する直鎖状
又は分枝を有するアルキル基又はフェニル基を表し、そ
れぞれ等しいか又は異なっていてもよい。また、これら
のアルキル基の水素原子はハロゲン原子、水酸基、アミ
ノ基又はフェニル基で置換されていてもよく、更にこれ
らのアルキル基は不飽和結合を有していてもよい。）
又は分枝を有するアルキル基又はフェニル基を表し、そ
れぞれ等しいか又は異なっていてもよい。また、これら
のアルキル基の水素原子はハロゲン原子、水酸基、アミ
ノ基又はフェニル基で置換されていてもよく、更にこれ
らのアルキル基は不飽和結合を有していてもよい。）
【０００９】（２）次の一般式（II）で表される炭素数
３〜２０のジケトン：
３〜２０のジケトン：
【化２】 （式中、ｎ1 は０〜１６の整数を表し、Ｒ1 及びＲ2 は
前述と同一の意味を有する。）
前述と同一の意味を有する。）
【００１０】（３）次の一般式(III) で表されるシクロ
ケトン：
ケトン：
【化３】 （式中、ｎ2 は４〜１１の整数を表し、ｍ1 ＋ｍ2 は３
〜１０の整数を表す。また、Ｒ1 は前述と同一の意味を
有する。）
〜１０の整数を表す。また、Ｒ1 は前述と同一の意味を
有する。）
【００１１】一般式（Ｉ）で表されるケトンのうち、Ｒ
1 及びＲ2 が炭素数１〜１８の直鎖状又は分枝を有する
（かつ不飽和結合を有しない）アルキル基としては、例
えば次のものが挙げられる：メチル、エチル、プロピ
ル、１−メチルエチル、ブチル、１−メチルプロピル、
１，１−ジメチルエチル、２−メチルプロピル、ペンチ
ル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチル
ブチル、１，２−ジメチルプロピル、ヘキシル、１−メ
チルペンチル、オクチル、デシル、ウンデシル、２−ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、オ
クタデシルなど。
1 及びＲ2 が炭素数１〜１８の直鎖状又は分枝を有する
（かつ不飽和結合を有しない）アルキル基としては、例
えば次のものが挙げられる：メチル、エチル、プロピ
ル、１−メチルエチル、ブチル、１−メチルプロピル、
１，１−ジメチルエチル、２−メチルプロピル、ペンチ
ル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチル
ブチル、１，２−ジメチルプロピル、ヘキシル、１−メ
チルペンチル、オクチル、デシル、ウンデシル、２−ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、オ
クタデシルなど。
【００１２】上記のアルキル基を有するケトンの代表例
としては、次のものが挙げられる：アセトン、メチルエ
チルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、３−メ
チル−２−ブタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノ
ン、３−メチル−２−ペンタノン、４−メチル−２−ペ
ンタノン、３，３−ジメチル−２−ブタノン、２−ヘプ
タノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２，４−ジ
メチル−３−ペンタノン、２−オクタノン、６−メチル
−２−ヘプタノン、２−ノナノン、２，６−ジメチル−
４−ヘプタノン、２，２，４，４−テトラメチル−３−
ヘプタノン、３−デカノン、６−ウンデカノン、２−ト
リデカノン、７−トリデカノン、２−テトラデカノン、
２−ペンタデカノン、２−ヘキサデカノン、２−ヘプタ
デカノン、３−オクタデカノン、４−ノナデカノン、５
−アイコサノンなど。
としては、次のものが挙げられる：アセトン、メチルエ
チルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、３−メ
チル−２−ブタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノ
ン、３−メチル−２−ペンタノン、４−メチル−２−ペ
ンタノン、３，３−ジメチル−２−ブタノン、２−ヘプ
タノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２，４−ジ
メチル−３−ペンタノン、２−オクタノン、６−メチル
−２−ヘプタノン、２−ノナノン、２，６−ジメチル−
４−ヘプタノン、２，２，４，４−テトラメチル−３−
ヘプタノン、３−デカノン、６−ウンデカノン、２−ト
リデカノン、７−トリデカノン、２−テトラデカノン、
２−ペンタデカノン、２−ヘキサデカノン、２−ヘプタ
デカノン、３−オクタデカノン、４−ノナデカノン、５
−アイコサノンなど。
【００１３】一般式（Ｉ）で表されるケトンのうち、Ｒ
1 及びＲ2 が炭素数１〜１８の直鎖状又は分枝を有する
