JPH09219009A - Magnetic head and its production - Google Patents

Magnetic head and its production

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Publication number
JPH09219009A
JPH09219009A JP2685596A JP2685596A JPH09219009A JP H09219009 A JPH09219009 A JP H09219009A JP 2685596 A JP2685596 A JP 2685596A JP 2685596 A JP2685596 A JP 2685596A JP H09219009 A JPH09219009 A JP H09219009A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass layer
magnetic head
thickness
magnetic
underlayer
Prior art date
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Pending
Application number
JP2685596A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Oji
浩 大路
Yasuhiko Ito
恭彦 伊藤
Hiroshi Kobayashi
浩 小林
Hiroki Nakajima
博樹 中嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2685596A priority Critical patent/JPH09219009A/en
Publication of JPH09219009A publication Critical patent/JPH09219009A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic head having high gap accuracy and high joint strength. SOLUTION: The thicknesses at the time of forming glass layer materials are specified to >=2.5% of a desired gap length A or >=10nm at the time of joining the two magnetic cores 1a, 1b obtd. by forming ground surface films 2a, 2b consisting of silica or alumina on the one surface of respective magnetic cores and further forming the glass layer materials on these ground surface layers 2a, 2b by diffusion of the glass layer materials at the time of joining the two magnetic cores via the gap material. The glass layer materials softened or fused at the time of joining the cores by softening or melting are partly extruded from joint surfaces, by which the thickness of the glass layers 3 in the gap material is made smaller than the total of the thicknesses at the time of forming the glass layer materials.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドおよび
その製法に関する。さらに詳しくは、本発明は、たとえ
ばVTR(ビデオテープレコーダ)、FDD(フロッピ
ーディスクドライブ)などの磁気記録再生装置に好適に
用いられうる磁気ヘッドおよびその製法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head and its manufacturing method. More specifically, the present invention relates to a magnetic head that can be preferably used in a magnetic recording / reproducing apparatus such as a VTR (video tape recorder), an FDD (floppy disk drive), and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、磁気ヘッドの製法としては、たと
えば接合力を有する層を磁気コアの表面に設け、このよ
うな磁気コアのふたつを該層を介して接合することによ
り、工程数を減らし、かつ所望のギャップ長精度を有す
る安価な磁気ヘッドをうる製法などがあげられ、たとえ
ば特公平2−58684号公報などに記載されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of manufacturing a magnetic head, for example, a layer having a bonding force is provided on the surface of a magnetic core, and two such magnetic cores are bonded through the layer to reduce the number of steps. In addition, there is a method for producing an inexpensive magnetic head having a desired gap length accuracy, which is described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-58684.

【0003】図5は、前記公報に記載されている磁気ヘ
ッドの側面を説明するための模式図である。図5におい
て、8はフェライトなどの磁化性材料からなる磁気コ
ア、9は非磁化性金属、金属酸化物、硼化物、窒化物、
珪素酸化物および周囲温度で非磁化性であるフェライト
よりなる群から選ばれた少なくとも1種からなる層(以
下、「下地層」ともいう)、10は95〜100重量%
のガラスと0〜5重量%の他の成分の混合物からなる層
(以下、「ガラス層」ともいう)であり、該ガラスはA
23 16重量%と、B23 44重量%と、BaO
40重量%からなる非磁化性材料ガラス、11はバッ
クギャップ材であるが、ギャップ材の層構造については
詳しく記載されていない。
FIG. 5 is a schematic view for explaining the side surface of the magnetic head described in the above publication. In FIG. 5, 8 is a magnetic core made of a magnetizable material such as ferrite, 9 is a non-magnetizable metal, metal oxide, boride, nitride,
A layer made of at least one selected from the group consisting of silicon oxide and ferrite that is non-magnetizable at ambient temperature (hereinafter, also referred to as "underlayer"), 10 is 95 to 100% by weight.
Of the above glass and a mixture of 0 to 5% by weight of other components (hereinafter, also referred to as “glass layer”).
l 2 O 3 16% by weight, B 2 O 3 44% by weight, BaO
Non-magnetizable material glass consisting of 40% by weight, 11 is a back gap material, but the layer structure of the gap material is not described in detail.

【0004】従来の磁気ヘッドとして、前記図5に示す
ような磁気ヘッドは、前記磁気コア8のギャップ材を設
ける面に前記下地層9をスパッタにより形成し、このよ
うな方法によりえられたふたつの磁気コアのうちの少な
くとも一方の下地層にガラス層材料を成膜し(すなわ
ち、接合後、ガラス層となる)、さらにこれらふたつの
磁気コアを相互に接触させ、加熱炉内において、ガラス
層材料を軟化させるために充分な温度まで加熱し、溶着
して接合することによりえられる。
As a conventional magnetic head, the magnetic head as shown in FIG. 5 has the underlayer 9 formed by sputtering on the surface of the magnetic core 8 on which the gap material is provided. A glass layer material is deposited on at least one of the underlayers of the magnetic cores (that is, they become a glass layer after bonding), and these two magnetic cores are contacted with each other, and the glass layer is heated in a heating furnace. It is obtained by heating to a temperature sufficient to soften the material, welding and joining.

【0005】このように、従来の磁気ヘッドの製法は、
ギャップ材として前記特定組成のガラスを用いること
で、スパッタによってもガラスターゲット材とガラス層
との組成の差異がなくなること、また前記加熱炉内での
ガラス層材料の粘度が製造するごとに変動せず一定とな
ることを目的としている。さらに、前記接合方法は、前
記ガラス層と磁気コア(フェライト)との間に中間層と
して前記下地層を設けることで、スパッタによりガラス
がフェライト8を浸食するのを防ぐことができ、ギャッ
プ長が大きくなることを防止しようとしている。
Thus, the conventional magnetic head manufacturing method is as follows.
By using the glass of the specific composition as the gap material, there is no difference in the composition between the glass target material and the glass layer even by sputtering, and the viscosity of the glass layer material in the heating furnace changes every time it is manufactured. The purpose is to be constant. Further, in the bonding method, by providing the underlayer as an intermediate layer between the glass layer and the magnetic core (ferrite), it is possible to prevent the glass from eroding the ferrite 8 by sputtering, and the gap length is reduced. I'm trying to prevent it from growing.

【0006】しかし、以上のような製法では、前記溶着
して接合するに際し、面圧を常に一定に保持することに
より、軟化したガラス層の変形量を制御しなければなら
ず、ギャップ長の制御が難しいという問題がある。
However, in the above manufacturing method, the amount of deformation of the softened glass layer must be controlled by always maintaining the surface pressure constant during the welding and joining, and the gap length is controlled. There is a problem that it is difficult.

【0007】また、前記中間層としての下地層を設けて
も、ガラス層材料の下地層への拡散により、前記溶着し
て接合するに際し、ガラス層はもとより、下地層も軟化
するので、やはりギャップ長精度を高くすることは難し
いという問題がある。
Even if an underlayer is provided as the intermediate layer, the glass layer material as well as the underlayer is softened at the time of the welding and joining due to the diffusion of the glass layer material into the underlayer. There is a problem that it is difficult to increase the long precision.

