JPH09245632A - カラー陰極線管の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 シャドウマスク５に電子反射膜５ａを塗布形
成する場合、電子ビーム通過孔の形状に影響を与えず、
微粒子の分布が密で均一な電子反射膜を塗布形成するこ
とが可能なカラー陰極線管の製造方法を提供する。 【解決手段】 シャドウマスク５の電子銃対向面に塗布
液をスプレーして電子反射膜５ａを塗布形成する工程を
具備するカラー陰極線管の製造方法において、かかる塗
布液として、平均粒径が０．１乃至０．５μｍの範囲内
の酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子とバインダー剤
とを含有した懸濁液を用い、電子反射膜５ａの膜質量が
０．１乃至０．５ｍｇ／ｃｍ² の範囲内になるように塗
布形成するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー陰極線管の
製造方法に係わり、特に、シャドウマスクの電子銃対向
面に塗布液をスプレーし、電子ビームの射突に基づくシ
ャドウマスクの熱変形を抑制する電子反射膜を塗布形成
する際に、塗布された電子反射膜の状態を良好にする塗
布形成手段を用いるカラー陰極線管の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、カラー画像を表示するカラー陰
極線管は、画像を表示する螢光面をフロントパネル内面
に塗布形成しているパネル部と、３本の電子ビームを発
生する電子銃を格納している細長形状のネック部と、パ
ネル部とネック部とを連結する略漏斗形状のファンネル
部とで構成されており、パネル部の内側には、多くの電
子ビーム透過孔を有するシャドウマスクが螢光面に対向
するように配置されており、ファンネル部の外側には、
電子銃から発射された３本の電子ビームを偏向させ、偏
向させた３本の電子ビームをシャドウマスクの電子ビー
ム透過孔を通して螢光面上を走査する偏向装置が装着さ
れている。

【０００３】この場合、電子銃から発射された３本の電
子ビームは、偏向装置において適宜偏向された後、各別
にシャドウマスクの電子ビーム透過孔を通して螢光面上
の対応する色の螢光体ドットまたはストライプを有する
部分に射突し、電子ビームの射突した部分の螢光面の輝
度を増大し、螢光面上に所要の表示画像を現出させるも
のである。

【０００４】ここにおいて、３本の電子ビームがシャド
ウマスクの電子ビーム透過孔を透過して螢光面に到達す
る場合に、通常、３本の電子ビームが確実に螢光面上の
対応する色の螢光体ドットまたはストライプを有する部
分に到達するように、シャドウマスクにおける多くの電
子ビーム透過孔の適切な配置形成を行い、かつ、シャド
ウマスク自体の適切な配置を考慮している。

【０００５】ところが、現実には、３本の電子ビームの
エネルギの多くの部分（約８０％）が電子ビーム透過孔
を透過せずにシャドウマスクに直接衝突し、この衝突に
よりシャドウマスクに熱エネルギが与えられ、シャドウ
マスクの温度が上昇するようになる。この結果、シャド
ウマスクは、温度上昇に基づく熱膨張によって変形する
ようになり、変形前に正確に対応していた各電子ビーム
とシャドウマスクの各電子ビーム透過孔との位置関係が
ずれるようになり、その結果、螢光面上の対応する色の
螢光体ドットまたはストライプに到達する各電子ビーム
のエネルギも減少する。そして、各電子ビームとシャド
ウマスクの各電子ビーム透過孔との位置関係のずれを生
じたことにより、これまで以上にシャドウマスクに直接
衝突する電子ビームのエネルギが増え、さらにシャドウ
マスクの熱変形が進むという状態になり、螢光面の表示
画像の輝度が低下するとともに、表示画像に色ずれを生
じるという弊害をもたらす。

【０００６】このような弊害を除くため、シャドウマス
クの電子銃対向面、即ち、シャドウマスクにおける電子
ビームの衝突する面に、塗布液を吹き付けることによっ
て電子反射膜を形成し、電子ビームがシャドウマスクに
直接衝突したとき、その電子ビームを反射させ、電子ビ
ームのエネルギがシャドウマスクに伝達されないように
するシャドウマスクの非変形手段が既に提案されてい
る。

