JPH06223313A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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Publication number
JPH06223313A
JPH06223313A JP3445493A JP3445493A JPH06223313A JP H06223313 A JPH06223313 A JP H06223313A JP 3445493 A JP3445493 A JP 3445493A JP 3445493 A JP3445493 A JP 3445493A JP H06223313 A JPH06223313 A JP H06223313A
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JP
Japan
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magnetic
glass
substrate
film
substrates
Prior art date
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Pending
Application number
JP3445493A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichi Ogata
誠一 小形
Tadashi Saito
正 斎藤
Shinji Takahashi
伸司 高橋
Tomio Kobayashi
富夫 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP3445493A priority Critical patent/JPH06223313A/en
Publication of JPH06223313A publication Critical patent/JPH06223313A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To prevent peeling of a junction part of a magnetic ferrite substrate and a non-magnetic substrate as caused by heating in the lamination of the substrate. CONSTITUTION:A magnetic head is made up of a pair of magnetic core half bodies 7 and 8 joined together. The magnetic core half bodies 7 and 8 has metal magnetic films 1 and 2 sandwiched with first substrates 3 and 4 in which slide contact parts 3a and 4a with a magnetic recording medium sliding in contact therewith comprises a non-magnetic material N and back parts 3b and 4b comprises a magnetic material M and second substrates 5 and 6 comprising a non-magnetic material N. A glass transition point Tg of glass with which the slide contact parts 3a and 4a of the first substrates 3 and 4 is made higher than a glass yielding point Tc of the glass with which the first substrates 3 and 4 are joined on the second substrates 5 and 6 sandwiching the metal magnetic films 1 and 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ等に搭載される磁気ヘッドに関し、特に高密度磁
気記録用ヘッドとして最適な磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head mounted on, for example, a video tape recorder, and more particularly to a magnetic head most suitable as a high density magnetic recording head.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、磁気記録の分野においては、高
周波特性に優れる高密度磁気記録用の磁気ヘッドとして
金属磁性薄膜を絶縁膜を介して何層にも積層してなる積
層メタル膜ヘッドの開発が行われている。かかる磁気ヘ
ッドとしては、例えば膜厚の薄い金属磁性薄膜を絶縁膜
を介して何層にも積層してなる積層メタル膜を一対の磁
気コア基板によって挾み込んで作製される磁気コア半体
同士を、上記積層メタル膜の端面同士を突き合わせて融
着ガラスにより接合一体化することにより構成される。
2. Description of the Related Art In the field of magnetic recording, for example, as a magnetic head for high-density magnetic recording having excellent high frequency characteristics, development of a laminated metal film head in which metal magnetic thin films are laminated in multiple layers with an insulating film interposed therebetween. Is being done. As such a magnetic head, for example, magnetic core halves made by sandwiching a laminated metal film formed by laminating a number of thin metal magnetic thin films with an insulating film interposed between a pair of magnetic core substrates. Is formed by abutting the end faces of the laminated metal film with each other and joining and integrating them with fused glass.

【0003】一般に、この種の磁気ヘッドにおいては、
積層メタル膜の膜厚を磁気ギャップのトラック幅とする
ことから、上記磁気コア基板にはセラミックスや結晶化
ガラス等の非磁性材料よりなる基板が用いられる。
Generally, in this type of magnetic head,
Since the film thickness of the laminated metal film is the track width of the magnetic gap, a substrate made of a non-magnetic material such as ceramics or crystallized glass is used as the magnetic core substrate.

【0004】しかしながら、かかる磁気ヘッドにおい
て、さらなる高密度記録を達成するためにトラック幅を
狭くして行くと、磁路を構成するコア断面積の減少によ
ってヘッド効率が劣化する。
However, in such a magnetic head, when the track width is narrowed in order to achieve higher density recording, the head efficiency is deteriorated due to the reduction of the cross-sectional area of the core forming the magnetic path.

【0005】このため、従来においては、コア断面積の
確保によってヘッド効率の劣化を防止すべく、磁気コア
基板に磁性フェライトを使用する方法と磁性フェライト
と非磁性材料とを接合してなる接合基板を用いることが
提案されている。これらの方法によれば、狭トラック化
した場合でも、磁性フェライトによってコア断面積が充
分に確保されることから、非磁性基板を用いた磁気ヘッ
ドに比べてヘッド効率の劣化を抑制することができる。
Therefore, in the prior art, in order to prevent deterioration of head efficiency by securing the core cross-sectional area, a method of using magnetic ferrite for the magnetic core substrate and a bonded substrate formed by bonding magnetic ferrite and a non-magnetic material Is proposed to be used. According to these methods, even if the track is narrowed, the core cross-sectional area is sufficiently secured by the magnetic ferrite, so that deterioration of head efficiency can be suppressed as compared with a magnetic head using a non-magnetic substrate. .

【0006】このうち、磁性フェライト基板を用いて積
層メタル膜ヘッドを作成しようとした場合、トラック幅
を規制するための工程が必要となるため、製造工程が煩
雑化する。また、トラック幅を機械加工によって出すた
め、狭トラック化すればする程寸法精度を出し難くな
る。
Of these, when an attempt is made to produce a laminated metal film head using a magnetic ferrite substrate, a step for regulating the track width is required, which complicates the manufacturing process. Further, since the track width is obtained by machining, the narrower the track, the more difficult it is to obtain dimensional accuracy.

【0007】一方、フェライト基板と非磁性基板を接合
してなる接合基板を用いる場合、これらの接合を低温熱
拡散による金属接合或いはガラスによったとしても、そ
の後に金属磁性膜を成膜する前工程でこれらの接合基板
の主面をポリッシング等によって鏡面加工を行うと、接
合部分に10〜20nm程度の段差が発生する。かかる
段差は、次工程で成膜される金属磁性膜の磁気特性に悪
影響を及ぼす。
On the other hand, in the case of using a bonding substrate formed by bonding a ferrite substrate and a non-magnetic substrate, even if these bondings are made by metal bonding by low temperature thermal diffusion or glass, before the metal magnetic film is formed thereafter. When the main surfaces of these bonded substrates are mirror-polished by polishing or the like in the process, a step difference of about 10 to 20 nm occurs at the bonded portion. Such a step adversely affects the magnetic characteristics of the metal magnetic film formed in the next step.