【0008】さらに、前記ガラス層材料を成膜するとき
の厚さが薄すぎると、接合強度が低下し、たとえば磁気
ヘッドの製造工程において、破断が生じるといった問題
がある。
Further, if the thickness of the glass layer material is too thin, the bonding strength is lowered and, for example, breakage occurs in the manufacturing process of the magnetic head.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ギャ
ップ長精度が高く、接合強度が大きい磁気ヘッドおよび
その製法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a magnetic head having a high gap length accuracy and a high bonding strength, and a method for manufacturing the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、ふたつの磁気
コアとこれらの間に設けられているギャップ材からな
り、該ギャップ材がシリカまたはアルミナからなるふた
つの下地層とこれらの下地層の間に設けられているガラ
ス層とからなり、該下地層が設けられているふたつの磁
気コアがガラス層材料の拡散により接合されてなる磁気
ヘッドであって、該ふたつの下地層の厚さの合計がガラ
ス層の厚さよりも大きく、ガラス層と下地層とが実質的
に分けられてなることを特徴とする磁気ヘッドに関す
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention comprises two magnetic cores and a gap material provided between the two magnetic cores, and the two gap layers made of silica or alumina. A magnetic head comprising a glass layer provided between the two magnetic cores, the two magnetic cores provided with the underlayer being bonded by diffusion of the glass layer material, and having a thickness of the two underlayers. The present invention relates to a magnetic head having a total thickness greater than the thickness of a glass layer and a glass layer and an underlayer being substantially separated.

【0011】また本発明は、前記磁気ヘッドをうるため
の製法であって、下地層にガラス層材料を成膜するとき
の厚さを所望のギャップ長の2.5〜10%にすること
を特徴とする磁気ヘッドの製法に関する。
The present invention is also a manufacturing method for obtaining the above-mentioned magnetic head, wherein the thickness when forming the glass layer material on the underlayer is 2.5 to 10% of the desired gap length. The present invention relates to a characteristic magnetic head manufacturing method.

【0012】また本発明は、前記磁気ヘッドをうるため
の製法であって、下地層にガラス層材料を成膜するとき
の厚さに対する下地層の厚さの比を2.7以上にするこ
とを特徴とする磁気ヘッドの製法に関する。
The present invention is also a method for manufacturing the above magnetic head, wherein the ratio of the thickness of the underlayer to the thickness when the glass layer material is deposited on the underlayer is 2.7 or more. Relates to a method of manufacturing a magnetic head.

【0013】また本発明は、前記製法において、ガラス
層材料を軟化または溶融させて接合するときの面圧を
1.3〜2.2kgf/cm2にすることが好ましい。
Further, in the present invention, in the above-mentioned manufacturing method, it is preferable that the surface pressure when the glass layer material is softened or melted and bonded is set to 1.3 to 2.2 kgf / cm 2 .

【0014】また本発明は、ギャップ材を介してふたつ
の磁気コアを接合する磁気ヘッドの製法であって、それ
ぞれの磁気コアのひとつの表面にシリカまたはアルミナ
からなる下地層を形成し、さらにそれぞれの下地層にガ
ラス層材料を成膜したのち、これらふたつの磁気コアを
ガラス層材料の拡散により接合するに際し、該ガラス層
材料を成膜するときの厚さを所望のギャップ長の2.5
%以上または10nm以上とし、かつ溶着して接合する
ときに軟化したガラス層材料の一部を接合面から押し出
すことにより、ギャップ材中のガラス層の厚さを該ガラ
ス層材料を成膜するときの厚さの合計より小さくするこ
とを特徴とする磁気ヘッドの製法に関する。
Further, the present invention is a method of manufacturing a magnetic head in which two magnetic cores are joined via a gap material, wherein an underlayer made of silica or alumina is formed on one surface of each magnetic core, and each of them is further formed. After depositing a glass layer material on the underlayer of the above, when joining these two magnetic cores by diffusion of the glass layer material, the thickness when depositing the glass layer material is set to a desired gap length of 2.5.
% Or 10 nm or more and when the glass layer material in the gap material is formed into a film by extruding a part of the glass layer material softened when welding and joining the glass layer material. The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head, which is characterized in that it is smaller than the total thickness of

【0015】また本発明は、前記磁気ヘッドであって、
下地層とガラス層との間に、Cr、Al、Cu、Ti、
Au、Pt、SiNおよびTiNよりなる群から選ばれ
た少なくとも1種からなる非磁性中間層が設けられてい
ることが好ましい。
The present invention also provides the above magnetic head,
Between the underlayer and the glass layer, Cr, Al, Cu, Ti,
It is preferable to provide a non-magnetic intermediate layer made of at least one selected from the group consisting of Au, Pt, SiN and TiN.

【0016】また本発明は、前記製法において、酸素を
含む不活性ガス雰囲気中でCrまたはCuの成膜を行な
いつつ酸化して非磁性中間層を形成することが好まし
い。
In the present invention, it is preferable that the nonmagnetic intermediate layer is formed by oxidizing Cr and Cu while forming a film in an inert gas atmosphere containing oxygen.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明の磁気ヘッドは、ギャップ
材が下地層/ガラス層/下地層の3層構造で形成されて
おり、ふたつの下地層の厚さの合計がガラス層の厚さよ
りも大きく、これらの下地層とガラス層が実質的に分け
られていることに最大の特徴がある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the magnetic head of the present invention, the gap material is formed in a three-layer structure of underlayer / glass layer / underlayer, and the total thickness of the two underlayers is less than the thickness of the glass layer. The largest feature is that these underlayer and glass layer are substantially separated.

【0018】なお、本明細書においてガラス層材料の拡
散とは、たとえばガラス層材料をそれぞれの下地層に成
膜したのち、該膜同士を接触させて加熱すると、該ガラ
ス層材料が軟化または溶融し、接合面の付近に存在する
ガラスの成分が混じりあうことを含む。また、ガラス層
材料による浸食とは、このような拡散によりガラス成分
がフェライト材の中にまで到達し、その結果フェライト
材の有するたとえば磁気特性を劣化させることを含む。
前記拡散の具体的な手段としては、たとえば溶着があげ
られる。また、ガラス層と下地層とが実質的に分けられ
ているとは、たとえばガラス層材料に富む部分と下地層
を形成する材料に富む部分があり、これら2層の界面は
必ずしも明瞭でなくてもよく、これらふたつの材料が界
面付近において混じりあっていることを含む。
In the present specification, the diffusion of the glass layer material means, for example, when the glass layer material is formed on each underlayer and then the films are brought into contact with each other and heated, the glass layer material is softened or melted. However, the glass components existing in the vicinity of the bonding surface are mixed together. Further, the erosion by the glass layer material includes that the glass component reaches the ferrite material due to such diffusion, and as a result, the magnetic characteristics of the ferrite material are deteriorated.
As a specific means for the diffusion, for example, welding can be cited. The term “substantially separate the glass layer and the underlayer” means, for example, a portion rich in the glass layer material and a portion rich in the material forming the underlayer, and the interface between these two layers is not always clear. Of course, this includes mixing these two materials near the interface.

【0019】図1は、本発明の実施例においてえられる
磁気ヘッドのギャップ部分を説明するための断面の模式
図である。図1において、1a、1bはフェライトから
なる磁気コア、2a、2bは下地層、3はガラス層を示
す。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining a gap portion of a magnetic head obtained in an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1a and 1b are magnetic cores made of ferrite, 2a and 2b are base layers, and 3 is a glass layer.

【0020】図1に示すように、本発明の磁気ヘッド
は、一方の磁気コア1aに下地層2aが形成されてお
り、さらにガラス層3を介してもう一方の下地層2bを
有する磁気コア1bと接合されている構造を有してい
る。
As shown in FIG. 1, the magnetic head of the present invention has a magnetic core 1a having an underlayer 2a formed on one magnetic core 1a, and a magnetic layer 1b having another underlayer 2b with a glass layer 3 interposed therebetween. It has a structure that is joined with.

【0021】前記下地層2aまたは2bは、ガラス層材
料を接合前の下地層2aもしくは2bまたはその両方に
成膜することにより、ガラス層材料により磁気コア1a
または1bが浸食されるのを防止することができ、これ
により接合したのちのギャップ長(すなわち、図1にお
いて、Aで示される長さ)精度を高くすることが容易で
ある。
The underlayer 2a or 2b is formed by depositing a glass layer material on the underlayer 2a or 2b before bonding or both of them, so that the magnetic core 1a is formed by the glass layer material.
Alternatively, it is possible to prevent 1b from being eroded, which makes it easy to increase the accuracy of the gap length (that is, the length indicated by A in FIG. 1) after joining.