【０００７】前記シャドウマスクの非変形手段の１つ
は、例えば、特開平２−１０６２６号に開示されている
ものであって、シャドウマスクの電子銃対向面に塗布液
を吹き付けて電子反射層を形成する際に、塗布液とし
て、平均粒径が０．１乃至１．０μｍの範囲内にある酸
化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を２０乃至４５重量
％含んだものを使用するようにしている。

【０００８】また、前記シャドウマスクの非変形手段の
他の１つは、特公昭６０−１４４５９号に開示されてい
るものであって、シャドウマスクの電子銃対向面に塗布
液を吹き付けて電子反射層を形成する際に、塗布液とし
て、７０を超える原子番号を有する重金属の微粒子、例
えば、平均粒径が１．０μｍ以下の酸化ビスマス（Ｂｉ
₂ Ｏ₃ ）の微粒子を含んだものを使用し、形成される電
子反射層を、約０．２乃至２．０ｍｇ／ｃｍ² の範囲内
の膜質量を有するようにしている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】一般に、酸化ビスマス
（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子は、その平均粒径が０．５乃至
１．０μｍの範囲内のものであって、平均粒径が０．５
μｍ以下の酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を得る
ためには、平均粒径が０．５乃至１．０μｍ程度の酸化
ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を何等かの手段によっ
て微細化する必要があり、また、平均粒径が０．１μｍ
以下の酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を得ること
は、現実に不可能である。

【００１０】また、前記既知のシャドウマスクの非変形
手段は、いずれも、シャドウマスクの電子銃対向面に電
子反射膜を塗布形成する際に、その塗布液として、酸化
ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を含有した懸濁液を用
いている。

【００１１】この場合、かかる塗布液として、通常の平
均粒径である０．５乃至１．０μｍ程度の酸化ビスマス
（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を含有したものを使用し、電子
反射膜として、通常の膜質量である１乃至２ｍｇ／ｃｍ
² の範囲内になるように塗布形成した場合は、図４に図
示されるように、シャドウマスクの電子ビーム通過孔の
領域においては、電子ビーム通過孔のエッジ部（壁面）
に酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子が多く付着する
ようになって、電子反射膜が電子ビーム通過孔の孔側に
張り出した形になり、電子ビーム通過孔の孔径が縮小さ
れたり、孔形状が不規則になったりする他に、シャドウ
マスクの電子ビーム通過孔間の領域においても、酸化ビ
スマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子の分布が粗く不均一にな
り、均一な膜質の電子反射膜が得られなくなる。

【００１２】その結果、シャドウマスクの電子ビーム通
過孔を透過する電子ビームは、電子ビーム通過孔の孔径
が縮小したり、孔形状が不規則になっていることにより
透過エネルギ量が減少し、表示画像の輝度が低下すると
いう問題があり、また、電子ビーム通過孔を透過する電
子ビームは、孔形状が不規則になっていることにより乱
反射を生じ、表示画像に色ずれを生じたり、電子ビーム
通過孔間の領域にある微粒子の分布の粗い不均一な電子
反射膜によりシャドウマスクが部分的に熱変形を起し、
前述のように表示画像の輝度を低下させたり、表示画像
に色ずれを発生たりするという問題がある。そして、こ
れらの問題は、特に、最近、カラー陰極線管の主流にな
りつつある高精細カラー陰極線管において、カラー陰極
線管の品質の低下につながる重大な問題になる。

【００１３】ところで、前記既知の特開平２−１０６２
６号に開示の手段は、電子反射膜の塗布形成に用いられ
る塗布液に、平均粒径が０．１乃至１．０μｍの範囲内
にある酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を含有した
懸濁液を用いるものであるが、通常の平均粒径である
０．５乃至１．０μｍ程度の酸化ビスマス（Ｂｉ
₂ Ｏ₃）の微粒子を含有した懸濁液を用いて電子反射膜
を塗布形成した場合と、それよりも粒径の微細な平均粒
径が０．１乃至０．５μｍの範囲内にある酸化ビスマス
（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を含有した懸濁液を用いて電子
反射膜を形成した場合との間に、得られた電子反射膜に
ついて、その膜形状や膜特性に大きな差異が有ることに
ついては何等言及されていない。

