JPH06338023A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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Publication number
JPH06338023A
JPH06338023A JP12751793A JP12751793A JPH06338023A JP H06338023 A JPH06338023 A JP H06338023A JP 12751793 A JP12751793 A JP 12751793A JP 12751793 A JP12751793 A JP 12751793A JP H06338023 A JPH06338023 A JP H06338023A
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JP
Japan
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magnetic
film
films
laminated
track width
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP12751793A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichi Ogata
誠一 小形
Tadashi Saito
正 斎藤
Shinji Takahashi
伸司 高橋
Toshinobu Watanabe
利信 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH06338023A publication Critical patent/JPH06338023A/en
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Abstract

PURPOSE:To attain high density recording, to suppress the practical reduction of the track width of a gap part formed at the edge faces of laminated magnetic films on the butted sides and to enhance reproduction output. CONSTITUTION:Laminated magnetic films 1, 2 each formed by laminating magnetic metallic thin films via an insulating film are sandwitched between 1st substrates 3, 4 and 2nd substrates 5, 6 each made of at least magnetic ferrite in the film thickness direction to form magnetic core halves 7, 8 and these core halves 7, 8 are integrated by bonding so that the magnetic films 1, 2 are butted. Magnetic metallic films 101, 102 are disposed on at least the edge faces of the magnetic films 1, 2 on the butted sides and the track width Tw of the resulting magnetic gap is regulated to <=13mum. The objective magnetic head is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ等に搭載される磁気ヘッドに関し、特に高密度磁
気記録用ヘッドとして好適な磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head mounted on, for example, a video tape recorder, and more particularly to a magnetic head suitable as a high density magnetic recording head.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、磁気記録の分野においては、高
周波特性に優れる高密度記録用の磁気ヘッドとして膜厚
の薄い磁性金属薄膜を絶縁膜を介して何層にも積層して
なる、いわゆる積層型の金属磁性膜(以下、積層磁性膜
と称する。)を用いた磁気ヘッドの開発が行われてい
る。かかる磁気ヘッドの一例として、上記積層磁性膜を
非磁性材料よりなる基板によって膜厚方向より挟み込ん
でなる磁気コア半体同士を、積層磁性膜を突き合わせる
ようにして接合一体化した、いわゆるラミネートタイプ
の磁気ヘッドが挙げられる。
2. Description of the Related Art For example, in the field of magnetic recording, as a magnetic head for high-density recording which is excellent in high frequency characteristics, a so-called laminated structure is formed by laminating thin magnetic metal thin films in many layers with an insulating film interposed therebetween. A magnetic head using a type metal magnetic film (hereinafter referred to as a laminated magnetic film) has been developed. An example of such a magnetic head is a so-called laminate type in which magnetic core halves each having the laminated magnetic film sandwiched by substrates made of a non-magnetic material in the thickness direction are joined and integrated so that the laminated magnetic films are butted. Magnetic head.

【0003】上記ラミネートタイプの磁気ヘッドにおい
ては、積層磁性膜の突き合わせ面間に磁気ギャップが形
成され、該積層磁性膜の幅が磁気ギャップのトラック幅
となることから、挟トラック化が可能であり、高密度記
録が達成される。
In the above-mentioned laminate type magnetic head, a magnetic gap is formed between the abutting surfaces of the laminated magnetic films, and the width of the laminated magnetic film becomes the track width of the magnetic gap. , High density recording is achieved.

【0004】しかしながら、かかる磁気ヘッドにおい
て、さらなる高密度記録を達成するためにトラック幅を
さらに狭くする、すなわち積層磁性膜の幅をさらに狭め
て行くと、磁路を構成するコア断面積の減少によってヘ
ッド効率が劣化する。上記のような傾向は、トラック幅
を13μm以下とした場合に特に顕著である。
However, in such a magnetic head, if the track width is further narrowed in order to achieve higher density recording, that is, the width of the laminated magnetic film is further narrowed, the cross-sectional area of the core forming the magnetic path is reduced. The head efficiency deteriorates. The above tendency is particularly remarkable when the track width is 13 μm or less.

