JPH09242930A - 真空仕切弁およびこれを用いた成膜装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 弁座やその周辺が成膜粒子によって汚染され
るのを防ぐ。 【解決手段】 弁座１３と成膜粒子捕獲板２０を支持す
る支持板１４は、第１、第２の開口１１，１２を有する
ハウジング１の開口部と残りの中空部の間をシリンダー
４ｂの駆動によって往復移動する。支持板１４がハウジ
ング１の開口部へ移動したとき、弁座１３はロードロッ
ク室側の第１の開口１１を閉塞し、成膜粒子捕獲板２０
が成膜室側の第２の開口１２を閉塞して、ここに飛来す
る成膜粒子を捕獲する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、スパッタ法等によ
って基板等のワークに薄膜を成膜する成膜室とこれに隣
接するロードロック室やアンロードロック室等の間を気
密に仕切るための真空仕切弁およびこれを用いた成膜装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】スパッタ法等によって基板等のワークに
薄膜を成膜する成膜装置は、所定の真空度に制御される
成膜室と、その真空度を損うことなくワークを搬出入す
るためのロードロック室やアンロードロック室等を有
し、これらと成膜室間には両者の雰囲気を気密に仕切る
ための真空仕切弁（ゲートバルブ）が配設される。

【０００３】図４は従来例による真空仕切弁を示す模式
断面図であって、これは、方形断面を有する中空枠型の
ハウジング１０１と、該ハウジング１０１の内部に固定
された一対の案内レール１０２と、これに沿って往復移
動自在である弁座ユニット１０３と、案内レール１０２
に沿って弁座ユニット１０３を往復移動させる駆動装置
１０４を有する。ハウジング１０１は、互に対向する一
対の面板１０１ａを有し、これらに、第１、第２の開口
１１１，１１２が形成されており、第１の開口１１１は
ロードロック室、第２の開口１１２は成膜室に向かって
それぞれ開口しており、弁座ユニット１０３は、ロード
ロック室に向かって開口する第１の開口１１１を開閉す
る。

【０００４】すなわち、弁座ユニット１０３は、第１、
第２の開口１１１，１１２を有するハウジング１０１の
開口部と、両面板１０１ａの残り部分の間に形成される
中空部との間を案内レール１０２に沿って往復移動し、
ハウジング１０１の中空部から開口部に移動したときに
第１の開口１１１を閉じるように構成されている。

【０００５】弁座ユニット１０３の弁座１１３は支持板
１１４上に載置され、弁座１１３の図示上面には、ハウ
ジング１０１の第１の開口１１１の周縁に密着自在であ
るＯ−リング１１５が保持されている。弁座１１３はク
ランク機構１１６とバネ１１７を介して支持板１１４に
連結され、弁座１１３の先端には、当接部材１１８が保
持されている。

【０００６】当接部材１１８は、駆動装置１０４の駆動
によって弁座ユニット１０３がハウジング１０１の開口
部へ移動しその先端に到達したときにハウジング１０１
の内壁に当接される。この状態でひき続き駆動装置１０
４が駆動されると、弁座ユニット１０３の支持板１１４
のみがさらに前進し、これによってクランク機構１１６
が図示時計方向に回動し、バネ１１７に抗して弁座１１
３を支持板１１４から浮上させて、Ｏ−リング１１５を
第１の開口１１１の周縁に密着させる。このようにして
ロードロック室を成膜室の雰囲気から完全に遮断したう
えうでロードロック室を大気開放し、基板等のワークを
ロードロック室に搬入する。

【０００７】ワークを搬入したのちにロードロック室が
成膜室と同じ真空度に排気されると、駆動装置１０４が
逆駆動される。この工程で、まず、弁座ユニット１０３
の支持板１１４のみが後退し、当接部材１１８がハウジ
ング１０１の内壁から離れると、バネ１１７の付勢力に
よって弁座１１３が支持板１１４上に降下し、続いて弁
座ユニット１０３全体が２点鎖線で示すようにハウジン
グ１０１の中空部へ後退する。このようにしてハウジン
グ１０１の開口部が開放され、ロードロック室のワーク
が成膜室に搬入される。ワークの搬入後、再び駆動装置
１０４が駆動されて前述と同様に弁座ユニット１０３が
ハウジング１０１の中空部から開口部へ移動し、実線で
示すように第１の開口１１１が閉塞される。この状態で
成膜室内の成膜工程が開始される。