【００１４】即ち、前記既知の特開平２−１０６２６号
に開示の手段においては、平均粒径が０．１乃至１．０
μｍの範囲内にある酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒
子について、特に、平均粒径が０．１乃至０．５μｍの
範囲内にある酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を含
有した懸濁液を用いて電子反射膜を塗布形成し、かつ、
電子反射膜の膜質量を、通常のこの種の膜質量よりも小
さい０．１乃至０．５ｍｇ／ｃｍ² の範囲内に選んだ場
合、良好な膜形状を有し、良好な膜特性を有する電子反
射膜が得られることについては、何等の認識がされてい
ないものである。

【００１５】また、前記既知の特公昭６０−１４４５９
号に開示の手段は、電子反射膜の塗布形成に用いられる
塗布液に、平均粒径が１．０μｍ以下の酸化ビスマス
（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を含有した懸濁液を用いるもの
であって、その他に、シャドウマスクの電子ビーム通過
孔間の領域における電子反射膜の膜質量を略０．２乃至
２．０ｍｇ／ｃｍ² に、電子ビーム通過孔の壁面におけ
る電子反射膜の膜質量を０．２ｍｇ／ｃｍ² 以下に選ん
でいるものであるが、やはり、通常の平均粒径である
０．５乃至１．０μｍ程度の酸化ビスマス（Ｂｉ
₂ Ｏ₃ ）の微粒子を含有した懸濁液を用い、電子反射膜
における通常の膜質量である１．０乃至２．０ｍｇ／ｃ
ｍ² の範囲内の電子反射膜を塗布形成した場合と、通常
の粒径よりも微細な平均粒径が０．１乃至０．５μｍの
範囲内にある酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を含
有した懸濁液を用い、通常の膜質量より小さい０．１乃
至０．５ｍｇ／ｃｍ² の範囲内にある電子反射膜を形成
した場合との間に、得られた電子反射膜について、その
膜形状や膜特性に大きな差異が有ることについては何等
言及されていない。

【００１６】即ち、前記既知の特公昭６０−１４４５９
号に開示の手段においても、平均粒径が０．１乃至１．
０μｍの範囲内にある酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微
粒子について、特に、平均粒径が０．１乃至０．５μｍ
の範囲内にある酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を
含有した懸濁液を用いて電子反射膜を塗布形成し、か
つ、電子反射膜の膜質量を、通常のこの種の膜質量より
も小さい０．１乃至０．５ｍｇ／ｃｍ² の範囲内に選ん
だ場合、良好な膜形状を有し、良好な膜特性を有する電
子反射膜が得られることについては、何等の認識がされ
ていないものである。

【００１７】本発明は、前記問題点を解決するもので、
その目的は、シャドウマスクに電子反射膜を塗布形成す
る場合、電子ビーム通過孔の形状に影響を与えず、微粒
子の分布が密で均一な電子反射膜を塗布形成することが
可能なカラー陰極線管の製造方法を提供することにあ
る。

【００１８】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明によるカラー陰極線管の製造方法は、シャド
ウマスクの電子銃対向面に塗布液をスプレーして電子反
射膜を塗布形成する場合に、塗布液には、酸化ビスマス
（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子における通常の平均粒径よりも
かなり微細な、０．１乃至０．５μｍの範囲内の平均粒
径を有する酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子とバイ
ンダー剤とを含有した懸濁液を用い、電子反射膜の膜質
量を通常のこの種の膜の膜質量よりもかなり小さい、
０．１乃至０．５ｍｇ／ｃｍ² の範囲内の膜質量になる
ように塗布形成するものである。

