JPH0573841A - Magnetic head and production thereof - Google Patents
Magnetic head and production thereofInfo
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- JPH0573841A JPH0573841A JP13906891A JP13906891A JPH0573841A JP H0573841 A JPH0573841 A JP H0573841A JP 13906891 A JP13906891 A JP 13906891A JP 13906891 A JP13906891 A JP 13906891A JP H0573841 A JPH0573841 A JP H0573841A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は高周波信号を効率よく記
録再生するのに好適な磁気ヘッドに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head suitable for efficiently recording and reproducing high frequency signals.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、VTR等の高周波信号を記録再生
する装置においては、ビデオヘッド用磁性材料として高
周波損失の少ないフェライト材料が用いられている。し
かし、近年になって高品位VTRやデジタルVTRのよ
うに更に広帯域の信号を取り扱うシステムの開発が盛ん
になってきており、記録媒体もこのような大量の情報を
記録するための高密度化の流れの中で酸化鉄系媒体から
合金粉末媒体や金属蒸着媒体等の高抗磁力媒体へ移行し
つつある。2. Description of the Related Art Conventionally, in a device for recording and reproducing a high frequency signal such as a VTR, a ferrite material having a small high frequency loss is used as a magnetic material for a video head. However, in recent years, development of a system for handling a wider band signal such as a high-definition VTR or a digital VTR has been actively made, and a recording medium has a high density for recording such a large amount of information. In the flow, the iron oxide type medium is shifting to a high coercive force medium such as an alloy powder medium or a metal vapor deposition medium.
【0003】これに対してフェライトヘッドではその最
大磁束密度が高々5000ガウス程度であり、又短波長
信号を効率よく再生するためには狭ギャップにする必要
があり、上述のような保磁力HCが1000Oe以上の高
抗磁力媒体ではギャップ先端部のフェライトコアが飽和
し、十分な記録ができない。そこで最大磁束密度の高い
センダストやアモルファス磁性合金等の金属磁性材料を
用いた磁気ヘッドの開発が行われているが、バルク状の
金属磁性材料を用いたのではうず電流による高周波信号
が大きく上記システムには適していない。[0003] In contrast a maximum magnetic flux density at most about 5000 Gauss ferrite heads, also in order to reproduce the short wavelength signal efficiently must be narrow gap, the coercivity H C as described above There was saturated ferrite core gap tip above the high coercivity medium 1000O e, it can not be sufficient recording. Therefore, magnetic heads using metal magnetic materials such as sendust and amorphous magnetic alloys, which have high maximum magnetic flux density, are being developed. Not suitable for.
【0004】従来、このような欠点を解消するため、例
えば特開昭62−119709号公報(G11B 5/
127)等に開示されているような高周波用積層型磁気
ヘッドが提案されている。Conventionally, in order to solve such a defect, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 62-119709 (G11B 5 /
127) and the like have proposed a high frequency laminated magnetic head.
【0005】図11は高周波用積層型磁気ヘッドの外観
を示す斜視図、図12は上記磁気ヘッドの媒体摺動面を
示す図である。FIG. 11 is a perspective view showing the appearance of a high frequency laminated magnetic head, and FIG. 12 is a view showing the medium sliding surface of the magnetic head.
【0006】図中、1a,1bはそれぞれ結晶化ガラ
ス、非磁性セラミックス等よりなる非磁性基板2,2,
2,2間にセンダスト等の強磁性金属膜4とSiO2等
の絶縁薄膜5との積層薄膜3よりなる主コア半体が狭持
されている第1,第2コア半体である。前記第1コア半
体1aには巻線溝7及びガラス充填溝8が形成されてい
る。In the figure, 1a and 1b are non-magnetic substrates 2, 2 made of crystallized glass, non-magnetic ceramics, etc., respectively.
A first core half body and a second core half body sandwiching a main core half body composed of a laminated thin film 3 of a ferromagnetic metal film 4 such as sendust and an insulating thin film 5 such as SiO 2 between the two. A winding groove 7 and a glass filling groove 8 are formed in the first core half 1a.
【0007】前記第1,第2コア半体1a,1bはその
ギャップ形成面同士が衝き合わされた状態で前期ガラス
充填溝8及び巻線溝7の上端に充填された低融点ガラス
9により接合されており、該接合面にはSiO2等介在
させてなる磁気ギャップ10が形成されている。The first and second core halves 1a and 1b are joined together by the low melting point glass 9 filled in the upper ends of the glass filling groove 8 and the winding groove 7 in a state where the gap forming surfaces thereof are in contact with each other. A magnetic gap 10 formed by interposing SiO 2 or the like is formed on the joint surface.
【0008】上記積層型磁気ヘッドの製造方法として
は、例えば特開昭58−70418号公報(G11B
5/16)に開示されている方法がある。A method of manufacturing the above-mentioned laminated magnetic head is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 58-70418 (G11B).
5/16).
【0009】この製造方法は、まず、図13に示すよう
に非磁性基板2上に強磁性金属膜4と絶縁薄膜5とを交
互に被着して積層薄膜3を形成する。In this manufacturing method, first, as shown in FIG. 13, a laminated thin film 3 is formed by alternately depositing a ferromagnetic metal film 4 and an insulating thin film 5 on a non-magnetic substrate 2.
【0010】次に、図13に示す非磁性基板2を複数枚
用意し、該基板2を図14に示すように複数枚積み重
ね、最上面の積層薄膜3上に非磁性基板2’を載置し、
封着ガラス14を用いて一体化することにより積層ブロ
ック11を形成する。Next, a plurality of non-magnetic substrates 2 shown in FIG. 13 are prepared, a plurality of the substrates 2 are stacked as shown in FIG. 14, and the non-magnetic substrate 2'is placed on the uppermost laminated thin film 3. Then
The laminated block 11 is formed by integrating with the sealing glass 14.
【0011】次に、前記積層ブロック11を破線d−
d’、e−e’で切断して、図15に示す積層ヘッドピ
ース12を形成する。Next, the laminated block 11 is connected to the broken line d-
The laminated head piece 12 shown in FIG. 15 is formed by cutting at d ′ and ee ′.
【0012】次に、図16に示すように前記積層ヘッド
ピース12a,12bを一対用意した後、図17に示す
ように一方の積層ヘッドピース12aに巻線溝7及びガ
ラス充填溝8を形成し、その後、前記一対の積層ヘッド
ピース12a,12bを低融点ガラス9,9により接合
して積層ヘッドブロック13を形成する。Next, as shown in FIG. 16, after a pair of the laminated head pieces 12a and 12b are prepared, a winding groove 7 and a glass filling groove 8 are formed in one laminated head piece 12a as shown in FIG. After that, the pair of laminated head pieces 12a and 12b are joined by the low melting point glass 9 and 9 to form the laminated head block 13.
【0013】そして、最後に前記積層ヘッドブロック1
3の媒体摺接面側の端面にR加工を施した後、該ヘッド
ブロック13を切断して図11に示す磁気ヘッドが完成
する。Finally, the laminated head block 1
After subjecting the end surface on the medium sliding contact surface side of 3 to R processing, the head block 13 is cut to complete the magnetic head shown in FIG.
【0014】然し乍ら、上記従来の磁気ヘッドでは、図
12に示す積層薄膜3と非磁性基板2とをガラス接合す
るための数μm厚の封着ガラス14としては、軟化点が
400〜600℃、ガラス接合時の溶解温度が500〜
800℃のものが主に使用されるが、この種の封着ガラ
ス14は前記非磁性基板2,2に比べ化学的及び機械的
耐久性が劣るため、長時間にわたり磁気媒体を高速摺動
させると前記封着ガラス14が偏摩耗する。However, in the above conventional magnetic head, the sealing glass 14 having a thickness of several μm for glass-bonding the laminated thin film 3 and the non-magnetic substrate 2 shown in FIG. 12 has a softening point of 400 to 600 ° C. Melting temperature during glass bonding is 500-
Although a glass having a temperature of 800 ° C. is mainly used, the sealing glass 14 of this kind is inferior in chemical and mechanical durability to the non-magnetic substrates 2 and 2, so that the magnetic medium slides at a high speed for a long time. Then, the sealing glass 14 is unevenly worn.
【0015】また、上記封着ガラス14,14によるガ
ラス接合は、接合面の汚れによる気泡の発生が起こり易
く、前記気泡は媒体摺接面に孔を形成し、良好なヘッド
テープの走行系が得られないという問題も生じる。Further, in the glass bonding with the sealing glasses 14 and 14, air bubbles are easily generated due to dirt on the bonding surfaces, and the air bubbles form holes in the medium sliding contact surface, so that a good head tape running system is provided. There is also a problem that it cannot be obtained.
