JPH09230311A - 表示装置 - Google Patents

表示装置

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JPH09230311A
JPH09230311A JP31714096A JP31714096A JPH09230311A JP H09230311 A JPH09230311 A JP H09230311A JP 31714096 A JP31714096 A JP 31714096A JP 31714096 A JP31714096 A JP 31714096A JP H09230311 A JPH09230311 A JP H09230311A
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JP
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electrode
line
pixel
display device
substrate
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JP31714096A
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English (en)
Inventor
Yoshiharu Hirakata
吉晴 平形
Shunpei Yamazaki
舜平 山崎
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】基板面内で電界を印加する表示装置おいて、画
素電極が他の信号線と干渉することを防止する。 【解決手段】 アクティブマトリクス型の画素の構成に
おいて、同一平面内に所定の電位に保持されたコモン線
104にから延在したコモン電極105と、それと対と
なる薄膜トランジスタ100のドレインに接続された画
素電極103とを互いに噛み合うような渦巻き状に配置
する。そして、両電極間103と105に形成される基
板に概略平行な電界によって液晶を応答させ表示を行わ
せる。更に、コモン電極105によって画素電極103
をとり囲むことにより、画素電極103と、ゲイト線1
01及びソース線102とが相互干渉することを防止す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本明細書で開示する発明は、
アクティブマトリクス型の表示装置に関するものであ
る。特に、表示装置の素子基板の配線・電極構造に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来より一対の基板間に液晶を挟んで保
持し、この液晶にそれぞれの基板の表面に配置された一
対の電極から電界を印加し、液晶の光学特性を変化させ
ることによって、表示を行う構成が知られている。
【0003】この従来より用いられている構成は、電界
を基板に対して垂直に加えることにより、液晶分子を基
板と平行な方向に配したり、基板に垂直な方向に配した
りすることを基本的な動作とする。このような動作を行
わせることにより、液晶の電気光学的な特性を変化させ
て、表示を行っている。
【0004】しかし、液晶分子を基板に垂直な方向に配
するということは、表示に際して、液晶の光学異方性の
影響が大きく表れてしまうことになる。
【0005】例えば、基板に垂直な方向から表示を見た
場合と、垂直方向から少しずれた方向から表示を見た場
合を考える。この場合、後者の視点からの表示は、液晶
分子の長軸に対して少し傾いた視点からのものとなる。
このことは、前者の視点からのものと比較して光学特性
が大きく変化してしまうことを意味する。
【0006】この現象の具体的な例としては、ディスプ
レイを少し斜めから見ると表示が不鮮明になったり、暗
くなったりする場合の例を挙げることができる。
【0007】一般にこの問題は視野角の問題として知ら
れている。即ち、液晶ディスプレイの視野角がブラウン
管やエレクトロルミネセンス型(EL型)の表示装置に
比較して狭いという問題として知られている。
【0008】このような問題を解決する構成として、特
公昭63−21907号公報に記載された構成が知られ
ている。
【0009】この構成においては、液晶分子が基板に平
行な方向において回転することにより、その光学特性を
変化させる。従って、液晶分子が基板に対して垂直にな
ることがなく、前述の視野角の問題を解決することがで
きる。
【0010】図21にこのような基板に平行な方向に液
晶分子が回転するような動作を実現するための画素の従
来例の構成を示す。
【0011】図21に示す構成において、ゲイト線1
1、ソース線12は格子状に配置されている。ゲイト線
11は薄膜トランジスタ13のゲイト電極に信号を与え
るための信号線であり、またソース線12は薄膜トラン
ジスタ13のソースに画像データの信号を供給するため
の信号線である。
【0012】薄膜トランジスタ13のドレインに接続さ
れた画素電極14は、櫛型の形状を有し、他方の櫛型の
電極15と噛み合うように配置されている。
【0013】他方の櫛形電極15は所定の電位に保たれ
た配線16から延在している。
【0014】このような構成とすると、櫛型に形成され
た一対の電極14と15間において、基板の表面に平行
な方向に電界が形成され、それによって液晶分子が基板
に平行な方向に回転するような動作を行わすことができ
る。
【0015】しかし、図21に示す構成においては、1
