JPH06349019A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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Publication number
JPH06349019A
JPH06349019A JP13855193A JP13855193A JPH06349019A JP H06349019 A JPH06349019 A JP H06349019A JP 13855193 A JP13855193 A JP 13855193A JP 13855193 A JP13855193 A JP 13855193A JP H06349019 A JPH06349019 A JP H06349019A
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JP
Japan
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magnetic
substrate
thin film
magnetic head
laminated
Prior art date
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Pending
Application number
JP13855193A
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Japanese (ja)
Inventor
Michio Kumakiri
通雄 熊切
Kenji Kubota
賢司 窪田
Hiroyuki Nishigori
啓之 錦織
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
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Publication of JPH06349019A publication Critical patent/JPH06349019A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve contact with recording media and to prevent the generation of damages in substrates and films having magnetism. CONSTITUTION:Laminated films 3 are formed via metallic thin-film layers 13 consisting of metals, such as Ti, Cr, W, Zr and Mo, on the nonmagnetic substrate 121 consisting of cyrstallized glass and metal oxide thin-film layers 14 consisting of one or >=2 kinds of metal oxides such as SiO2, ZnO, Al2O3 and Ta2O5, are formed on the laminated films 3. The second nonmagnetic substrate 122 consisting of the same material as the material of the first nonmagnetic substrate 121 is joined onto these metal oxide thin-film layers 14 by the glassy material oozing from the crystallized glass constituting the substrate described above, by which first and second core half bodies 11a, 11b are formed. The end faces of the laminated films 3 of these first and second core half bodies 11a, 11b are butted via a nonmagnetic material to be formed as a magnetic gap 10, by which the magnetic head is constituted.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はVTRや磁気ディスク装
置等の磁気記録装置に用いられる磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head used in a magnetic recording device such as a VTR or a magnetic disk device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、高品位VTRデジタルVTR等の
広帯域の信号を扱う磁気記録装置に用いられる磁気ヘッ
ドとしては、例えば特開昭62−119709号公報に
開示されているような積層コア型磁気ヘッドが提案され
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, as a magnetic head used in a magnetic recording device for handling a wide band signal such as a high definition VTR digital VTR, for example, a laminated core type magnetic as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 62-119709. A head is proposed.

【0003】図8は上記従来の積層コア型磁気ヘッドの
外観を示す斜視図、図9は上記磁気ヘッドの媒体摺接面
を示す図である。
FIG. 8 is a perspective view showing the outer appearance of the conventional laminated core type magnetic head, and FIG. 9 is a view showing the medium sliding contact surface of the magnetic head.

【0004】図中、1a、1bは第1、第2コア半体で
あり、該第1、第2コア半体1a、1bは夫々、結晶化
ガラス、非磁性セラミックス等よりなる第1の非磁性基
板21、21上にFe−Al−Si系合金またはCoを
主成分とするアモルファス合金等の軟磁性合金よりなる
強磁性金属膜4とSiO2等の絶縁膜5との積層膜3、
3(磁性を有する膜)を成膜形成し、さらにその上に第
2の非磁性基板22、22を封着ガラス6、6により接
合固定してなる。前記第1コア半体1aにはガラス充填
溝7が、前記第2コア半体1bには巻線溝8が夫々形成
されている。前記第1、第2コア半体1a、1bは上記
積層膜3、3の端面が露出しているギャップ形成側の面
同士が突き合わされた状態で上記ガラス充填溝7内及び
巻線溝8の上端に充填された第2の封着ガラス9により
ギャップ接合されており、該接合面にはSiO2等を介
在させてなる磁気ギャップ10が形成されている。
In the figure, 1a and 1b are first and second core halves, and the first and second core halves 1a and 1b are first non-magnetic materials such as crystallized glass and non-magnetic ceramics. A laminated film 3 of a ferromagnetic metal film 4 made of a soft magnetic alloy such as an Fe—Al—Si alloy or an amorphous alloy containing Co as a main component and an insulating film 5 such as SiO 2 on the magnetic substrates 21 and 21.
3 (a film having magnetism) is formed, and the second non-magnetic substrates 22 and 22 are bonded and fixed thereon by the sealing glasses 6 and 6. A glass-filled groove 7 is formed in the first core half 1a, and a winding groove 8 is formed in the second core half 1b. In the first and second core halves 1a and 1b, in the glass filling groove 7 and the winding groove 8 in a state where the surfaces on the gap forming side where the end surfaces of the laminated films 3 and 3 are exposed are butted against each other. Gap-bonding is performed by the second sealing glass 9 with which the upper end is filled, and a magnetic gap 10 formed by interposing SiO 2 or the like is formed on the bonding surface.