【0016】また、上記従来の製造方法は、量産性には
適しているが、図14に示す積層ブロック11を形成す
るには非磁性基板2の下面に封着ガラスを均一に形成し
て積層薄膜3の上面の非磁性基板2の下面とを大面積に
て接合する必要がある。このため、前記積層ブロック1
1においては、積層薄膜3と非磁性基板2との間にはガ
スが滞留するため、接合強度が低下したり、図18に示
すように、封着ガラス14の厚みのバラツキにより、積
層薄膜3のピッチTP2、TP3にバラツキが生じるた
め、図17において一対の積層ヘッドピース12a,1
2aを衝き合わせてギャップ接合する際、トラック幅が
バラツキ、製造歩留まりが悪化する。Although the above conventional manufacturing method is suitable for mass production, in order to form the laminated block 11 shown in FIG. 14, sealing glass is uniformly formed on the lower surface of the non-magnetic substrate 2 and laminated. It is necessary to bond the upper surface of the thin film 3 and the lower surface of the non-magnetic substrate 2 in a large area. Therefore, the laminated block 1
In No. 1, since the gas stays between the laminated thin film 3 and the non-magnetic substrate 2, the bonding strength is reduced, and as shown in FIG. Since the pitches TP 2 and TP 3 of the pair of laminated head pieces 12a, 1 in FIG.
When 2a is abutted against each other for gap junction, the track width varies and the manufacturing yield deteriorates.
【0017】上述のような欠点を解消した磁気ヘッド
を、本発明者は特願平2−168806号公報(G11
B 5/31)で提案している。The present inventor has proposed a magnetic head which eliminates the above-mentioned drawbacks in Japanese Patent Application No. 2-168806 (G11).
B 5/31).
【0018】この先行技術の磁気ヘッドは、屈伏点が5
00〜800℃の結晶化ガラスからなる第2の非磁性基
板と屈伏点が前記非磁性基板の屈伏点の温度近傍にあ
り、屈伏点の温度より高い結晶化ガラスかからなる第1
の非磁性基板が積層薄膜を狭持する構成を採っている。
前記第2の非磁性基板は、その屈伏点温度の加熱により
該基板を構成する結晶化ガラス中から染み出したガラス
質によって積層薄膜上に直接接合されるため、媒体摺接
面の積層薄膜と第1の非磁性基板との間に軟質な接合層
が露出せず、又気泡が発生することもない。This prior art magnetic head has a yield point of 5
A second non-magnetic substrate made of crystallized glass of 00 to 800 ° C. and a first non-magnetic substrate made of crystallized glass having a sag point near the sag point temperature of the non-magnetic substrate and higher than the sag point temperature.
The non-magnetic substrate has a structure in which the laminated thin films are sandwiched.
Since the second non-magnetic substrate is directly bonded on the laminated thin film by vitreous substance exuded from the crystallized glass constituting the substrate by heating at the yield point temperature, the second non-magnetic substrate is The soft bonding layer is not exposed between the first non-magnetic substrate and bubbles are not generated.
【0019】然し乍ら、上記磁気ヘッドにおいては、第
1の非磁性基板と第2の非磁性基板の機械的特性を合わ
せるので、屈伏点が近接するような基板を使用する必要
があるため、接合時の加熱温度の制御等が困難であっ
た。又、第1、第2の非磁性基板の機械的特性等を完全
に一致することは不可能なので、ヘッドの機械的特性が
悪かった。又、接合時の加熱は、第2の非磁性基板の屈
伏点近傍であることが必要があるので、接合強度が比較
的弱かった。更に、非磁性基板の耐熱性が比較的低いた
め、アニール等の熱的プロセスに制約があった。However, in the above magnetic head, since the mechanical characteristics of the first non-magnetic substrate and the second non-magnetic substrate are matched with each other, it is necessary to use substrates whose yield points are close to each other. It was difficult to control the heating temperature of. Further, since it is impossible to completely match the mechanical characteristics of the first and second non-magnetic substrates, the mechanical characteristics of the head are poor. Further, since the heating at the time of bonding needs to be near the sag point of the second non-magnetic substrate, the bonding strength was relatively weak. Further, since the heat resistance of the non-magnetic substrate is relatively low, the thermal process such as annealing is restricted.
【0020】[0020]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の欠
点に鑑み為されたものであり、媒体摺接面に露出したガ
ラスに偏摩耗や気泡による孔が生じ、媒体との当りが劣
化するのを防止すると共に、製造工程が容易である磁気
ヘッドを提供するものである。The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art. The glass exposed on the medium sliding contact surface has uneven wear and holes due to bubbles, which deteriorates the contact with the medium. The present invention provides a magnetic head that prevents the occurrence of the above and facilitates the manufacturing process.
【0021】[0021]
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
第1の非磁性基板上に磁性材料からなる薄膜を形成し、
該薄膜上に第2の非磁性基板を接合してなる一対の第
1,第2コア半体を有し、該第1、第2コア半体の前記
薄膜の端面同士を磁気ギャップとなる非磁性材料を介し
て衝き合わせてなる磁気ヘッドにおいて、第2の非磁性
基板は前記薄膜と接する側にガラス質を含有する領域を
形成し、該領域が前記薄膜と融着接合されてなることを
特徴とする。The magnetic head of the present invention comprises:
Forming a thin film of a magnetic material on the first non-magnetic substrate,
It has a pair of first and second core halves formed by bonding a second non-magnetic substrate on the thin film, and the end faces of the thin films of the first and second core halves form a magnetic gap. In a magnetic head formed by abutting via a magnetic material, a second non-magnetic substrate forms a region containing glass on the side in contact with the thin film, and the region is fusion-bonded to the thin film. Characterize.
【0022】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、第1の
非磁性基板上に磁性材料からなる薄膜を形成し、該薄膜
上に第2の非磁性基板を接合してなる一対の第1,第2
コア半体を有し、該第1、第2コア半体の前記薄膜の端
面同士を磁気ギャップとなる非磁性材料を介して衝き合
わせてなる磁気ヘッドの製造方法において、非磁性基板
の一方の面側にガラス質を含有させ、他方の面に磁性材
料からなる薄膜を形成して積層基板を作製する工程と、
前記積層基板を複数積層して融着固定して積層ブロック
を作製する工程と、積層ブロックを切断加工して積層ヘ
ッドピースを作製する工程と、一対の積層ヘッドピース
を絶縁膜を介して衝き合わせる工程を有する。According to the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, a thin film made of a magnetic material is formed on a first non-magnetic substrate, and a second non-magnetic substrate is bonded onto the thin film. Second
A method for manufacturing a magnetic head, comprising a core half body, and abutting the end surfaces of the thin films of the first and second core half bodies with each other via a nonmagnetic material forming a magnetic gap, wherein A step of forming a laminated substrate by forming a thin film made of a magnetic material on the other surface by containing glass on the surface side,
A step of producing a laminated block by laminating a plurality of the laminated substrates and fixing them by fusion, a step of cutting the laminated block to produce a laminated head piece, and a pair of laminated head pieces abutting each other through an insulating film. Have steps.
【0023】又、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、第
1の非磁性基板上に磁性材料からなる薄膜を形成し、該
薄膜上に第2の非磁性基板を接合してなる一対の第1,
第2コア半体を有し、該第1、第2コア半体の前記薄膜
の端面同士を磁気ギャップとなる非磁性材料を介して衝
き合わせてなる磁気ヘッドの製造方法において、第1非
磁性基板の両方の面側にガラス質を含有させる工程と、
第2非磁性基板の一方の面に磁性材料からなる薄膜を形
成して作製する工程と、前記第1非磁性基板と第2非磁
性基板を交互に複数積層して融着固定して積層ブロック
を作製する工程と、積層ブロックを切断加工して積層ヘ
ッドピースを作製する工程と、一対の積層ヘッドピース
を絶縁膜を介して衝き合わせる工程を有する。In the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, a thin film made of a magnetic material is formed on the first non-magnetic substrate, and a second non-magnetic substrate is bonded onto the thin film. 1,
A method of manufacturing a magnetic head, comprising a second core half body, wherein the end faces of the thin films of the first and second core halves are butted against each other via a nonmagnetic material forming a magnetic gap. A step of containing glass on both surface sides of the substrate,
A step of forming a thin film made of a magnetic material on one surface of the second non-magnetic substrate, and a plurality of the first non-magnetic substrate and the second non-magnetic substrate are alternately laminated and fixed by fusion, and a laminated block. And a step of cutting the laminated block to produce a laminated head piece, and a step of abutting a pair of laminated head pieces through an insulating film.
【0024】[0024]
【作用】上記の磁気ヘッドによれば、第2の非磁性基板
は加熱により該非磁性基板中に含有されるガラス質によ
って薄膜上に融着されるため、媒体摺接面の薄膜と前記
非磁性基板との間に軟質な接合層が生じず、又、気泡が
発生することもない。更に、非磁性基板の屈伏点より低
い温度をもつ前記ガラス質の屈伏点の温度によって、上
記薄膜と非磁性基板の接合温度の設定されることになる
ので、製造工程が容易になる。According to the above magnetic head, the second non-magnetic substrate is fused on the thin film by the vitreous substance contained in the non-magnetic substrate by heating. No soft bonding layer is formed between the substrate and bubbles, and no bubbles are generated. Further, since the temperature of the sag point of the vitreous substance having a temperature lower than the sag point of the non-magnetic substrate sets the joining temperature between the thin film and the non-magnetic substrate, the manufacturing process is facilitated.
【0025】[0025]
【実施例】以下、図1〜図10を参照しつつ本発明の一
実施例を詳細に説明する。図1は本実施例の磁気ヘッド
の外観を示す斜視図、図2は磁気ヘッドの媒体摺接面を
示す図であり、図11及び図12と同一部分には同一符
号を付し、その説明を割愛する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS. FIG. 1 is a perspective view showing the external appearance of a magnetic head of this embodiment, and FIG. 2 is a view showing the medium sliding contact surface of the magnetic head. The same parts as in FIGS. Omit.