7で示される領域において、ソース線12と画素電極1
4の一部とが隣合う構成となっている。更に、18で示
される領域においても、ゲイト線11と画素電極14の
一部とが隣合う構成となっている。これは、画素電極1
4が、ソース線12及びゲイト線11との間での相互干
渉を受け易い状態であり、不正確な画像が表示されてし
まう原因となる。
【0016】図21に示す構成は、櫛形の電極15を配
線16によって列毎に接続したものである。これに対し
て、図22に示す構成は、櫛形の電極を所定の電位を有
する配線を行毎に接続したものである。しかしながら、
図22に示すような配置を採用した場合でも、電極間の
相互干渉の問題は存在する。
【0017】図22に示す構成においては、ゲイト線2
1、ソース線22は格子状に配置され、ゲイト線21は
薄膜トランジスタ23のゲイト電極に信号を与えるため
の信号線であり、またソース線22は薄膜トランジスタ
23のソースに画像データの信号を供給するための信号
線である。また、薄膜トランジスタ23のドレインに
は、画素電極24が接続されている。
【0018】また、櫛形の電極25は、所定の電位を有
する配線26から延在した電極であり、画素電極24と
互いに噛み合うような櫛型に形成されている。これら2
つの電極24と25間において基板に平行な方向に電界
が形成される。
【0019】図22に示す構成においても27で示され
る領域において、画素を構成する電極24とソース線2
2との相互干渉を受け易い状態となる。更に、28で示
す領域においても、画素電極24とゲイト線21との間
で相互干渉を受け易い状態となっている。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】本明細書で開示する発
明は、液晶ディスプレイが有する視野角の狭さの問題を
解決した構成を提供することを課題とする。また、基板
に平行な方向に電界を印加することにより表示を行う構
成における問題を解消し、鮮明な画像を表示することが
できる構成を提供することを課題とする。
【0021】
【課題を解決するための手段】上述の問題点を解決する
ために本発明に係る表示装置の構成は、アクティブマト
リクス型の液晶表示装置であって、基板上に格子状に配
置されたゲイト線及びソース線と、各画素に配置され、
前記ゲイト線に接続されたゲイトと、前記ソース線に接
続されたソースとを有する薄膜トランジスタと、該薄膜
トランジスタのドレインに接続された第1の電極と、所
定の電位に保たれたコモン線と、該コモン線から延在す
る第2の電極とを有し、前記第1の電極と前記第2の電
極とは互いに噛み合うような渦巻形状に配置されている
ことを特徴とする表示装置。
【0022】更に、本発明に係る表示装置の他の構成
は、アクティブマトリクス型の液晶表示装置であって、
基板上に格子状に配置されたゲイト線及びソース線と、
各画素に配置され、前記ゲイト線に接続されたゲイト
と、前記ソース線に接続されたソースとを有する薄膜ト
ランジスタと、該薄膜トランジスタのドレインに接続さ
れた第1の電極と、所定の電位に保たれたコモン線と、
前記コモン線に接続された第2の電極と、を有し、前記
第1の電極と前記第2の電極とは、互いの内部に入り込
むように配置されていることを特徴とする表示装置。
【0023】更に本発明に係る表示装置の他の構成は、
アクティブマトリクス型の液晶表示装置の画素におい
て、基板上に形成された薄膜トランジスタのドレインに
接続された第1の電極と、該第1の電極との間において
前記基板面に平行な成分を有する電界を発生させるため
の第2の電極と、を有し、前記第1の電極と前記第2の
電極それぞれは渦巻状の形状を有し、前記基板面内にお
いて互いに噛み合う状態で配置されていることを特徴と
する表示装置。
【0024】更に、本発明に係る表示装置の他の構成
は、アクティブマトリクス型の液晶表示装置の画素にお
いて、同一基板上に渦巻状に噛み合った一対の電極が形
成されており、前記一対の電極間に基板に概略平行な成
分を有した電界が形成される構成を有することを特徴と
する表示装置。
【0025】
【発明の実施の形態】本明細書で開示する発明に係る表
示装置は、同一基板上に画素電極と対向基板とを配置す
るようにしたものであり、本発明の実施形態の一例を図
1を用いて説明する。
【0026】図1には、アクティブマトリクス型の液晶
表示装置であって、基板上に格子状に配置されたゲイト
線101及びソース線102と、各画素に配置され、前
記ゲイト線101に接続されたゲイトと、前記ソース線
102に接続されたソースとを有する薄膜トランジスタ
100と、該薄膜トランジスタ100のドレインに接続
された第1の電極103と、所定の電位に保たれたコモ
ン線104と、該コモン線104から延在する第2の電
極105とを有する表示装置を示す。
【0027】図1において、前記第1の電極103と前
記第2の電極105とは互いに噛み合うような渦巻形状
に配置されている。
【0028】或いは、前記第1の電極103と前記第2
の電極105とは、互いの内部に入り込むように配置さ
れている。
【0029】図1に示す構成においては、基板に平行な
方向に主な電界の成分を形成するために第1の電極10
3および第2の電極105は同一平面上に形成されてい
ることが好ましい。なお、必ずしも、第1の電極103
と第2の電極105は同一層内に存在していなくともよ
く、第1の電極103と第2の電極104とは絶縁膜を
隔てて、異なる層内に存在してもよい。