【0022】前記ガラス層3は、前記ふたつの磁気コア
を接合するために設けられており、前記下地層2aおよ
び2bと分離されているので、ギャップ長精度を高くす
ることが容易であり、接合強度が大きい。
Since the glass layer 3 is provided for joining the two magnetic cores and is separated from the underlayers 2a and 2b, it is easy to improve the accuracy of the gap length, and the joining is facilitated. Great strength.

【0023】これらの下地層2a、2bおよびガラス層
3からなるギャップは、非磁化性を有しており、図1に
示すように、たとえばVTR用のテープを摺動すること
で、ギャップからはみ出した磁束によってテープに情報
を記録でき、逆にテープからの磁束をギャップで捕捉す
ることによってテープの情報を再生することができる。
The gap composed of these underlayers 2a and 2b and the glass layer 3 has non-magnetization property, and as shown in FIG. 1, it is protruded from the gap by sliding a tape for VTR, for example. The magnetic flux can record information on the tape, and conversely, the magnetic flux from the tape can be captured by the gap to reproduce the information on the tape.

【0024】なお、前記ギャップ長は、前記磁気記録再
生装置の機種によって異なるが、たとえば370〜43
0nmがあげられる。また、前記ガラス層の厚さは、た
とえばギャップ長が380〜420nmのとき、10〜
40nmであることが好ましく、また、前記下地層の厚
さは、いずれも100〜210nmであることが好まし
い。
The gap length varies depending on the model of the magnetic recording / reproducing apparatus, but is, for example, 370-43.
0 nm can be mentioned. The glass layer has a thickness of 10 to 10 when the gap length is 380 to 420 nm.
The thickness of the underlayer is preferably 40 nm, and the thickness of each of the underlayers is preferably 100 to 210 nm.

【0025】前記ガラス層材料としては、たとえばPb
O、SiO2、ZnO、Na2O、K2O、BaO、B2
3、Al23、ZrO2またはこれらの2種以上などから
なるガラスがあげられ、ギャップ長精度が高く、接合強
度が大きく、信頼性に優れていることが好ましい。
Examples of the glass layer material include Pb
O, SiO 2 , ZnO, Na 2 O, K 2 O, BaO, B 2 O
Examples of the glass include 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 and glasses made of two or more of these. It is preferable that the gap length accuracy is high, the bonding strength is high, and the reliability is excellent.

【0026】前記ガラス層材料の軟化点は、300〜7
50℃であることが好ましい。また、前記ガラス層材料
としてたとえばPbO56.7%(重量%、以下同
様)、SiO2、33.6%、ZnO4.5%、Na2
4.2%およびK2O1.0%からなるガラスの455
℃における粘度は、1011〜1012ポイズであることが
好ましい。
The softening point of the glass layer material is 300 to 7
It is preferably 50 ° C. Further, as the glass layer material, for example, PbO 56.7% (weight%, the same applies hereinafter), SiO 2 , 33.6%, ZnO 4.5%, Na 2 O
455 of glass consisting of 4.2% and K 2 O 1.0%
The viscosity at 0 ° C. is preferably 10 11 to 10 12 poise.

【0027】前記下地層を形成する材料としては、磁気
コアとの接合強度が大きく、前記ガラスによる浸食がな
く、ギャップ長精度が高く、信頼性に優れた磁気ヘッド
がえられるという点から、シリカまたはアルミナが好ま
しく、アルミナがさらに好ましい。
As a material for forming the underlayer, silica has a high bonding strength with the magnetic core, is free from erosion by the glass, has a high gap length accuracy, and is a highly reliable magnetic head. Alternatively, alumina is preferable, and alumina is more preferable.

【0028】前記シリカとしては、通常のものが好まし
い。
The silica is preferably ordinary silica.

【0029】前記アルミナとしては、通常のものが好ま
しい。
As the alumina, ordinary ones are preferable.

【0030】前記磁気コアを形成する材料としては、た
とえばフェライト、高飽和磁束密度および高初透磁率を
有する金属磁性材料など通常用いられる材料が好まし
い。
As a material for forming the magnetic core, a commonly used material such as ferrite, a metal magnetic material having a high saturation magnetic flux density and a high initial magnetic permeability is preferable.

【0031】また本発明の磁気ヘッドにおいて、前記ガ
ラス層と下地層との間に、ガラス層材料による下地層へ
の拡散がなく、ギャップ長精度が高くなるという点か
ら、Cr、Al、Cu、Ti、Au、Pt、SiN、T
iNまたはこれらの2種以上からなる非磁性中間層が設
けられていることが好ましく、これらのうちでもCr、
Cu、SiN、TiNまたはこれらの2種以上がさらに
好ましい。
Further, in the magnetic head of the present invention, since there is no diffusion of the glass layer material into the underlayer between the glass layer and the underlayer, the accuracy of the gap length is improved, so that Cr, Al, Cu, Ti, Au, Pt, SiN, T
It is preferable that iN or a nonmagnetic intermediate layer composed of two or more of these is provided, and among these, Cr,
Cu, SiN, TiN or two or more of these are more preferable.

【0032】また、CrまたはCuを用いてえられる前
記非磁性中間層は酸化していることにより、ガラス層材
料による濡れ性が向上し、接合強度がより優れた磁気ヘ
ッドがえられる。
Further, since the non-magnetic intermediate layer obtained by using Cr or Cu is oxidized, the wettability by the glass layer material is improved, and the magnetic head having more excellent bonding strength can be obtained.

【0033】なお、前記非磁性中間層の厚さは、前記拡
散を防止できる厚さであればよいが、たとえば5〜30
nm程度であることが好ましい。
The thickness of the non-magnetic intermediate layer may be such that the diffusion can be prevented, but is, for example, 5 to 30.
It is preferably about nm.

【0034】つぎに、本発明の磁気ヘッドの製法につい
て説明する。
Next, a method of manufacturing the magnetic head of the present invention will be described.

【0035】まず、たとえばフェライトからなるブロッ
クを所定の大きさおよび形状に加工して、ふたつの磁気
コアブロックをうる。
First, a block made of ferrite, for example, is processed into a predetermined size and shape to obtain two magnetic core blocks.

【0036】つぎに、各々のコアのひとつの面にたとえ
ばスパッタまたは蒸着により下地層を形成する。
Next, an underlayer is formed on one surface of each core by, for example, sputtering or vapor deposition.

【0037】つぎに、各々の下地層の面にたとえばスパ
ッタまたは蒸着によりガラス層材料を成膜し、ふたつの
磁気コアをうる。
Next, a glass layer material is deposited on the surface of each underlayer by, for example, sputtering or vapor deposition to obtain two magnetic cores.

【0038】これらふたつの磁気コアブロックを、前記
ガラス層材料の膜同士が接触するようにして重ね合せた
のち、加熱炉内において400〜700℃の温度で30
〜180分間、ガラスを軟化または溶融させて接合しガ
ラス層を形成し、その後ブロックを適当な厚さにスライ
スすることにより本発明の磁気ヘッドがえられる。
These two magnetic core blocks were superposed so that the films of the glass layer material were in contact with each other, and then 30 at a temperature of 400 to 700 ° C. in a heating furnace.
The magnetic head of the present invention is obtained by softening or melting the glass to bond it to form a glass layer for ˜180 minutes, and then slicing the block to an appropriate thickness.

【0039】なお、この製法において用いる下地層やガ
ラス層材料は、前記下地層やガラス層材料としてあげた
ものなどが好ましい。
The underlayer and glass layer materials used in this manufacturing method are preferably those listed above as the underlayer and glass layer materials.