【0005】しかしながら、上記従来の磁気ヘッドで
は、積層膜3上に第2の非磁性基板22を接合するため
の封着ガラス6としては、軟化点が400〜600℃、
ガラス接合時の溶着温度が500〜800℃のものが使
用されており、この種の封着ガラス6は前記第1、第2
の非磁性基板21、22に比べ化学的及び機械的耐久性
が劣るため、長時間にわたり磁気媒体を高速摺動させた
場合、前記封着ガラス6が偏摩耗するという問題があ
る。また、前記封着ガラス6によるガラス接合は、接合
面の汚れによる気泡の発生が起こり易いため、媒体摺接
面には前記気泡により孔が形成され、良好な磁気ヘッド
/磁気テープの走行系が得られないという問題も生じ
る。
However, in the above conventional magnetic head, the sealing glass 6 for bonding the second non-magnetic substrate 22 on the laminated film 3 has a softening point of 400 to 600 ° C.
A glass having a welding temperature of 500 to 800 ° C. at the time of glass bonding is used, and the sealing glass 6 of this type has the above-mentioned first and second sealing glasses.
Since the non-magnetic substrates 21 and 22 are inferior in chemical and mechanical durability, there is a problem that the sealing glass 6 is unevenly worn when the magnetic medium is slid at high speed for a long time. Further, in the glass bonding with the sealing glass 6, since bubbles are likely to be generated due to dirt on the bonding surfaces, holes are formed by the bubbles on the medium sliding contact surface, and a good magnetic head / magnetic tape running system is formed. There is also a problem that it cannot be obtained.

【0006】また、上記従来の磁気ヘッドを製造する場
合、封着ガラス6の厚みにバラツキがあるため、第1、
第2コア半体1a、1bを切り出す前の一対のブロック
において、積層膜3の積層ピッチにバラツキが生じ、前
記一対のブロックを突き合わせてギャップ接合する際、
積層膜3同士が対向せず、トラック幅がバラツキ、製造
歩留まりが悪化する。
Further, when manufacturing the above-mentioned conventional magnetic head, since the thickness of the sealing glass 6 varies,
In the pair of blocks before cutting out the second core halves 1a and 1b, the stacking pitch of the stacked film 3 varies, and when the pair of blocks are butted to each other for gap bonding,
The laminated films 3 do not face each other, the track width varies, and the manufacturing yield deteriorates.

【0007】上述の欠点を解消した磁気ヘッドとして、
例えば特開平4−61610号公報に開示されているも
のがある。
As a magnetic head which eliminates the above-mentioned drawbacks,
For example, there is one disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-61610.

【0008】この磁気ヘッドは、第1の非磁性基板上に
磁性膜を形成し、該磁性膜上に第2の非磁性基板を接合
して一対の第1、第2コア半体を構成したものにおい
て、前記第2の非磁性基板を屈伏点が500〜800℃
の結晶化ガラスにより形成し、前記第1の非磁性基板を
屈伏点が前記第2の非磁性基板の屈伏点よりも高い結晶
化ガラスにより形成し、前記第2の非磁性基板を前記磁
性膜上に直接融着接合したものであります。この磁気ヘ
ッドでは、第2の非磁性基板がその屈伏点温度での加熱
により該基板を構成する結晶化ガラス中からしみ出した
ガラス質によって磁性膜上に直接接合されるため、媒体
摺接面における磁性膜と第2の非磁性基板との間には軟
質な接合層が露出せず、また、気泡が発生することもな
い。
In this magnetic head, a magnetic film is formed on a first non-magnetic substrate, and a second non-magnetic substrate is bonded on the magnetic film to form a pair of first and second core halves. The yield point of the second non-magnetic substrate is 500 to 800 ° C.
Of crystallized glass, the first non-magnetic substrate is made of crystallized glass having a sag point higher than that of the second non-magnetic substrate, and the second non-magnetic substrate is formed of the magnetic film. It is directly fusion-bonded on top. In this magnetic head, the second non-magnetic substrate is directly bonded to the magnetic film by the glass exuding from the crystallized glass forming the substrate by heating at the deformation point temperature. The soft bonding layer is not exposed between the magnetic film and the second non-magnetic substrate and the bubble is not generated.