【0030】本発明においては、第1の電極と第2の電
極を同一基板内に形成すると同時に薄膜トランジスタに
接続された第1の電極が、ソース線又はゲイト線のうち
少なともの一方の信号線がつくる電界に干渉されないよ
うにするのが好ましい。
【0031】従って、第1の電極が電界に干渉されない
ようにするために、本発明では、前記基板面内において
前記第1の電極と前記ソース線の間隙、又は前記第1の
電極と前記ゲイト線の間隙のうち、少なくともいずれか
一方の間隙に配置されている領域を前記第2の電極が有
する構成とすることが好ましい。
【0032】上記の構成の実施形態の1つとして、図1
に示すように、前記基板面内において、前記第2の電極
105が、前記第1の電極103と前記ソース線102
の間隙、および前記第1の電極103と前記ゲイト線1
01の間隙双方に配置されている領域を有する構成をと
りうる。
【0033】或いは、図12に示すように、前記基板面
内において、前記第2の電極342は、前記第1の電極
341と前記ソース線102の間隙だけに配置されてい
る領域を少なくとも有する構成をとりうる。
【0034】また、図12に示すように、前記基板面内
において、前記第2の電極352は、前記第1の電極3
51と前記ゲイト線101の間隙だけに配置されている
領域を少なくとも有する構成をとりうる。
【0035】
【実施例】
〔実施例1〕図1は本実施例のアクティブマトリックス
型の液晶表示装置の1単位の画素部の概略の上面図であ
り、図2は図1における線A−A’による概略の断面図
である。
【0036】図2に示すように、素子基板200におい
て、ガラス又は石英等の基板201上には、薄膜トラン
ジスタ100のシリコン膜から成る活性層202、ゲイ
ト絶縁膜203が順次に積層され、酸化珪素膜等からな
るゲイト絶縁膜203上に、薄膜トランジスタ101の
ゲイトに接続されたゲイト線101(スキャン線ともい
う)が形成される。 更に、酸化珪素膜等の第1の層間
絶縁膜204が形成され、活性層202のソース/ドレ
インのコンタクトホールが形成されて、ソースと接続さ
れるソース線(ソース線ともいう)102が形成され
る。次に、第2の層間絶縁膜205が形成され、活性層
202のドレインのコンタクトホールが形成されて、第
2の層間絶縁膜205上にドレインに接続された矩形渦
巻状の画素電極103と、コモン線104、コモン線1
04から延在する矩形渦巻状のコモン電極105が形成
される。更に、その表面に樹脂等からなる保護膜20
6、配向膜207が順次に形成される。
【0037】更に、素子基板200と対向される対向基
板210において、ガラス又は石英等の基板211の表
面に配向膜212が配置される。素子基板200と対向
基板210は配向膜207、212側を内側にして、図
示しないシール材により貼り合わされて、これらの基板
200、210の間隙に液晶材料213が封入されてい
る。
【0038】また、図3は図1に示す電極・配線をマト
リクス状に際の構成図であり、図4は素子基板のブロッ
ク構成図である。図4に示すように、ゲイト線101と
ソース線102はマトリックス状に配置され、ゲイト線
101はゲイト線ドライバ401に接続され、ソース線
102はソース線ドライバ402に接続されている。
【0039】また、コモン電極105は行毎にコモン線
104に接続されている。コモン線104は所定の電位
Vcom に固定されているため、全てのコモン電極105
は等しい電位Vcom に固定される。なお、電位Vcom は
例えば接地電位とすればよい。
【0040】更に、図1に示すように、コモン線104
から延在した矩形渦巻状のコモン電極105に対して、
薄膜トランジスタ100のドレインに接続され画素電極
103は噛み合うように、かつ電極間距離をX軸方向、
Y軸方向とも一定にされて配置されている。
【0041】図1に示す構成においては、一対の画素電
極103とコモン電極105が対向された画素が構成さ
れる。表示の際には、これらの2つの電極103と10
4間に電界が生じて、当該画素領域上に存在する液晶材
料213に電界が印加されて、表示が行われる。
【0042】図2に示すように、画素電極103とコモ
ン電極105は同一平面内に構成されているので、この
電界は基板201の表面に概略平行な方向に主な成分を
有し、この電界によって、液晶分子は基板201に平行
な方向に力を受ける。従って、電極103と104間の
電界を制御することにより、液晶分子の配向を制御する
ことができ、この液晶分子の配向が変化し、その電気光
学特性が変化するため、表示を行うことができる。
【0043】図1に示す構成においては、薄膜トランジ
スタ100のドレインに接続された画素電極103はコ
モン電極105によって囲まれ、かつゲイト線101及
びソース線102から隔てられている状態となってい
る。
【0044】従って、コモン電極103を所定の電位に
固定することによって、画素電極103がゲイト線10
1とソース線102からの影響を受けることを抑制する
ことができるので、画素の周囲において滲みのない鮮明
で、正確な画像を表示することができる。
【0045】更に、図1に示す構成では、一つの画素に
おいて、その中心付近に向かって渦巻状に一対の電極1
03、105が互いに噛み合うように延在しているの
で、電極の端部において形成される周辺からの干渉によ
る影響が出にくいという特徴を有する。
【0046】これは、それぞれの電極103、105の
端部が画素の中心部に存在することによる。画素の中心