【0026】本実施例の第1,第2コア半体15a,1
5bは、それぞれ結晶化ガラス等からなる第1の非磁性
基板17,17上に積層薄膜3,3が被着形成され、結
晶化ガラス等からなる第2の非磁性基板17’,17’
は、前記積層薄膜3,3と接する面側にNa2O−B2O
3−SiO2系(例えば、屈伏点:460℃)、ZnO−
B2O3−SiO2系(例えば、屈伏点:510℃)又は
Na2O−Al2O3−SiO2系(例えば、屈伏点:53
0℃)等のガラス質(非晶質)を前記面から基板内部の
方向に該ガラス質の濃度が減少するように含有した1〜
20μm厚の含有領域16、16を有し、該基板1
7’,17’の前記含有領域16、16のガラス質によ
り前記積層薄膜3,3と接合固定された構成となってい
る。The first and second core halves 15a, 1 of this embodiment
5b is a second non-magnetic substrate 17 ', 17' made of crystallized glass or the like, in which laminated thin films 3, 3 are formed on the first non-magnetic substrate 17, 17 made of crystallized glass, respectively.
Is Na 2 O-B 2 O on the surface side that contacts the laminated thin films 3 and 3.
3- SiO 2 system (for example, yield point: 460 ° C.), ZnO-
B 2 O 3 —SiO 2 system (for example, yield point: 510 ° C.) or Na 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 system (for example, yield point: 53)
0 ° C.) or the like containing a glassy material (amorphous) so that the concentration of the glassy material decreases from the surface toward the inside of the substrate.
The substrate 1 having the inclusion regions 16 and 16 having a thickness of 20 μm
7'and 17 'are configured to be bonded and fixed to the laminated thin films 3 and 3 by virtue of the glass contents of the containing regions 16 and 16.
【0027】第1の非磁性基板17及び第2の非磁性基
板17’の材料としては、ZnO−Al2O3−SiO2
系(例えば、屈伏点:1000℃)、Li2O−SiO2
系(例えば、屈伏点:850℃)又はLi2O−ZnO
−SiO2系(例えば、屈伏点:900℃)等の結晶化
ガラスで構成されており、十分な耐熱性を有している。Examples of the material of the first non-magnetic substrate 17 and the second non-magnetic substrate 17 ', ZnO-Al 2 O 3 -SiO 2
System (for example, yield point: 1000 ° C.), Li 2 O—SiO 2
System (for example, yield point: 850 ° C.) or Li 2 O—ZnO
It is made of crystallized glass such as —SiO 2 system (for example, yield point: 900 ° C.) and has sufficient heat resistance.
【0028】上記含有領域16、16は、屈伏点の低い
上記ガラス質の濃度の増加と共に、屈伏点温度が低下す
るので、該ガラス質の濃度を調整することにより含有領
域16、16の表面での屈伏点温度を適当な温度、例え
ば600〜800℃に調整でき、従って、この含有領域
16中のガラスにより上記600〜800℃で接合する
ことができる。In the containing regions 16 and 16, the sag point temperature decreases as the concentration of the glassy substance having a low yielding point increases, so that the surface of the containing regions 16 and 16 is adjusted by adjusting the concentration of the vitreous substance. The temperature of the deformation point can be adjusted to an appropriate temperature, for example, 600 to 800 ° C., and therefore, the glass in the containing region 16 enables the bonding at 600 to 800 ° C.
【0029】又、上記含有領域16、16の厚みは、非
磁性基板17’とガラス質の材質の組み合わせ及び加熱
圧着条件を適宜変更することにより、1〜20μm厚程
度の範囲で形成することができる。The thickness of the containing regions 16 and 16 can be formed in the range of about 1 to 20 μm by appropriately changing the combination of the non-magnetic substrate 17 ′ and the vitreous material and the thermocompression bonding conditions. it can.
【0030】次に、上記実施例の磁気ヘッドの製造方法
について説明する。Next, a method of manufacturing the magnetic head of the above embodiment will be described.
【0031】先づ、図3に示すようにZnO−Al2O3
−SiO2系の結晶化ガラスからなる非磁性基板17の
上面に例えばNa2O−B2O3−SiO2系からなる接合
ガラス板6を載置する。次に、この状態で加熱圧着(例
えば、2kg/cm2,700℃で1時間保持)するこ
とにより、接合ガラス板6が接する非磁性基板17の表
面(界面)で、接合ガラス板6のガラス質が拡散反応を
起こし、図4に示すように非磁性基板17の表面には、
ガラス質が前記表面から基板内部の方向に該ガラス質の
濃度が連続的に減少するように含有した1〜20μm厚
の含有領域16が形成される 次に、図5に示すように非磁性基板17上の含有領域1
6が残存するように未反応の接合ガラス板6を研摩、研
削又はエッチング等により除去する。First, as shown in FIG. 3, ZnO--Al 2 O 3
The bonded glass plate 6 made of, for example, Na 2 O—B 2 O 3 —SiO 2 system is placed on the upper surface of the non-magnetic substrate 17 made of —SiO 2 system crystallized glass. Next, in this state, thermocompression bonding (for example, holding at 2 kg / cm 2 , 700 ° C. for 1 hour) is performed, so that the glass of the bonded glass plate 6 is bonded to the surface (interface) of the non-magnetic substrate 17 with which the bonded glass plate 6 is in contact. The quality causes a diffusion reaction, and as shown in FIG. 4, on the surface of the non-magnetic substrate 17,
A content region 16 having a thickness of 1 to 20 μm is formed in which the vitreous substance is contained so that the concentration of the vitreous substance continuously decreases from the surface toward the inside of the substrate. Next, as shown in FIG. Contained area 1 on 17
The unreacted bonded glass plate 6 is removed by polishing, grinding, etching or the like so that 6 remains.
【0032】次に、図6に示すように非磁性基板17の
含有領域16が形成された面と逆の面にスパッタ法等の
真空薄膜形成技術により、Fe−Al−Si系合金また
はCoを主成分とするアモルファス合金等の強磁性金属
膜4とSiO2等の絶縁薄膜5を交互に積層し、積層薄
膜3を作製し、更に、後述する接合の強度を向上するた
めに、前記積層薄膜3の上面にはSiO2、Ti2O、Z
nO等からなる0.1〜0.5μm厚の保護膜25を形
成して積層基板18を作製する。Next, as shown in FIG. 6, a Fe--Al--Si alloy or Co is deposited on the surface of the non-magnetic substrate 17 opposite to the surface on which the containing region 16 is formed by a vacuum thin film forming technique such as a sputtering method. A ferromagnetic metal film 4 made of an amorphous alloy or the like as a main component and an insulating thin film 5 made of SiO 2 or the like are alternately laminated to form a laminated thin film 3, and further, in order to improve the bonding strength described later, the laminated thin film is formed. The upper surface of 3 has SiO 2 , Ti 2 O, Z
A protective film 25 made of nO or the like and having a thickness of 0.1 to 0.5 μm is formed to produce the laminated substrate 18.
【0033】次に、図7に示すように上記積層基板18
を複数枚積層し、更にその最上面に含有領域16を持つ
非磁性基板17と、その最下面に積層薄膜3を持つ非磁
性基板17を配置し、含有領域16の屈伏点温度600
〜800℃で加熱圧着(望ましくは、加圧2kg/cm
2,保持時間1時間程度)して、積層一体化された積層
ブロック19が作製される。Next, as shown in FIG.
Are laminated, and the nonmagnetic substrate 17 having the containing region 16 on the uppermost surface thereof and the nonmagnetic substrate 17 having the laminated thin film 3 on the lowermost surface thereof are arranged.
Thermocompression bonding at ~ 800 ° C (preferably 2 kg / cm pressure)
2 , the holding time is about 1 hour), and the laminated block 19 which is laminated and integrated is manufactured.
【0034】次に、前記積層ブロック19を破線d−
d’、e−e’に沿って切断して図8に示すように一対
の積層ヘッドピース20a,20bを形成する。Next, the laminated block 19 is broken line d-
By cutting along d'and ee ', a pair of laminated head pieces 20a, 20b are formed as shown in FIG.
【0035】次に、図9に示すように一方の積層ヘッド
ピース20aに巻線溝7及びガラス充填溝8を形成し、
その後、前記一対の積層ヘッドピース20a,20bを
溶融温度が前記含有領域16の屈伏点よりも低い低融点
の封着ガラス9’,9’により接合して積層ヘッドブロ
ック21を形成する。Next, as shown in FIG. 9, a winding groove 7 and a glass filling groove 8 are formed in one laminated head piece 20a,
After that, the pair of laminated head pieces 20a, 20b are joined by sealing glass 9 ', 9'having a low melting point whose melting temperature is lower than the sag point of the containing region 16 to form a laminated head block 21.