【０００８】なお、クランク機構１１６は、弁座ユニッ
ト１０３の両側縁にそれぞれ一対ずつ配設された合計４
個の平行リンク１１６ａによって構成されている。ま
た、駆動装置１０４は、ハウジング１０１の側壁の貫通
孔からハウジング１０１の外部へのびる駆動棒１０４ａ
と、これに結合されたシリンダー１０４ｂを有し、駆動
棒１０４ａは弁座ユニット１０３の支持体１１４と一体
である。ハウジング１０１の貫通孔は、駆動棒１０４ａ
との間に配設されたベローズ１０４ｃによって密閉され
ている。弁座ユニット１０３の支持板１１４の両側縁に
はローラー１１４ａがそれぞれ一対ずつ合計４個配設さ
れ、弁座ユニット１０３が駆動装置１０４の駆動によっ
てハウジング１０１内を往復移動するときには、前記ロ
ーラー１１４ａが案内レール１０２上を転動する。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、真空仕切弁のハウジン
グの第１の開口のみが弁座ユニットの弁座によって開閉
され、第２の開口は常時成膜室に開放されているため、
成膜工程中に成膜粒子の一部分が真空仕切弁の内部に侵
入し、案内レールや支持板の表面および弁座の裏側、さ
らにはクランク機構のリンクや当接部材、ローラー等に
付着する。このような付着粒子は、クランク機構等の円
滑な作動を妨げるうえに、弁座ユニットの往復移動中あ
るいはクランク機構の作動時の衝撃等によって剥離して
成膜室内にゴミとなって落下し、成膜される薄膜の膜質
を著しく低下させる。また、成膜粒子が駆動装置のベロ
ーズの内面に付着するとベローズの割れを誘発し、真空
リーク等のトラブルを招く。

【００１０】そこで、上記と逆に、真空仕切弁の弁座を
密着させる側の開口（第１の開口）を成膜室に面して配
設し、ロードロック室に面した開口（第２の開口）を常
時開放するように構成した真空仕切弁も開発されている
が、この場合は、成膜中に成膜粒子が弁座の表面に堆積
し、そのまま大量のゴミとなって成膜室に落下して著し
く膜質を低下させる。加えて、弁座のＯ−リングに成膜
粒子が付着すると真空シールが不充分となり、真空仕切
弁の機能が損われるおそれがある。

【００１１】また、このような成膜粒子による真空仕切
弁の汚染を回避するために、成膜室の蒸発源から遠く離
れた位置に真空仕切弁を配設することも提案されている
が、成膜装置全体の大型化を招くために好ましくない。

【００１２】本発明は、上記従来の技術の有する未解決
の課題に鑑みてなされたものであり、真空仕切弁の開口
部に飛来する成膜粒子によって弁座やその周辺が汚染さ
れて弁座の円滑な開閉動作が妨げられたり、弁座等に付
着した成膜粒子が剥がれ落ちて成膜室内のゴミとなる等
のトラブルを回避できる真空仕切弁およびこれを用いた
成膜装置を提供することを目的とするものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の真空仕切弁は、互に逆向きである第１およ
び第２の開口を有する開口部を備えたハウジングと、該
ハウジングの前記開口部に移動して前記第１の開口を閉
塞自在である弁座と、前記弁座を移動させる駆動手段
と、前記弁座とともに前記ハウジングの前記開口部に移
動して前記第２の開口を閉塞自在である粒子捕獲手段を
有することを特徴とする。