【0005】このため、従来においては、コア断面積の
確保によってヘッド効率の劣化を防止すべく、基板に磁
性フェライトを使用する方法が提案されている。この方
法によれば、狭トラック化した場合でも、磁性フェライ
ト基板が補助コアとして機能し、コア断面積が充分に確
保されることから、非磁性基板を用いた磁気ヘッドに比
べてヘッド効率の劣化を抑制することができる。
For this reason, conventionally, a method of using magnetic ferrite for the substrate has been proposed in order to prevent deterioration of head efficiency by ensuring the core cross-sectional area. According to this method, even if the track is narrowed, the magnetic ferrite substrate functions as an auxiliary core and a sufficient cross-sectional area of the core is secured, so that the head efficiency is deteriorated as compared with the magnetic head using the non-magnetic substrate. Can be suppressed.

【0006】ところで、上記のような磁気ヘッドは次の
ようにして形成される。先ず、一方の磁性フェライト基
板上に、膜厚の薄い磁性金属薄膜を絶縁膜を介して何層
にも積層した積層メタル膜である積層磁性膜を形成し、
これに他方の磁性フェライト基板を接合して磁気コア半
体を形成する。次に、上記磁気コア半体とこれと同様に
形成される磁気コア半体同士を、互いの突き合わせ面に
呈する積層磁性膜の端面同士を突き合わせ、ギャップ膜
を介してガラスによりギャップ融着し、接合一体化して
磁気ヘッドを完成する。ただし、上記磁気ヘッドにおい
ては基板が磁性フェライトで構成されていることから、
積層磁性膜の突き合わせ側の端面の幅(トラック幅)を
規制する必要がある。
By the way, the above magnetic head is formed as follows. First, on one magnetic ferrite substrate, a laminated magnetic film, which is a laminated metal film in which thin magnetic metal thin films are laminated in many layers with an insulating film interposed, is formed.
The other magnetic ferrite substrate is bonded to this to form a magnetic core half. Next, the magnetic core halves and the magnetic core halves formed in the same manner as these, but the end faces of the laminated magnetic films present as the abutting faces of each other are abutted, and the gap fusion is performed by the glass through the gap film, The magnetic head is completed by joining and unifying. However, in the above magnetic head, since the substrate is composed of magnetic ferrite,
It is necessary to regulate the width (track width) of the end surface of the laminated magnetic film on the abutting side.

【0007】そこで、上記のような磁気ヘッドの積層磁
性膜の突き合わせ側の端面の幅を規制する方法として次
のような方法が挙げられる。先ず、一対の磁性フェライ
ト基板の磁気ギャップ近傍となる部分を機械加工等によ
り予め除去し、そこに非磁性材を充填する。そして、こ
のうち一方の磁性フェライト基板上に積層磁性膜を形成
し、他方の磁性フェライト基板と接合した後、積層磁性
膜のトラック幅方向に平行な面で切断を行う。その結
果、切断面(突き合わせ面)には非磁性材と積層磁性膜
が露出し、該積層磁性膜の突き合わせ側の端面の幅が規
制されることとなる。ところが、この方法では磁気ヘッ
ドの製造工程が煩雑となるばかりでなく、積層磁性膜を
スパッタリングするためにフェライト基板とこれに充填
されている非磁性材に平面研削を行うと、これらの間に
段差が生じ、形成される積層磁性膜の膜特性に影響を及
ぼしてしまう。
Therefore, as a method of regulating the width of the end face of the laminated magnetic film of the above magnetic head on the abutting side, the following method can be mentioned. First, the portions of the pair of magnetic ferrite substrates in the vicinity of the magnetic gap are removed in advance by machining or the like, and the nonmagnetic material is filled therein. Then, after forming a laminated magnetic film on one of the magnetic ferrite substrates and joining the laminated magnetic film to the other magnetic ferrite substrate, cutting is performed at a plane parallel to the track width direction of the laminated magnetic film. As a result, the non-magnetic material and the laminated magnetic film are exposed on the cut surface (butting surface), and the width of the end surface of the laminated magnetic film on the butting side is restricted. However, this method not only complicates the manufacturing process of the magnetic head, but when the ferrite substrate and the non-magnetic material filled in the ferrite substrate are subjected to surface grinding for sputtering the laminated magnetic film, a step is formed between them. Occurs, which affects the film characteristics of the formed laminated magnetic film.