【００１９】かかる製造方法によりシャドウマスクの電
子銃対向面に塗布形成された電子反射膜は、電子ビーム
通過孔の領域においては、電子ビーム通過孔のエッジ部
（壁面）に酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子が多く
付着することがなくなって、電子反射膜が電子ビーム通
過孔の孔側に張り出すことがなくなり、電子ビーム通過
孔の孔径が縮小されたり、孔形状が不規則になったりす
ることがなくなり、また、シャドウマスクの電子ビーム
通過孔間の領域においては、酸化ビスマス（Ｂｉ
₂ Ｏ₃ ）の微粒子の分布が密で均一になり、均一な膜質
の電子反射膜が得られるようになる。

【００２０】このように、本発明によるカラー陰極線管
の製造方法によれば、電子ビーム通過孔の孔径が縮小し
たり、孔形状が不規則になることがなく、シャドウマス
クの電子ビーム通過孔を透過する電子ビームのエネルギ
の減少が生じないので、表示画像の輝度が低下すること
がなく、また、電子ビーム通過孔の孔形状が不規則にな
らないので、電子ビーム通過孔を透過する電子ビームが
乱反射を起し、表示画像が色ずれを生じたりすることが
なくなる。さらに、電子ビーム通過孔間の領域の電子反
射膜の膜質の均一化により、シャドウマスクが部分的に
熱変形を起すことが少なくなり、シャドウマスクの熱変
形に伴う表示画像の輝度の低下や表示画像の色ずれの発
生をなくすことができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明におけるカラー陰極線管の
製造方法の実施の形態は、シャドウマスクの電子銃対向
面に、シャドウマスクに直接衝突する電子ビームを反射
させる電子反射膜を、塗布液のスプレーによって塗布形
成する場合、この塗布液には、酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ
₃ ）の微粒子における通常の平均粒径（略０．５乃至
１．０μｍ）よりもかなり微細な平均粒径を有する酸化
ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子、具体的には、０．１
乃至０．５μｍの範囲内の平均粒径を有する酸化ビスマ
ス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子を選択し、ここで選択した酸
化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子とバインダー剤とを
含有した懸濁液を用いるものである。そして、かかる塗
布液のスプレーによって電子反射膜を塗布形成する場
合、形成する電子反射膜の膜質量を通常のこの種の膜の
膜質量（略１．０乃至２．０ｍｇ／ｃｍ² ）よりもかな
り小さい膜質量、具体的には、０．１乃至０．５ｍｇ／
ｃｍ² の範囲内の膜質量になるように塗布形成し、電子
反射膜を得ているものである。

【００２２】そして、シャドウマスクの電子銃対向面に
前述のように電子反射膜を塗布形成した場合、この電子
反射膜の電子ビーム通過孔の領域においては、電子ビー
ム通過孔のエッジ部（壁面）に酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ
₃ ）の微粒子が多く付着することがなくなり、電子ビー
ム通過孔の孔側に張り出す電子反射膜部分がなくなるの
で、電子ビーム通過孔の孔径が張り出した電子反射膜部
分により縮小したり、電子ビーム通過孔の孔形状が同じ
く張り出した電子反射膜部分により不規則になったりす
ることがなく、また、この電子反射膜の電子ビーム通過
孔間の領域においては、酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の
微粒子の分布が全体的に密で均一になり、得られる電子
反射膜の膜質がほぼ均一化される。

【００２３】このように、本発明の実施の形態によれ
ば、電子ビーム通過孔の孔径が張り出した電子反射膜部
分によって縮小したり、電子ビーム通過孔の孔形状が同
じく張り出した電子反射膜部分によって不規則になるこ
とがなくなることから、シャドウマスクの電子ビーム通
過孔を透過する電子ビームのエネルギが減少することは
なく、表示画像の輝度の低下をもたらすことがない。ま
た、電子ビーム通過孔の孔形状が張り出した電子反射膜
部分により不規則にならないことから、電子ビーム通過
孔を透過する電子ビームが張り出した電子反射膜部分に
よって乱反射を生じることがなく、表示画像に色ずれを
発生したりすることがない。さらに、電子ビーム通過孔
間の領域における電子反射膜の膜質の均一化によって、
シャドウマスクが部分的に熱変形を起すことは少なくな
り、シャドウマスクの熱変形に伴う表示画像の輝度の低
下や表示画像の色ずれの発生をなくすことができる。