【００１４】弁座を第１の開口の周縁に密着させるため
の弁座リフト手段が設けられているとよい。

【００１５】粒子捕獲手段が、その表面を所定の温度に
加熱するための加熱手段を有するとよい。

【００１６】加熱手段が、弁座と粒子捕獲手段がハウジ
ングの開口部に移動したときにのみ前記ハウジングの電
力供給手段に接続されるように構成されているとよい。

【００１７】また、粒子捕獲手段が、ハウジングの第２
の開口より寸法の小さい複数の板状部材によって構成さ
れた板状体であるとよい。

【００１８】

【作用】真空仕切弁の第１の開口が成膜装置のロードロ
ック室等に面して配設され、第２の開口が成膜装置の成
膜室等に面して配設される。真空仕切弁を閉じるときは
弁座と粒子捕獲手段をハウジングの開口部へ移動させ
る。このとき、弁座は第１の開口の周縁に密着され、粒
子捕獲手段は第２の開口に近接してこれを閉塞する。

【００１９】成膜中に成膜室の成膜粒子が真空仕切弁の
開口部に飛来しても、ほとんどすべてが粒子捕獲手段に
よって捕獲されるため、真空仕切弁の内部へ侵入して弁
座や弁座リフト手段等に付着し、弁座の円滑な開閉動作
等を妨げるおそれはない。従って、真空仕切弁の長期安
定動作を実現できる。

【００２０】粒子捕獲手段が、その表面を所定の温度に
加熱するための加熱手段を有すれば、粒子捕獲手段に捕
獲された成膜粒子の膜を加熱し、マイグレーション効果
によって膜の密着力を高めることでその剥離を防ぐこと
ができる。すなわち、粒子捕獲手段に捕獲された成膜粒
子の膜が剥がれ落ちて成膜室内のゴミとなり、製品の膜
質を劣化させる等のトラブルを回避できる。

【００２１】また、加熱手段が、前記弁座と前記粒子捕
獲手段が前記ハウジングの前記開口部に移動したときに
のみ前記ハウジングの電力供給手段に接続されるように
構成されていれば、加熱手段と電力供給手段を接続する
ための複雑な配線等を必要とせず、また、弁座や弁座リ
フト手段等が不必要に加熱されるのを防ぐこともでき
る。

【００２２】粒子捕獲手段が、ハウジングの第２の開口
より寸法の小さい複数の板状部材によって構成された板
状体であれば、粒子捕獲手段に付着した成膜粒子を除去
するときや粒子捕獲手段を交換する場合に粒子捕獲手段
を寸法の小さい板状部材に分割して第２の開口から取り
出すことができるため、メンテナンスが簡単である。

【００２３】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。

【００２４】図１は一実施例による真空仕切弁を示す断
面図であって、これは、方形断面を有する中空枠型のハ
ウジング１と、該ハウジング１の内部に固定された一対
の案内レール２と、これに沿って往復移動自在である弁
座ユニット３と、案内レール２に沿って弁座ユニット３
を往復移動させる駆動手段である駆動装置４を有する。
ハウジング１は、互に対向する一対の面板１ａを有し、
これらに、第１、第２の開口１１，１２が形成されてお
り、第１の開口１１はロードロック室、第２の開口１２
は成膜室に向かってそれぞれ開口し、弁座ユニット３
は、搬送室であるロードロック室に向かって開口する第
１の開口１１を開閉する。

【００２５】すなわち、弁座ユニット３は、第１、第２
の開口１１，１２を有するハウジング１の開口部と、両
面板１ａの残り部分の間に形成される中空部との間を案
内レール２に沿って往復移動し、ハウジング１の中空部
から開口部に移動したときに第１の開口１１を閉じるよ
うに構成されている。

【００２６】弁座ユニット３の弁座１３は支持板１４上
に載置され、弁座１３の図示上面には、ハウジング１の
第１の開口１１の周縁に密着自在であるＯ−リング１５
が保持されている。弁座１３は弁座リフト手段であるク
ランク機構１６とバネ１７を介して支持板１４に連結さ
れ、弁座１３の先端には、当接部材１８が保持されてい
る。