【0040】前記製法において、ガラス層材料を成膜す
るときの厚さをいずれも前記ギャップ長の2.5〜10
%、好ましくは2.5〜5%の範囲内の厚さになるよう
に設定することにより、ガラス層材料を軟化または溶融
させて接合するときの軟化する領域が少なくなり、より
ギャップ長精度を高くすることが容易となり、接合強度
を大きくすることができる。
In the above-mentioned manufacturing method, the thickness when the glass layer material is formed is 2.5 to 10 times the gap length.
%, Preferably by setting the thickness to be in the range of 2.5 to 5%, the softening region when softening or melting the glass layer material is reduced and the gap length accuracy is further improved. It becomes easy to increase the height, and the joint strength can be increased.

【0041】また前記製法において、ガラス層材料を成
膜するときの厚さに対する下地層の厚さの比を2.7以
上、好ましくは15〜20になるように設定することに
より、ガラス層材料を軟化または溶融させて接合すると
きの軟化または溶融する領域が限定され、よりギャップ
長精度を高くすることが容易となり、接合強度を大きく
することができる。
In the above manufacturing method, the glass layer material is set by setting the ratio of the thickness of the underlayer to the thickness when the glass layer material is deposited to 2.7 or more, preferably 15 to 20. A region to be softened or melted when softening or melting is joined is limited, and it becomes easier to increase the accuracy of the gap length, and the joining strength can be increased.

【0042】また前記製法において、ガラス層材料を溶
着するときの面圧を1.3〜2.2kgf/cm2、好
ましくは1.5〜2.0kgf/mm2にすることによ
り、接合面において接触面積が充分にえられ、チップ割
れが発生することなく充分な接合強度を確保することが
できるとともに、ギャップ長精度を高くすることができ
る。
Further, in the above-mentioned manufacturing method, the surface pressure at the time of welding the glass layer material is set to 1.3 to 2.2 kgf / cm 2 , preferably 1.5 to 2.0 kgf / mm 2 , so that the joining surface is A sufficient contact area can be obtained, sufficient bonding strength can be secured without chip cracking, and the gap length accuracy can be improved.

【0043】また前記製法において、ガラス層材料を成
膜するときの厚さをいずれも前記ギャップ長の2.5%
以上、好ましくは2.5〜5%にするか、またはガラス
層材料を成膜するときの厚さをいずれも10nm以上、
好ましくは10〜50nmになるように設定すること
で、かつ前記ガラス層材料を軟化または溶融させて接合
するときに軟化または溶融したガラス層材料の一部を接
合面から押し出すことにより、ギャップ材を形成するガ
ラス層の厚さを接合する前のふたつの磁気コアのガラス
層材料の膜の厚さの和より小さくなるように設定するこ
とで、ガラス層材料を軟化または溶融させて接合すると
きに、軟化または溶融した余剰のガラス層材料が接合面
から押し出され、ギャップ長が前記下地層の厚さのみで
決まり、ギャップ長精度が高くなる。
In the above manufacturing method, the thickness of the glass layer material formed is 2.5% of the gap length.
Or more, preferably 2.5 to 5%, or when the glass layer material is formed into a film having a thickness of 10 nm or more,
The gap material is preferably set to 10 to 50 nm, and when the glass layer material is softened or melted to be joined, a part of the softened or melted glass layer material is extruded from the joining surface. By setting the thickness of the glass layer to be formed to be less than the sum of the film thicknesses of the glass layer materials of the two magnetic cores before joining, when softening or melting the glass layer material and joining Excessive softened or melted glass layer material is extruded from the joint surface, and the gap length is determined only by the thickness of the underlayer, so that the gap length accuracy is increased.

【0044】また前記製法において、下地層とガラス層
材料の膜との間に、Cr、Al、Cu、Ti、Au、P
t、SiN、TiNまたはこれらの2種以上、好ましく
はCr、Cu、SiN、TiNまたはこれらの2種以上
からなる非磁性中間層をたとえばスパッタまたは蒸着に
より形成することにより、前記ガラス層材料を前記下地
層に成膜するときのように、下地層に拡散されるのを防
止することができ、ガラス層材料を軟化または溶融させ
て接合するときの軟化または溶融する領域がガラス層を
成膜するときの厚さのみに限定されるので、ギャップ長
精度を高くすることができる。
In the above manufacturing method, Cr, Al, Cu, Ti, Au, P are provided between the underlayer and the glass layer material film.
t, SiN, TiN or two or more thereof, preferably Cr, Cu, SiN, TiN or a non-magnetic intermediate layer consisting of two or more thereof is formed by, for example, sputtering or vapor deposition, whereby the glass layer material is As in the case of forming a film on the underlayer, it is possible to prevent diffusion into the underlayer, and when the glass layer material is softened or melted and bonded, the softened or melted region forms the glass layer. Since it is limited only to the thickness at that time, the gap length accuracy can be increased.

【0045】さらに前記製法において、酸素を含む不活
性ガス雰囲気中でCrまたはCu、好ましくはCrの成
膜を行ないつつ酸化して非磁性中間層を形成することに
より、ガラス層材料を成膜するときのガラスの濡れ性が
向上し、接合強度が大きくなる。このときの酸素濃度は
5〜20容量%であることが好ましく、不活性ガスとし
てはたとえばアルゴン、チッ素などが好ましい。また、
この製法において、CrまたはCuの成膜後に前記濃度
の酸素を含む不活性ガス雰囲気中でアニールすることも
できる。このときのアニール温度は300〜700℃程
度が好ましく、不活性ガスとしては、チッ素が好まし
い。なお、前記非磁性中間層は前記図1には図示されて
いない。
Further, in the above-mentioned manufacturing method, the glass layer material is formed by forming a nonmagnetic intermediate layer by oxidizing Cr or Cu, preferably Cr while forming a film in an inert gas atmosphere containing oxygen. At this time, the wettability of the glass is improved and the bonding strength is increased. The oxygen concentration at this time is preferably 5 to 20% by volume, and the inert gas is preferably, for example, argon or nitrogen. Also,
In this manufacturing method, after the Cr or Cu film is formed, annealing can be performed in an inert gas atmosphere containing oxygen at the above concentration. The annealing temperature at this time is preferably about 300 to 700 ° C., and nitrogen is preferable as the inert gas. The non-magnetic intermediate layer is not shown in FIG.

【0046】以上のような製法でえられる磁気ヘッド
は、ふたつの下地層の厚さの合計がガラス層の厚さより
も大きく、ガラス層と下地層とが実質的に分けられてい
るので、ギャップ長精度が目標値±15nmであり、接
合強度が60〜70gfであり、通常要求されるギャッ
プ長精度(目標値±30nm程度)および接合強度(5
0gf程度)を充分満足しうるものである。
In the magnetic head obtained by the above manufacturing method, the total thickness of the two underlayers is larger than the thickness of the glass layer, and the glass layer and the underlayer are substantially separated from each other. The long accuracy is the target value ± 15 nm, the bonding strength is 60 to 70 gf, and the normally required gap length accuracy (target value ± 30 nm) and the bonding strength (5
0 gf)) can be sufficiently satisfied.

【0047】本発明の磁気ヘッドの製法における条件と
しては、たとえばつぎのような組合せが好ましくあげら
れる。
As the conditions in the method of manufacturing the magnetic head of the present invention, for example, the following combinations are preferable.