【0036】最後に、前記積層ヘッドブロック21の媒
体摺接側の端面にR付加工を施した後、該ヘッドブロッ
ク21の前記非磁性基板17を第1の非磁性基板17と
第2の非磁性基板17’になるように切断し、積層薄膜
3が第1,第2の非磁性基板17,17’に狭持された
図1に示す本実施例の磁気ヘッドを完成する。Finally, after rounding the end surface of the laminated head block 21 on the medium sliding contact side, the non-magnetic substrate 17 of the head block 21 is separated from the first non-magnetic substrate 17 and the second non-magnetic substrate 17. The magnetic head of the present embodiment shown in FIG. 1 in which the laminated thin film 3 is sandwiched between the first and second non-magnetic substrates 17 and 17 'is completed by cutting the magnetic head 17' into the magnetic substrate 17 '.
【0037】上述の本実施例の磁気ヘッドでは、非磁性
基板17,17’の屈伏点の温度より低い任意の温度の
屈伏点を有する含有領域16を形成でき、含有領域16
の表面の屈伏点近傍の温度から非磁性基板17,17’
の屈伏点の温度より低い適当な温度で加熱することによ
り、該含有領域16に含有されたガラス質により積層薄
膜3上に非磁性基板17’が直接融着接合されている。
このため、図2に示すように積層薄膜3と第2の非磁性
基板17’との間には軟質な接合層が形成されない。
又、非磁性基板17,17’の屈伏点温度より低い温度
で接合できるので、接合温度の設定の自由度が高く、含
有領域16の屈伏点より高い温度でも接合でき、堅固な
接合が得られる。又、非磁性基板17,17’の屈伏点
よりかなり低い温度で接合できるので、接合時の温度制
御が容易であり、製造が容易である。In the above-described magnetic head of this embodiment, the inclusion region 16 having a sag point at an arbitrary temperature lower than the sag point temperature of the nonmagnetic substrates 17 and 17 'can be formed.
From the temperature near the sag point on the surface of the non-magnetic substrate 17, 17 '
The non-magnetic substrate 17 'is directly fusion-bonded onto the laminated thin film 3 by virtue of the glass contained in the containing region 16 by heating at an appropriate temperature lower than the temperature of the sag point of.
Therefore, as shown in FIG. 2, a soft bonding layer is not formed between the laminated thin film 3 and the second non-magnetic substrate 17 '.
Further, since the bonding can be performed at a temperature lower than the yielding point temperature of the non-magnetic substrates 17 and 17 ', the degree of freedom in setting the joining temperature is high, and the joining can be performed even at a temperature higher than the yielding point of the containing region 16 to obtain a firm joining. .. Further, since the joining can be performed at a temperature considerably lower than the yield point of the non-magnetic substrates 17 and 17 ', the temperature control during the joining is easy and the production is easy.
【0038】又、含有領域16から、気泡が発生するこ
とはなく、媒体摺接面には気泡による孔は全く発生しな
い。Further, no bubbles are generated from the containing region 16, and no holes due to bubbles are generated on the medium sliding contact surface.
【0039】又、含有領域16は結晶化ガラス材がベー
スと成っているので、偏摩耗が起こらず、更に、含有領
域16に含まれるガラス質の濃度が連続的に変化するの
で、機械的特性、摩耗特性等が良好である。Further, since the content region 16 is formed of a crystallized glass material as a base, uneven wear does not occur, and the concentration of the vitreous material contained in the content region 16 continuously changes, so that the mechanical characteristics are improved. Good wear characteristics and the like.
【0040】又、本実施例の製造方法では、上述したよ
うに第1,第2の非磁性基板17,17’はその屈伏点
温度より低い温度で加熱するので、外形が変化せず、又
含有領域16も外形変化が起こらないので、図18の積
層ブロック19における積層薄膜3のピッチを非磁性基
板17の厚みにより高精度に設定できる。Further, in the manufacturing method of the present embodiment, since the first and second non-magnetic substrates 17 and 17 'are heated at a temperature lower than the yield point temperature as described above, the outer shape does not change, and Since the outer shape of the containing region 16 does not change, the pitch of the laminated thin film 3 in the laminated block 19 shown in FIG. 18 can be set with high accuracy by the thickness of the nonmagnetic substrate 17.
【0041】本発明の磁気ヘッド及びその製造方法は、
上記実施例に限定されず適宜変更が可能である。例え
ば、上記ヘッドでは、積層薄膜を磁気コアとしている
が、磁性膜単体からなる磁気コアでもよい。又、上記製
造方法では、含有領域を形成するのに接合ガラス板を用
いているが、結晶化ガラスからなる非磁性基板上にスク
リーン印刷でガラスぺーストの塗布、またはスパッタ等
でガラス層を形成した後、加熱して含有領域を形成する
ようにしてもよい。The magnetic head and the manufacturing method thereof according to the present invention are
The present invention is not limited to the above embodiment, and can be changed as appropriate. For example, in the above head, the laminated thin film is used as the magnetic core, but the magnetic core may be formed of a single magnetic film. Further, in the above manufacturing method, the bonded glass plate is used to form the containing region, but a glass paste is applied by screen printing on a non-magnetic substrate made of crystallized glass, or a glass layer is formed by sputtering or the like. After that, heating may be performed to form the containing region.
【0042】更に、図10に示すように含有領域16,
16を両面に形成した非磁性基板17と積層薄膜3を形
成した非磁性基板17を交互に積層して積層ブロックを
作製しても同様に本発明の磁気ヘッドが完成できる。Further, as shown in FIG.
The magnetic head of the present invention can be similarly completed by alternately laminating the non-magnetic substrate 17 having 16 formed on both sides thereof and the non-magnetic substrate 17 having the laminated thin film 3 formed thereon to form a laminated block.
【0043】更に、含有領域16はそのガラス質濃度が
上述のように変化せずとも同様の効果がある。Further, the containing region 16 has the same effect even if the vitreous concentration thereof does not change as described above.
【0044】[0044]
【発明の効果】本発明によれば、媒体摺接面に偏摩耗等
が生じず、媒体との当りが劣化するのを防止できると共
に、製造工程に於ける接合時の温度制御当が容易である
磁気ヘッドとその製造方法を提供し得る。According to the present invention, uneven wear or the like does not occur on the medium sliding contact surface, it is possible to prevent the contact with the medium from deteriorating, and it is easy to control the temperature at the time of joining in the manufacturing process. A magnetic head and a manufacturing method thereof can be provided.
【図1】本発明に係る磁気ヘッドの一実施例の外観を示
す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing the external appearance of an embodiment of a magnetic head according to the present invention.
【図2】上記磁気ヘッドの媒体摺接面を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a medium sliding contact surface of the magnetic head.
【図3】上記磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図であ
る。FIG. 3 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図4】上記磁気ヘッドの製造工程を示す要部の断面図
である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a main part showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図5】上記磁気ヘッドの製造工程を示す要部の断面図
である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a main part showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図6】上記磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図であ
る。FIG. 6 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図7】上記磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図であ
る。FIG. 7 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図8】上記磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図であ
る。FIG. 8 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図9】上記磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図であ
る。FIG. 9 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図10】本発明に係る磁気ヘッドの他の実施例の製造工
程を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing a manufacturing process of another embodiment of the magnetic head according to the present invention.
【図11】従来例に係る磁気ヘッドの外観を示す斜視図で
ある。FIG. 11 is a perspective view showing an appearance of a magnetic head according to a conventional example.
【図12】上記磁気ヘッドの媒体摺接面を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a medium sliding contact surface of the magnetic head.
【図13】上記磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図であ
る。FIG. 13 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図14】上記磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図であ
る。FIG. 14 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図15】上記磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図であ
る。FIG. 15 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図16】上記磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図であ
る。FIG. 16 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図17】上記磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図であ
る。FIG. 17 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head.
【図18】上記磁気ヘッドの積層薄膜のピッチを示す図で
ある。FIG. 18 is a diagram showing a pitch of laminated thin films of the magnetic head.
3 積層薄膜 10 磁気ギャップ 15a 第1コア半体 15b 第2コア半体 16 含有領域 17 第1の非磁性基板 17’ 第2の非磁性基板 18 積層基板 19 積層ブロック 20 積層ヘッドピース 21 積層ヘッドブロック 3 laminated thin film 10 magnetic gap 15a 1st core half body 15b 2nd core half body 16 containing area 17 1st nonmagnetic substrate 17 '2nd nonmagnetic substrate 18 laminated substrate 19 laminated block 20 laminated head piece 21 laminated head block
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成4年10月1日[Submission date] October 1, 1992
【手続補正1】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】請求項3[Name of item to be corrected] Claim 3
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【手続補正2】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】発明の詳細な説明[Name of item to be amended] Detailed explanation of the invention
【補正方法】追加[Correction method] Added
【補正内容】[Correction content]
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は高周波信号を効率よく記
録再生するのに好適な磁気ヘッドに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head suitable for efficiently recording and reproducing high frequency signals.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、VTR等の高周波信号を記録再生
する装置においては、ビデオヘッド用磁性材料として高
周波損失の少ないフェライト材料が用いられている。し
かし、近年になって高品位VTRやデジタルVTRのよ
うに更に広帯域の信号を取り扱うシステムの開発が盛ん
になってきており、記録媒体もこのような大量の情報を
記録するための高密度化の流れの中で酸化鉄系媒体から
合金粉末媒体や金属蒸着媒体等の高抗磁力媒体へ移行し
つつある。2. Description of the Related Art Conventionally, in a device for recording and reproducing a high frequency signal such as a VTR, a ferrite material having a small high frequency loss is used as a magnetic material for a video head. However, in recent years, development of a system for handling a wider band signal such as a high-definition VTR or a digital VTR has been actively made, and a recording medium has a high density for recording such a large amount of information. In the flow, the iron oxide type medium is shifting to a high coercive force medium such as an alloy powder medium or a metal vapor deposition medium.