【００２７】当接部材１８は、駆動装置４の駆動によっ
て弁座ユニット３がハウジング１の開口部へ移動しその
先端に到達したときにハウジング１の内壁に当接され
る。この状態でひき続き駆動装置４が駆動されると、弁
座ユニット３の支持板１４のみがさらに前進し、これに
よってクランク機構１６が図示時計方向に回動し、バネ
１７に抗して弁座１３を支持板１４から浮上させて、Ｏ
−リング１５を第１の開口１１の周縁に密着させる。こ
のようにしてロードロック室を成膜室の雰囲気から完全
に遮断したうえうでロードロック室を大気開放し、基板
等のワークをロードロック室に搬入する。

【００２８】ワークを搬入したのちにロードロック室が
成膜室と同じ真空度に排気されると、駆動装置４が逆駆
動される。この工程で、まず、弁座ユニット３の支持板
１４のみが後退し、当接部材１８がハウジング１の内壁
から離れると、バネ１７の付勢力によって弁座１３が支
持板１４上に降下し、続いて弁座ユニット３全体が２点
鎖線で示すようにハウジング１の中空部へ後退する。こ
のようにしてハウジング１の開口部が開放され、ロード
ロック室のワークが成膜室に搬入される。ワークの搬入
後、再び駆動装置４が駆動されて前述と同様に弁座ユニ
ット３がハウジング１の中空部から開口部へ移動し、実
線で示すように第１の開口１１が閉塞される。この状態
で成膜室内の成膜工程が開始される。

【００２９】なお、クランク機構１６は、弁座ユニット
３の両側縁にそれぞれ一対ずつ配設された合計４個の平
行リンク１６ａによって構成されている。また、駆動装
置４は、ハウジング１の側壁の貫通孔からハウジング１
の外部へのびる駆動棒４ａと、これに結合されたシリン
ダー４ｂを有し、駆動棒４ａは弁座ユニット３の支持板
１４と一体である。ハウジング１の貫通孔は、駆動棒４
ａとの間に配設されたベローズ４ｃによって密閉されて
いる。弁座ユニット３の支持板１４の両側縁にはローラ
ー１４ａがそれぞれ一対ずつ合計４個配設され、弁座ユ
ニット３が駆動装置４の駆動によってハウジング１内を
往復移動するときには、前記ローラー１４ａが案内レー
ル２上を転動する。

【００３０】成膜室における成膜工程中に、真空仕切弁
の第２の開口１２が成膜室に開放されたままであると、
成膜粒子の一部分がハウジング１の内部に侵入し、案内
レール２に堆積して弁座ユニット３の移動を妨げたり、
クランク機構１６の動作を不安定にする等のトラブルを
発生する。そこで、弁座ユニット３の支持板１４の裏面
側に支持部材１９を介して粒子捕獲手段である成膜粒子
捕獲板２０を取り付けて、弁座ユニット３がハウジング
１の先端に到達したときに成膜粒子捕獲板２０がハウジ
ング１の第２の開口１２に近接してこれを実質的に閉塞
し、ハウジング１内に侵入しようとする成膜粒子を成膜
粒子捕獲板２０の表面に捕獲するように構成する。

【００３１】成膜粒子捕獲板２０は、図２に示すよう
に、それぞれハウジング１の第２の開口１２の全幅に沿
ってのびる複数の短冊状の板状部材からなり、これらは
互に分離自在に連結されてハウジング１の第２の開口１
２の開口面積全体を覆う一枚の板状体を形成し、必要に
応じて、各板状部材に分離して個別に成膜室側に取り出
せるように構成される。

【００３２】成膜粒子捕獲板２０には、その表面を所定
の温度に加熱するための加熱手段であるシースヒーター
２１が組み込まれており、成膜中にハウジング１の開口
部に飛来して成膜粒子捕獲板２０によって捕獲された成
膜粒子の膜を加熱する。このように、成膜粒子捕獲板２
０上に形成される膜に熱エネルギーを与え、マイグレー
ション効果によって膜密度を高めることで、成膜粒子捕
獲板２０上の成膜粒子の剥離を防ぎ、これらがゴミとな
って成膜室に落下するのを回避する。