【0048】 (A)シリカまたはアルミナからなる下地層の厚さ 100〜180nm (B)ガラス層材料を成膜するときの厚さ 10〜40nm (C)Cr、Al、Cu、Ti、Au、 Pt、SiNおよびTiNよりなる 群から選ばれた少なくとも1種から なる非磁性中間層 (D)溶着するときの面圧 1.3〜2.2kgf/cm2 (E)溶着するときのガラス層材料の温度 550〜750℃(A) Thickness of base layer made of silica or alumina 100 to 180 nm (B) Thickness when forming glass layer material 10 to 40 nm (C) Cr, Al, Cu, Ti, Au, Pt , SiN and TiN, non-magnetic intermediate layer consisting of at least one selected from the group consisting of SiN and TiN (D) Surface pressure during welding 1.3 to 2.2 kgf / cm 2 (E) Glass layer material during welding Temperature 550-750 ° C

【0049】この条件は、ギャップ長精度や接合強度を
制御しやすいという点で有利であり、えられる磁気ヘッ
ドはギャップ長精度が高く、接合強度が大きい。
This condition is advantageous in that the gap length accuracy and the bonding strength can be easily controlled, and the obtained magnetic head has a high gap length accuracy and a large bonding strength.

【0050】より好ましくは、 (A1)アルミナからなる下地層の厚さ 100〜150nm (B1)PbO、SiO2、ZnO、Na2O、 K2O、BaO、B23、Al23、 ZrO2またはこれらの2種以上など のガラス層材料を成膜するときの厚さ 10〜20nm (C1)Crからなる非磁性中間層 (D1)溶着するときの面圧 1.5〜2.0kgf/cm2 (E) 溶着するときのガラス層材料の温度 650〜700℃More preferably, the thickness of the underlayer made of (A1) alumina is 100 to 150 nm. (B1) PbO, SiO 2 , ZnO, Na 2 O, K 2 O, BaO, B 2 O 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 or two or more kinds of these glass layer materials when formed into a film thickness of 10 to 20 nm (C1) Cr non-magnetic intermediate layer (D1) surface pressure at the time of welding 1.5 to 2. 0 kgf / cm 2 (E) Temperature of glass layer material during welding 650 to 700 ° C.

【0051】この条件は、ギャップ長精度や接合強度を
制御しやすいという点で優れており、えられる磁気ヘッ
ドはギャップ長精度がより高く、接合強度がより大き
い。
This condition is excellent in that it is easy to control the gap length accuracy and the bonding strength, and the obtained magnetic head has a higher gap length accuracy and a larger bonding strength.

【0052】[0052]

【実施例】つぎに、本発明を実施例に基づいてさらに具
体的に説明するが、本発明はこれらのみに限定されるも
のではない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0053】前記図1は、以下の実施例においてえられ
る磁気ヘッドのギャップ部分を説明するための断面の模
式図であり、基本的な構造を示している。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining a gap portion of a magnetic head obtained in the following examples, showing a basic structure.

【0054】[実施例1]2.0cm×0.2cm×
0.1cmの大きさのフェライトからなる磁気コア1a
のひとつの面(2.0cm×0.2cm)に、スパッタ
によりシリカを主成分とする厚さ140nmの下地層2
aを形成した。
[Example 1] 2.0 cm x 0.2 cm x
Magnetic core 1a made of ferrite with a size of 0.1 cm
One surface (2.0 cm x 0.2 cm) of the underlayer 2 having a thickness of 140 nm containing silica as a main component by sputtering.
a was formed.

【0055】つぎに、この下地層2aに、さらにスパッ
タによりつぎの組成を有するガラス層材料(図示はされ
ていないが、後記するように、接合後のガラス層3とな
る)を成膜した。
Next, a glass layer material having the following composition (not shown in the figure, but to be the glass layer 3 after bonding, which will be described later) is further formed on the underlayer 2a by sputtering.

【0056】(ガラス層材料の組成) PbO 56.7% SiO2 33.6% ZnO 4.5% Na2O 4.2% K2O 1.0%(Composition of glass layer material) PbO 56.7% SiO 2 33.6% ZnO 4.5% Na 2 O 4.2% K 2 O 1.0%

【0057】一方、前記磁気コア1aと同じ大きさの磁
気コア1bのひとつの面(2.0cm×0.2cm)
に、前記と同様にして下地層2bを形成しさらにガラス
層材料を成膜した。
On the other hand, one surface (2.0 cm × 0.2 cm) of the magnetic core 1b having the same size as the magnetic core 1a.
Then, the base layer 2b was formed in the same manner as described above, and the glass layer material was further deposited.

【0058】つぎに、これらふたつの磁気コアをガラス
層材料が接触するように重ね合せ、加熱炉内において7
00℃で1時間、溶着時の面圧が1.6kgf/cm2
の条件で接合し、厚さ10nmのガラス層3を形成し本
発明の磁気ヘッドをえた。
Next, these two magnetic cores were superposed so that the glass layer materials were in contact with each other, and they were placed in a heating furnace for 7 hours.
Surface pressure during welding at 00 ° C for 1 hour is 1.6 kgf / cm 2
Then, the glass layer 3 having a thickness of 10 nm was formed under the conditions described above to obtain the magnetic head of the present invention.

【0059】なお、本実施例においては、前記ガラス層
材料を成膜するときの厚さを変化させてそれぞれガラス
層を成膜するときの厚さが20nm、40nmの磁気ヘ
ッドもえた。
In the present embodiment, magnetic heads having a thickness of 20 nm and a thickness of 40 nm when forming the glass layer were also obtained by changing the thickness when forming the glass layer material.

【0060】これらの磁気ヘッドについて、つぎに示す
測定を行なった。
The following measurements were performed on these magnetic heads.

【0061】実効ギャップ長:ギャップ長が記録波長の
整数倍となるときにはヘッドコアに磁束は流れないため
記録波長λに対応する周波数f(=v/λ:vはヘッド
と媒体の相対速度)においては再生出力は0となる。図
3は、本発明の実施例1〜5においてえられる磁気ヘッ
ドの周波数と再生出力との関係を示すグラフである。図
3において、Glは該磁気ヘッドのギャップ長を示す。
そこで再生出力が極小値をとる周波数を測定し、その値
から次式によってこのときの波長を求め、これを実効ギ
ャップ長とした。 λ=v/f
Effective gap length: When the gap length is an integral multiple of the recording wavelength, no magnetic flux flows in the head core, so at the frequency f (= v / λ: v is the relative speed between the head and the medium) corresponding to the recording wavelength λ. The reproduction output becomes 0. FIG. 3 is a graph showing the relationship between the frequency and the reproduction output of the magnetic head obtained in Examples 1 to 5 of the present invention. In FIG. 3, G1 indicates the gap length of the magnetic head.
Therefore, the frequency at which the reproduction output has a minimum value was measured, the wavelength at this time was calculated from the value by the following equation, and this was taken as the effective gap length. λ = v / f

【0062】成膜したガラス層の厚さ:触針式の膜厚計
を用いて測定した。
Thickness of formed glass layer: Measured using a stylus type film thickness meter.

【0063】磁気ヘッド中のガラス層の厚さ:SEM
(走査型電子顕微鏡)を用いて測定した。
Thickness of glass layer in magnetic head: SEM
It was measured using a (scanning electron microscope).

【0064】接合強度:ギャップ接合を行なったチップ
に関して、その強度確保は非常に重要である。最終的に
ギャップが割れたり、開いたりしないことが求められ
る。図4は、本発明の実施例1〜5においてえられる磁
気ヘッドの接合強度の測定方法を説明するための図であ
る。図4において、4はベース、5はチップ、6はロー
ドセルのついた針でチップ先端部を押すときの作用点、
7はギャップを示す。接合強度は図4に示すように、ベ
ースに狭トラック加工を施していないチップを90°回
転させて瞬間接着剤で貼り付け、ロードセルのついた針
でチップ先端部を押し、チップが割れたときの荷重を測
定する。各接合条件について20チップ程度の測定を行
ない平均値を求めた。
Bonding strength: It is very important to secure the strength of a chip that has been subjected to gap bonding. Ultimately, it is required that the gap does not break or open. FIG. 4 is a diagram for explaining a method of measuring the bonding strength of the magnetic heads obtained in Examples 1 to 5 of the present invention. In FIG. 4, 4 is a base, 5 is a tip, 6 is a point of action when pushing the tip of the tip with a needle with a load cell,
7 indicates a gap. As shown in Fig. 4, when the chip without the narrow track processing is rotated 90 ° on the base and pasted with the instant adhesive, the tip of the chip is pushed by the needle with the load cell, and the chip is cracked. Measure the load of. About 20 chips were measured for each bonding condition and an average value was obtained.