【0008】従って、スパッタリング等を用いて金属磁
性膜を成膜する基板には非磁性基板を用いることが望ま
しく、金属磁性膜を介して重ね合わされる側の基板には
磁性フェライト基板と非磁性基板の接合基板を用いるこ
とが望ましい。このようにすれば、金属磁性膜の磁気特
性の劣化が生じず、しかも磁性フェライト基板によって
コア断面積が確保され、ヘッド効率の低下を抑制でき
る。
Therefore, it is desirable to use a non-magnetic substrate for the substrate on which the metal magnetic film is formed by sputtering or the like, and a magnetic ferrite substrate and a non-magnetic substrate are used for the substrate on which the metal magnetic film is laminated. It is desirable to use the bonded substrate. With this configuration, the magnetic characteristics of the metal magnetic film are not deteriorated, the core cross-sectional area is secured by the magnetic ferrite substrate, and the reduction in head efficiency can be suppressed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、接合基板を
作成するには、低温熱拡散を用いた金属接合による場合
又はスパッタリング等で形成したガラス膜或いはスピン
コーティング等で塗布したフリットガラスを用いる方法
が挙げられる。
By the way, in order to produce a bonded substrate, there is a method of metal bonding using low temperature thermal diffusion, or a method of using a glass film formed by sputtering or the like, or frit glass coated by spin coating or the like. Can be mentioned.

【0010】ところが、低温熱拡散を用いた金属接合に
よる場合には、接合面の面粗さ、平坦度を極端に良くす
る必要があり、作業が面倒で工程も煩雑化する。一方、
ガラスを使用した場合には、金属磁性膜を挾んで積層さ
れる基板積層の際の加熱によって接合部に剥がれが発生
し易いという問題がある。
However, in the case of metal bonding using low temperature heat diffusion, it is necessary to extremely improve the surface roughness and flatness of the bonding surface, which is troublesome and the process becomes complicated. on the other hand,
When glass is used, there is a problem that peeling is likely to occur at the bonding portion due to heating during the lamination of the substrates sandwiching the metal magnetic film.

【0011】そこで本発明は、かかる従来の技術的な実
情に鑑みて提案されたものであって、基板積層の際の加
熱による磁性フェライト基板と非磁性基板の接合部の剥
がれを防止することができる信頼性の高い磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of such conventional technical circumstances, and it is possible to prevent peeling of a joint portion between a magnetic ferrite substrate and a non-magnetic substrate due to heating during substrate lamination. An object of the present invention is to provide a magnetic head having high reliability.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、磁気記録媒体が摺接する摺接部が非磁
性材料よりなりバック部が磁性材料よりなる第1の基板
と、非磁性材料よりなる第2の基板とによって金属磁性
膜をその膜厚方向より挾み込んでなる一対の磁気コア半
体を接合一体化してなる磁気ヘッドにおいて、第1の基
板の摺接部とバック部を接合するガラスのガラス転移点
Tgが、上記金属磁性膜を挾んで第1の基板と第2の基
板を接合するガラスのガラス屈伏点Tcよりも高いこと
を特徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a first substrate in which a sliding contact portion in sliding contact with a magnetic recording medium is made of a non-magnetic material and a back portion is made of a magnetic material. In a magnetic head in which a pair of magnetic core halves formed by sandwiching a metal magnetic film in the film thickness direction with a second substrate made of a non-magnetic material are joined and integrated, the sliding contact portion of the first substrate The glass transition point Tg of the glass that joins the back portion is higher than the glass deformation point Tc of the glass that joins the first substrate and the second substrate across the metal magnetic film.

【0013】[0013]

【作用】本発明に係る磁気ヘッドにおいては、第1の基
板の摺接部とバック部を接合するガラスのガラス転移点
Tgを、金属磁性膜を挾んで第1の基板と第2の基板を
接合するガラスのガラス屈伏点Tcよりも高くしている
ので、上記金属磁性膜を挾んで第1の基板と第2の基板
を接合したときに、上記第1の基板の接合部に剥がれが
生じない。
In the magnetic head according to the present invention, the glass transition point Tg of the glass that joins the sliding contact portion and the back portion of the first substrate is sandwiched between the first substrate and the second substrate by sandwiching the metal magnetic film. Since the temperature is higher than the glass deformation point Tc of the glass to be bonded, when the first substrate and the second substrate are bonded with the metal magnetic film sandwiched therebetween, peeling occurs at the bonding portion of the first substrate. Absent.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。本実施例の磁
気ヘッドは、図1に示すように、金属磁性膜1,2がそ
の膜厚方向より第1の基板3,4と第2の基板5,6に
よって挟み込まれてなる一対の磁気コア半体7,8から
なり、これら磁気コア半体7,8が上記金属磁性膜1,
2の端面同士を突合わせるようにして融着ガラス9によ
り接合一体化されて構成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the magnetic head of this embodiment has a pair of magnetic layers in which metal magnetic films 1 and 2 are sandwiched between first substrate 3 and 4 and second substrate 5 and 6 in the thickness direction. The magnetic core halves 7 and 8 are composed of the core halves 7 and 8.
The two end faces are abutted to each other and are joined and integrated by the fused glass 9.

【0015】上記磁気コア半体7,8は、主コアとなる
金属磁性膜1,2とこれを膜厚方向より挾み込む補助コ
アとなる第1の基板3,4と第2の基板5,6とから構
成され、該第2の基板5,6の一主面に被着形成される
金属磁性膜1,2を挾み込むようにして第1の基板3,
4が積層されることにより接合一体化されている。
The magnetic core halves 7 and 8 are composed of the metallic magnetic films 1 and 2 serving as main cores, and the first and second substrates 3 and 4 serving as auxiliary cores sandwiching the magnetic magnetic films 1 and 2 from the thickness direction. , 6 to sandwich the metal magnetic films 1 and 2 deposited on one main surface of the second substrates 5 and 6 so as to sandwich the first substrate 3,
4 are laminated to be joined and integrated.

【0016】上記金属磁性膜1,2は、図3に磁気記録
媒体摺動面を拡大して示すように、高周波特性を向上さ
せる目的で膜厚の薄い磁性金属薄膜1a,1b及び2
a,2bを絶縁膜10b,11bを介して何層にも積層
してなる積層メタル膜とされている。そして、上記第2
の基板5,6と磁性金属薄膜1a,2aとの界面には、
これらの付着力の向上並びに反応防止として機能する下
地膜10a,11aが成膜されている。
The metal magnetic films 1 and 2 are thin magnetic metal thin films 1a, 1b and 2 for the purpose of improving high frequency characteristics, as shown in an enlarged view of the sliding surface of the magnetic recording medium in FIG.
It is a laminated metal film formed by laminating a and 2b in multiple layers with insulating films 10b and 11b interposed therebetween. And the second
At the interfaces between the substrates 5 and 6 and the magnetic metal thin films 1a and 2a,
Base films 10a and 11a are formed to improve the adhesive force and prevent the reaction.