アルキル基であってかつ不飽和結合を有するケトンの代
表例としては、例えば次のものが挙げられる（但し、不
飽和結合は二重結合、三重結合の何れでもよいが、二重
結合が好ましい）：３−ブテン−２−オン、３−ペンテ
ン−２−オン、５−ヘキセン−２−オン、４−メチル−
３−ペンテン−２−オン、６−メチル−５−ヘプテン−
２−オン、５−オクテン−２−オン、７−ノナデセン−
２−オンなど。
1 及びＲ2 が炭素数１〜１８の直鎖状又は分枝を有する
アルキル基であってかつ不飽和結合を有するケトンの代
表例としては、例えば次のものが挙げられる（但し、不
飽和結合は二重結合、三重結合の何れでもよいが、二重
結合が好ましい）：３−ブテン−２−オン、３−ペンテ
ン−２−オン、５−ヘキセン−２−オン、４−メチル−
３−ペンテン−２−オン、６−メチル−５−ヘプテン−
２−オン、５−オクテン−２−オン、７−ノナデセン−
２−オンなど。
【００１４】一般式（Ｉ）で表されるケトンのうち、Ｒ
1 及びＲ2 が炭素数１〜１８の直鎖状又は分枝を有する
アルキル基であって、かつその水素原子がハロゲン原子
（特に塩素原子、臭素原子）、水酸基、アミノ基又はフ
ェニル基で置換されているケトンの代表例としては、例
えば次のものが挙げられる：１−クロロ−２−プロパノ
ン、１−クロロ−３−ヘプタノン、１−ブロモ−３−ヘ
プタノン、１−ヒドロキシ−２−プロパノン、３−ヒド
ロキシ−２−ブタノン、４−アミノ−４−メチル−２−
ペンタノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、１−フ
ェニル−２−プロパノン、１−フェニル−１−ブタノ
ン、１−フェニル−３−ブタノン、１−フェニル−３−
ペンタノン、１，３−ジフェニル−２−プロパノンな
ど。
1 及びＲ2 が炭素数１〜１８の直鎖状又は分枝を有する
アルキル基であって、かつその水素原子がハロゲン原子
（特に塩素原子、臭素原子）、水酸基、アミノ基又はフ
ェニル基で置換されているケトンの代表例としては、例
えば次のものが挙げられる：１−クロロ−２−プロパノ
ン、１−クロロ−３−ヘプタノン、１−ブロモ−３−ヘ
プタノン、１−ヒドロキシ−２−プロパノン、３−ヒド
ロキシ−２−ブタノン、４−アミノ−４−メチル−２−
ペンタノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、１−フ
ェニル−２−プロパノン、１−フェニル−１−ブタノ
ン、１−フェニル−３−ブタノン、１−フェニル−３−
ペンタノン、１，３−ジフェニル−２−プロパノンな
ど。
【００１５】一般式（II）で表されるジケトンの代表例
としては、例えば次のものが挙げられる：２，３−ブタ
ンジオン、２，４−ペンタンジオン、２，５−ヘキサン
ジオンなど。
としては、例えば次のものが挙げられる：２，３−ブタ
ンジオン、２，４−ペンタンジオン、２，５−ヘキサン
ジオンなど。
【００１６】一般式(III) で表されるシクロケトンと代
表例としては、例えば次のものが挙げられる：シクロペ
ンタノン、シクロヘキサノン、２−エチル−１−シクロ
ペンタノン、２−メチル−１−シクロヘキサノン、シク
ロドデカノンなど。
表例としては、例えば次のものが挙げられる：シクロペ
ンタノン、シクロヘキサノン、２−エチル−１−シクロ
ペンタノン、２−メチル−１−シクロヘキサノン、シク
ロドデカノンなど。
【００１７】前記のケトンの中で特に好ましいものは、
置換基を有しない炭素数３〜１５の飽和脂肪族モノケト
ン、炭素数５〜１２の飽和脂環式モノケトン、又は芳香
族モノケトンである。
置換基を有しない炭素数３〜１５の飽和脂肪族モノケト
ン、炭素数５〜１２の飽和脂環式モノケトン、又は芳香
族モノケトンである。
【００１８】本発明において、以上詳細に述べたケトン
の存在下での過酸化水素による２，３，６−トリメチル
フェノールの酸化は次の条件で行われる。使用する過酸
化水素の濃度については特に限定はなく、一般に使用さ
れている３０〜６０重量％の濃度の過酸化水素でも使用
できる。しかし、本発明の反応はできるだけ水の少ない
状態で実施すると酸化速度が速くなり、しかも２，３，
５−トリメチルハイドロキノンの收率が高くなるため、
６０重量％以上の過酸化水素が好適に使用されることは
勿論である。過酸化水素の使用量に特別の制限はない
が、望ましいは使用量は２，３，６−トリメチルフェノ
ールに対するモル比で０．００５〜０．５である。
の存在下での過酸化水素による２，３，６−トリメチル
フェノールの酸化は次の条件で行われる。使用する過酸
化水素の濃度については特に限定はなく、一般に使用さ
れている３０〜６０重量％の濃度の過酸化水素でも使用
できる。しかし、本発明の反応はできるだけ水の少ない
状態で実施すると酸化速度が速くなり、しかも２，３，
５−トリメチルハイドロキノンの收率が高くなるため、
６０重量％以上の過酸化水素が好適に使用されることは