部においては、上記のような周辺からの干渉による影響
が小さなものとなるからである。
【0047】本実施例では、画素電極103と、コモン
電極105とが重ならないので、図2に示すように同一
の層内に形成するようにしたが、絶縁物によりこ画素電
極103と、コモン電極105とを上下間で分離しても
よい。この場合には、画素電極103とコモン電極10
5の上下の順序は問わないが、電極103、105間で
基板に平行な電界の強度を液晶分子の配向を制御するこ
とが可能な値とすることが必要になる。
【0048】また、図3、4に示すように、本実施例で
は、コモン線104によってコモン電極105を行毎に
接続したが、列毎にコモン電極105を接続してもよ
い。この場合の、アクティブマトリクス型液晶表示装置
のブロック図を図5に示す。図5において、図4と同一
の符号は同一の部材を示す。
【0049】〔実施例2〕本実施例は実施例1の改良例
であり、画素電極の渦巻きの巻き数を増加したものであ
る。図6は、本実施例のアクティブマトリックス型の液
晶表示装置の1単位の画素部の概略の上面図であり、図
1と同一の符号は同一の部材を示す。
【0050】図6においては、図1の画素電極103よ
りも、画素電極301の電極の巻数を増加している。こ
れに対応して、コモン電極302の巻き数も増加され、
コモン電極302によって、画素電極301を取り囲ん
で、画素電極301がゲイト線101とソース線102
とに隣接しないようにしたものである。
【0051】〔実施例3〕実施例1では、図1に示すよ
うに、画素電極103とコモン電極105間での電界は
紙面内において、2つのX軸方向の線分、Y軸方向の成
分を有することになるため、液晶分子の配向方向が一様
でない。このため、一般的に使用されている直線偏光軸
を有する偏光板を使用することが困難であるので、場所
毎に偏向軸が異なるような特別な偏光板が必要となる。
更に、このような偏光板は位置合わせに困難を伴う。
【0052】本実施例は実施例1の変形例であり、上記
の問題点を解消して、一様な直線偏光軸を有する一般的
な偏光板を使用するできるようにしたものである。
【0053】図7は本実施例の画素部の概略の上面図で
あり、図8は図7における線B−B’による概略の断面
図である。なお、図7、8において、図1、2と同一の
符号は同一の部材を示す。
【0054】本実施例は、実施例1の画素電極103、
コモン電極105の配置を基板面内で変形したものであ
る。実施例1では、画素電極103とコモン電極105
をX軸、Y軸両方向に等間隔に配置したが、本実施例で
は、画素電極311とコモン電極312の電極間隔を部
分的にX軸方向の間隔を縮小するようにしている。な
お、他の部材の構成は実施例と同様である。
【0055】画素電極311とコモン電極312間の電
界は殆ど基板の表面に平行であるが、このようにX軸方
向の電極間隔を縮小させることで、この電界のX軸方向
の成分を小さくして、主にY成分のみに電界を有するよ
うにすることができる。従って、液晶材料213に基板
面に平行に電界を印加することができると同時に、液晶
分子の配向の方向を一様にすることができるので、一様
な直線偏光軸を有する一般的な偏光板の使用が可能にな
る。更に、電極間隔を縮小することによって、画素部の
開口率が向上されると共に、基板間隔が縮小された電極
は画素に並列に接続された補助容量として機能させるこ
とができるという効果も生ずる。
【0056】この補助容量の容量は、画素電極311と
コモン電極312が近接している部分の長さで決定する
ことができるので、画素電極301、コモン電極302
の巻数を制御することによって、この補助容量の容量を
制御することができる。
【0057】例えば、図6に示す画素において、画素電
極301とコモン電極302とのX軸方向の間隔を縮小
することで、画素電極301とコモン電極302が近接
している部分をより長くできるので、より大きな補助容
量を付加することができる。
【0058】〔実施例4〕本実施例は実施例3の変形例
であり、画素部の開口率を向上するようにしたものであ
る。図9は本実施例のアクティブマトリックス型の液晶
表示装置の1単位の画素部の概略の上面図であり、図1
0は図9における線C−C’による概略の断面図であ
る。なお、図9、10において、図1、2と同一の符号
は同一の部材を示す。
【0059】実施例3では、同一平面内で画素電極31
1とコモン電極312のX軸方向の間隔を縮小したが、
本実施例では、図9に示すように、画素電極322とコ
モン電極323のX軸方向の間隔を更に縮小して、電極
321、322の矩形渦巻きの一辺を重ねるようにした
ものである。
【0060】このため、画素電極311とコモン電極3
12が上下間でショートしないように、図10に示すよ
うに、第3の層間絶縁膜230によって画素電極321
とコモン電極322とを上下方向で分離している。な
お、画素電極321とコモン電極322との上下の位置
関係を入れ換えてもよい。
【0061】本実施例も、実施例2と同様に、X軸方向
の電極321と322間の距離を縮小させることによ
り、これらの電極321と322間に発生する電界の成
分を、基板面に平行で、かつ殆どX成分のない、Y成分
を主とすることができる。このため、液晶材料213に
基板面に平行に電界を印加することが可能であり、かつ
液晶分子の回転軸の方向を一様にすることができるの
で、一様な直線偏光軸を有するような一般的な偏光板を
使用することができる。
【0062】更に、電極321と322はその重なる部