【0017】上記磁性金属薄膜1a,1b及び2a,2
bには、例えばセンダスト(Fe−Al−Si)やFe
−Ru−Ga−Si、又はこれらにO,N等を添加した
結晶質磁性金属材料或いはFe系又はCo系の微結晶磁
性金属材料よりなる膜がいずれも使用できる。ここでの
磁性金属薄膜1a,1b及び2a,2bの膜厚は、渦電
流損失の回避という観点から1層当たりの膜厚を2〜5
μmとすることが望ましい。
The magnetic metal thin films 1a, 1b and 2a, 2
In b, for example, sendust (Fe-Al-Si) or Fe
A film made of -Ru-Ga-Si, a crystalline magnetic metal material obtained by adding O, N, or the like to these, or a Fe-based or Co-based microcrystalline magnetic metal material can be used. The thickness of the magnetic metal thin films 1a, 1b and 2a, 2b herein is 2 to 5 per layer from the viewpoint of avoiding eddy current loss.
It is desirable that the thickness is μm.

【0018】そして、上記絶縁膜10b,11bには、
例えばSiO2 ,Ta2 5 等の酸化物膜やSi3 4
等の窒化物膜等が使用される。上記絶縁膜10b,11
bの膜厚としては、例えば0.1〜0.3μm程度が好
ましい。
The insulating films 10b and 11b are
For example, an oxide film such as SiO 2 or Ta 2 O 5 or Si 3 N 4
A nitride film or the like is used. The insulating films 10b and 11
The film thickness of b is preferably about 0.1 to 0.3 μm, for example.

【0019】一方、下地膜10a,11aには、磁性金
属薄膜1a,2aと第2の基板5,6との付着力を高め
る必要性から、SiO2 ,Ta2 5 等の酸化物膜、S
34 等の窒化物膜、Cr,Al,Si,Pt等の金
属膜及びそれらの合金膜或いはそれらを組合わせた積層
膜等が使用される。
Meanwhile, the base film 10a, the 11a, the magnetic metal thin film 1a, 2a and the need to increase the adhesion between the second substrate 5, 6, SiO 2, Ta 2 O 5 or the like oxide film, S
A nitride film of i 3 N 4 or the like, a metal film of Cr, Al, Si, Pt or the like, an alloy film thereof, or a laminated film combining them is used.

【0020】なお、本実施例では、磁性金属薄膜1a,
1b及び2a,2bにセンダスト、絶縁膜10b,11
bにSiO2 、下地膜10a,11aにSiO2 よりな
る膜を使用した。そのときの膜厚は、トラック幅を5μ
mとするために、1層当たりの磁性金属薄膜1a,1
b,2a,2bを2.4μm、絶縁膜10b,11bを
0.2μm、下地膜10a,11aを50nmとした。
In this embodiment, the magnetic metal thin film 1a,
Sendust and insulating films 10b and 11 on 1b and 2a and 2b
SiO 2 was used for b, and films made of SiO 2 were used for the base films 10a and 11a. The film thickness at that time is 5μ when the track width is
In order to set m, the magnetic metal thin films 1a, 1
b, 2a and 2b are 2.4 μm, insulating films 10b and 11b are 0.2 μm, and base films 10a and 11a are 50 nm.

【0021】上記第1の基板3,4は、磁気記録媒体と
摺接する摺接部3a,4aが非磁性材料Nよりなり、そ
の他の部分であるバック部3b,4bが磁性材料Mから
なっている。摺接部3a,4aとバック部3b,4b
は、本実施例では磁気ギャップgのデプスを規制しコイ
ルを巻装するための巻線溝12,13の傾斜面12a,
13aの中途部位置で接合一体化されている。
In the first substrates 3 and 4, the sliding contact portions 3a and 4a which are in sliding contact with the magnetic recording medium are made of a non-magnetic material N, and the back portions 3b and 4b which are the other portions are made of a magnetic material M. There is. Sliding contact parts 3a, 4a and back parts 3b, 4b
In this embodiment, the inclined surfaces 12a of the winding grooves 12 and 13 for controlling the depth of the magnetic gap g and winding the coil,
13a is joined and integrated at a midway position.

【0022】これら摺接部3a,4aとバック部3b,
4bとは、図2にその接合部分を拡大して示すように、
Crよりなる下地膜14a,14bを介してガラスをス
パッタリングしてなるガラス膜15によって接合一体化
されている。摺接部3a,4aとガラス膜15間及びバ
ック部3b,4bとガラス膜15間に介在される下地膜
14a,14bは、当該ガラス膜15の付着力の向上或
いは反応防止等を目的として設けられるものである。な
お、図2には一方の磁気コア半体7のみを示してある
が、他方の磁気コア半体8も同様の構成である。
These sliding contact portions 3a, 4a and the back portion 3b,
4b, as shown in FIG.
It is joined and integrated by a glass film 15 formed by sputtering glass through underlying films 14a and 14b made of Cr. The base films 14a and 14b interposed between the sliding contact portions 3a and 4a and the glass film 15 and between the back portions 3b and 4b and the glass film 15 are provided for the purpose of improving the adhesive force of the glass film 15 or preventing reaction. It is what is done. Although only one magnetic core half body 7 is shown in FIG. 2, the other magnetic core half body 8 has the same structure.

【0023】上記ガラス膜15には、ガラスをスパッタ
リングして作成されたもの以外に、スピンコーティング
等によって塗布されたフリットガラスよりなる膜が使用
できる。そして、下地膜14a,14bには、Si
2 ,Ta2 5 等の酸化物膜、Si3 4 等の窒化物
膜、Crの他Al,Si,Pt等の金属膜或いはそれら
を組合わせた積層膜等が使用できる。本実施例では、摺
接部3a,4aとバック部3b,4bの接合界面にそれ
ぞれ0.1μm厚のCr膜を成膜した後、0.2μm厚
のガラス膜15を成膜した。
As the glass film 15, a film made of frit glass applied by spin coating or the like can be used in addition to the film formed by sputtering glass. The base films 14a and 14b are made of Si.
An oxide film of O 2 , Ta 2 O 5 or the like, a nitride film of Si 3 N 4 or the like, a metal film of Al, Si, Pt or the like in addition to Cr, or a laminated film combining them can be used. In this example, a 0.1 μm thick Cr film was formed on each of the joint interfaces between the sliding contact portions 3a and 4a and the back portions 3b and 4b, and then a 0.2 μm thick glass film 15 was formed.