【００２４】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。

【００２５】図１は、本発明によるカラー陰極線管の製
造方法が適用されるカラー陰極線管の構成を示す概略断
面図である。

【００２６】図１において、１はパネル部、２はネック
部、３はファンネル部、４は螢光膜、５はシャドウマス
ク、５ａは電子反射膜、６はマスクフレーム、７は電子
銃、８は偏向ヨーク、９はピュリテイ調整用マグネッ
ト、１０はセンタービームスタティックコンバーゼンス
調整用マグネット、１１はサイドビームスタティックコ
ンバーゼンス調整用マグネット、１２は電子ビームであ
る。

【００２７】そして、カラー陰極線管を構成する管体
（ガラス製）は、管体の前面側を構成するパネル部１
と、管体の後面側に配置され、電子銃７を収納している
細長形状のネック部２と、パネル部１及びネック部２を
連結する略漏斗形状のファンネル部３とからなってい
る。パネル部１は、フロントパネル内面に螢光膜４が被
着形成され、この螢光膜４に対向するように多くの電子
ビーム通過孔（記号なし）を有するシャドウマスク５が
配置される。シャドウマスク５は、スカート部がマスク
フレーム６に嵌合され、マスクフレーム６の一部がパネ
ル部１の内壁に取付け部材（記号なし）によって固定さ
れる。シャドウマスク５における電子銃７側の面（電子
銃対向面）には、シャドウマスク５に衝突する電子ビー
ム１２を反射させる電子反射膜５ａが被着形成される。
パネル部１とファンネル部３の結合部分の内側には磁気
シールド（図示なし）が配置され、ファンネル部３とネ
ック部２の連結部分の外側には偏向ヨーク８が配置装着
される。ネック部２の外側に、ピュリテイ調整用マグネ
ット９、センタービームスタティックコンバーゼンス調
整用マグネット１０、サイドビームスタティックコンバ
ーゼンス調整用マグネット１１が並設配置され、電子銃
７から投射された３本の電子ビーム（１本だけが図示さ
れている）１２は、偏向ヨーク８による偏向によって所
定方向に偏向された後、シャドウマスク５の多くの電子
ビーム通過孔を通して螢光膜４における対応する色の画
素に到達するように構成されている。

【００２８】前記構成によるカラー陰極線管における動
作、即ち、画像表示動作は、既知のカラー陰極線管にお
ける画像表示動作と全く同じであるので、このカラー陰
極線管における画像表示動作については、その動作説明
を省略する。

【００２９】ここで、本発明によるカラー陰極線管の製
造方法の実施例について述べる。

【００３０】始めに、本発明による第１の実施例は、市
販されている平均粒径が１．０μｍ程度の酸化ビスマス
（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子３００ｇと、２８％珪酸ソーダ
系水ガラス（バインダー剤）７１ｇと、純水１６２９ｇ
とを混合し、この混合液に粉砕用ボールを加えた後、そ
れらをボールミルポットに収容して約１日間ボールミル
を行い、平均粒径が０．５μｍの酸化ビスマス（Ｂｉ₂
Ｏ₃ ）の微粒子を含有した懸濁液を形成する。そして、
得られた懸濁液を図１に図示されているシャドウマスク
５の電子銃対向面に、膜質量が０．５ｍｇ／ｃｍ² にな
るようにスプレーによって塗布し、電子反射膜５ａを塗
布形成する。

【００３１】この場合、本実施例のカラー陰極線管の製
造方法においては、シャドウマスク５に電子反射膜５ａ
を塗布形成する手段を除けば、通常の既知のカラー陰極
線管の製造方法と同じであり、かかるカラー陰極線管の
製造方法はよく知られているところであるので、本実施
例のカラー陰極線管の製造方法についての前記手段以外
については、その説明を省略する。