分でより大きな補助容量として機能させることができ
る。また、画素電極321とコモン電極322を間隔を
更に縮小して、重ねるようにしため、画素部の開口率を
より向上することができる。
【0063】〔実施例5〕図11に本実施例の概略の構
成を示す。本実施例に示す構成は、薄膜トランジスタ1
00のドレインに接続された画素電極331と、コモン
線104から延在するコモン電極331とを曲線形状に
したことを特徴とする。なお、図11において、図1と
同一の符号は、同一の部材を示し、電極331、332
以外は、実施例1と同様の構成を有する。従って図4に
示すように、ゲイト線101、ソース線102、コモン
線104は、格子状に配置されている。
【0064】図11に示すような構成とすると、電極3
31、332のパターンが直角に曲がるような形状が存
在しないので、電極間に均一な電界を形成することがで
きる。
【0065】〔実施例6〕上述した実施例1〜5におい
ては、画素電極をゲイト線、ソース線双方に隣接しない
ように、コモン電極を画素電極とソース線との間隙、及
び画素電極とゲイト線との間隙とに配置される形状とし
たが、以下に示す実施例では、画素電極がソース線又は
ゲイト線の何れか一方の信号線と隣接しないように、コ
モン電極を画素電極とソース線又はゲイト線何れか一方
との間隙に配置される形状としたものである。
【0066】この場合には、画素電極はゲイト線又はソ
ース線いずれか一方の電位の影響を被ることになるが、
コモン電極の占有面積を縮小することができるため、表
示に有効な領域の面積が大きくなるという利点が生ず
る。
【0067】本実施例はコモン電極を画素電極とソース
線との間隙に配置されるようにしたものであり、図12
は本実施例の画素領域の概略の上面図であり、図1と同
一の符号は同一の部材を示す。
【0068】ゲイト線101とソース線102が、薄膜
トランジスタ100に接続されて格子状に配置されてい
る。薄膜トランジスタ100のドレインには、矩形渦巻
状の画素電極341が接続されている。更に、所定の電
位に固定されたコモン線104から延在したコモン電極
342は、画素電極341と同様な矩形渦巻状に形成さ
れている。
【0069】図12に示す構成においては、一対の電極
341と342によって画素が構成されている。この2
つの電極が組となって、当該画素領域上に存在する液晶
に対して基板に平行な方向を有する電界(主に基板に平
行な方向を有する)を印加する構成となっている。
【0070】この構成においては、ソース線102が所
定の電位に固定されたコモン線104から延在したコモ
ン電極342によって囲まれた状態となって、画素電極
341がソース線102と隣接しないようにしている。
コモン線104の電位は適当な電位に設定すればよく、
たとえば接地電位とすることができる。
【0071】上記の構成では、画素電極341がソース
線102の電位の影響を受けることを抑制することがで
きるので、画素の周囲において滲みのない鮮明な画像を
表示することができる。
【0072】本実施例においては、薄膜トランジスタ1
00のドレインに接続された画素電極341に対して、
互いの渦巻形状が噛み合うように同じ平面内にコモン線
104から延在したコモン電極342が配置される。そ
して、これら一対の電極341と342の間隔は概略等
間隔とされ、これらの電極341、342間において電
界が形成される。
【0073】この電界は、基板に概略平行な方向に主な
成分を有する電界であり、この電界によって液晶分子
は、基板に平行な方向に力を受ける。そしてこの電界強
度を制御することにより、液晶分子はこの電界に従い回
転する。
【0074】そしてこの液晶分子の回転によって、液晶
の電気光学特性が変化し、表示を行うことができる。
【0075】図12に示す方式は、一つの画素におい
て、その中心付近に向かって渦巻状に一対の電極34
1、342が互いに噛み合うように延在しているので、
電極の端部は周辺部との干渉による影響が出にくいとい
う特徴を有する。
【0076】これは、それぞれの電極の端部が画素の中
心部に存在することによる。画素の中心部においては、
周辺部との干渉による影響が小さなものとなる。
【0077】なお、図12に示す画素の配置状態をマト
リクス状に形成したアクティブマトリス型の液晶表示装
置の配線の状態を図5に示す。
【0078】〔実施例7〕本実施例はコモン電極を画素
電極とゲイト線との間隙に配置されるようにしたもので
あり、図13は本実施例の画素領域の概略の上面図であ
り、図1と同一の符号は同一の部材を示す。
【0079】ゲイト線101とソース線102が、薄膜
トランジスタ100に接続されて格子状に配置されてい
る。薄膜トランジスタ100のドレインには、矩形渦巻
状の画素電極351が接続されている。更に、所定の電
位に固定されたコモン線104から延在したコモン電極
352は、画素電極351と同様な矩形渦巻状に形成さ
れている。
【0080】図13に示す構成においては、基板面内で
概略等間隔に対峙された一対の電極351と352によ
って画素が構成されている。この2つの電極が組となっ
て、当該画素領域上に存在する液晶に対して基板に平行
な方向を有する電界(主に基板に平行な方向を有する)
を印加する構成となっている。なお、本実施例の素子基
板の構成は図4に示す構成となる。
【0081】この構成においては、ゲイト線101が所
定の電位に固定されたコモン線104から延在したコモ
ン電極352によって囲まれた状態となって、画素電極