【0024】なお、上記摺接部3a,4aに用いられる
非磁性材料Nには、例えばCaTiO3 ,ZrO2 ,B
aTiO2 等のセラミックス或いは結晶化ガラス、非磁
性フェライト等が挙げられる。一方、バック部3b,4
bに用いられる磁性材料Mには、磁性フェライト等が用
いられる。
The non-magnetic material N used for the sliding contact portions 3a, 4a is, for example, CaTiO 3 , ZrO 2 , B.
Examples include ceramics such as aTiO 2, crystallized glass, and non-magnetic ferrite. On the other hand, the back portions 3b and 4
For the magnetic material M used for b, magnetic ferrite or the like is used.

【0025】一方、第2の基板5,6は、磁気記録媒体
と摺接する摺接部からバック部に至るまで全て非磁性材
料Nからなっている。この第2の基板5,6には、例え
ばCaTiO3 ,ZrO2 ,BaTiO2 等のセラミッ
クス或いは結晶化ガラス、非磁性フェライト等よりなる
基板がいずれも使用できる。そして、この第2の基板
5,6の主面に先に述べた金属磁性膜1,2が成膜され
ている。
On the other hand, the second substrates 5 and 6 are all made of a non-magnetic material N from the sliding contact portion slidingly contacting the magnetic recording medium to the back portion. For the second substrates 5 and 6, for example, substrates made of ceramics such as CaTiO 3 , ZrO 2 , BaTiO 2 or the like, crystallized glass, non-magnetic ferrite or the like can be used. Then, the metal magnetic films 1 and 2 described above are formed on the main surfaces of the second substrates 5 and 6.

【0026】このような構成とされた第1の基板3,4
と第2の基板5,6は、図3にその接合部分を拡大して
示すように、Crよりなる下地膜16a,16b及び1
7a,17bを介して低融点ガラスをスパッタリングし
てなるガラス膜18,19によって接合一体化されてい
る。上記ガラス膜18,19には、ガラスをスパッタリ
ングして作成されたもの以外に、スピンコーティング等
によって塗布されたフリットガラスよりなる膜が使用で
きる。上記下地膜16a,16b及び17a,17bに
は、磁性金属薄膜1b,2b又はフェライト(第1の基
板3,4のバック部3b,4b)とガラス膜18,19
との反応防止等を目的として、SiO2,Ta2 5
の酸化物膜、Si3 4 等の窒化物膜、Cr,Al,P
t等の金属膜或いはそれらを組合わせた積層膜等が使用
できる。
The first substrates 3 and 4 having the above structure
The second substrates 5 and 6 are formed on the base films 16a, 16b and 1 made of Cr as shown in FIG.
It is joined and integrated by glass films 18 and 19 formed by sputtering low melting point glass via 7a and 17b. As the glass films 18 and 19, films made of frit glass applied by spin coating or the like can be used in addition to those formed by sputtering glass. The magnetic metal thin films 1b and 2b or ferrite (back portions 3b and 4b of the first substrates 3 and 4) and the glass films 18 and 19 are formed on the base films 16a, 16b and 17a and 17b.
For the purpose of preventing reaction with etc., oxide films of SiO 2 , Ta 2 O 5 , etc., nitride films of Si 3 N 4, etc., Cr, Al, P
A metal film such as t or a laminated film combining them can be used.

【0027】本実施例では、磁性金属薄膜1b,2b上
と第1の基板3,4の主面にそれぞれ0.1μm厚のC
r膜を成膜した後、0.2μm厚のPb系低融点ガラス
をスパッタリングした。
In this embodiment, 0.1 μm thick C is formed on each of the magnetic metal thin films 1b and 2b and on the main surfaces of the first substrates 3 and 4.
After forming the r film, a 0.2 μm thick Pb-based low melting point glass was sputtered.

【0028】そして、上述のようにして構成された磁気
コア半体7,8は、互いの突合わせ面に呈する金属磁性
膜1,2の端面同士を図示しないギャップ膜を介して突
合わせ、融着ガラス9によりギャップ接合されることに
より接合一体化され、その金属磁性膜1,2の突合わせ
面間に記録再生ギャップとして動作する磁気ギャップg
を構成するようになっている。また、この磁気ヘッドに
おいては、磁気記録媒体に対する当たりを確保するため
に磁気記録媒体と摺接する磁気記録媒体摺動面に段差が
設けられるとともに、巻線溝12,13に形成されたコ
イルの巻装状態を良好なものとなすためにこの巻線溝1
2,13と相対向する位置に巻線補助溝20,21が形
成されている。なお、上記磁気コア半体7,8の接合強
度を確保するために、各磁気コア半体7,8のバック側
である突合わせ面には、ガラス溝22,23が形成され
ている。
In the magnetic core halves 7 and 8 constructed as described above, the end faces of the metal magnetic films 1 and 2 present on the abutting faces are abutted to each other via a gap film (not shown) and fused. A magnetic gap g is formed between the abutting surfaces of the metal magnetic films 1 and 2 by gap-bonding by the glass plate 9 to operate as a recording / reproducing gap.
Is configured. Further, in this magnetic head, a step is provided on the sliding surface of the magnetic recording medium that is in sliding contact with the magnetic recording medium in order to ensure contact with the magnetic recording medium, and the coil formed in the winding grooves 12 and 13 is wound. This winding groove 1 to make the mounting condition good
Winding auxiliary grooves 20 and 21 are formed at positions opposed to 2 and 13, respectively. In order to secure the bonding strength of the magnetic core halves 7 and 8, glass grooves 22 and 23 are formed on the back-side butting surfaces of the magnetic core halves 7 and 8.