【００３３】成膜粒子捕獲板２０は、その温度を測定す
るための熱電対２２を有し、シースヒーター２１および
熱電対２２と外部電源の間の電気的接続は、支持部材１
９に保持された複数の接触ピン２３を、それぞれハウジ
ング１の先端に固定された電力供給手段であるソケット
２４に差し込むことによって行なわれる。各ソケット２
４は、ハウジング１の側壁を貫通して外部電源に接続さ
れた接点２４ａと、これを包囲する絶縁材２４ｂを有
し、絶縁材２４ｂは真空シールを介してハウジング１の
側壁に固着されている。

【００３４】駆動装置４のシリンダー４ｂの駆動によっ
て弁座ユニット３がハウジング１の開口部に到達したと
きには、各接触ピン２３がソケット２４に挿入され、そ
の接点２４ａに接触してシースヒーター２１および熱電
対２２が外部電源に接続され、その結果、成膜粒子捕獲
板２０が加熱され、所定の温度に制御される。また、シ
リンダー４ｂの逆駆動によって弁座ユニット３がハウジ
ング１の中空部へ後退するときは、これに伴って自動的
に各接触ピン２３がソケット２４から引き抜かれて、シ
ースヒーター２１の加熱が停止される。このように、弁
座ユニット３がハウジング１の開口部に位置したときの
み成膜粒子捕獲板２０の加熱を行なうように構成されて
いるため、ハウジング１内にシースヒーター２１や熱電
対２２のための接続配線等を必要とせず、ハウジング１
内の構造が複雑化するのを回避できる。加えて、弁座ユ
ニット３がハウジング１の開口部に位置しているとき以
外は成膜粒子捕獲板２０の加熱が自動的に停止されるた
め、弁座１３やクランク機構１６等が不必要に加熱され
るのを防ぐこともできる。

【００３５】なお、シースヒーター２１の替わりに、ハ
ロゲンランプ等、真空中で使用できる他の加熱手段を用
いてもよい。必要であれば、弁座１３やＯ−リング１５
が不必要に加熱されるのを防ぐための断熱材等を付加す
ることもできる。

【００３６】また、弁座１３を支持板１４から浮上させ
る平行移動型のクランク機構１６に替えて、他の公知の
弁座リフト機構を用いることも自在である。

【００３７】図３は本実施例による真空仕切弁を用いた
成膜装置である連続スパッタ装置を示すもので、成膜室
３１とロードロック室４１の間にハウジング１が配設さ
れ、前述のように、ハウジング１の第１の開口１１はロ
ードロック室４１に向かって開口し、第２の開口１２は
成膜室３１に向かって開口し、ロードロック室４１は基
板であるワークＷを搬出するためのアンロードロック室
を兼ねている。

【００３８】成膜室３１は、これを所定の真空度に排気
するための排気系３２と、成膜室３１内にスパッタリン
グガスを供給するスパッタリングガス供給系３３を有
し、成膜室３１の内部には、ワークＷを保持するワーク
ホルダ３４と、これに対向するターゲット３５と、マグ
ネトロンカソード３６が配設され、マグネトロンカソー
ド３６は整合器３７を介して高周波電源３８に接続され
ている。

【００３９】ロードロック室４１は、これを排気する排
気系４２と、ワークＷを保持して成膜室３１に搬出入す
る搬送系４３を有する。

【００４０】連続スパッタ装置の成膜室３１は、通常、
ターゲット３５の交換等のメンテナンス以外は大気に開
放されることなく真空排気されている。ロードロック室
４１を大気開放したのち、未処理のワークＷを投入し、
続いて排気系４２によってロードロック室４１内を真空
排気する。ロードロック室４１内が充分排気されたら、
駆動装置４のシリンダー４ｂの後退側（逆駆動側）に圧
縮空気を供給して弁座ユニット３を後退させてハウジン
グ１の開口部を開口させる。ロードロック室４１の搬送
系４３を駆動し、未処理のワークＷをハウジング１の開
口部を通して成膜室３１へ搬送する。成膜室３１のワー
クホルダ３４によってワークＷを保持させたうえで、搬
送系４３をロードロック室４１に後退させる。