【0008】上記問題を解決する方法として、一方のフ
ェライト基板にスパッタリング等によって積層磁性膜を
形成し、これと他方のフェライト基板を接合した後に、
積層磁性膜の突き合わせ側の端面を所定トラック幅に規
制できるようなトラック幅規制溝を磁気ギャップ近傍と
なる部分に形成する方法が提案されている。
As a method for solving the above problem, a laminated magnetic film is formed on one of the ferrite substrates by sputtering or the like, and after this is joined to the other ferrite substrate,
A method has been proposed in which a track width regulating groove is formed in a portion near the magnetic gap so that the end surface of the laminated magnetic film on the abutting side can be regulated to a predetermined track width.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な積層磁性膜を用いた磁気ヘッドにおいては、当然のこ
とながら、積層磁性膜の突き合わせ側の端面であるギャ
ップ部に磁性金属薄膜と絶縁膜が露呈することとなる。
この時、上記ギャップ部中の非磁性の絶縁膜で構成され
る部分は磁路として機能しないことから、ギャップ部の
実質的なトラック幅は、積層磁性膜の突き合わせ側の端
面の幅によって決定される見かけ上のトラック幅よりも
小さいものとなってしまい、再生出力が低下するという
不都合が生じている。このような傾向は、前述のように
トラック幅を13μm以下とした場合に特に顕著であ
る。
By the way, in the magnetic head using the laminated magnetic film as described above, as a matter of course, the magnetic metal thin film and the insulating film are formed in the gap portion which is the end face on the butt side of the laminated magnetic film. Will be exposed.
At this time, since the portion formed of the non-magnetic insulating film in the gap portion does not function as a magnetic path, the substantial track width of the gap portion is determined by the width of the end surface on the abutting side of the laminated magnetic film. Since the track width is smaller than the apparent track width, the reproduction output is reduced. Such a tendency is particularly remarkable when the track width is 13 μm or less as described above.

【0010】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、高密度記録化に対応可能であり、実
質的なトラック幅の減少が抑えられ、再生出力の向上し
た磁気ヘッドを提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of the actual situation of the related art, and is capable of coping with high density recording, suppressing a substantial reduction in track width, and providing a magnetic head having an improved reproduction output. The purpose is to provide.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、磁性金属薄膜が絶縁膜を介して積層され
てなる積層磁性膜を少なくとも磁性フェライト材よりな
る一対の基板により膜厚方向より挟み込んでなる一対の
磁気コア半体が、上記積層磁性膜を突き合わせるように
接合一体化されて閉磁路を構成する磁気ヘッドにおい
て、少なくとも、積層磁性膜の突き合わせ側の端面に磁
性金属膜が形成されており、磁気ギャップのトラック幅
をTwとしたときに、Tw≦13μmであることを特徴
とするものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a laminated magnetic film formed by laminating magnetic metal thin films with an insulating film interposed between at least a pair of substrates made of a magnetic ferrite material. In a magnetic head in which a pair of magnetic core halves sandwiching in a direction from each other are joined and integrated so as to abut the laminated magnetic films to form a closed magnetic circuit, at least the end face of the laminated magnetic films on the abutting side has a magnetic metal film. Are formed, and Tw ≦ 13 μm when the track width of the magnetic gap is Tw.