341がソース線102と隣接しないようにしている。
コモン線104の電位は適当な電位に設定すればよく、
たとえば接地電位とすることができる。
【0082】上記の構成では、画素電極341がソース
線102の電位の影響を受けることを抑制することがで
きるので、画素の周囲において滲みのない鮮明な画像を
表示することができる。
【0083】〔実施例8〕本実施例は、実施例6に示す
構成に比較してコモン線の配線数を少なくすることがで
きる構成に関する。図14は本実施例の概略の上面図で
あり、図16は本実施例の素子基板の構成図である。
【0084】図14には、2つの画素領域の概要が示さ
れている。図14に示す構成においては、2つの画素の
それぞれに薄膜トランジスタ507と508が配置され
ている。薄膜トランジスタ507、508において、そ
れぞれのゲイトには同一行のゲイト線501が接続さ
れ、ソースはソース線505、506にそれぞれ接続さ
れている。更に、ドレインには矩形渦巻状の画素電極5
02、503がそれぞれ接続されている。 なお、図1
6において、551はゲイト線ドライバであり、552
はソース線ドライバである。
【0085】図14に示す構成においては、504で示
されるコモン線が隣接した2つの列毎に共通なものとな
っている。コモン線504からコモン電極509と51
0が延在し、それぞれ画素電極502と503に概略等
間隔に対向して配置されている。このため、電極502
と509間、電極503と510間に基板面に平行な電
界が生じて、表示を行うことができる。
【0086】本実施例の場合には、図14に示すように
1本のコモン線504を隣接する2つの列で共有してい
るため、コモン線の本数はソース線の本数の1/2にす
ることができる。これは図5と図16を比較すれば明ら
かである。
【0087】なお、本実施例では、画素電極502、5
03、コモン電極509、510の形状を実施例6と同
様あるいは、鏡面対称な形状としたが、実施例1〜5に
示す電極と同様な形状として、画素電極をゲイト線、ソ
ース線とも隣接しないようにしてもよい。
【0088】更に、図14において、画素電極502、
503とゲイト線501との間隙にもコモン線からの延
在部分を配置して、画素電極502、503がゲイト線
501、ソース線505、506とも隣接しないように
することもできる。
【0089】〔実施例9〕本実施例は、実施例7に示す
構成に比較してコモン線の配線数を少なくすることがで
きる構成に関する。図15は本実施例の概略の上面図で
あり、図17は本実施例の素子基板の構成図である。
【0090】図15には、2つの画素領域の概要が示さ
れている。図15に示す構成においては、2つの画素の
それぞれに薄膜トランジスタ527と528が配置され
ている。薄膜トランジスタ527、528において、そ
れぞれのソースには同一行のソース線521が接続さ
れ、ゲイトにはソース線525、526がそれぞれ接続
されている。更に、ドレインには矩形渦巻状の画素電極
522、523がそれぞれ接続されている。なお、図1
7において、551はゲイト線ドライバであり、552
はソース線ドライバである。
【0091】図15に示す構成においては、524で示
されるコモン線が隣接した2つの行毎に共通なものとな
っている。コモン線524からはコモン電極529と5
30が延在し、それぞれ画素電極522と523に概略
等間隔に対向して配置されている。このため、電極52
2と529間、電極523と530間に基板面に平行な
電界が生じて、表示を行うことができる。
【0092】本実施例の場合には、図15に示すように
1本のコモン線524を隣接する2つの行で共有してい
るため、コモン線の本数はソース線の本数の1/2にす
ることができる。これは図4と図17を比較すれば明ら
かである。
【0093】〔実施例10〕本実施例は、図18に示す
ようにゲイト線605と606、さらにソース線607
と608とで囲まれる領域に配置された2つの画素60
1と602を1組として、1つの画素を構成することを
特徴とする。
【0094】これらの2つの画素は以下の4つの状態を
表示することができる。即ち、601と602の画素が
共にOFFの状態、601の画素がOFFで602の画
素がONの状態、601の画素がONで602の画素が
OFFの状態、601と602の画素が共にONの状態
を選択することができる。
【0095】このような組み合わせを行うことで、4階
調の表示を行うことができる。
【0096】なお図18において、603と604で示
される領域は、601、602とは別の画素を構成する
領域である。
【0097】また図18に示す構成が特徴とするのは、
コモン線609が2×2のマトリクス状に配置された4
つの画素601と602と603と604とにおいて共
通である。更に、本実施例の場合には、4つの画素60
1〜604のコモン電極を列方向で1本のコモン線60
9で接続するようにしているため、コモン線609の本
数は、ソース線の本数に対して1/2になる。このた
め、本実施例の場合も実施例8と同様に、素子基板の構
成は図16のようになる。
【0098】従って、図18に示す構成とすることで、
画素の電極構成が複雑でも配線は簡略化したものとする
ことができる。
【0099】〔実施例11〕本実施例の概略の構成を図
19に示す。図19に示すのは、ゲイト線701とソー
ス線702と703、さらにコモン線704によって囲
まれた領域に2つの画素領域を配置したことを特徴とす
る。
【0100】図19において、薄膜トランジスタ707