【0009】しかしながら、この磁気ヘッドにおいて
も、第1の非磁性基板と第2の非磁性基板との機械的強
度を合わせるため、屈伏点が近接するような基板を使用
する必要があり、接合時における加熱温度等の制御が困
難である。また、第1、第2の非磁性基板の機械的特性
を完全に一致させることは不可能であるため、媒体摺接
面における第1、第2の非磁性基板の摩耗が不均一であ
るという問題もある。また、前記第1、第2の非磁性基
板の熱膨張係数を完全に一致させることも不可能である
ため、製造工程において、接合後の変形や残留している
熱応力により前記非磁性基板にヒビが生じたり、磁性膜
に剥離が生じ、製造歩留まりが悪化する。更に、非磁性
基板を2種類用いるため、各々が入れ替わらないように
厳重にチェックする必要がある。
However, also in this magnetic head, in order to match the mechanical strength of the first non-magnetic substrate and the second non-magnetic substrate, it is necessary to use a substrate whose sag points are close to each other. It is difficult to control the heating temperature and so on. Further, since it is impossible to completely match the mechanical characteristics of the first and second non-magnetic substrates, the wear of the first and second non-magnetic substrates on the medium sliding contact surface is uneven. There are also problems. Further, since it is impossible to completely match the thermal expansion coefficients of the first and second non-magnetic substrates, in the manufacturing process, the non-magnetic substrates may be deformed due to deformation after bonding or residual thermal stress. Cracks are produced and the magnetic film is peeled off, which deteriorates the manufacturing yield. Furthermore, since two types of non-magnetic substrates are used, it is necessary to strictly check each of them so as not to replace each other.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来例の
欠点に鑑み為されたものであり、第1、第2の非磁性基
板の間に磁性を有する膜を形成して第1、第2のコア半
体を構成した磁気ヘッドにおいて、媒体摺接面に基板接
合用のガラス層が露出することにより媒体摺接面に偏摩
耗や気泡による孔が発生して磁気媒体との当りが悪くな
ることが防止され、且つ基板にヒビが発生したり、磁性
を有する膜に剥離が生じたりすることが防止され、しか
も基板接合時のガラスにより磁性を有する膜の磁気特性
が劣化することも防止した磁気ヘッドを提供することを
目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the conventional example. The first and second non-magnetic substrates are formed with a magnetic film between them. In the magnetic head having the two core halves, the glass layer for bonding the substrate is exposed on the medium sliding contact surface, and uneven wear and holes due to air bubbles are generated on the medium sliding contact surface, resulting in poor contact with the magnetic medium. It is also possible to prevent the occurrence of cracks on the substrate and the peeling of the magnetic film, and to prevent the magnetic properties of the magnetic film from being deteriorated by the glass when bonding the substrates. It is an object of the present invention to provide such a magnetic head.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
結晶化ガラスよりなる第1の非磁性基板上にTi、C
r、W、Zr、Mo等の金属よりなる金属薄膜層を介し
て磁性を有する膜を形成し、該磁性を有する膜上にSi
2、ZnO、Al23、Ta25等の1種または2種
以上の金属酸化物よりなる金属酸化物薄膜層を形成し、
該金属酸化物薄膜層上に前記第1の非磁性基板と同一材
料よりなる第2の非磁性基板を該基板を構成する結晶化
ガラスより染み出したガラス質により接合して第1、第
2のコア半体を形成し、該第1、第2のコア半体の前記
磁性を有する膜の端面同士を磁気ギャップとなる非磁性
材料を介して突き合わせてなる。
The magnetic head of the present invention comprises:
Ti, C on the first non-magnetic substrate made of crystallized glass
A magnetic film is formed through a metal thin film layer made of a metal such as r, W, Zr, or Mo, and Si is formed on the magnetic film.
Forming a metal oxide thin film layer composed of one or more metal oxides such as O 2 , ZnO, Al 2 O 3 and Ta 2 O 5 ;
A second non-magnetic substrate made of the same material as the first non-magnetic substrate is bonded onto the metal oxide thin film layer by vitreous material exuded from the crystallized glass forming the first and second substrates. Core half bodies are formed, and the end surfaces of the magnetic films of the first and second core half bodies are butted against each other via a non-magnetic material forming a magnetic gap.