【００３２】次に、本発明による第２の実施例は、市販
されている平均粒径が１．０μｍ程度の酸化ビスマス
（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子３００ｇと、２８％珪酸ソーダ
系水ガラス（バインダー剤）７１ｇと、純水１６２９ｇ
とを混合し、この混合液に粉砕用ボールを加えた後、そ
れらをボールミルポットに収容して約６日間ボールミル
を行い、平均粒径が０．２μｍの酸化ビスマス（Ｂｉ₂
Ｏ₃ ）の微粒子を含有した懸濁液を形成する。そして、
得られた懸濁液を第１の実施例と同様にシャドウマスク
５の電子銃対向面に、膜質量が０．３ｍｇ／ｃｍ² にな
るようにスプレーによって塗布し、電子反射膜５ａを塗
布形成する。

【００３３】この場合も、本実施例のカラー陰極線管の
製造方法においては、シャドウマスク５に電子反射膜５
ａを塗布形成する手段を除けば、通常の既知のカラー陰
極線管の製造方法と同じであり、かかるカラー陰極線管
の製造方法はよく知られているところであるので、本実
施例のカラー陰極線管の製造方法についての前記手段以
外については、その説明を省略する。

【００３４】図２は、第１の実施例及び第２の実施例の
製造方法によって得られたシャドウマスク５上の電子反
射膜５ａの状態の一例を示す断面拡大構成図である。

【００３５】図２に示されるように、第１の実施例及び
第２の実施例の製造方法によって得られた電子反射膜５
ａは、シャドウマスク５の電子ビーム通過孔の領域で
は、電子ビーム通過孔のエッジ部（壁面）に酸化ビスマ
ス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子が多く付着することがなく、
電子反射膜５ａの電子ビーム通過孔の孔側への張り出し
も極めて少なくなっており、また、シャドウマスク５の
電子ビーム通過孔間の領域では、酸化ビスマス（Ｂｉ₂
Ｏ₃ ）の微粒子の分布が均一で、膜厚が均一になってい
る。

【００３６】次いで、図３は、電子反射膜５ａの膜質量
と電子反射膜５ａの電子ビーム通過孔の孔側への張り出
し長さｄとの関係を示す特性図であって、電子反射膜５
ａの形成に使用される酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微
粒子の平均粒径別に、実験によって求めたものである。

【００３７】図３の曲線Ａに示されるように、電子反射
膜５ａを塗布形成する際に、懸濁液に平均粒径が１．０
μｍの酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子（既知の製
造方法）を使用し、１．０ｍｇ／ｃｍ² の膜質量に構成
すると、電子反射膜５ａの電子ビーム通過孔の孔側への
張り出し長さｄは約１０μｍにもなり、このような電子
反射膜５ａを形成した場合は、当然のことながら表示画
像の輝度の低下や色にじみを生じるようになる。また、
平均粒径が１．０μｍの酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃ ）の
微粒子を使用しているとき、膜質量を１．０ｍｇ／ｃｍ
² より低下させれば、それに準じて張り出し長さｄは若
干少なくなるが、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃ ）の微粒子
の平均粒径が大きいことから、シャドウマスク５の電子
ビーム通過孔間の領域における微粒子の分布が粗く不均
一になり、充分なドーミング抑制機能を達成することが
できない。

【００３８】これに対し、図３の曲線Ｂ及びＣに示され
るように、懸濁液に平均粒径が０．５μｍの酸化ビスマ
ス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子（第１の実施例の製造方法）
を使用するか、平均粒径が０．２μｍの酸化ビスマス
（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子（第２の実施例の製造方法）を
使用し、かつ、膜質量を０．１乃至０．５ｍｇ／ｃｍ²
の範囲内（第１及び第２の実施例）になるように構成す
ると、電子反射膜５ａの電子ビーム通過孔の孔側への張
り出し長さｄは、いずれも５μｍ以下になる。そして、
前記張り出し長さｄが５μｍ以下である場合は、その電
子反射膜５ａの張り出し長さｄの部分が当該電子ビーム
通過孔を透過する電子ビームに殆んど影響を与えること
がなく、一方、前記張り出し長さｄが５μｍを超える
と、その電子反射膜５ａの張り出し長さｄの部分が当該
電子ビーム通過孔を透過する電子ビームに何等かの影響
を及ぼすことをそれぞれ実験によって確かめている。ま
た、酸化ビスマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子の平均粒径が
０．５μｍ及び０．２μｍというように、これまでの微
粒子の平均粒径（１．０μｍ程度）に比べて相当に小さ
くなったことから、膜質量が小さくなったにも係わら
ず、シャドウマスク５の電子ビーム通過孔間の領域にお
ける微粒子の分布が密で均一になる。