【００４１】次に、シリンダー４ｂの前進側（駆動側）
に圧縮空気を供給して弁座ユニット３をハウジング１の
開口部に前進させる。各ソケット２４の接点４１ａと接
触ピン２３が接触すると外部電源２５からシースヒータ
ー２１と熱電対２２に電力が供給され、成膜粒子捕獲板
２０が設定温度まで加熱される。

【００４２】成膜室３１にワークＷが搬送されたのち、
スパッタリングガス供給系３３よりスパッタリングガス
（一般にＡｒ）と反応ガス（酸素、窒素等）が供給され
る。また、ターゲット３５には高周波電源３８より整合
器３７、マグネトロンカソード３６を介して高周波電力
が供給されてプラズマが発生し、成膜が開始される。

【００４３】プラズマ中で発生したアルゴンイオンや反
応ガスのイオンはターゲット３５に向かって加速され、
ターゲット表面で衝突してターゲット材をはじき出す。
このようにして、成膜粒子が発生する。

【００４４】成膜粒子はスパッタリングガス分子と衝突
しながらワークＷに付着する。スパッタリングガスの捕
獲効率は、成膜条件やターゲット３５、ワークＷの配置
によって異なるが、一般的には３０〜６０％程度で、残
りの成膜粒子はターゲット３５の近傍に配置されている
図示しないシールド板や成膜室３１の内壁および真空仕
切弁に付着する。ターゲット３５の上部近傍に近接する
真空仕切弁の開口部に飛来した成膜粒子は、ターゲット
３５やワークＷに付着する成膜粒子に比べて飛行距離が
長いために、ガス分子との衝突回数が多くて散乱粒子の
状態であり、従って、その運動エネルギーは、はじき出
された時のエネルギーに比べて小さい。このようにエネ
ルギーが小さくて密着力が低い成膜粒子が真空仕切弁の
開口部に飛来してきたものを、成膜粒子捕獲板２０によ
って捕獲し、ハウジング１内への侵入を防止する。さら
に、成膜粒子捕獲板２０に付着した成膜粒子の膜にシー
スヒーター２１から熱エネルギーを与え、マイグレーシ
ョン効果で膜の密着力を高めて膜剥離によるゴミの発生
を防止する。

【００４５】ワークＷに設定された膜厚まで成膜された
ら、成膜は完了しマグネトロンカソード３６に供給され
ていた高周波電力やスパッタリングガスは停止される。

【００４６】続いて、前述と同様にシリンダー４ｂの後
退側に圧縮空気を供給して弁座ユニット３を後退させて
ハウジング１の開口部を開口させ、搬送系４３を駆動し
て処理ずみのワークＷをロードロック室４１へ搬送し未
処理のワークと入れ替える。以上の操作を繰り返すこと
によって、成膜室３１を大気開放することなく連続成膜
を行なう。

【００４７】なお、成膜粒子捕獲板２０には連続成膜に
よる成膜が何回も繰り返される間に厚い膜が堆積して交
換が必要になる。そこで成膜粒子捕獲板２０を各板状部
材２０ａに分離して成膜室３１の側から取り出して新た
な板状部材と交換する。

【００４８】このように本実施例による成膜粒子捕獲板
は、成膜室の成膜粒子が真空仕切弁のハウジング内へ侵
入するのを効果的に防ぐことによって真空仕切弁の長期
安定動作を実現するとともに、成膜粒子捕獲板によって
捕獲された成膜粒子がゴミとなって成膜室内に落下する
のを回避し、成膜装置の製品の品質と生産性を大きく向
上できる。また、成膜粒子捕獲板が、前述のように、複
数の短冊状の板状部材を互に分離自在に連結した板状体
であるため、成膜粒子による汚染が進んだときに新たな
成膜粒子捕獲板と交換するメンテナンスが極めて容易で
ある。