【0012】[0012]

【作用】上記構成によれば、第2の非磁性基板は該基板
を構成する結晶化ガラスから染み出したガラス質によっ
て磁性を有する膜上に直接融着接合されるため媒体摺接
面の磁性を有する膜と第2の非磁性基板との間には軟質
な接合層は露出しない。更に、第1の非磁性基板と第2
の非磁性基板とが同一材料で形成されているので、両基
板の特性の違いにより生じる媒体摺接面の偏摩耗、基板
のヒビの発生、磁性を有する膜の剥離等は抑えられる。
更に、前記第2の非磁性基板を接合する際に、該第2に
非磁性基板から染み出したガラス質は金属酸化物薄膜層
により磁性を有する膜と反応するのが阻止され、第1の
非磁性基板から染み出したガラス質は金属薄膜層により
磁性を有する膜と反応するのが阻止される。
According to the above construction, the second non-magnetic substrate is directly fusion-bonded to the magnetic film by the glassy substance exuding from the crystallized glass forming the substrate, so that the magnetic property of the medium sliding surface is improved. The soft bonding layer is not exposed between the film having s and the second non-magnetic substrate. Furthermore, the first non-magnetic substrate and the second
Since the non-magnetic substrate is made of the same material, uneven wear of the medium sliding contact surface, cracking of the substrate, peeling of the magnetic film and the like caused by the difference in the characteristics of both substrates can be suppressed.
Further, when the second non-magnetic substrate is joined, the vitreous exuding from the second non-magnetic substrate is prevented from reacting with the magnetic film by the metal oxide thin film layer, The vitreous exuded from the non-magnetic substrate is prevented from reacting with the magnetic film by the metal thin film layer.

【0013】[0013]

【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0014】図1は本実施例の磁気ヘッドの外観を示す
斜視図、図2は上記磁気ヘッドの媒体摺接面を示す図で
あり、図8及び図9と同一部分には同一符号を付し、そ
の説明は割愛する。
FIG. 1 is a perspective view showing the external appearance of a magnetic head of this embodiment, and FIG. 2 is a view showing a medium sliding contact surface of the magnetic head. The same parts as those in FIGS. 8 and 9 are designated by the same reference numerals. I will omit the explanation.

【0015】本実施例の磁気ヘッドでは、第1、第2コ
ア半体11a、11bは夫々、第1の非磁性基板12
1、121上に高融点の金属薄膜層13、13が形成さ
れ、該金属薄膜層13、13上には積層膜3、3が形成
され、該積層膜3、3上には金属酸化物薄膜層14、1
4が形成され、該金属酸化物層14、14上には第2の
非磁性基板122、122が接合されている。前記金属
薄膜層13、13はTi、Cr、W、Zr、Mo等の1
種の金属からなり、500〜5000Åの膜厚を有す
る。また、前記金属酸化物薄膜層14、14はSi
2、ZnO、Al23、Ta25等の1種または2種
以上の金属酸化物からなり、500〜5000Åの膜厚
を有する。前記第1、第2の非磁性基板121、122
は共に同一の結晶化ガラスにより構成されており、具体
的にはLi2O−SiO2系の結晶化ガラスよりなる。そ
して、この結晶化ガラスの特性は熱膨張係数が120×
10-7/℃、屈伏点が640℃、密度が2.52g/c
3、ビッカース硬度が580kg/mm2、曲げ強度が
2200kg/cm2である。
In the magnetic head of this embodiment, the first and second core halves 11a and 11b are respectively the first non-magnetic substrate 12
1. High melting point metal thin film layers 13 and 13 are formed on 1, 121, laminated films 3 and 3 are formed on the metal thin film layers 13 and 13, and metal oxide thin films are formed on the laminated films 3 and 3. Layers 14, 1
4 is formed, and second non-magnetic substrates 122 and 122 are bonded on the metal oxide layers 14 and 14. The metal thin film layers 13 and 13 are made of Ti, Cr, W, Zr, Mo or the like.
It is made of a kind of metal and has a film thickness of 500 to 5000 Å. The metal oxide thin film layers 14 and 14 are made of Si.
O 2, ZnO, consists Al 2 O 3, Ta 2 O 5 1 kind or 2 or more metal oxides such as, having a thickness of 500 to 5000 Å. The first and second non-magnetic substrates 121 and 122
Are both made of the same crystallized glass, and specifically, they are made of Li 2 O—SiO 2 type crystallized glass. And the characteristic of this crystallized glass is that the coefficient of thermal expansion is 120 ×
10 -7 / ° C, yield point 640 ° C, density 2.52 g / c
m 3 , Vickers hardness is 580 kg / mm 2 , and bending strength is 2200 kg / cm 2 .