【0003】これに対してフェライトヘッドではその最
大磁束密度が高々5000ガウス程度であり、又短波長
信号を効率よく再生するためには狭ギャップにする必要
があり、上述のような保磁力HCが1000Oe以上の高
抗磁力媒体ではギャップ先端部のフェライトコアが飽和
し、十分な記録ができない。そこで最大磁束密度の高い
センダストやアモルファス磁性合金等の金属磁性材料を
用いた磁気ヘッドの開発が行われているが、バルク状の
金属磁性材料を用いたのではうず電流による高周波信号
が大きく上記システムには適していない。[0003] In contrast a maximum magnetic flux density at most about 5000 Gauss ferrite heads, also in order to reproduce the short wavelength signal efficiently must be narrow gap, the coercivity H C as described above There was saturated ferrite core gap tip above the high coercivity medium 1000O e, it can not be sufficient recording. Therefore, magnetic heads using metal magnetic materials such as sendust and amorphous magnetic alloys, which have high maximum magnetic flux density, are being developed. Not suitable for.
【0004】従来、このような欠点を解消するため、例
えば特開昭62−119709号公報(G11B 5/
127)等に開示されているような高周波用積層型磁気
ヘッドが提案されている。Conventionally, in order to solve such a defect, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 62-119709 (G11B 5 /
127) and the like have proposed a high frequency laminated magnetic head.
【0005】図11は高周波用積層型磁気ヘッドの外観
を示す斜視図、図12は上記磁気ヘッドの媒体摺動面を
示す図である。FIG. 11 is a perspective view showing the appearance of a high frequency laminated magnetic head, and FIG. 12 is a view showing the medium sliding surface of the magnetic head.
【0006】図中、1a,1bはそれぞれ結晶化ガラ
ス、非磁性セラミックス等よりなる非磁性基板2,2,
2,2間にセンダスト等の強磁性金属膜4とSiO2等
の絶縁薄膜5との積層薄膜3よりなる主コア半体が狭持
されている第1,第2コア半体である。前記第1コア半
体1aには巻線溝7及びガラス充填溝8が形成されてい
る。In the figure, 1a and 1b are non-magnetic substrates 2, 2 made of crystallized glass, non-magnetic ceramics, etc., respectively.
A first core half body and a second core half body sandwiching a main core half body composed of a laminated thin film 3 of a ferromagnetic metal film 4 such as sendust and an insulating thin film 5 such as SiO 2 between the two. A winding groove 7 and a glass filling groove 8 are formed in the first core half 1a.
【0007】前記第1,第2コア半体1a,1bはその
ギャップ形成面同士が衝き合わされた状態で前期ガラス
充填溝8及び巻線溝7の上端に充填された低融点ガラス
9により接合されており、該接合面にはSiO2等介在
させてなる磁気ギャップ10が形成されている。The first and second core halves 1a and 1b are joined together by the low melting point glass 9 filled in the upper ends of the glass filling groove 8 and the winding groove 7 in a state where the gap forming surfaces thereof are in contact with each other. A magnetic gap 10 formed by interposing SiO 2 or the like is formed on the joint surface.
【0008】上記積層型磁気ヘッドの製造方法として
は、例えば特開昭58−70418号公報(G11B
5/16)に開示されている方法がある。A method of manufacturing the above-mentioned laminated magnetic head is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 58-70418 (G11B).
5/16).
【0009】この製造方法は、まず、図13に示すよう
に非磁性基板2上に強磁性金属膜4と絶縁薄膜5とを交
互に被着して積層薄膜3を形成する。In this manufacturing method, first, as shown in FIG. 13, a laminated thin film 3 is formed by alternately depositing a ferromagnetic metal film 4 and an insulating thin film 5 on a non-magnetic substrate 2.
【0010】次に、図13に示す非磁性基板2を複数枚
用意し、該基板2を図14に示すように複数枚積み重
ね、最上面の積層薄膜3上に非磁性基板2’を載置し、
封着ガラス14を用いて一体化することにより積層ブロ
ック11を形成する。Next, a plurality of non-magnetic substrates 2 shown in FIG. 13 are prepared, a plurality of the substrates 2 are stacked as shown in FIG. 14, and the non-magnetic substrate 2'is placed on the uppermost laminated thin film 3. Then
The laminated block 11 is formed by integrating with the sealing glass 14.
【0011】次に、前記積層ブロック11を破線d−
d’、e−e’で切断して、図15に示す積層ヘッドピ
ース12を形成する。Next, the laminated block 11 is connected to the broken line d-
The laminated head piece 12 shown in FIG. 15 is formed by cutting at d ′ and ee ′.
【0012】次に、図16に示すように前記積層ヘッド
ピース12a,12bを一対用意した後、図17に示す
ように一方の積層ヘッドピース12aに巻線溝7及びガ
ラス充填溝8を形成し、その後、前記一対の積層ヘッド
ピース12a,12bを低融点ガラス9,9により接合
して積層ヘッドブロック13を形成する。Next, as shown in FIG. 16, after a pair of the laminated head pieces 12a and 12b are prepared, a winding groove 7 and a glass filling groove 8 are formed in one laminated head piece 12a as shown in FIG. After that, the pair of laminated head pieces 12a and 12b are joined by the low melting point glass 9 and 9 to form the laminated head block 13.
【0013】そして、最後に前記積層ヘッドブロック1
3の媒体摺接面側の端面にR加工を施した後、該ヘッド
ブロック13を切断して図11に示す磁気ヘッドが完成
する。Finally, the laminated head block 1
After subjecting the end surface on the medium sliding contact surface side of 3 to R processing, the head block 13 is cut to complete the magnetic head shown in FIG.
【0014】然し乍ら、上記従来の磁気ヘッドでは、図
12に示す積層薄膜3と非磁性基板2とをガラス接合す
るための数μm厚の封着ガラス14としては、軟化点が
400〜600℃、ガラス接合時の溶解温度が500〜
800℃のものが主に使用されるが、この種の封着ガラ
ス14は前記非磁性基板2,2に比べ化学的及び機械的
耐久性が劣るため、長時間にわたり磁気媒体を高速摺動
させると前記封着ガラス14が偏摩耗する。However, in the above conventional magnetic head, the sealing glass 14 having a thickness of several μm for glass-bonding the laminated thin film 3 and the non-magnetic substrate 2 shown in FIG. 12 has a softening point of 400 to 600 ° C. Melting temperature during glass bonding is 500-
Although a glass having a temperature of 800 ° C. is mainly used, the sealing glass 14 of this kind is inferior in chemical and mechanical durability to the non-magnetic substrates 2 and 2, so that the magnetic medium slides at a high speed for a long time. Then, the sealing glass 14 is unevenly worn.
【0015】また、上記封着ガラス14,14によるガ
ラス接合は、接合面の汚れによる気泡の発生が起こり易
く、前記気泡は媒体摺接面に孔を形成し、良好なヘッド
テープの走行系が得られないという問題も生じる。Further, in the glass bonding with the sealing glasses 14 and 14, air bubbles are easily generated due to dirt on the bonding surfaces, and the air bubbles form holes in the medium sliding contact surface, so that a good head tape running system is provided. There is also a problem that it cannot be obtained.
【0016】また、上記従来の製造方法は、量産性には
適しているが、図14に示す積層ブロック11を形成す
るには非磁性基板2の下面に封着ガラスを均一に形成し
て積層薄膜3の上面の非磁性基板2の下面とを大面積に
て接合する必要がある。このため、前記積層ブロック1
1においては、積層薄膜3と非磁性基板2との間にはガ
スが滞留するため、接合強度が低下したり、図18に示
すように、封着ガラス14の厚みのバラツキにより、積
層薄膜3のピッチTP2、TP3にバラツキが生じるた
め、図17において一対の積層ヘッドピース12a,1
2aを衝き合わせてギャップ接合する際、トラック幅が
バラツキ、製造歩留まりが悪化する。Although the above conventional manufacturing method is suitable for mass production, in order to form the laminated block 11 shown in FIG. 14, sealing glass is uniformly formed on the lower surface of the non-magnetic substrate 2 and laminated. It is necessary to bond the upper surface of the thin film 3 and the lower surface of the non-magnetic substrate 2 in a large area. Therefore, the laminated block 1
In No. 1, since the gas stays between the laminated thin film 3 and the non-magnetic substrate 2, the bonding strength is reduced, and as shown in FIG. Since the pitches TP 2 and TP 3 of the pair of laminated head pieces 12a, 1 in FIG.
When 2a is abutted against each other for gap junction, the track width varies and the manufacturing yield deteriorates.
【0017】上述のような欠点を解消した磁気ヘッド
を、本発明者は特願平2−168806号公報(G11
B 5/31)で提案している。The present inventor has proposed a magnetic head which eliminates the above-mentioned drawbacks in Japanese Patent Application No. 2-168806 (G11).