【0029】このようにして構成された磁気ヘッドにお
いては、主コアとなる金属磁性膜1,2と、補助コアと
なる第1の基板3,4のバック部3b,4bに配された
磁性材料Mとによって閉磁路が構成されるため、上記磁
気ギャップgのトラック幅を狭トラック化(例えば、1
3μm以下に)してもコア断面積の充分な確保により、
ヘッド効力の低下を防止することができる。したがっ
て、高密度磁気記録媒体に対しても良好に記録再生を行
うことができる。
In the magnetic head thus constructed, the magnetic materials 1 and 2 serving as the main cores and the magnetic materials arranged on the back portions 3b and 4b of the first substrates 3 and 4 serving as the auxiliary cores. Since the closed magnetic circuit is formed by M and M, the track width of the magnetic gap g is narrowed (for example, 1
Even if it is 3 μm or less), by ensuring sufficient core cross-sectional area,
It is possible to prevent a decrease in head effectiveness. Therefore, recording / reproducing can be satisfactorily performed on the high-density magnetic recording medium.

【0030】そして特に、この実施例の磁気ヘッドにお
いては、上記第1の基板3,4と第2の基板5,6の積
層の際の加熱による該第1の基板3,4の摺接部3a,
4aとバック部3b,4bの接合部の剥がれを防止する
ために、摺接部3a,4aとバック部3b,4bを接合
するガラスのガラス転移点Tgを、上記第1の基板3,
4と第2の基板5,6を接合するガラスのガラス屈伏点
Tcよりも高くしている。このように両者のガラスを規
定することにより、基板積層の際の加熱による第1の基
板3,4の接合部の剥がれを回避することができる。接
合部の剥がれを回避することができることについては、
以下の実験結果に基づく。
In particular, in the magnetic head of this embodiment, the sliding contact portions of the first substrates 3 and 4 due to heating when the first substrates 3 and 4 and the second substrates 5 and 6 are laminated. 3a,
The glass transition point Tg of the glass joining the sliding contact portions 3a, 4a and the back portions 3b, 4b is set to the first substrate 3, in order to prevent the joining portions of the back portions 3a, 4a and the back portions 3b, 4b from coming off.
It is set higher than the glass deformation point Tc of the glass that joins the second substrate 5 and the second substrate 5 and 6. By defining the two glasses in this way, it is possible to avoid peeling of the bonded portion of the first substrates 3 and 4 due to heating during substrate lamination. Regarding that it is possible to avoid peeling of the joint,
Based on the following experimental results.

【0031】実験条件 接合基板(第1の基板3,4)作成のためのガラスと
して、以下に示すような3種類のガラスを用いた。 ガラスA:Tg=465℃,Tc=495℃ ガラスB:Tg=490℃,Tc=530℃ ガラスC:Tg=547℃,Tc=610℃ 基板積層(第1の基板3,4と第2の基板5,6の接
合)のためのガラスとして、以下に示すような3種類の
ガラスを用いた。
Experimental Conditions As the glass for making the bonded substrates (first substrates 3 and 4), the following three types of glass were used. Glass A: Tg = 465 ° C., Tc = 495 ° C. Glass B: Tg = 490 ° C., Tc = 530 ° C. Glass C: Tg = 547 ° C., Tc = 610 ° C. Substrate stacking (first substrates 3, 4 and second As the glass for bonding the substrates 5 and 6), the following three types of glass were used.

【0032】 ガラスD:Tg=430℃,Tc=480℃ ガラスE:Tg=465℃,Tc=495℃ ガラスF:Tg=500℃,Tc=530℃ 上記,のガラスの組合せで前述した構成の磁気ヘ
ッドを作製し、基板積層の際の加熱によって接合基板の
接合部に剥がれが発生したか否かを調べた。その結果を
表1に示す。なお、表1中○は剥がれが発生しなかった
ことを、×は剥がれが発生したことを示す。
Glass D: Tg = 430 ° C., Tc = 480 ° C. Glass E: Tg = 465 ° C., Tc = 495 ° C. Glass F: Tg = 500 ° C., Tc = 530 ° C. A magnetic head was produced, and it was examined whether or not peeling occurred at the bonded portion of the bonded substrate due to heating during substrate lamination. The results are shown in Table 1. In Table 1, ◯ indicates that peeling did not occur, and x indicates that peeling occurred.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】この結果より、接合基板作成のためのガラ
スのガラス転移点Tgを基板積層のためのガラスのガラ
ス屈伏点Tcよりも高くしたガラスを使用して作成した
磁気ヘッドでは、いずれも接合基板の接合部に剥がれが
生じていないことが確認された。これに対して、接合基
板作成のためのガラスのガラス転移点Tgが基板積層の
ためのガラスのガラス屈伏点Tcよりも小さいガラスを
使用して作成した場合には、いずれも接合基板の接合部
に剥がれが発生した。以上の実験結果からわかるよう
に、接合基板作成のためのガラスのガラス転移点Tgを
基板積層のためのガラスのガラス屈伏点Tcより高くす
ることにより、基板積層の際の加熱により接合基板の接
合部の剥がれを防止することができる。
From these results, in the magnetic heads produced by using glass in which the glass transition point Tg of the glass for forming the bonded substrate is higher than the glass deformation point Tc of the glass for stacking the substrates, both of the bonded substrates are used. It was confirmed that peeling did not occur at the joint part. On the other hand, when the glass for making the bonded substrate has a glass transition point Tg smaller than the glass deformation point Tc of the glass for stacking the substrates, both are bonded to the bonded substrate. Peeling occurred. As can be seen from the above experimental results, the glass transition point Tg of the glass for forming the bonded substrate is set higher than the glass deformation point Tc of the glass for stacking the substrates, so that the bonded substrates are bonded by heating during the substrate stacking. It is possible to prevent the parts from peeling off.

【0035】次に、前述した図1に示す磁気ヘッドを製
造する方法について、工程順に従って図面を参照しなが
ら説明する。先ず、図4(a)に示すように、CaTi
2 等よりなる非磁性基板24を用意し、この非磁性基
板24の一主面24aをポリッシング加工等によって鏡
面加工する。
Next, a method for manufacturing the above-described magnetic head shown in FIG. 1 will be described in the order of steps with reference to the drawings. First, as shown in FIG. 4 (a), CaTi
A nonmagnetic substrate 24 made of O 2 or the like is prepared, and one main surface 24a of the nonmagnetic substrate 24 is mirror-finished by polishing or the like.

【0036】次に、上記非磁性基板24の一主面24a
に、マスクスパッタを用いて必要最小限の面積に金属磁
性膜25,26を帯状に所定間隔を持って平行となるよ
うに被着形成する。
Next, one main surface 24a of the non-magnetic substrate 24
Then, the metal magnetic films 25 and 26 are formed in a strip shape so as to be parallel to each other with a predetermined interval by using mask sputtering in a necessary minimum area.