【0016】前記第2の非磁性基板122、122は、
その屈伏点での加熱により該基板を構成する結晶化ガラ
スより染み出したガラス質によって、前記金属酸化物薄
膜層14、14上に直接接合固定されている。この時、
前記金属酸化物薄膜層14は、結晶化ガラス中から染み
出したガラス質との反応が良いため、前記第2の非磁性
基板122とは強固な接合状態となる。また、前記金属
酸化物薄膜層14は、結晶化ガラス中から染み出したガ
ラス質が積層膜3と直接反応して、該積層膜3の磁気特
性が劣化するのを防止する役目も果たす。また、前記第
2の非磁性基板122をその屈伏点での加熱により接合
する際、上記第1の非磁性基板121を構成する結晶化
ガラス中からもガラス質が染み出そうとするが、前記金
属薄膜層13、13の存在により、この染み出したガラ
ス質が積層膜3と反応し該積層膜3の磁気特性を劣化さ
せることは防止される。
The second non-magnetic substrates 122 and 122 are
It is directly bonded and fixed onto the metal oxide thin film layers 14 and 14 by vitreous material exuded from the crystallized glass constituting the substrate by heating at the sag point. At this time,
Since the metal oxide thin film layer 14 has a good reaction with the glassy substance exuded from the crystallized glass, the metal oxide thin film layer 14 is firmly bonded to the second non-magnetic substrate 122. Further, the metal oxide thin film layer 14 also serves to prevent the vitreous exuded from the crystallized glass from directly reacting with the laminated film 3 to deteriorate the magnetic characteristics of the laminated film 3. Further, when the second non-magnetic substrate 122 is joined by heating at its sag point, vitreous tends to exude from the crystallized glass forming the first non-magnetic substrate 121. The presence of the metal thin film layers 13 and 13 prevents the exuded glass from reacting with the laminated film 3 and deteriorating the magnetic characteristics of the laminated film 3.

【0017】尚、上記第1、第2の非磁性基板121、
122を構成する結晶化ガラスの屈伏点温度としては、
基板接合時における温度(この時の温度は屈伏点温度に
等しい)においても積層膜3の磁気特性を劣化させない
ために650℃以下が望ましく、一方、ギャップ接合時
において十分な耐熱性が必要であるため、550℃以上
が望ましい。即ち、前記第1、第2の非磁性基板12
1、122を構成する結晶化ガラスの屈伏点温度は55
0〜650℃が適している。
The first and second non-magnetic substrates 121,
As the deformation point temperature of the crystallized glass forming 122,
650 ° C. or lower is desirable in order not to deteriorate the magnetic characteristics of the laminated film 3 even at the temperature at the time of substrate bonding (the temperature at this time is equal to the yield point temperature), while sufficient heat resistance is required at the time of gap bonding. Therefore, 550 ° C. or higher is desirable. That is, the first and second non-magnetic substrates 12
The yield point temperature of the crystallized glass constituting 1,122 is 55.
A temperature of 0 to 650 ° C is suitable.