B 5/31).
【0018】この先行技術の磁気ヘッドは、屈伏点が5
00〜800℃の結晶化ガラスからなる第2の非磁性基
板と屈伏点が前記非磁性基板の屈伏点の温度近傍にあ
り、屈伏点の温度より高い結晶化ガラスかからなる第1
の非磁性基板が積層薄膜を狭持する構成を採っている。
前記第2の非磁性基板は、その屈伏点温度の加熱により
該基板を構成する結晶化ガラス中から染み出したガラス
質によって積層薄膜上に直接接合されるため、媒体摺接
面の積層薄膜と第1の非磁性基板との間に軟質な接合層
が露出せず、又気泡が発生することもない。This prior art magnetic head has a yield point of 5
A second non-magnetic substrate made of crystallized glass of 00 to 800 ° C. and a first non-magnetic substrate made of crystallized glass having a sag point near the sag point temperature of the non-magnetic substrate and higher than the sag point temperature.
The non-magnetic substrate has a structure in which the laminated thin films are sandwiched.
Since the second non-magnetic substrate is directly bonded on the laminated thin film by vitreous substance exuded from the crystallized glass constituting the substrate by heating at the yield point temperature, the second non-magnetic substrate is The soft bonding layer is not exposed between the first non-magnetic substrate and bubbles are not generated.
【0019】然し乍ら、上記磁気ヘッドにおいては、第
1の非磁性基板と第2の非磁性基板の機械的特性を合わ
せるので、屈伏点が近接するような基板を使用する必要
があるため、接合時の加熱温度の制御等が困難であっ
た。又、第1、第2の非磁性基板の機械的特性等を完全
に一致することは不可能なので、ヘッドの機械的特性が
悪かった。又、接合時の加熱は、第2の非磁性基板の屈
伏点近傍であることが必要があるので、接合強度が比較
的弱かった。更に、非磁性基板の耐熱性が比較的低いた
め、アニール等の熱的プロセスに制約があった。However, in the above magnetic head, since the mechanical characteristics of the first non-magnetic substrate and the second non-magnetic substrate are matched with each other, it is necessary to use substrates whose yield points are close to each other. It was difficult to control the heating temperature of. Further, since it is impossible to completely match the mechanical characteristics of the first and second non-magnetic substrates, the mechanical characteristics of the head are poor. Further, since the heating at the time of bonding needs to be near the sag point of the second non-magnetic substrate, the bonding strength was relatively weak. Further, since the heat resistance of the non-magnetic substrate is relatively low, the thermal process such as annealing is restricted.
【0020】[0020]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の欠
点に鑑み為されたものであり、媒体摺接面に露出したガ
ラスに偏摩耗や気泡による孔が生じ、媒体との当りが劣
化するのを防止すると共に、製造工程が容易である磁気
ヘッドを提供するものである。The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art. The glass exposed on the medium sliding contact surface has uneven wear and holes due to bubbles, which deteriorates the contact with the medium. The present invention provides a magnetic head that prevents the occurrence of the above and facilitates the manufacturing process.
【0021】[0021]
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
第1の非磁性基板上に磁性材料からなる薄膜を形成し、
該薄膜上に第2の非磁性基板を接合してなる一対の第
1,第2コア半体を有し、該第1、第2コア半体の前記
薄膜の端面同士を磁気ギャップとなる非磁性材料を介し
て衝き合わせてなる磁気ヘッドにおいて、第2の非磁性
基板は前記薄膜と接する側にガラス質を含有する領域を
形成し、該領域が前記薄膜と融着接合されてなることを
特徴とする。The magnetic head of the present invention comprises:
Forming a thin film of a magnetic material on the first non-magnetic substrate,
It has a pair of first and second core halves formed by bonding a second non-magnetic substrate on the thin film, and the end faces of the thin films of the first and second core halves form a magnetic gap. In a magnetic head formed by abutting via a magnetic material, a second non-magnetic substrate forms a region containing glass on the side in contact with the thin film, and the region is fusion-bonded to the thin film. Characterize.
【0022】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、第1の
非磁性基板上に磁性材料からなる薄膜を形成し、該薄膜
上に第2の非磁性基板を接合してなる一対の第1,第2
コア半体を有し、該第1、第2コア半体の前記薄膜の端
面同士を磁気ギャップとなる非磁性材料を介して衝き合
わせてなる磁気ヘッドの製造方法において、非磁性基板
の一方の面側にガラス質を含有させ、他方の面に磁性材
料からなる薄膜を形成して積層基板を作製する工程と、
前記積層基板を複数積層して融着固定して積層ブロック
を作製する工程と、積層ブロックを切断加工して積層ヘ
ッドピースを作製する工程と、一対の積層ヘッドピース
を絶縁膜を介して衝き合わせる工程を有する。According to the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, a thin film made of a magnetic material is formed on a first non-magnetic substrate, and a second non-magnetic substrate is bonded onto the thin film. Second
A method for manufacturing a magnetic head, comprising a core half body, and abutting the end surfaces of the thin films of the first and second core half bodies with each other via a nonmagnetic material forming a magnetic gap, wherein A step of forming a laminated substrate by forming a thin film made of a magnetic material on the other surface by containing glass on the surface side,
A step of producing a laminated block by laminating a plurality of the laminated substrates and fixing them by fusion, a step of cutting the laminated block to produce a laminated head piece, and a pair of laminated head pieces abutting each other through an insulating film. Have steps.
【0023】又、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、第
1の非磁性基板上に磁性材料からなる薄膜を形成し、該
薄膜上に第2の非磁性基板を接合してなる一対の第1,
第2コア半体を有し、該第1、第2コア半体の前記薄膜
の端面同士を磁気ギャップとなる非磁性材料を介して衝
き合わせてなる磁気ヘッドの製造方法において、第1非
磁性基板の両方の面側にガラス質を含有させる工程と、
第2非磁性基板の一方の面に磁性材料からなる薄膜を形
成して作製する工程と、前記第1非磁性基板と第2非磁
性基板を交互に複数積層して融着固定して積層ブロック
を作製する工程と、積層ブロックを切断加工して積層ヘ
ッドピースを作製する工程と、一対の積層ヘッドピース
を絶縁膜を介して衝き合わせる工程を有する。In the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, a thin film made of a magnetic material is formed on the first non-magnetic substrate, and a second non-magnetic substrate is bonded onto the thin film. 1,
A method of manufacturing a magnetic head, comprising a second core half body, wherein the end faces of the thin films of the first and second core halves are butted against each other via a nonmagnetic material forming a magnetic gap. A step of containing glass on both surface sides of the substrate,
A step of forming a thin film made of a magnetic material on one surface of the second non-magnetic substrate, and a plurality of the first non-magnetic substrate and the second non-magnetic substrate are alternately laminated and fixed by fusion, and a laminated block. And a step of cutting the laminated block to produce a laminated head piece, and a step of abutting a pair of laminated head pieces through an insulating film.
【0024】[0024]
【作用】上記の磁気ヘッドによれば、第2の非磁性基板
は加熱により該非磁性基板中に含有されるガラス質によ
って薄膜上に融着されるため、媒体摺接面の薄膜と前記
非磁性基板との間に軟質な接合層が生じず、又、気泡が
発生することもない。更に、非磁性基板の屈伏点より低
い温度をもつ前記ガラス質の屈伏点の温度によって、上
記薄膜と非磁性基板の接合温度の設定されることになる
ので、製造工程が容易になる。According to the above magnetic head, the second non-magnetic substrate is fused on the thin film by the vitreous substance contained in the non-magnetic substrate by heating. No soft bonding layer is formed between the substrate and bubbles, and no bubbles are generated. Further, since the temperature of the sag point of the vitreous substance having a temperature lower than the sag point of the non-magnetic substrate sets the joining temperature between the thin film and the non-magnetic substrate, the manufacturing process is facilitated.
【0025】[0025]
【実施例】以下、図1〜図10を参照しつつ本発明の一
実施例を詳細に説明する。図1は本実施例の磁気ヘッド
の外観を示す斜視図、図2は磁気ヘッドの媒体摺接面を
示す図であり、図11及び図12と同一部分には同一符
号を付し、その説明を割愛する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS. FIG. 1 is a perspective view showing the external appearance of a magnetic head of this embodiment, and FIG. 2 is a view showing the medium sliding contact surface of the magnetic head. The same parts as in FIGS. Omit.
【0026】本実施例の第1,第2コア半体15a,1
5bは、それぞれ結晶化ガラス等からなる第1の非磁性
基板17,17上に積層薄膜3,3が被着形成され、結
晶化ガラス等からなる第2の非磁性基板17’,17’
は、前記積層薄膜3,3と接する面側にNa2O−B2O
3−SiO2系(例えば、屈伏点:460℃)、ZnO−
B2O3−SiO2系(例えば、屈伏点:510℃)又は
Na2O−Al2O3−SiO2系(例えば、屈伏点:53
0℃)等のガラス質(非晶質)を前記面から基板内部の
方向に該ガラス質の濃度が減少するように含有した1〜
20μm厚の含有領域16、16を有し、該基板1
7’,17’の前記含有領域16、16のガラス質によ
り前記積層薄膜3,3と接合固定された構成となってい
る。The first and second core halves 15a, 1 of this embodiment
5b is a second non-magnetic substrate 17 ', 17' made of crystallized glass or the like, in which laminated thin films 3, 3 are formed on the first non-magnetic substrate 17, 17 made of crystallized glass, respectively.