【0037】金属磁性膜25,26を形成するに際して
は、図4(b)に示すように、非磁性基板24との付着
力向上等のために、SiO2 よりなる下地膜27をその
膜厚が50nmとなるように形成した。そして、高周波
特性を向上させるために、金属磁性膜25,26は絶縁
膜28を介して膜厚の薄いセンダストよりなる磁性金属
薄膜25a,25b(一方の金属磁性膜26は図示を省
略する。)を何層にも積層することにより形成した。本
実施例では、膜厚0.2μmの絶縁膜28を介して一層
当たりの膜厚2.4μmの磁性金属薄膜25a,25b
を2層重ねた。
When forming the metal magnetic films 25 and 26, as shown in FIG. 4B, a base film 27 made of SiO 2 is formed to improve the adhesion with the non-magnetic substrate 24. Of 50 nm. In order to improve the high frequency characteristics, the metal magnetic films 25 and 26 are magnetic metal thin films 25a and 25b made of sendust having a small thickness via the insulating film 28 (one metal magnetic film 26 is not shown). Was formed by laminating several layers. In this embodiment, the magnetic metal thin films 25a and 25b each having a thickness of 2.4 μm are formed through the insulating film 28 having a thickness of 0.2 μm.
Were stacked in two layers.

【0038】次に、図5(a)に示すような長方形状を
なす非磁性基板29を用意する。そして、この非磁性基
板29の主面29aをポリッシング等によって鏡面加工
した後、図5(b)に示すようにスパッタリングによっ
てガラス膜30を成膜する。その際、ガラス膜30の付
着力の向上或いは反応防止等を目的として、Crよりな
る下地膜31を成膜する。
Next, a rectangular non-magnetic substrate 29 as shown in FIG. 5A is prepared. Then, after the main surface 29a of the non-magnetic substrate 29 is mirror-finished by polishing or the like, a glass film 30 is formed by sputtering as shown in FIG. At that time, a base film 31 made of Cr is formed for the purpose of improving the adhesive force of the glass film 30 or preventing reaction.

【0039】本実施例では、膜厚が0.1μmとなるよ
うにCrを成膜した後、ガラスを0.2μm厚となるよ
うに成膜した。
In this example, Cr was deposited to a thickness of 0.1 μm, and then glass was deposited to a thickness of 0.2 μm.

【0040】次に、図6(a)に示すように、上記非磁
性基板29と接合一体化させるための磁性フェライト基
板32を用意する。そして、この磁性フェライト基板3
2の主面32aを鏡面加工した後、この主面32aに、
図6(b)に示すようにしてCrよりなる下地膜33を
成膜し、その上にガラス膜34をスパッタリングによっ
て形成した。
Next, as shown in FIG. 6A, a magnetic ferrite substrate 32 for joining and integrating with the non-magnetic substrate 29 is prepared. And this magnetic ferrite substrate 3
After mirror-finishing the second main surface 32a, the main surface 32a is
As shown in FIG. 6B, a base film 33 made of Cr was formed, and a glass film 34 was formed thereon by sputtering.

【0041】本実施例では、膜厚が0.1μmとなるよ
うにCrを成膜した後、ガラスを0.2μm厚となるよ
うに成膜した。
In this example, Cr was deposited to a thickness of 0.1 μm, and then glass was deposited to a thickness of 0.2 μm.

【0042】次いで、これら非磁性基板29と磁性フェ
ライト基板32を、そのガラス膜30,34同士を突合
わせ面として図7(a)に示すように突合わせ、圧着し
ながら加熱を行い基板接合を行う。このとき、互いの突
合わせ面に形成されたガラス膜30,34は、図7
(b)に示すように、互いに溶け合って融合し合う。こ
の結果、非磁性基板29と磁性フェライト基板32とが
強固に接合一体化される。
Next, the non-magnetic substrate 29 and the magnetic ferrite substrate 32 are butted against each other with the glass films 30 and 34 as the abutting surfaces as shown in FIG. To do. At this time, the glass films 30 and 34 formed on the abutting surfaces of each other are as shown in FIG.
As shown in (b), they melt and fuse with each other. As a result, the non-magnetic substrate 29 and the magnetic ferrite substrate 32 are firmly joined and integrated.

【0043】そして、接合一体化された接合基板35の
主面35aをポリッシング等によって鏡面加工する。
Then, the main surface 35a of the bonded and integrated bonded substrate 35 is mirror-finished by polishing or the like.

【0044】しかる後、図7(c)に示すように、上記
接合基板35の主面35aにCrよりなる下地膜36を
成膜した後、Pb系の低融点ガラスをスパッタリングし
てガラス膜37を成膜した。本実施例では、膜厚が0.
1μmとなるようにCrを成膜した後、ガラスを0.2
μm厚となるように成膜した。
Thereafter, as shown in FIG. 7C, a base film 36 made of Cr is formed on the main surface 35a of the bonding substrate 35, and then a Pb-based low melting point glass is sputtered to form a glass film 37. Was deposited. In this embodiment, the film thickness is 0.
After depositing Cr to a thickness of 1 μm, the glass is 0.2
The film was formed to have a thickness of μm.

【0045】同様にして、非磁性基板24上の金属磁性
膜25,26の上に、図8に示すように、Crよりなる
下地膜38を成膜した後、Pb系の低融点ガラスをスパ
ッタリングしてガラス膜39を成膜した。
Similarly, as shown in FIG. 8, a base film 38 made of Cr is formed on the metal magnetic films 25 and 26 on the non-magnetic substrate 24, and then a Pb-based low melting point glass is sputtered. Then, the glass film 39 was formed.

【0046】次に、非磁性基板24と接合基板35を、
図9(a)に示すように、互いの突合わせ面に形成され
たガラス膜37,39同士を突合わせ、圧着しながら5
00℃〜700℃に加熱する。この結果、互いの突合わ
せ面に形成されたガラス膜37,39同士が図9(b)
に示すように融合する。
Next, the non-magnetic substrate 24 and the bonding substrate 35 are
As shown in FIG. 9 (a), the glass films 37 and 39 formed on the abutting surfaces are abutted against each other and pressed to each other 5
Heat to 00 ° C-700 ° C. As a result, the glass films 37 and 39 formed on the abutting surfaces of each other are separated from each other as shown in FIG.
Fused as shown in.