【００４９】加えて、真空仕切弁の内部に成膜粒子捕獲
板を加熱するシースヒーター等の接続配線を設ける必要
がないから、真空仕切弁の内部機構が複雑化したり、ハ
ウジングが大型化するおそれもない。

【００５０】

【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。

【００５１】真空仕切弁の開口部に飛来する成膜粒子を
捕獲する成膜粒子捕獲板を設けることで、このような成
膜粒子が真空仕切弁の内部に侵入し、弁座やその周辺を
汚染するのを防ぐことができる。これによって、真空仕
切弁の長期安定動作を実現できる。

【００５２】また、成膜粒子捕獲板の表面を加熱するこ
とで、これに捕獲された成膜粒子の膜の密着力を高め
て、膜剥がれによる成膜室の汚染を回避することができ
る。これによって成膜室内のゴミによる製品の膜質低下
を防ぐことができる。

【００５３】このような真空仕切弁を用いることで、ラ
ンニングコストが低くしかも高性能な成膜装置を実現で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】一実施例による真空仕切弁を示す断面図であ
る。

【図２】図１の装置を幅方向の中央で２分し、その片方
のみを別の断面で示す部分断面図である。

【図３】成膜装置全体を説明する図である。

【図４】従来例による真空仕切弁を示す断面図である。

【符号の説明】

１ ハウジング ２ 案内レール ３ 弁座ユニット ４ 駆動装置 ４ｂ シリンダー １１ 第１の開口 １２ 第２の開口 １３ 弁座 １４ 支持板 １５ Ｏ−リング １６ クランク機構 １７ バネ １８ 当接部材 ２０ 成膜粒子捕獲板 ２１ シースヒーター ２２ 熱電対 ３１ 成膜室 ３４ ワークホルダ ３５ ターゲット ４１ ロードロック室 ４３ 搬送系

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｆ１６Ｋ 51/00 Ｆ１６Ｋ 51/00 Ａ

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 互に逆向きである第１および第２の開口
   を有する開口部を備えたハウジングと、該ハウジングの
   前記開口部に移動して前記第１の開口を閉塞自在である
   弁座と、前記弁座を移動させる駆動手段と、前記弁座と
   ともに前記ハウジングの前記開口部に移動して前記第２
   の開口を閉塞自在である粒子捕獲手段を有する真空仕切
   弁。
2. 【請求項２】 弁座を第１の開口の周縁に密着させるた
   めの弁座リフト手段が設けられていることを特徴とする
   請求項１記載の真空仕切弁。
3. 【請求項３】 粒子捕獲手段が、その表面を所定の温度
   に加熱するための加熱手段を有することを特徴とする請
   求項１または２記載の真空仕切弁。
4. 【請求項４】 加熱手段が、弁座と粒子捕獲手段がハウ
   ジングの開口部に移動したときにのみ前記ハウジングの
   電力供給手段に接続されるように構成されていることを
   特徴とする請求項３記載の真空仕切弁。
5. 【請求項５】 加熱手段がシースヒーターであることを
   特徴とする請求項３または４記載の真空仕切弁。
6. 【請求項６】 粒子捕獲手段が、ハウジングの第２の開
   口より寸法の小さい複数の板状部材によって構成された
   板状体であることを特徴とする請求項１ないし５いずれ
   か１項記載の真空仕切弁。
7. 【請求項７】 請求項１ないし６いずれか１項記載の真
   空仕切弁と、該真空仕切弁の第１の開口に面して配設さ
   れた搬送室と、前記真空仕切弁の第２の開口に面して配
   設された成膜室を有する成膜装置。
8. 【請求項８】 搬送室が、成膜室にワークを搬入するロ
   ードロック室と前記ワークを前記成膜室から搬出するア
   ンロードロック室を兼ねていることを特徴とする請求項
   ７記載の成膜装置。
9. 【請求項９】 搬送室が、成膜室にワークを搬入するロ
   ードロック室または前記成膜室から前記ワークを搬出す
   るアンロードロック室であることを特徴とする請求項７
   記載の成膜装置。