Is Na 2 O-B 2 O on the surface side that contacts the laminated thin films 3 and 3.
3- SiO 2 system (for example, yield point: 460 ° C.), ZnO-
B 2 O 3 —SiO 2 system (for example, yield point: 510 ° C.) or Na 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 system (for example, yield point: 53)
0 ° C.) or the like containing a glassy material (amorphous) so that the concentration of the glassy material decreases from the surface toward the inside of the substrate.
The substrate 1 having the inclusion regions 16 and 16 having a thickness of 20 μm
7'and 17 'are configured to be bonded and fixed to the laminated thin films 3 and 3 by virtue of the glass contents of the containing regions 16 and 16.
【0027】第1の非磁性基板17及び第2の非磁性基
板17’の材料としては、ZnO−Al2O3−SiO2
系(例えば、屈伏点:1000℃)、Li2O−SiO2
系(例えば、屈伏点:850℃)又はLi2O−ZnO
−SiO2系(例えば、屈伏点:900℃)等の結晶化
ガラスで構成されており、十分な耐熱性を有している。Examples of the material of the first non-magnetic substrate 17 and the second non-magnetic substrate 17 ', ZnO-Al 2 O 3 -SiO 2
System (for example, yield point: 1000 ° C.), Li 2 O—SiO 2
System (for example, yield point: 850 ° C.) or Li 2 O—ZnO
It is made of crystallized glass such as —SiO 2 system (for example, yield point: 900 ° C.) and has sufficient heat resistance.
【0028】上記含有領域16、16は、屈伏点の低い
上記ガラス質の濃度の増加と共に、屈伏点温度が低下す
るので、該ガラス質の濃度を調整することにより含有領
域16、16の表面での屈伏点温度を適当な温度、例え
ば600〜800℃に調整でき、従って、この含有領域
16中のガラスにより上記600〜800℃で接合する
ことができる。In the containing regions 16 and 16, the sag point temperature decreases as the concentration of the glassy substance having a low yielding point increases, so that the surface of the containing regions 16 and 16 is adjusted by adjusting the concentration of the vitreous substance. The temperature of the deformation point can be adjusted to an appropriate temperature, for example, 600 to 800 ° C., and therefore, the glass in the containing region 16 enables the bonding at 600 to 800 ° C.
【0029】又、上記含有領域16、16の厚みは、非
磁性基板17’とガラス質の材質の組み合わせ及び加熱
圧着条件を適宜変更することにより、1〜20μm厚程
度の範囲で形成することができる。The thickness of the containing regions 16 and 16 can be formed in the range of about 1 to 20 μm by appropriately changing the combination of the non-magnetic substrate 17 ′ and the vitreous material and the thermocompression bonding conditions. it can.
【0030】次に、上記実施例の磁気ヘッドの製造方法
について説明する。Next, a method of manufacturing the magnetic head of the above embodiment will be described.
【0031】先づ、図3に示すようにZnO−Al2O3
−SiO2系の結晶化ガラスからなる非磁性基板17の
上面に例えばNa2O−B2O3−SiO2系からなる接合
ガラス板6を載置する。次に、この状態で加熱圧着(例
えば、2kg/cm2,700℃で1時間保持)するこ
とにより、接合ガラス板6が接する非磁性基板17の表
面(界面)で、接合ガラス板6のガラス質が拡散反応を
起こし、図4に示すように非磁性基板17の表面には、
ガラス質が前記表面から基板内部の方向に該ガラス質の
濃度が連続的に減少するように含有した1〜20μm厚
の含有領域16が形成される 次に、図5に示すように非磁性基板17上の含有領域1
6が残存するように未反応の接合ガラス板6を研摩、研
削又はエッチング等により除去する。First, as shown in FIG. 3, ZnO--Al 2 O 3
The bonded glass plate 6 made of, for example, Na 2 O—B 2 O 3 —SiO 2 system is placed on the upper surface of the non-magnetic substrate 17 made of —SiO 2 system crystallized glass. Next, in this state, thermocompression bonding (for example, holding at 2 kg / cm 2 , 700 ° C. for 1 hour) is performed, so that the glass of the bonded glass plate 6 is bonded to the surface (interface) of the non-magnetic substrate 17 with which the bonded glass plate 6 is in contact. The quality causes a diffusion reaction, and as shown in FIG. 4, on the surface of the non-magnetic substrate 17,
A content region 16 having a thickness of 1 to 20 μm is formed in which the vitreous substance is contained so that the concentration of the vitreous substance continuously decreases from the surface toward the inside of the substrate. Next, as shown in FIG. Contained area 1 on 17
The unreacted bonded glass plate 6 is removed by polishing, grinding, etching or the like so that 6 remains.
【0032】次に、図6に示すように非磁性基板17の
含有領域16が形成された面と逆の面にスパッタ法等の
真空薄膜形成技術により、Fe−Al−Si系合金また
はCoを主成分とするアモルファス合金等の強磁性金属
膜4とSiO2等の絶縁薄膜5を交互に積層し、積層薄
膜3を作製し、更に、後述する接合の強度を向上するた
めに、前記積層薄膜3の上面にはSiO2、Ti2O、Z
nO等からなる0.1〜0.5μm厚の保護膜25を形
成して積層基板18を作製する。Next, as shown in FIG. 6, a Fe--Al--Si alloy or Co is deposited on the surface of the non-magnetic substrate 17 opposite to the surface on which the containing region 16 is formed by a vacuum thin film forming technique such as a sputtering method. A ferromagnetic metal film 4 made of an amorphous alloy or the like as a main component and an insulating thin film 5 made of SiO 2 or the like are alternately laminated to form a laminated thin film 3, and further, in order to improve the bonding strength described later, the laminated thin film is formed. The upper surface of 3 has SiO 2 , Ti 2 O, Z
A protective film 25 made of nO or the like and having a thickness of 0.1 to 0.5 μm is formed to produce the laminated substrate 18.
【0033】次に、図7に示すように上記積層基板18
を複数枚積層し、更にその最上面に含有領域16を持つ
非磁性基板17と、その最下面に積層薄膜3を持つ非磁
性基板17を配置し、含有領域16の屈伏点温度600
〜800℃で加熱圧着(望ましくは、加圧2kg/cm
2,保持時間1時間程度)して、積層一体化された積層
ブロック19が作製される。Next, as shown in FIG.
Are laminated, and the nonmagnetic substrate 17 having the containing region 16 on the uppermost surface thereof and the nonmagnetic substrate 17 having the laminated thin film 3 on the lowermost surface thereof are arranged.
Thermocompression bonding at ~ 800 ° C (preferably 2 kg / cm pressure)
2 , the holding time is about 1 hour), and the laminated block 19 which is laminated and integrated is manufactured.
【0034】次に、前記積層ブロック19を破線d−
d’、e−e’に沿って切断して図8に示すように一対
の積層ヘッドピース20a,20bを形成する。Next, the laminated block 19 is broken line d-
By cutting along d'and ee ', a pair of laminated head pieces 20a, 20b are formed as shown in FIG.
【0035】次に、図9に示すように一方の積層ヘッド
ピース20aに巻線溝7及びガラス充填溝8を形成し、
その後、前記一対の積層ヘッドピース20a,20bを
溶融温度が前記含有領域16の屈伏点よりも低い低融点
の封着ガラス9’,9’により接合して積層ヘッドブロ
ック21を形成する。Next, as shown in FIG. 9, a winding groove 7 and a glass filling groove 8 are formed in one laminated head piece 20a,
After that, the pair of laminated head pieces 20a, 20b are joined by sealing glass 9 ', 9'having a low melting point whose melting temperature is lower than the sag point of the containing region 16 to form a laminated head block 21.
【0036】最後に、前記積層ヘッドブロック21の媒
体摺接側の端面にR付加工を施した後、該ヘッドブロッ
ク21の前記非磁性基板17を第1の非磁性基板17と
第2の非磁性基板17’になるように切断し、積層薄膜
3が第1,第2の非磁性基板17,17’に狭持された
図1に示す本実施例の磁気ヘッドを完成する。Finally, after rounding the end surface of the laminated head block 21 on the medium sliding contact side, the non-magnetic substrate 17 of the head block 21 is separated from the first non-magnetic substrate 17 and the second non-magnetic substrate 17. The magnetic head of the present embodiment shown in FIG. 1 in which the laminated thin film 3 is sandwiched between the first and second non-magnetic substrates 17 and 17 'is completed by cutting the magnetic head 17' into the magnetic substrate 17 '.