【0018】次に、上記実施例の磁気ヘッドの製造方法
について説明する。
Next, a method of manufacturing the magnetic head of the above embodiment will be described.

【0019】まず、図3に示すように、結晶化ガラスよ
りなる非磁性基板12の上面にスパッタリング等により
Ti、Cr等よりなる500〜5000Å厚の金属薄膜
層13を被着形成し、更にその上面にスパッタリング等
により強磁性金属膜と絶縁膜との積層膜3を5〜20μ
m厚被着形成し、更にその上面にSiO2、ZnO、A
23等からなる500〜5000Åの金属酸化物薄膜
層14を被着形成して積層基板15を形成する。
First, as shown in FIG. 3, a metal thin film layer 13 made of Ti, Cr or the like and having a thickness of 500 to 5000 Å is formed on the upper surface of a non-magnetic substrate 12 made of crystallized glass by sputtering or the like, and then the thin film layer 13 is formed. A laminated film 3 of a ferromagnetic metal film and an insulating film is formed on the upper surface by sputtering or the like in an amount of 5 to 20 μm.
m thickness is formed, and SiO 2 , ZnO, A
A metal oxide thin film layer 14 of 500 to 5000 Å made of l 2 O 3 or the like is adhered and formed to form a laminated substrate 15.

【0020】次に、図4に示すように、前記積層基板1
5を複数枚用意し、積み重ね、さらにその最上面に非磁
性基板12を配置した状態で、この積み重ねたものを前
記非磁性基板12を構成する結晶化ガラスの屈伏点温度
550〜650℃まで加熱し、2kg/cm2で1時
間、加圧保持することにより、前記結晶化ガラス中より
ガラス質を染み出させ、このガラス質によるガラス接合
により前記複数の積層基板15を一体化して積層ブロッ
ク16を形成する。
Next, as shown in FIG. 4, the laminated substrate 1
A plurality of sheets of No. 5 are prepared and stacked, and the non-magnetic substrate 12 is placed on the uppermost surface thereof, and the stacked ones are heated to a deformation point temperature of 550 to 650 ° C. Then, by pressurizing and holding at 2 kg / cm 2 for 1 hour, the vitreous substance is exuded from the crystallized glass, and the plural laminated substrates 15 are integrated by the glass bonding by the vitreous substance to form a laminated block 16 To form.

【0021】次に、前記積層ブロック16を図5に示す
破線a−a’、b−b’に沿って切断して、図6に示す
ように、一対の第1、第2の積層ヘッドピース17a、
17bを形成する。
Next, the laminated block 16 is cut along broken lines aa 'and bb' shown in FIG. 5, and as shown in FIG. 6, a pair of first and second laminated head pieces. 17a,
17b is formed.

【0022】次に、図7に示すように、前記第1の積層
ヘッドピース17aのギャップ形成側の面にガラス充填
溝7を形成し、前記第2の積層ヘッドピース17bのギ
ャップ形成側の面に巻線溝8を形成した後、前記第1、
第2の積層ヘッドピース17a、17bのギャップ形成
面同士をギャップスペーサを介して突き合わせた状態
で、溶融温度が上述の結晶化ガラスの屈伏点温度よりも
低い低融点の封着ガラス9、9によりギャップ接合して
積層ヘッドブロック18を形成する。
Next, as shown in FIG. 7, a glass filling groove 7 is formed on the gap forming side surface of the first laminated head piece 17a, and the gap forming side surface of the second laminated head piece 17b is formed. After forming the winding groove 8 in the first,
In the state where the gap forming surfaces of the second laminated head pieces 17a and 17b are butted against each other via the gap spacer, the sealing glass 9 and 9 having a low melting point whose melting temperature is lower than the deformation point temperature of the above-mentioned crystallized glass is used. The laminated head block 18 is formed by gap bonding.

【0023】以後は、前記積層ヘッドブロック18を切
断して複数の積層ヘッドチップを形成し、該積層ヘッド
チップに所定の形状加工を施すことにより図1に示す本
実施例の積層コア型磁気ヘッドが完成する。尚、この切
断工程により前記非磁性基板12は第1の非磁性基板1
21と第2の非磁性基板122とに分断される。
Thereafter, the laminated head block 18 is cut to form a plurality of laminated head chips, and the laminated head chips are subjected to a predetermined shape processing to form a laminated core type magnetic head of this embodiment shown in FIG. Is completed. It should be noted that, by this cutting step, the non-magnetic substrate 12 becomes
21 and the second non-magnetic substrate 122.