【0047】このとき、接合基板35の接合部における
ガラスのガラス転移点Tgが、基板積層のためのガラス
のガラス屈伏点Tcよりも高くなされているので、上記
基板積層の際の加熱により上記接合基板35の接合部が
剥がれるようなことが生じない。
At this time, the glass transition point Tg of the glass at the bonded portion of the bonded substrate 35 is set higher than the glass deformation point Tc of the glass for stacking the substrates. The joint portion of the substrate 35 does not peel off.

【0048】次に、この接合一体化された積層基板を、
作製する磁気ヘッドに付与するアジマス角と同じ角度を
持って図10中線A−A´,線B−B´,線C−C´で
示す位置で切断する。次いで、フェライトの不要部分を
平面研削盤等を用いて除去した後、各磁気コア半体ブロ
ック40,41に、図11及び図12に示すようにコイ
ルを巻装するための巻線溝42,43とガラス融着する
際のガラス溝44,45をそれぞれの突合わせ面に形成
する。
Next, the laminated substrate integrated and joined is
The magnetic head is cut at the positions indicated by the line AA ', the line BB', and the line CC 'in FIG. 10 at the same angle as the azimuth angle given to the magnetic head. Then, after removing unnecessary portions of the ferrite by using a surface grinder or the like, winding grooves 42 for winding the coil are formed on the magnetic core half blocks 40, 41 as shown in FIGS. 11 and 12. Glass grooves 44 and 45 for glass fusion with 43 are formed on the respective butting surfaces.

【0049】上記巻線溝42,43とガラス溝44,4
5は、いずれも断面略コ字状をなす溝として形成する
が、巻線溝42,43の一方の側面42a,43aは磁
気ギャップgのデプスを規制するために傾斜面とする。
なお、巻線溝42,43の他方の側面42b,43b
は、傾斜面又は垂直面のいずれでもよい。
The winding grooves 42, 43 and the glass grooves 44, 4
5 is formed as a groove having a substantially U-shaped cross section, but one side surface 42a, 43a of the winding groove 42, 43 is an inclined surface in order to restrict the depth of the magnetic gap g.
The other side surfaces 42b, 43b of the winding grooves 42, 43
May be an inclined surface or a vertical surface.

【0050】次に、上記各磁気コア半体ブロック40,
41に、ブロックの接合強度を確保するためのガラス流
込み溝46a,46b及び47a,47bを形成する。
かかるガラス流込み溝46a,46b及び47a,47
bは、金属磁性膜25,26の両側であってこの金属磁
性膜25,26に近接した位置に、それぞれ断面略コ字
状をなす溝としてブロック全体に亘って形成する。
Next, the magnetic core half blocks 40,
41, glass inflow grooves 46a, 46b and 47a, 47b for securing the bonding strength of the block are formed.
Such glass inflow grooves 46a, 46b and 47a, 47
b are formed on both sides of the metal magnetic films 25 and 26 and at positions close to the metal magnetic films 25 and 26 as grooves having a substantially U-shaped cross section over the entire block.

【0051】次に、上記各磁気コア半体ブロック40,
41の突合わせ面であるギャップ形成面40a,41a
をポリッシング等によって鏡面加工する。
Next, the magnetic core half blocks 40,
Gap forming surfaces 40a, 41a which are abutting surfaces of 41
Is mirror-finished by polishing or the like.

【0052】そして、一方の磁気コア半体ブロック40
のギャップ形成面40a又は双方の磁気コア半体ブロッ
ク40,41のギャップ形成面40a及び41aにギャ
ップ膜(図示は省略する。)を形成した後、図15に示
すように、これら磁気コア半体ブロック40,41をト
ラック位置合わせしながら突合わせ、融着ガラス48を
流し込みながらギャップ接合を行う。
Then, one magnetic core half block 40
After forming a gap film (not shown) on the gap forming surface 40a of FIG. 15 or on the gap forming surfaces 40a and 41a of both magnetic core half blocks 40 and 41, as shown in FIG. The blocks 40 and 41 are abutted while the tracks are aligned, and the gap bonding is performed while the fused glass 48 is poured.

【0053】この結果、これら磁気コア半体ブロック4
0,41は、融着ガラス48によって接合一体化され、
金属磁性膜25,26の突合わせ面間に記録再生ギャッ
プとして動作する磁気ギャップgが構成される。そし
て、融着ガラス48によって接合一体化されたフェライ
トブロックに、巻線補助溝を形成した後、磁気記録媒体
摺動面に円筒研磨を行い当たり幅加工を施し、所定チッ
プ形状となるように切断する。
As a result, these magnetic core half blocks 4
0 and 41 are joined and integrated by a fused glass 48,
A magnetic gap g that operates as a recording / reproducing gap is formed between the abutting surfaces of the metal magnetic films 25 and 26. Then, after forming a winding auxiliary groove in the ferrite block joined and integrated by the fused glass 48, the sliding surface of the magnetic recording medium is cylindrically polished to be subjected to width processing and cut into a predetermined chip shape. To do.

【0054】この結果、図1に示す高密度記録媒体に対
して良好に記録再生が行える磁気ヘッドが完成する。
As a result, the magnetic head capable of excellent recording and reproducing on the high density recording medium shown in FIG. 1 is completed.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドにおいては、第1の基板の摺接部とバッ
ク部を接合するガラスのガラス転移点Tgを、金属磁性
膜を挾んで第1の基板と第2の基板を接合するガラスの
ガラス屈伏点Tcよりも高くしているので、上記金属磁
性膜を挾んで第1の基板と第2の基板を加熱して接合し
た際に、上記第1の基板の接合部に剥がれが生じること
が無い。したがって、機械的強度が向上するとともに、
電磁変換特性が向上し高密度記録媒体に対して良好な状
態で記録再生することができる。
As is apparent from the above description, in the magnetic head of the present invention, the glass transition point Tg of the glass that joins the sliding contact portion and the back portion of the first substrate is set to the metal magnetic film. Since it is set higher than the glass deformation point Tc of the glass for joining the first substrate and the second substrate, when the first substrate and the second substrate are heated and joined by sandwiching the metal magnetic film. Moreover, peeling does not occur at the bonded portion of the first substrate. Therefore, while improving the mechanical strength,
The electromagnetic conversion characteristics are improved, and recording / reproduction can be performed in a good state on a high density recording medium.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a magnetic head to which the present invention is applied.

【図2】図1の磁気ヘッドにおける第1の基板の接合部
分を拡大して示す要部拡大断面図である。
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the magnetic head of FIG. 1, showing an enlarged joint portion of a first substrate.