【００３９】このように、第１及び第２の実施例の製造
方法によれば、電子反射膜５ａの電子ビーム通過孔の孔
側への張り出し長さｄが５μｍ以下であることから、電
子ビーム通過孔の孔径が縮小されたり、孔形状が不規則
になったりすることがなく、表示画像の輝度が低下する
ことがなく、表示画像に色にじみが生じることもなく、
高画質の表示画像を現出できるカラー陰極線管を得るこ
とができる。

【００４０】また、第１及び第２の実施例の製造方法に
よれば、シャドウマスク５の電子ビーム通過孔間の領域
における電子反射膜５ａは、微粒子の分布が密で均一に
なっていることから、充分なドーミング抑制機能を達成
することができる。

【００４１】

【発明の効果】以上のように、本発明のカラー陰極線管
の製造方法によれば、電子ビーム通過孔の孔径が張り出
した電子反射膜部分により縮小したり、電子ビーム通過
孔の孔形状が同じく張り出した電子反射膜部分により不
規則になることがないので、シャドウマスクの電子ビー
ム通過孔を透過する電子ビームのエネルギが減少するこ
とはなく、表示画像の輝度の低下をもたらさないという
効果がある。

【００４２】また、本発明のカラー陰極線管の製造方法
によれば、電子ビーム通過孔の孔形状が張り出した電子
反射膜部分により不規則になることがないので、電子ビ
ーム通過孔を透過する電子ビームが張り出した電子反射
膜部分により乱反射を生じることがなく、表示画像に色
ずれを生じたりすることがないという効果がある。

【００４３】さらに、本発明のカラー陰極線管の製造方
法によれば、電子ビーム通過孔間の領域における電子反
射膜の膜質が均一になることにより、シャドウマスクが
部分的に熱変形を起すことは少なくなり、シャドウマス
クの熱変形に伴う表示画像の輝度の低下や表示画像の色
ずれの発生をなくすことができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるカラー陰極線管の製造方法が適用
されるカラー陰極線管の構成を示す概略断面図である。

【図２】第１の実施例及び第２の実施例の製造方法によ
って得られたシャドウマスク上の電子反射膜の状態の一
例を示す断面拡大構成図である。

【図３】電子反射膜の膜質量と電子反射膜の電子ビーム
通過孔の孔側への張り出し長さとの関係を示す特性図で
ある。

【図４】既知のの製造方法によって得られたシャドウマ
スク上の電子反射膜の状態の一例を示す断面拡大構成図
である。

【符号の説明】

１ パネル部 ２ ネック部 ３ ファンネル部 ４ 螢光膜 ５ シャドウマスク ５ａ 電子反射膜 ６ マスクフレーム ７ 電子銃 ８ 偏向ヨーク ９ ピュリテイ調整用マグネット １０ センタービームスタティックコンバーゼンス調整
用マグネット １１ サイドビームスタティックコンバーゼンス調整用
マグネット １２ 電子ビーム

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 シャドウマスクの電子銃対向面に塗布液
   をスプレーして電子反射膜を塗布形成する工程を具備す
   るカラー陰極線管の製造方法において、前記塗布液とし
   て、平均粒径が０．１乃至０．５μｍの範囲内の酸化ビ
   スマス（Ｂｉ₂ Ｏ₃ ）の微粒子とバインダー剤とを含有
   した懸濁液を用い、前記電子反射膜の膜質量が０．１乃
   至０．５ｍｇ／ｃｍ² の範囲内になるように塗布形成す
   ることを特徴とするカラー陰極線管の製造方法。