【0065】結果を図2に示す。図2はガラス層の厚さ
を変化させたときの接合強度を示すグラフである。
The results are shown in FIG. FIG. 2 is a graph showing the bonding strength when the thickness of the glass layer is changed.

【0066】図2から明らかなように、ガラス層の厚さ
が10nmでは充分な接合強度がえられない。すなわ
ち、10nmよりガラス層の厚さが薄いと、充分に接合
が行なわれず、接合強度の不足からチップ割れが生じ
る。
As is clear from FIG. 2, when the thickness of the glass layer is 10 nm, sufficient bonding strength cannot be obtained. That is, when the thickness of the glass layer is less than 10 nm, the bonding is not sufficiently performed, and chip cracks occur due to insufficient bonding strength.

【0067】一方、ガラス層の厚さが10nm、20n
mおよび40nmのときの実効ギャップ長が0.43〜
0.47μmの範囲内にある磁気ヘッドの個数の割合
(対測定に供した磁気ヘッドの個数)は、それぞれ38
%、100%および0%であり、ガラス層の厚さが必要
以上に厚いと溶着するときに軟化する領域が増え、ギャ
ップ長にバラツキが生じる。
On the other hand, the thickness of the glass layer is 10 nm, 20 n
The effective gap length at m and 40 nm is 0.43 to
The ratio of the number of magnetic heads within the range of 0.47 μm (the number of magnetic heads used for measurement) is 38, respectively.
%, 100%, and 0%, and if the glass layer is thicker than necessary, the region that softens during welding increases and the gap length varies.

【0068】これらの結果から明らかなように、ガラス
層の厚さが20nmのとき、最もギャップ長が安定しさ
らに充分な接合強度を有する磁気ヘッドがえられる。
As is clear from these results, when the thickness of the glass layer is 20 nm, a magnetic head having the most stable gap length and sufficient bonding strength can be obtained.

【0069】[実施例2]実施例1において、下地層の
厚さを95nmまたは125nmに、またガラス層の厚
さを35nm(ガラス層材料を成膜するときの厚さ35
nm)になるようにしたこと以外は同様にして本発明の
実施例をえ、実施例1と同様にして実効ギャップ長を測
定した。
[Embodiment 2] In Embodiment 1, the thickness of the underlayer is set to 95 nm or 125 nm, and the thickness of the glass layer is set to 35 nm (thickness 35 when the glass layer material is formed).
nm) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the effective gap length was measured.

【0070】下地層の厚さが95nmのときの実効ギャ
ップ長が0.38〜0.42μmの範囲内にある磁気ヘ
ッドの個数の割合(前記と同様)は、18%であり、下
地層の厚さが125nmのときの実効ギャップ長が0.
44〜0.48μmの範囲内にある磁気ヘッドの個数の
割合(前記と同様)は55%であった。
The ratio of the number of magnetic heads having the effective gap length within the range of 0.38 to 0.42 μm (same as above) when the thickness of the underlayer is 95 nm is 18%. When the thickness is 125 nm, the effective gap length is 0.
The ratio of the number of magnetic heads within the range of 44 to 0.48 μm (as described above) was 55%.

【0071】これから明らかなように、ガラス層材料を
成膜するときの厚さに対する下地層の厚さの比が小さい
と容易にギャップ材全体にガラス層材料の拡散が生じ、
かつギャップ材中のガラス層材料の重量割合が高いた
め、ギャップ材全体の粘性が下がり、実効ギャップ長の
バラツキにつながる。すなわち、接合強度が確保できる
範囲内でガラス層材料を成膜するときの厚さは薄く、下
地層の厚さは厚くすることにより、ギャップ長の制御が
容易となる。
As is apparent from the above, when the ratio of the thickness of the underlayer to the thickness when the glass layer material is formed is small, the glass layer material easily diffuses in the entire gap material,
Moreover, since the weight ratio of the glass layer material in the gap material is high, the viscosity of the entire gap material is lowered, which leads to variations in the effective gap length. That is, the gap length can be easily controlled by making the thickness of the glass layer material thin and increasing the thickness of the underlayer within the range where the bonding strength can be secured.

【0072】[実施例3]実施例1において、下地層の
厚さを125nm、ガラス層の厚さを35nm(ガラス
層材料を成膜するときの厚さ35nm)になるように
し、溶着時の面圧を1.3、1.6および2.2kgf
/cm2としたこと以外は同様にして本発明の磁気ヘッ
ドをえ、実施例1と同様にして実効ギャップ長の測定を
行なった。
[Third Embodiment] In the first embodiment, the thickness of the underlayer is 125 nm and the thickness of the glass layer is 35 nm (thickness of 35 nm when the glass layer material is formed), and the thickness of the glass layer at the time of welding is set. Surface pressure of 1.3, 1.6 and 2.2 kgf
/ Cm 2 and then, except that the in the same manner to give a magnetic head of the present invention, was measured effective gap length in the same manner as in Example 1.

【0073】溶着時の面圧が1.3、1.6および2.
2kgf/cm2のときの実効ギャップ長が0.44〜
0.48μmの範囲内にある磁気ヘッドの個数の割合
(前記と同様)は、それぞれ27%、55%および50
%であった。
The surface pressure during welding is 1.3, 1.6 and 2.
The effective gap length at 2 kgf / cm 2 is 0.44 ~
The ratio of the number of magnetic heads within the range of 0.48 μm (as described above) is 27%, 55% and 50%, respectively.
%Met.

【0074】これから明らかなように、溶着時の面圧が
低いと、接合面で充分な接触がえられず、実効ギャップ
長のばらつきが発生している。さらに溶着時の面圧が高
すぎると、溶着を行なう前にフェライトおよび被着され
たギャップ材にマイクロクラックが入り、チップ割れが
発生し充分な接合強度がえられない。すなわち溶着時の
面圧を1.3〜2.2kgf/cm2に設定することに
より、安定した実効ギャップ長と強固な接合がえられ
る。
As is apparent from the above, when the surface pressure during welding is low, sufficient contact cannot be obtained at the joint surface, and variations in the effective gap length occur. Further, if the surface pressure at the time of welding is too high, ferrite and the gap material adhered before the welding will have microcracks, and chip cracks will occur, so that sufficient bonding strength cannot be obtained. That is, by setting the surface pressure during welding to 1.3 to 2.2 kgf / cm 2 , a stable effective gap length and strong joining can be obtained.

【0075】[実施例4]実施例1において、下地層の
厚さを120nm、ガラス層の厚さを30nm(ガラス
層材料を成膜するときの厚さ30nm)になるように
し、下地層を形成する材料としてシリカまたはアルミナ
を用いたこと以外は同様にして本発明の磁気ヘッドを
え、実施例1と同様にして実効ギャップ長を測定した。
[Embodiment 4] In Embodiment 1, the thickness of the underlayer is 120 nm and the thickness of the glass layer is 30 nm (thickness when forming the glass layer material is 30 nm). An effective gap length was measured in the same manner as in Example 1 except that silica or alumina was used as the material for forming the magnetic head of the present invention.

【0076】下地層を形成する材料がシリカ、アルミナ
のときの実効ギャップ長が0.39〜0.43μmの範
囲内にある磁気ヘッドの個数の割合(前記と同様)は、
それぞれ69%、90%であった。
When the material forming the underlayer is silica or alumina, the ratio of the number of magnetic heads having the effective gap length within the range of 0.39 to 0.43 μm (as described above) is:
It was 69% and 90%, respectively.