勿論である。過酸化水素の使用量に特別の制限はない
が、望ましいは使用量は２，３，６−トリメチルフェノ
ールに対するモル比で０．００５〜０．５である。
【００１９】使用するケトンの量は少量でもよいが、過
剰量のケトンは溶媒としての機能も有するので、使用量
の上限には特に制限はない。特に好ましいケトンの使用
量は過酸化水素に対するモル比で０．００５〜２０であ
る。
剰量のケトンは溶媒としての機能も有するので、使用量
の上限には特に制限はない。特に好ましいケトンの使用
量は過酸化水素に対するモル比で０．００５〜２０であ
る。
【００２０】反応は０〜２５０℃、好ましくは４５〜２
００℃の温度で実施される。反応時間は特に制限されな
いが、反応温度と後述する触媒（ルイス酸）の量により
異なる。なお、反応は通常は大気圧下で行うが、減圧下
又は加圧下で行ってもよい。
００℃の温度で実施される。反応時間は特に制限されな
いが、反応温度と後述する触媒（ルイス酸）の量により
異なる。なお、反応は通常は大気圧下で行うが、減圧下
又は加圧下で行ってもよい。
【００２１】溶媒は使用しなくてもよいが、使用する場
合には酸化反応を妨げない溶媒、例えば酢酸メチル、酢
酸エチル、二酢酸エチレン、安息香酸メチル、フタル酸
ジメチル、フタル酸ジエチル、ベンゼン等が用いられ
る。また、前述の如く、ケトンを多く用いる場合には、
ケトンが溶媒の役目をもすることになる。なお、２，
３，６−トリメチルフェノールの融点以下で反応させる
ときには溶媒の使用を必要とする。
合には酸化反応を妨げない溶媒、例えば酢酸メチル、酢
酸エチル、二酢酸エチレン、安息香酸メチル、フタル酸
ジメチル、フタル酸ジエチル、ベンゼン等が用いられ
る。また、前述の如く、ケトンを多く用いる場合には、
ケトンが溶媒の役目をもすることになる。なお、２，
３，６−トリメチルフェノールの融点以下で反応させる
ときには溶媒の使用を必要とする。
【００２２】反応系に含まれる水分は、前述のように
２，３，５−トリメチルハイドロキノンの收率向上のた
めにできるだけ少ないほうが好ましい。反応系の水を少
なくするには、公知の方法に準じて、例えば過酸化水素
に含まれる水分を、水単独、ケトン、２，３，６−トリ
メチルフェノール又は溶媒との共沸成分として反応前又
は反応中に蒸発させて反応系外に留去することができ
る。
２，３，５−トリメチルハイドロキノンの收率向上のた
めにできるだけ少ないほうが好ましい。反応系の水を少
なくするには、公知の方法に準じて、例えば過酸化水素
に含まれる水分を、水単独、ケトン、２，３，６−トリ
メチルフェノール又は溶媒との共沸成分として反応前又
は反応中に蒸発させて反応系外に留去することができ
る。
【００２３】本発明で使用されるルイス酸としては、三
フッ化ホウ素、その錯体及びそのフッ化水素付加体から
選ばれる少なくとも一種の化合物が挙げられる。三フッ
化ホウ素の錯体としては、酢酸錯体等の三フッ化ホウ素
のカルボン酸錯体や、ジメチルエーテル錯体、ジエチル
エーテル錯体、ｔ−ブチルメチルエーテル錯体、ジブチ
ルエーテル錯体等の三フッ化ホウ素のエーテル錯体や、
エチルアミン錯体等の三フッ化ホウ素のアミン錯体や、
メタノール錯体、プロパノール錯体、フェノール錯体等
の三フッ化ホウ素のアルコール錯体や、ジメチルスルフ
ィド錯体等の三フッ化ホウ素のスルフィド錯体が挙げら
れる。また、三フッ化ホウ素のフッ化水素付加体として
は、ホウフッ化水素酸（水溶液）が挙げられる。
フッ化ホウ素、その錯体及びそのフッ化水素付加体から
選ばれる少なくとも一種の化合物が挙げられる。三フッ
化ホウ素の錯体としては、酢酸錯体等の三フッ化ホウ素
のカルボン酸錯体や、ジメチルエーテル錯体、ジエチル
エーテル錯体、ｔ−ブチルメチルエーテル錯体、ジブチ
ルエーテル錯体等の三フッ化ホウ素のエーテル錯体や、
エチルアミン錯体等の三フッ化ホウ素のアミン錯体や、
メタノール錯体、プロパノール錯体、フェノール錯体等
の三フッ化ホウ素のアルコール錯体や、ジメチルスルフ
ィド錯体等の三フッ化ホウ素のスルフィド錯体が挙げら
れる。また、三フッ化ホウ素のフッ化水素付加体として
は、ホウフッ化水素酸（水溶液）が挙げられる。
【００２４】ルイス酸は単独で使用しても又は混合して
使用してもよく、そして均一系又は不均一系いずれでも
使用することができる。不均一系で使用する場合には懸
濁又は錠剤等各種の形態で用いる。ルイス酸の量は広範
囲に変えうるが、充分な反応速度を得るには２，３，６
−トリメチルフェノールに対して０．０００５モル％以
上、更に０．００５モル％以上、特には０．０５〜１モ
ル％であることが好ましい。
使用してもよく、そして均一系又は不均一系いずれでも
使用することができる。不均一系で使用する場合には懸
濁又は錠剤等各種の形態で用いる。ルイス酸の量は広範
囲に変えうるが、充分な反応速度を得るには２，３，６
−トリメチルフェノールに対して０．０００５モル％以