【図3】図1の磁気ヘッドにおける磁気記録媒体摺動面
部分を拡大して示す要部拡大断面図である。
FIG. 3 is an enlarged sectional view of an essential part showing an enlarged sliding surface portion of a magnetic recording medium in the magnetic head of FIG.

【図4】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、(a)は非磁性基板に金属磁性膜を形成する工
程を示す斜視図であり、(b)は金属磁性膜部分を拡大
して示す要部拡大正面図である。
FIG. 4 is a sequential view showing steps of manufacturing the magnetic head of the present invention, (a) is a perspective view showing a step of forming a metal magnetic film on a non-magnetic substrate, and (b) shows a metal magnetic film portion. It is a principal part expansion front view which expands and shows.

【図5】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、(a)は接合基板作成のための非磁性基板の斜
視図であり、(b)はこの非磁性基板にガラス膜を成膜
する工程を示す要部拡大正面図である。
5A to 5C sequentially show steps of manufacturing the magnetic head of the present invention, FIG. 5A is a perspective view of a non-magnetic substrate for producing a bonded substrate, and FIG. It is a principal part enlarged front view which shows the process of forming a film.

【図6】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、(a)は接合基板作成のための磁性フェライト
基板の斜視図であり、(b)はこの磁性フェライト基板
にガラス膜を成膜する工程を示す要部拡大正面図であ
る。
6A and 6B sequentially show steps of manufacturing the magnetic head of the present invention, FIG. 6A is a perspective view of a magnetic ferrite substrate for producing a bonded substrate, and FIG. 6B is a view showing a glass film on the magnetic ferrite substrate. It is a principal part enlarged front view which shows the process of forming a film.

【図7】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、(a)は非磁性基板と磁性フェライト基板を接
合して接合基板を作成する工程を示す斜視図であり、
(b)はその接合基板の接合部分を拡大して示す要部拡
大平面図であり、(c)はその接合基板の接合部分を拡
大して示す要部拡大側面図である。
FIG. 7 is a perspective view sequentially showing steps of manufacturing the magnetic head of the present invention, in which FIG. 7A is a perspective view showing a step of bonding a non-magnetic substrate and a magnetic ferrite substrate to form a bonded substrate;
FIG. 7B is an enlarged plan view of an essential part showing the joined part of the joined substrate in an enlarged manner, and FIG. 7C is an enlarged side view of an essential part showing the joined part of the joined substrate in an enlarged manner.

【図8】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、非磁性基板上に成膜された金属磁性膜上にガラ
ス膜を成膜する工程を示す要部拡大正面図である。
FIG. 8 is an enlarged front view of essential parts showing the steps of manufacturing the magnetic head of the present invention sequentially, showing the step of forming a glass film on a metal magnetic film formed on a non-magnetic substrate.

【図9】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、(a)は金属磁性膜が形成された非磁性基板と
接合基板を接合する工程を示す斜視図であり、(b)は
その接合部分を拡大して示す要部拡大正面図である。
FIG. 9 is a perspective view sequentially showing a process of manufacturing the magnetic head of the present invention, in which (a) is a perspective view showing a process of bonding a non-magnetic substrate having a metal magnetic film formed thereon and a bonded substrate; [FIG. 4] is an enlarged front view of a main part showing an enlarged view of a joint portion thereof.

【図10】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、接合された積層基板を切断する工程を示す斜
視図である。
FIG. 10 is a perspective view sequentially showing a process of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing a process of cutting the bonded laminated substrate.

【図11】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、一方の磁気コア半体ブロックに巻線溝及びガ
ラス溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view sequentially showing steps of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing steps of forming a winding groove and a glass groove in one magnetic core half block.

【図12】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、他方の磁気コア半体ブロックに巻線溝及びガ
ラス溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view sequentially showing the steps of manufacturing the magnetic head of the present invention and showing the step of forming the winding groove and the glass groove in the other magnetic core half block.

【図13】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、一方の磁気コア半体ブロックにガラス流込み
溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view sequentially showing a process of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing a process of forming a glass casting groove in one magnetic core half block.

【図14】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、他方の磁気コア半体ブロックにガラス流込み
溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view sequentially showing the steps of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing the step of forming the glass casting groove in the other magnetic core half block.

【図15】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、ガラス融着工程を示す斜視図である。
FIG. 15 is a perspective view showing a glass fusing step, which sequentially shows steps for manufacturing the magnetic head of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2・・・金属磁性膜 1a,1b,2a,2b・・・磁性金属薄膜 3,4・・・第1の基板 3a,4a・・・摺接部 3b,4b・・・バック部 5,6・・・第2の基板 7,8・・・磁気コア半体 9・・・融着ガラス 12,13・・・巻線溝 15,18,19・・・ガラス膜 20,21・・・巻線補助溝 22,23・・・ガラス溝 1, 2 ... Metal magnetic film 1a, 1b, 2a, 2b ... Magnetic metal thin film 3, 4 ... First substrate 3a, 4a ... Sliding contact portion 3b, 4b ... Back portion 5 , 6 ... Second substrate 7, 8 ... Magnetic core half body 9 ... Fused glass 12, 13 ... Winding groove 15, 18, 19 ... Glass film 20, 21 ...・ Auxiliary winding grooves 22, 23 ... Glass grooves

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 富夫 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tomio Kobayashi 6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁気記録媒体が摺接する摺接部が非磁性
材料よりなりバック部が磁性材料よりなる第1の基板
と、非磁性材料よりなる第2の基板とによって金属磁性
膜をその膜厚方向より挾み込んでなる一対の磁気コア半
体を接合一体化してなる磁気ヘッドにおいて、 第1の基板の摺接部とバック部を接合するガラスのガラ
ス転移点Tgが、上記金属磁性膜を挾んで第1の基板と
第2の基板を接合するガラスのガラス屈伏点Tcよりも
高いことを特徴とする磁気ヘッド。
1. A metal magnetic film formed by a first substrate having a non-magnetic material in a sliding contact portion with which a magnetic recording medium is in sliding contact and a magnetic material in a back portion, and a second substrate made of a non-magnetic material. In a magnetic head in which a pair of magnetic core halves sandwiched from the thickness direction are joined and integrated, a glass transition point Tg of glass joining a sliding contact portion and a back portion of a first substrate is the metal magnetic film. A magnetic head characterized in that it is higher than a glass deformation point Tc of glass for joining the first substrate and the second substrate with each other.
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