【0077】これから明らかなように、下地層を形成す
る材料をシリカからアルミナに変えることにより、実効
ギャップ長のばらつきが減少している。これはアルミナ
がシリカと比較してガラス層材料による拡散をより受け
にくく、溶着するときに軟化する領域が減少し、安定し
た実効ギャップ長がえられたためである。さらにガラス
層材料の膜と下地層との間にCrなどの拡散を防止する
ための非磁性中間層を設けることにより、より一層ガラ
ス層材料の下地層への拡散が抑えられ、安定した実効ギ
ャップ長がえられる。また、前記非磁性中間層を形成し
ているCrなど成膜段階からを酸化させることにより、
ガラス層材料との濡れ性が向上し、ガラス層の密着力が
上がり、強固な接合がえられる。
As is clear from this, the variation of the effective gap length is reduced by changing the material forming the underlayer from silica to alumina. This is because alumina is less likely to be diffused by the glass layer material than silica, the region that softens during welding is reduced, and a stable effective gap length is obtained. Further, by providing a non-magnetic intermediate layer between the glass layer material film and the underlayer to prevent the diffusion of Cr and the like, the diffusion of the glass layer material into the underlayer is further suppressed, and a stable effective gap is obtained. You can get long. In addition, by oxidizing the film forming step such as Cr forming the non-magnetic intermediate layer,
The wettability with the glass layer material is improved, the adhesion of the glass layer is increased, and a strong bond is obtained.

【0078】[実施例5]実施例4において、ガラス層
の厚さを20nm(ガラス層材料を成膜するときの厚さ
20nm)にし、下地層を形成する材料としてアルミナ
を用いて厚さを170nmとし、下地層を形成したのち
酸素を10容量%含むアルゴンガス雰囲気下で蒸着によ
りCrを成膜しつつ、酸化クロムからなる厚さ10nm
の非磁性中間層を形成したのち、前記ガラス層材料を成
膜すること以外は同様にして本発明の磁気ヘッドをえ
た。
[Embodiment 5] In Embodiment 4, the thickness of the glass layer is set to 20 nm (the thickness when forming the glass layer material is 20 nm), and alumina is used as the material for forming the underlayer to reduce the thickness. The thickness is set to 170 nm, and after forming the underlayer, Cr is formed by vapor deposition in an argon gas atmosphere containing 10% by volume of oxygen, and a thickness of 10 nm made of chromium oxide is formed.
A magnetic head of the present invention was obtained in the same manner except that the glass layer material was deposited after forming the non-magnetic intermediate layer.

【0079】実施例4で示したように、下地層を形成す
る材料としてアルミナを用いるとガラス層材料からの拡
散が抑えられ、さらに酸化クロムからなる非磁性中間層
の挿入によりガラスからアルミナ下地層への熱拡散が阻
止できる。また、フェライトおよびギャップ材にマイク
ロクラックが入らない範囲内で溶着時の面圧を高くし
て、さらに溶着温度はガラス層材料の粘性が充分下がる
温度に設定する。これにより、成膜されたガラス層材料
のみが軟化し、さらに余剰のガラス層材料は接合面の外
に押し出され、ギャップ材はアルミナからなる下地層、
酸化クロムからなる非磁性中間層および厚さのほとんど
ない超薄膜のガラス層材料で構成され、ギャップ長はア
ルミナからなる下地層の厚さおよび酸化クロムからなる
非磁性中間層の厚さによって決まる。したがって、安定
したギャップ長がえられるとともに、強固な接合が実現
する。
As shown in Example 4, when alumina is used as the material for forming the underlayer, diffusion from the glass layer material is suppressed, and a nonmagnetic intermediate layer made of chromium oxide is inserted to make the alumina underlayer from the glass. The heat diffusion to Further, the surface pressure during welding is increased within a range where microcracks do not enter the ferrite and the gap material, and the welding temperature is set to a temperature at which the viscosity of the glass layer material is sufficiently lowered. As a result, only the formed glass layer material is softened, and the surplus glass layer material is extruded out of the joint surface, and the gap material is the underlayer made of alumina,
It is composed of a non-magnetic intermediate layer made of chromium oxide and an extremely thin glass layer material having almost no thickness, and the gap length is determined by the thickness of the underlayer made of alumina and the thickness of the non-magnetic intermediate layer made of chromium oxide. Therefore, a stable gap length can be obtained and a strong joint can be realized.

【0080】[0080]

【発明の効果】以上の結果から明らかなように、本発明
の磁気ヘッドは、ギャップ材中において、ふたつの下地
層の厚さの合計がガラス層の厚さより大きく、下地層と
ガラス層が分けられているためギャップ長精度が高く、
また接合強度の大きい磁気ヘッドである。
As is clear from the above results, in the magnetic head of the present invention, in the gap material, the total thickness of the two underlayers is larger than the thickness of the glass layer, and the underlayer and the glass layer are separated. Therefore, the gap length accuracy is high,
Further, the magnetic head has a high bonding strength.

【0081】また、本発明の製法は、所望のギャップ長
に対するガラス層材料を成膜するときの厚さを2.5〜
10%としているため、ギャップ材全体に対して軟化す
る領域が限定されるため、ギャップ長精度の高い、また
接合強度の大きい磁気ヘッドがえられる効果がある。
Further, according to the manufacturing method of the present invention, the thickness when the glass layer material is deposited to a desired gap length is 2.5 to.
Since it is set to 10%, the region that softens with respect to the entire gap material is limited, so that there is an effect that a magnetic head with high gap length accuracy and high bonding strength can be obtained.

【0082】また、本発明の製法は、ガラス層材料を成
膜するときの厚さに対する下地層の厚さの比を2.7以
上にし、適切な接合温度を選択することにより、充分な
接合強度を確保しても、なおかつガラスからの拡散を受
けていない下地層をうることができ、精度のよいギャッ
プ長がえられる効果がある。
Further, in the manufacturing method of the present invention, the ratio of the thickness of the underlayer to the thickness at which the glass layer material is deposited is set to 2.7 or more, and a proper bonding temperature is selected to achieve sufficient bonding. Even if the strength is secured, it is possible to obtain an underlayer that is not diffused from the glass, and it is possible to obtain an accurate gap length.

【0083】また、本発明の製法は、ガラス層材料を軟
化または溶融させて接合するときの面圧を1.3〜2.
2kgf/cm2することにより、チップ割れが発生す
ることなく、接合面の接触面積を確保することができる
ので、充分強固な接合がえられる効果がある。
Further, according to the manufacturing method of the present invention, the surface pressure when the glass layer material is softened or melted and bonded is 1.3 to 2.
By setting the pressure to 2 kgf / cm 2, it is possible to secure the contact area of the joint surface without causing chip cracking, and there is an effect that a sufficiently strong joint can be obtained.

【0084】また、本発明の製法は、適切な溶着温度を
選択することにより、溶着するときガラスのみを軟化さ
せ、さらに接合するときの面圧を適切に選択することに
より溶着するとき軟化した余剰のガラス層材料が接合面
から押し出され、溶着後のギャップ材が下地層および極
薄のガラス層によって構成されるため、ギャップ長が下
地層の厚さのみで一義的に決まるので、ギャップ長精度
のよい、安定した磁気ヘッドがえられる効果がある。
Further, in the production method of the present invention, by selecting an appropriate welding temperature, only the glass is softened at the time of welding, and the surplus softened at the time of welding is selected by appropriately selecting the surface pressure at the time of joining. Since the glass layer material of is extruded from the bonding surface and the gap material after welding is composed of the underlayer and the ultrathin glass layer, the gap length is uniquely determined only by the thickness of the underlayer. The effect is that a good and stable magnetic head can be obtained.