上、更に０．００５モル％以上、特には０．０５〜１モ
ル％であることが好ましい。
【００２５】以上においては本発明の反応を回分式で行
う場合について説明したが、反応を連続式で行うことも
勿論可能である。即ち、触媒充填層中に原料混合液を連
続的に送入して反応させる方法、あるいは原料混合液に
触媒を溶解又は懸濁させて反応帯域を通過させる方法等
で行うことができる。後者の場合、所要触媒量は回分式
に準じて決定される。
う場合について説明したが、反応を連続式で行うことも
勿論可能である。即ち、触媒充填層中に原料混合液を連
続的に送入して反応させる方法、あるいは原料混合液に
触媒を溶解又は懸濁させて反応帯域を通過させる方法等
で行うことができる。後者の場合、所要触媒量は回分式
に準じて決定される。
【００２６】反応終了後、２，３，５−トリメチルハイ
ドロキノンは、反応液中に目的物の分離を妨害するもの
が含まれていないので、公知法に準じて容易に分離する
ことができる。例えば、反応液を冷却し、そして多くの
場合は触媒を除去した後に、反応液を蒸留に付すること
により、２，３，５−トリメチルハイドロキノンを分離
できる。即ち、水、ケトン、２，３，６−トリメチルフ
ェノール及び２，３，５−トリメチルハイドロキノンを
適宜蒸留・分離すればよい。分離したケトン及び２，
３，６−トリメチルフェノールは循環して、次の反応に
使用できる。
ドロキノンは、反応液中に目的物の分離を妨害するもの
が含まれていないので、公知法に準じて容易に分離する
ことができる。例えば、反応液を冷却し、そして多くの
場合は触媒を除去した後に、反応液を蒸留に付すること
により、２，３，５−トリメチルハイドロキノンを分離
できる。即ち、水、ケトン、２，３，６−トリメチルフ
ェノール及び２，３，５−トリメチルハイドロキノンを
適宜蒸留・分離すればよい。分離したケトン及び２，
３，６−トリメチルフェノールは循環して、次の反応に
使用できる。
【００２７】
【実施例】次に、実施例及び比較例を挙げて本発明を具
体的に説明する。 実施例１ 水分離器を有する還流冷却器、温度計及び攪拌機を備え
た内容積１００ｍｌのガラス製三口フラスコに、２，
３，６−トリメチルフェノール１３．６２ｇ（１００ｍ
ｍｏｌ）とメチルエチルケトン０．５７９６ｇ（８ｍｍ
ｏｌ）及び６０重量％過酸化水素水０．２８３５ｇ（５
ｍｍｏｌ）を仕込んで、反応器内を窒素で置換した後、
反応器を７０℃の油浴中に浸した。反応液温が７０℃に
達したところで、三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯
体０．０３５５ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を添加し、反応
液を攪拌しながらそのまま１時間反応させた。この間、
生成水は連続的に水分離器に補集した。反応終了後、反
応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、２，
３，５−トリメチルハイドロキノン３．０１ｇ（１．９
８ｍｍｏｌ）が生成していた。收率は下記の定義に基づ
く過酸化水素基準で３９．６％であった。
体的に説明する。 実施例１ 水分離器を有する還流冷却器、温度計及び攪拌機を備え
た内容積１００ｍｌのガラス製三口フラスコに、２，
３，６−トリメチルフェノール１３．６２ｇ（１００ｍ
ｍｏｌ）とメチルエチルケトン０．５７９６ｇ（８ｍｍ
ｏｌ）及び６０重量％過酸化水素水０．２８３５ｇ（５
ｍｍｏｌ）を仕込んで、反応器内を窒素で置換した後、
反応器を７０℃の油浴中に浸した。反応液温が７０℃に
達したところで、三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯
体０．０３５５ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を添加し、反応
液を攪拌しながらそのまま１時間反応させた。この間、
生成水は連続的に水分離器に補集した。反応終了後、反
応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、２，
３，５−トリメチルハイドロキノン３．０１ｇ（１．９
８ｍｍｏｌ）が生成していた。收率は下記の定義に基づ
く過酸化水素基準で３９．６％であった。
【００２８】
【数１】
【００２９】実施例２ 触媒として三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯体の代
わりにホウフッ化水素酸（４２％水溶液）０．０５２３
ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と
同様に反応と分析を行った。その結果、２，３，５−ト
リメチルハイドロキノンの收率は３７．２％であった。