【0024】上述のような本実施例の磁気ヘッドでは、
第2の非磁性基板122は該基板を構成する結晶化ガラ
スの屈伏点温度で加熱することにより、該結晶化ガラス
中よりガラス質を染み出させ、この染み出したガラス質
により積層膜3上に形成された金属酸化物薄膜層14上
に直接接合されている。このため、積層膜3と第2の非
磁性基板122との間には軟質な接合層が存在しない。
また、屈伏点温度での加熱では、前記結晶化ガラスから
気泡が発生することはなく、媒体摺接面には気泡による
孔は全く発生しない。また、前記第1、第2の非磁性基
板121、122は同一の結晶化ガラスにより形成され
ているので、媒体摺接面において前記第1、第2の非磁
性基板121、122は均一に摩耗する。更に、前記第
1、第2の非磁性基板は121、122は熱膨張係数が
同じであるので、第2の非磁性基板122を接合した
後、残留した熱応力等により第1、第2の非磁性基板1
21、122にヒビが発生したり、積層膜3が剥離した
りすることはない。
In the magnetic head of this embodiment as described above,
The second non-magnetic substrate 122 is heated at the deformation point temperature of the crystallized glass forming the substrate so that the glassy substance exudes from the crystallized glass. It is directly bonded onto the metal oxide thin film layer 14 formed in the above. Therefore, there is no soft bonding layer between the laminated film 3 and the second nonmagnetic substrate 122.
Further, when heated at the deformation point temperature, no bubbles are generated from the crystallized glass, and no holes due to bubbles are generated on the medium sliding contact surface. Further, since the first and second non-magnetic substrates 121 and 122 are formed of the same crystallized glass, the first and second non-magnetic substrates 121 and 122 are evenly worn on the medium sliding contact surface. To do. Further, since the first and second non-magnetic substrates 121 and 122 have the same coefficient of thermal expansion, the first and second non-magnetic substrates 121 and 122 are bonded to each other due to residual thermal stress or the like. Non-magnetic substrate 1
There is no occurrence of cracks in 21 or 122 and peeling of the laminated film 3.

【0025】また、前記第2の非磁性基板122を接合
する際、第1、第2の非磁性基板121、122から染
み出したガラス質が積層膜3と反応することは、第1の
非磁性基板121上に形成された金属薄膜層13、及び
積層膜3上に形成された金属酸化物薄膜層14により阻
止されるため、前記積層膜3の磁気特性が劣化すること
も防止される。
Further, when the second non-magnetic substrate 122 is bonded, the vitreous exuded from the first and second non-magnetic substrates 121 and 122 reacts with the laminated film 3 because of the reaction of the first non-magnetic substrate. Since the metal thin film layer 13 formed on the magnetic substrate 121 and the metal oxide thin film layer 14 formed on the laminated film 3 prevent this, deterioration of the magnetic characteristics of the laminated film 3 is also prevented.

【0026】また、本実施例の製造方法では、非磁性基
板12は、該基板を構成する結晶化ガラスの屈伏点温度
での加熱では外形が変形しないので、図4に示す積層ブ
ロック15における積層膜3のピッチは前記非磁性基板
12の厚みにより高精度に規定することが出来、図7に
示すギャップ接合時において、第1、第2の積層ヘッド
ピース17a、17bの積層膜3同士を容易に、且つ正
確に対向させることが出来、高精度な磁気ギャップ10
を形成することが出来る。
Further, in the manufacturing method of this embodiment, the non-magnetic substrate 12 does not have its outer shape deformed by heating at the deformation point temperature of the crystallized glass forming the substrate, so that the lamination block 15 shown in FIG. The pitch of the films 3 can be defined with high accuracy by the thickness of the non-magnetic substrate 12, and the laminated films 3 of the first and second laminated head pieces 17a and 17b can be easily formed at the time of gap bonding shown in FIG. Highly accurate magnetic gap 10 that can be accurately opposed to each other.
Can be formed.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明によれば、媒体摺接面に偏摩耗等
が原因で媒体との当りが悪くなることを防止し、且つ基
板接合時における熱や接合ガラスとの接触が原因で基板
や磁性を有する膜に損傷が生じたり、磁性を有する膜の
磁気特性が劣化することを防止した磁気ヘッドを提供し
得る。
According to the present invention, it is possible to prevent poor contact with a medium due to uneven wear or the like on the sliding surface of the medium, and to prevent heat from contacting the substrates or contact with the bonding glass. It is possible to provide a magnetic head that prevents damage to the magnetic film and deterioration of the magnetic characteristics of the magnetic film.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁気ヘッドの外観を示す斜視図であ
る。
FIG. 1 is a perspective view showing the appearance of a magnetic head of the present invention.