【0085】さらに、本発明の磁気ヘッドは、下地層と
ガラス層との間に非磁性中間層が設けられているので、
ガラス層材料の下地層への拡散が完全に遮断され、溶着
するときの軟化する領域がガラス層材料を成膜するとき
の厚さのみで決まるため、ギャップ長精度が高く、また
接合強度の大きい磁気ヘッドである。
Further, in the magnetic head of the present invention, since the non-magnetic intermediate layer is provided between the underlayer and the glass layer,
Since the diffusion of the glass layer material to the underlayer is completely blocked and the softening region during welding is determined only by the thickness when forming the glass layer material, the gap length accuracy is high and the bonding strength is high. It is a magnetic head.

【0086】また、本発明の製法は、非磁性中間層をそ
の形成段階から酸化させることにより、ガラス層材料の
濡れ性が向上し、ガラス層と非磁性中間層との密着力が
強固となるため、接合強度の大きい磁気ヘッドがえられ
る効果がある。
Further, in the manufacturing method of the present invention, the wettability of the glass layer material is improved by oxidizing the non-magnetic intermediate layer from its formation stage, and the adhesion between the glass layer and the non-magnetic intermediate layer is strengthened. Therefore, there is an effect that a magnetic head having high bonding strength can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の実施例1〜5においてえられる磁気
ヘッドのギャップ部分を説明するための断面の模式図で
ある。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining a gap portion of a magnetic head obtained in Examples 1 to 5 of the present invention.

【図2】 本発明の実施例1においてえられる磁気ヘッ
ドのギャップのガラス層の厚さを変化させたときの接合
強度を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing the bonding strength when the thickness of the glass layer in the gap of the magnetic head obtained in Example 1 of the present invention is changed.

【図3】 本発明の実施例1〜5においてえられる磁気
ヘッドの周波数と再生出力との関係を示すグラフであ
る。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the frequency and the reproduction output of the magnetic head obtained in Examples 1 to 5 of the present invention.

【図4】 本発明の実施例1〜5においてえられる磁気
ヘッドの接合強度の測定方法を説明するための図であ
る。
FIG. 4 is a diagram for explaining a method for measuring the bonding strength of the magnetic heads obtained in Examples 1 to 5 of the present invention.

【図5】 従来のギャップ接合を行なってえられる磁気
ヘッドの側面を説明するための模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a side surface of a magnetic head obtained by performing conventional gap bonding.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A ギャップ長、1a,1b フェライトからなる磁気
コア、2a,2b 下地層、3 ガラス層、4 ベー
ス、5 チップ、6 作用点、7 ギャップ、8 磁気
コア、9 下地層、10 ガラス層、11 バックギャ
ップ材
A gap length, 1a, 1b ferrite magnetic core, 2a, 2b underlayer, 3 glass layer, 4 base, 5 chips, 6 working point, 7 gap, 8 magnetic core, 9 underlayer, 10 glass layer, 11 back Gap material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中嶋 博樹 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Hiroki Nakajima 2-3-3 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Sanryo Electric Co., Ltd.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ふたつの磁気コアとこれらの間に設けら
れているギャップ材からなり、該ギャップ材がシリカま
たはアルミナからなるふたつの下地層とこれらの下地層
の間に設けられているガラス層とからなり、該下地層が
設けられているふたつの磁気コアがガラス層材料の拡散
により接合されてなる磁気ヘッドであって、該ふたつの
下地層の厚さの合計がガラス層の厚さよりも大きく、ガ
ラス層と下地層とが実質的に分けられてなることを特徴
とする磁気ヘッド。
1. A glass layer provided between two magnetic cores and a gap material provided between the two magnetic cores, wherein the gap material is made of silica or alumina, and a glass layer provided between the two underlayers. And a magnetic head in which two magnetic cores provided with the underlayer are joined by diffusion of a glass layer material, and the total thickness of the two underlayers is greater than the thickness of the glass layer. A magnetic head having a large size in which a glass layer and an underlayer are substantially separated.
【請求項2】 請求項1記載の磁気ヘッドをうるための
製法であって、下地層にガラス層材料を成膜するときの
厚さを所望のギャップ長の2.5〜10%にすることを
特徴とする磁気ヘッドの製法。
2. A manufacturing method for obtaining the magnetic head according to claim 1, wherein the thickness when forming the glass layer material on the underlayer is 2.5 to 10% of the desired gap length. A method of manufacturing a magnetic head characterized by.
【請求項3】 請求項1記載の磁気ヘッドをうるための
製法であって、下地層にガラス層材料を成膜するときの
厚さに対する下地層の厚さの比を2.7以上にすること
を特徴とする磁気ヘッドの製法。
3. A method for producing the magnetic head according to claim 1, wherein the ratio of the thickness of the underlayer to the thickness when the glass layer material is formed on the underlayer is 2.7 or more. A method of manufacturing a magnetic head, which is characterized in that
【請求項4】 請求項1記載の磁気ヘッドをうるための
製法または請求項2もしくは3記載の製法であって、ガ
ラス層材料を軟化または溶融させて接合するときの面圧
を1.3〜2.2kgf/cm2にすることを特徴とす
る磁気ヘッドの製法。
4. The manufacturing method for obtaining the magnetic head according to claim 1 or the manufacturing method according to claim 2 or 3, wherein the surface pressure when the glass layer material is softened or melted and bonded is 1.3 to A method of manufacturing a magnetic head, characterized in that the magnetic head is 2.2 kgf / cm 2 .
【請求項5】 ギャップ材を介してふたつの磁気コアを
接合する磁気ヘッドの製法であって、それぞれの磁気コ
アのひとつの表面にシリカまたはアルミナからなる下地
層を形成し、さらにそれぞれの下地層にガラス層材料を
成膜したのち、これらふたつの磁気コアをガラス層材料
の拡散により接合するに際し、該ガラス層材料を成膜す
るときの厚さを所望のギャップ長の2.5%以上または
10nm以上とし、かつ溶着して接合するときに軟化し
たガラス層材料の一部を接合面から押し出すことによ
り、ギャップ材中のガラス層の厚さを該ガラス層材料を
成膜するときの厚さの合計より小さくすることを特徴と
する磁気ヘッドの製法。
5. A method of manufacturing a magnetic head in which two magnetic cores are joined via a gap material, wherein an underlayer made of silica or alumina is formed on one surface of each magnetic core, and each underlayer is further formed. After depositing the glass layer material on the substrate, when joining these two magnetic cores by diffusion of the glass layer material, the thickness when depositing the glass layer material is 2.5% or more of the desired gap length or The thickness of the glass layer in the gap material when the glass layer material is formed by extruding a part of the glass layer material having a thickness of 10 nm or more and softened at the time of welding and joining from the joining surface. A method of manufacturing a magnetic head, which is smaller than the total of
【請求項6】 請求項1記載の磁気ヘッドまたは請求項
2〜5のいずれかに記載の製法によりえられる磁気ヘッ
ドであって、下地層とガラス層との間に、Cr、Al、
Cu、Ti、Au、Pt、SiNおよびTiNよりなる
群から選ばれた少なくとも1種からなる非磁性中間層が
設けられていることを特徴とする磁気ヘッド。
6. A magnetic head according to claim 1 or a magnetic head obtained by the manufacturing method according to claim 2, wherein Cr, Al,
A magnetic head comprising a non-magnetic intermediate layer made of at least one selected from the group consisting of Cu, Ti, Au, Pt, SiN and TiN.
【請求項7】 請求項6記載の磁気ヘッドをうるための
製法であって、酸素を含む不活性ガス雰囲気中でCrま
たはCuの成膜を行ないつつ酸化して非磁性中間層を形
成することを特徴とする磁気ヘッドの製法。
7. A manufacturing method for obtaining a magnetic head according to claim 6, wherein Cr or Cu is formed in an inert gas atmosphere containing oxygen while being oxidized to form a non-magnetic intermediate layer. A method of manufacturing a magnetic head characterized by.
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