わりにホウフッ化水素酸（４２％水溶液）０．０５２３
ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と
同様に反応と分析を行った。その結果、２，３，５−ト
リメチルハイドロキノンの收率は３７．２％であった。
【００３０】比較例１ 触媒として三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯体の代
わりに硫酸０．０３０ｇ（０．２２重量％）を使用した
以外は、実施例１と同様に反応と分析を行った。その結
果、２，３，５−トリメチルハイドロキノンの收率は２
０．８％であった。
わりに硫酸０．０３０ｇ（０．２２重量％）を使用した
以外は、実施例１と同様に反応と分析を行った。その結
果、２，３，５−トリメチルハイドロキノンの收率は２
０．８％であった。
【００３１】実施例３ ケトンとしてメチルエチルケトンの代わりに４−メチル
−２−ペンタノン０．８０１３ｇ（８ｍｍｏｌ）を使用
した以外は、実施例１と同様に反応と分析を行った。そ
の結果、２，３，５−トリメチルハイドロキノンの收率
は４２．６％であった。実施例及び比較例の結果を表１
に示す。
−２−ペンタノン０．８０１３ｇ（８ｍｍｏｌ）を使用
した以外は、実施例１と同様に反応と分析を行った。そ
の結果、２，３，５−トリメチルハイドロキノンの收率
は４２．６％であった。実施例及び比較例の結果を表１
に示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【発明の効果】本発明により、２，３，６−トリメチル
フェノールから２，３，５−トリメチルハイドロキノン
を一段階の反応でしかも公知の硫酸を触媒とする方法よ
りも約２倍の高い收率で製造することができる。本発明
の反応は一段で非常に容易であることから、本発明によ
り、工業的に好適な２，３，５−トリメチルハイドロキ
ノンを製造する方法を提供することができる。
フェノールから２，３，５−トリメチルハイドロキノン
を一段階の反応でしかも公知の硫酸を触媒とする方法よ
りも約２倍の高い收率で製造することができる。本発明
の反応は一段で非常に容易であることから、本発明によ
り、工業的に好適な２，３，５−トリメチルハイドロキ
ノンを製造する方法を提供することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 ２，３，６−トリメチルフェノールを、
ルイス酸を共存させて、ケトンの存在下に過酸化水素で
酸化することを特徴とする２，３，５−トリメチルハイ
ドロキノンを製造する方法。 - 【請求項２】 ルイス酸が三フッ化水素、その錯体及び
そのフッ化水素付加体から選ばれる少なくとも一種の化
合物であることを特徴とする請求項１記載の２，３，５
−トリメチルハイドロキノンを製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06264596A JP3570068B2 (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | ２，３，５−トリメチルハイドロキノンを製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06264596A JP3570068B2 (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | ２，３，５−トリメチルハイドロキノンを製造する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09249606A true JPH09249606A (ja) | 1997-09-22 |
| JP3570068B2 JP3570068B2 (ja) | 2004-09-29 |
Family
ID=13206286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06264596A Expired - Fee Related JP3570068B2 (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | ２，３，５−トリメチルハイドロキノンを製造する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3570068B2 (ja) |
-
1996
- 1996-03-19 JP JP06264596A patent/JP3570068B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3570068B2 (ja) | 2004-09-29 |
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