のドレインに接続された画素電極705と、コモン線7
04から延在したコモン電極709とは対向して配置さ
れ、一対の電極を構成する。これらの一対の電極により
画素領域が構成され、これら一対の電極間において基板
に平行な方向に電界が形成される。
【0101】同様に、薄膜トランジスタ708のドレイ
ンに接続された画素電極706と、、コモン線704か
ら延在したコモン電極710とは、互いに対になって一
対の電極を成し、画素領域を構成している。一対の電極
706と710間で基板面に平行な電界が形成される。
【0102】本実施例では、それそれの画素領域におい
て、画素電極705、706とソース線702、703
とが隣接しないように、これらの電極間をコモン電極7
09、710によって隔てているため、ソース線の電位
の影響を抑制することができるため、良好な表示を行う
ことができる。
【0103】〔実施例12〕図20に本実施例の構成を
示す。図20に示す構成は、ゲイト線801、804
と、ソース線802、803とで囲まれた領域に4つの
画素領域が配置されている。
【0104】これらの4つ薄膜トランジスタ806〜8
09のドレインには矩形渦巻状の画素電極810〜81
3がそれぞれ接続され、所定の電位に固定されたコモン
線805から延在したコモン電極814〜817はそれ
ぞれ画素電極810〜813に同一平面内で対向して配
置されて、4つの画素を形成する。
【0105】この4つの画素はそれぞれ独立に利用する
こともできる。また4つを1群として画素を構成し、面
積階調表示を行わすこともできる。
【0106】4つの画素電極810〜813はそれぞれ
コモン電極814〜817によって、ソース線802、
803と隣接しないようにされているため、良好な表示
を行うことができる。
【0107】また、隣接する2つの行毎にコモン電極は
1本のコモン線に接続されているため、コモン線の本数
をゲイト線の本数が1/2になる。従って、本実施例の
素子基板の構成は図17に示される。
【0108】上記の実施例では、薄膜トランジスタをプ
レナー型としたが、スタガー型等の他構造の薄膜トラン
ジスタを使用することも可能である。この場合には、薄
膜トランジスタの電極・配線の接続構造にあわせて、ゲ
イト線、ソース線、コモン線、画素電極の積層順序を決
定すればよく、コモン線と画素電極が重ならない限り、
同一層内に配置することが可能である。
【0109】また、上記の実施例では、液晶表示装置に
ついて説明したが、本発明は他の電気光学表示装置に応
用することも可能である。例えば、エレクトロルミネセ
ンス型(EL型)表示装置に応用することができる。こ
の場合には、素子基板、対向基板の配向膜を省略し、液
晶材料の代わりにEL材料を使用すればよい。本発明で
は、同一基板上に配置された対向電極によって基板の表
面に平行な電界が発生するため、EL材料を均一に発光
させることができる。
【0110】
【発明の効果】本明細書で開示する発明に係る表示装置
は、同一基板上に画素電極と対向基板とを配置するよう
にしたため以下のような効果を得る。
【0111】他方の基板には配線を形成する必要が無く
なるので、パネル作製工程が容易になり、また基板貼り
合わせするための基板間隔のマージンが増大するため、
基板の位置合わせが容易になる。
【0112】更に、電極・配線を精度良く形成すること
が可能になり、電極間距離を正確にすることができるの
で、画素を高密度に形成することができる。
【0113】更に、従来では、基板間で液晶材を誘電体
とする負荷容量が発生しているが、本発明では、同一基
板上に画素電極と対向基板とを配置するようにしたた
め、このような負荷容量が生成することが無くなるた
め、動作速度が向上され、更に消費電力を削減すること
もできる。
【0114】また、液晶ディスプレイが有する視野角の
狭さの問題を解決した構成を提供することができる。
【0115】更に、本発明では、基板に平行な方向に電
界を印加することにより表示を行う構成における問題を
解消したため、即ち、薄膜トランジスタのドレイン接続
された画素電極(第1の電極)が、少なくともゲイト線
又はソース線のいずれか一方と隣接しないようにして、
更には、ゲイト線、ソース線双方とも隣接しないように
して、画素電極の電位の乱れを抑制したため、鮮明な画
像を表示することができる構成を提供することができ
る。
【0116】従って、本発明に係る表示装置は、例え
ば、高精細化が要求されるような空間光変調器として使
用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例1の画素領域の上面図である。
【図2】 図1の線A−A’における断面図である。
【図3】 実施例のアクティブマトリクスの配線構成
を示す図?。
【図4】 実施例1の素子基板のブロック構成図であ
る。
【図5】 図4の変形例の素子基板のブロック構成図
である。
【図6】 実施例2の画素領域の上面図である。
【図7】 実施例3の画素領域の上面図である。
【図8】 図7の線B−B’における断面図である。
【図9】 実施例4の画素領域の上面図である。
【図10】 図9の線C−C’における断面図である。
【図11】 実施例5の画素領域の上面図である。
【図12】 実施例6の画素領域の上面図である。
【図13】 実施例7の画素領域の上面図である。
【図14】 実施例8の画素領域の上面図である。
【図15】 実施例9の画素領域の上面図である。
【図16】 実施例8の素子基板のブロック構成図であ
る。