【0037】上述の本実施例の磁気ヘッドでは、非磁性
基板17,17’の屈伏点の温度より低い任意の温度の
屈伏点を有する含有領域16を形成でき、含有領域16
の表面の屈伏点近傍の温度から非磁性基板17,17’
の屈伏点の温度より低い適当な温度で加熱することによ
り、該含有領域16に含有されたガラス質により積層薄
膜3上に非磁性基板17’が直接融着接合されている。
このため、図2に示すように積層薄膜3と第2の非磁性
基板17’との間には軟質な接合層が形成されない。
又、非磁性基板17,17’の屈伏点温度より低い温度
で接合できるので、接合温度の設定の自由度が高く、含
有領域16の屈伏点より高い温度でも接合でき、堅固な
接合が得られる。又、非磁性基板17,17’の屈伏点
よりかなり低い温度で接合できるので、接合時の温度制
御が容易であり、製造が容易である。In the above-described magnetic head of this embodiment, the inclusion region 16 having a sag point at an arbitrary temperature lower than the sag point temperature of the nonmagnetic substrates 17 and 17 'can be formed.
From the temperature near the sag point on the surface of the non-magnetic substrate 17, 17 '
The non-magnetic substrate 17 'is directly fusion-bonded onto the laminated thin film 3 by virtue of the vitreous substance contained in the containing region 16 by heating at an appropriate temperature lower than the temperature of the sag point of.
Therefore, as shown in FIG. 2, a soft bonding layer is not formed between the laminated thin film 3 and the second non-magnetic substrate 17 '.
Further, since the joining can be performed at a temperature lower than the yielding point temperature of the non-magnetic substrates 17 and 17 ′, the degree of freedom in setting the joining temperature is high, and the joining can be performed even at a temperature higher than the yielding point of the containing region 16 and a firm joining can be obtained. .. In addition, since the bonding can be performed at a temperature considerably lower than the yield point of the non-magnetic substrates 17 and 17 ', the temperature control during bonding is easy and the manufacturing is easy.
【0038】又、含有領域16から、気泡が発生するこ
とはなく、媒体摺接面には気泡による孔は全く発生しな
い。Further, no bubbles are generated from the containing region 16, and no holes due to bubbles are generated on the medium sliding contact surface.
【0039】又、含有領域16は結晶化ガラス材がベー
スと成っているので、偏摩耗が起こらず、更に、含有領
域16に含まれるガラス質の濃度が連続的に変化するの
で、機械的特性、摩耗特性等が良好である。Further, since the content region 16 is formed of a crystallized glass material as a base, uneven wear does not occur, and the concentration of the vitreous material contained in the content region 16 continuously changes, so that the mechanical characteristics are improved. Good wear characteristics and the like.
【0040】又、本実施例の製造方法では、上述したよ
うに第1,第2の非磁性基板17,17’はその屈伏点
温度より低い温度で加熱するので、外形が変化せず、又
含有領域16も外形変化が起こらないので、図18の積
層ブロック19における積層薄膜3のピッチを非磁性基
板17の厚みにより高精度に設定できる。Further, in the manufacturing method of the present embodiment, since the first and second non-magnetic substrates 17 and 17 'are heated at a temperature lower than the yield point temperature as described above, the outer shape does not change, and Since the outer shape of the containing region 16 does not change, the pitch of the laminated thin film 3 in the laminated block 19 shown in FIG. 18 can be set with high accuracy by the thickness of the nonmagnetic substrate 17.
【0041】本発明の磁気ヘッド及びその製造方法は、
上記実施例に限定されず適宜変更が可能である。例え
ば、上記ヘッドでは、積層薄膜を磁気コアとしている
が、磁性膜単体からなる磁気コアでもよい。又、上記製
造方法では、含有領域を形成するのに接合ガラス板を用
いているが、結晶化ガラスからなる非磁性基板上にスク
リーン印刷でガラスぺーストの塗布、またはスパッタ等
でガラス層を形成した後、加熱して含有領域を形成する
ようにしてもよい。The magnetic head and the manufacturing method thereof according to the present invention are
The present invention is not limited to the above embodiment, and can be changed as appropriate. For example, in the above head, the laminated thin film is used as the magnetic core, but the magnetic core may be formed of a single magnetic film. Further, in the above manufacturing method, the bonded glass plate is used to form the containing region, but a glass paste is applied by screen printing on a non-magnetic substrate made of crystallized glass, or a glass layer is formed by sputtering or the like. After that, heating may be performed to form the containing region.
【0042】更に、図10に示すように含有領域16,
16を両面に形成した非磁性基板17と積層薄膜3を形
成した非磁性基板17を交互に積層して積層ブロックを
作製しても同様に本発明の磁気ヘッドが完成できる。Further, as shown in FIG.
The magnetic head of the present invention can be similarly completed by alternately laminating the non-magnetic substrate 17 having 16 formed on both sides thereof and the non-magnetic substrate 17 having the laminated thin film 3 formed thereon to form a laminated block.
【0043】更に、含有領域16はそのガラス質濃度が
上述のように変化せずとも同様の効果がある。Further, the containing region 16 has the same effect even if the vitreous concentration thereof does not change as described above.
【0044】[0044]
【発明の効果】本発明によれば、媒体摺接面に偏摩耗等
が生じず、媒体との当りが劣化するのを防止できると共
に、製造工程に於ける接合時の温度制御当が容易である
磁気ヘッドとその製造方法を提供し得る。According to the present invention, uneven wear or the like does not occur on the medium sliding contact surface, it is possible to prevent the contact with the medium from deteriorating, and it is easy to control the temperature at the time of joining in the manufacturing process. A magnetic head and a manufacturing method thereof can be provided.
Claims (3)
薄膜を形成し、該薄膜上に第2の非磁性基板を接合して
なる一対の第1,第2コア半体を有し、該第1、第2コ
ア半体の前記薄膜の端面同士を磁気ギャップとなる非磁
性材料を介して衝き合わせてなる磁気ヘッドにおいて、
第2の非磁性基板は前記薄膜と接する側にガラス質を含
有する領域が形成され、該領域が前記薄膜と融着接合さ
れてなることを特徴とする磁気ヘッド。1. A pair of first and second core halves formed by forming a thin film made of a magnetic material on a first non-magnetic substrate and joining a second non-magnetic substrate on the thin film. A magnetic head formed by abutting the end faces of the thin films of the first and second core halves with a non-magnetic material forming a magnetic gap,
The second non-magnetic substrate is formed with a region containing glass on the side in contact with the thin film, and the region is fusion-bonded to the thin film.
薄膜を形成し、該薄膜上に第2の非磁性基板を接合して
なる一対の第1,第2コア半体を有し、該第1、第2コ
ア半体の前記薄膜の端面同士を磁気ギャップとなる非磁
性材料を介して衝き合わせてなる磁気ヘッドの製造方法
において、非磁性基板の一方の面側にガラス質を含有さ
せ、他方の面に磁性材料からなる薄膜を形成して積層基
板を作製する工程と、前記積層基板を複数積層して融着
固定して積層ブロックを作製する工程と、積層ブロック
を切断加工して積層ヘッドピースを作製する工程と、一
対の積層ヘッドピースを絶縁膜を介して衝き合わせる工
程を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。2. A pair of first and second core halves formed by forming a thin film made of a magnetic material on a first non-magnetic substrate and joining a second non-magnetic substrate on the thin film. In a method of manufacturing a magnetic head, wherein the end surfaces of the thin films of the first and second core halves are butted against each other via a non-magnetic material that forms a magnetic gap, a glass material is provided on one surface side of the non-magnetic substrate. A step of forming a laminated substrate by including a thin film made of a magnetic material on the other surface, a step of laminating a plurality of the laminated substrates and fixing them by fusion to form a laminated block, and a cutting process of the laminated block A method of manufacturing a magnetic head, comprising: a step of producing a laminated head piece by performing a step of making a pair of laminated head pieces through an insulating film;
薄膜を形成し、該薄膜上に第2の非磁性基板を接合して
なる一対の第1,第2コア半体を有し、該第1、第2コ
ア半体の前記薄膜の端面同士を磁気ギャップとなる非磁
性材料を介して衝き合わせてなる磁気ヘッドの製造方法
において、第1の非磁性基板の両方の面側にガラス質を
含有させる工程と、第2の非磁性基板の一方の面に磁性
材料からなる薄膜を形成して作製する工程と、前記第1
の非磁性基板と第2の非磁性基板を交互に複数積層して
融着固定して積層ブロックを作製する工程と、積層ブロ
ックを切断加工して積層ヘッドピースを作製する工程
と、一対の積層ヘッドピースを絶縁膜を介して衝き合わ
せる工程を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。3. A pair of first and second core halves formed by forming a thin film made of a magnetic material on a first non-magnetic substrate and joining a second non-magnetic substrate on the thin film. In a method of manufacturing a magnetic head in which the end surfaces of the thin films of the first and second core halves are butted against each other via a non-magnetic material forming a magnetic gap, both surface sides of the first non-magnetic substrate are provided. A step of containing vitreous material; a step of forming a thin film made of a magnetic material on one surface of the second non-magnetic substrate to prepare;
A plurality of non-magnetic substrates and a second non-magnetic substrate are alternately laminated and fusion-fixed to produce a laminated block; a step of cutting the laminated block to produce a laminated head piece; A method of manufacturing a magnetic head, comprising a step of bringing head pieces into contact with each other via an insulating film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13906891A JPH0573841A (en) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | Magnetic head and production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
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JP13906891A JPH0573841A (en) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | Magnetic head and production thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0573841A true JPH0573841A (en) | 1993-03-26 |
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ID=15236748
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- 1991-06-11 JP JP13906891A patent/JPH0573841A/en active Pending
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