【図2】本発明の磁気ヘッドの媒体摺接面を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing a medium sliding contact surface of the magnetic head of the present invention.

【図3】本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図で
ある。
FIG. 3 is a perspective view showing a method of manufacturing a magnetic head of the present invention.

【図4】本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図で
ある。
FIG. 4 is a perspective view showing a method of manufacturing a magnetic head of the present invention.

【図5】本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図で
ある。
FIG. 5 is a perspective view showing a method of manufacturing a magnetic head of the present invention.

【図6】本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図で
ある。
FIG. 6 is a perspective view showing a method of manufacturing a magnetic head of the present invention.

【図7】本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図で
ある。
FIG. 7 is a perspective view showing a method of manufacturing a magnetic head of the present invention.

【図8】従来の磁気ヘッドの外観を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing the appearance of a conventional magnetic head.

【図9】従来の磁気ヘッドの媒体摺接面を示す斜視図で
ある。
FIG. 9 is a perspective view showing a medium sliding contact surface of a conventional magnetic head.

【符合の説明】[Explanation of sign]

3 積層膜(磁性を有する膜) 10 磁気ギャップ 11a 第1コア半体 11b 第2コア半体 121 第1の非磁性基板 122 第2の非磁性基板 13 金属薄膜層 14 金属酸化物薄膜層 3 laminated film (film having magnetism) 10 magnetic gap 11a first core half body 11b second core half body 121 first non-magnetic substrate 122 second non-magnetic substrate 13 metal thin film layer 14 metal oxide thin film layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 結晶化ガラスよりなる第1の非磁性基板
上に金属薄膜層を介して磁性を有する膜を形成し、該磁
性を有する膜上に金属酸化物薄膜層を形成し、該金属酸
化物薄膜層上に前記第1の非磁性基板と同一材料よりな
る第2の非磁性基板を該基板を構成する結晶化ガラスよ
り染み出したガラス質により接合して第1、第2のコア
半体を形成し、該第1、第2のコア半体の前記磁性を有
する膜の端面同士を磁気ギャップとなる非磁性材料を介
して突き合わせてなる磁気ヘッド。
1. A magnetic film is formed on a first non-magnetic substrate made of crystallized glass via a metal thin film layer, and a metal oxide thin film layer is formed on the magnetic film. A second non-magnetic substrate made of the same material as the first non-magnetic substrate is bonded onto the oxide thin film layer by vitreous material exuded from the crystallized glass forming the first and second cores. A magnetic head comprising a half body, and end faces of the magnetic films of the first and second core halves are butted against each other via a non-magnetic material serving as a magnetic gap.
【請求項2】 前記金属薄膜層がTi、Cr、W、Z
r、Mo等の金属よりなることを特徴とする請求項1記
載の磁気ヘッド。
2. The metal thin film layer is made of Ti, Cr, W, Z.
The magnetic head according to claim 1, which is made of a metal such as r or Mo.
【請求項3】 前記金属酸化物薄膜層がSiO2、Zn
O、Al23、Ta25等の1種または2種以上の金属
酸化物からなることを特徴とする請求項1または2記載
の磁気ヘッド。
3. The metal oxide thin film layer comprises SiO 2 , Zn
3. The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head is made of one or more metal oxides such as O, Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 and the like.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100247469B1 (en) * 1995-02-03 2000-03-15 가타오카 마사타카 Magnetic head and magnetic head device using the same

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