【図17】 実施例9の素子基板のブロック構成図であ
る。
【図18】 実施例10の画素領域の上面図である。
【図19】 実施例11の画素領域の上面図である。
【図20】 実施例12の画素領域の上面図である。
【図21】 従来例の画素領域の上面図である。
【図22】 他の従来例の画素領域の上面図である。
【符号の説明】
101 ゲイト線(ゲイト線) 103 画素電極 104 コモン線 105 コモン電極 102 ソース線(ソース線) 100 薄膜トランジスタ 200 素子基板 210 対向基板 601、602、603、604 画素 605、606 ゲイト線 607、608 ソース線 609 コモン線 701 ゲイト線 702、703 ソース線 704 コモン線 705、706 画素電極 707、708 薄膜トランジスタ 709、710 コモン電極 801、804 ゲ
イト線 802、803 ソ
ース線 805 コ
モン線 806、807、808、809 薄膜トラン
ジスタ 810、811、812、813 画
素電極 814、815、816、817 コモ
ン電極

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アクティブマトリクス型の液晶表示装置
    であって、 基板上に格子状に配置されたゲイト線及びソース線と、 各画素に配置され、前記ゲイト線に接続されたゲイト
    と、前記ソース線に接続されたソースとを有する薄膜ト
    ランジスタと、 該薄膜トランジスタのドレインに接続された第1の電極
    と、 所定の電位に保たれたコモン線と、 該コモン線から延在する第2の電極とを有し、 前記第1の電極と前記第2の電極とは互いに噛み合うよ
    うな渦巻形状に配置されていることを特徴とする表示装
    置。
  2. 【請求項2】 アクティブマトリクス型の液晶表示装置
    であって、 基板上に格子状に配置されたゲイト線及びソース線と、 各画素に配置され、前記ゲイト線に接続されたゲイト
    と、前記ソース線に接続されたソースとを有する薄膜ト
    ランジスタと、 該薄膜トランジスタのドレインに接続された第1の電極
    と、 所定の電位に保たれたコモン線と、 前記コモン線に接続された第2の電極と、 を有し、 前記第1の電極と前記第2の電極とは、互いの内部に入
    り込むように配置されていることを特徴とする表示装
    置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2において、前記基
    板面内において前記第1の電極と前記ソース線の間隙、
    又は前記第1の電極と前記ゲイト線の間隙のうち、少な
    くともいずれか一方の間隙に配置されている領域を前記
    第2の電極が有することを特徴とする表示装置。
  4. 【請求項4】 請求項1又は請求項2において、前記基
    板面内において、前記ゲイト線又は前記ソース線のう
    ち、少なくともいずれか一方の信号線に前記第1の電極
    が隣接しないように、前記第2の電極は前記第1の電極
    を取り囲むように配置されていることを特徴とする表示
    装置。
  5. 【請求項5】 請求項1又は請求項2において、前記第
    1の電極および前記第2の電極は、同一平面上に形成さ
    れていることを特徴とする表示装置。
  6. 【請求項6】 請求項1又は請求項2において、前記第
    1の電極と第2の電極により前記画素部には並列に補助
    容量が形成されていることを特徴とする表示装置。
  7. 【請求項7】 アクティブマトリクス型の液晶表示装置
    の画素において、 基板上に形成された薄膜トランジスタのドレインに接続
    された第1の電極と、 該第1の電極との間において前記基板面に平行な成分を
    有する電界を発生させるための第2の電極と、 を有し、 前記第1の電極と前記第2の電極はそれぞれ渦巻状の形
    状を有し、前記基板面内において互いに噛み合う状態で
    配置されていることを特徴とする表示装置。
  8. 【請求項8】 請求項7において、前記第1の電極と第
    2の電極により前記画素には並列に補助容量が形成され
    ていることを特徴とする表示装置。
  9. 【請求項9】 請求項7において、前記第1の電極が前
    記薄膜トランジスタのゲイトに接続されているゲイト
    線、又は前記薄膜トランジスタのソースに接続されてい
    るソース線うち、少なくとも一方の信号線と隣接しない
    ように、前記第2の電極は前記第1の電極を取り囲むよ
    うに配置されていることを特徴とする表示装置。
  10. 【請求項10】 請求項8において、前記補助容量の値
    は、前記第1の電極及び前記第2の電極が成す渦巻きの
    巻数により決定されることを特徴とする表示装置。
  11. 【請求項11】 請求項9において、前記第1の電極お
    よび前記第2の電極は、同一平面上に形成されているこ
    とを特徴とする表示装置。
  12. 【請求項12】 アクティブマトリクス型の液晶表示装
    置の画素において、 同一基板上に渦巻状に噛み合った一対の電極が形成され
    ており、 前記一対の電極間に前記基板面に概略平行な成分を有し
    た電界が形成される構成を有することを特徴とする表示
    装置。
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