【0012】[0012]

【作用】本発明においては、磁性金属薄膜が絶縁膜を介
して積層されてなる積層磁性膜の突き合わせ側の端面に
磁性金属膜が形成されているため、ギャップ部が磁性金
属膜のみによって構成される。従って、上記ギャップ部
全体が磁路として機能し、ギャップ部の実質的なトラッ
ク幅の減少が抑制される。
In the present invention, since the magnetic metal film is formed on the abutting side end face of the laminated magnetic film in which the magnetic metal thin films are laminated with the insulating film interposed therebetween, the gap portion is composed of only the magnetic metal film. It Therefore, the entire gap portion functions as a magnetic path, and a substantial reduction in the track width of the gap portion is suppressed.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。本実施例の磁
気ヘッドは、図1に示すように、積層磁性膜1,2がそ
の膜厚方向より磁性フェライト材よりなる第1の基板
3,4と第2の基板5,6によって挟み込まれてなる一
対の磁気コア半体7,8からなり、これら磁気コア半体
7,8の突き合わせ面にはそれぞれ磁性金属膜101,
102が形成されており、上記磁性金属膜101,10
2を突合わせるようにして融着ガラス9により接合一体
化されて構成されている。なお、上記磁気コア半体7,
8の突き合わせ面間には磁気ギャップgが形成されてい
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings. In the magnetic head of this embodiment, as shown in FIG. 1, the laminated magnetic films 1 and 2 are sandwiched between the first substrates 3 and 4 and the second substrates 5 and 6 made of a magnetic ferrite material in the thickness direction. It is composed of a pair of magnetic core halves 7 and 8.
102 is formed, and the magnetic metal films 101 and 10 are formed.
The two are abutted and integrated by a fused glass 9 so that they are abutted. The magnetic core half body 7,
A magnetic gap g is formed between the abutting surfaces of No. 8.

【0014】上記のように磁気コア半体7,8は、主コ
アとなる積層磁性膜1,2とこれを膜厚方向より挾み込
む補助コアとなる第1の基板3,4と第2の基板5,6
とから構成され、該第2の基板5,6の一主面に被着形
成される積層磁性膜1,2を挾み込むようにして第1の
基板3,4が積層されることにより接合一体化されてい
る。
As described above, the magnetic core halves 7 and 8 include the laminated magnetic films 1 and 2 serving as the main cores, and the first substrates 3 and 4 serving as the auxiliary cores sandwiching the laminated magnetic films 1 and 4 from the thickness direction. Substrate 5,6
And the first substrates 3 and 4 are laminated so as to sandwich the laminated magnetic films 1 and 2 adhered and formed on one main surface of the second substrates 5 and 6 so as to be joined and integrated. Has been done.

【0015】上記積層磁性膜1,2は、図2に示すよう
に、高周波特性を向上させる目的で膜厚の薄い磁性金属
薄膜1a,1b,1c及び2a,2b,2cが絶縁膜1
0b 1,10b2,11b1,11b2を介して積層されて
なる積層メタル膜とされている。そして、上記第2の基
板5,6と磁性金属薄膜1a,2aとの界面には、これ
らの付着力の向上並びに反応防止として機能する下地膜
10a,11aが成膜されている。
The laminated magnetic films 1 and 2 are as shown in FIG.
And thin magnetic metal for the purpose of improving high frequency characteristics.
The thin films 1a, 1b, 1c and 2a, 2b, 2c are insulating films 1.
0b 1, 10b2, 11b1, 11b2Stacked through
Is a laminated metal film. And the second group
At the interfaces between the plates 5 and 6 and the magnetic metal thin films 1a and 2a,
Underlayer film that functions to improve the adhesive strength of these materials and prevent reactions
Films 10a and 11a are formed.

【0016】なお、上記磁性金属薄膜1a,1b,1c
及び2a,2b,2cを構成する材料としては、センダ
スト(Fe−Al−Si)やFe−Ru−Ga−Si、
又はこれらにO,N等を添加した結晶質磁性金属材料或
いはFe系又はCo系の微結晶磁性金属材料等が挙げら
れる。また、上記磁性金属薄膜の膜厚は、高周波特性の
向上のために1層当たり2〜5μmとすることが望まし
い。
Incidentally, the magnetic metal thin films 1a, 1b, 1c.
And 2a, 2b, and 2c are composed of sendust (Fe-Al-Si) or Fe-Ru-Ga-Si,
Alternatively, a crystalline magnetic metal material obtained by adding O, N or the like to them, a Fe-based or Co-based microcrystalline magnetic metal material, or the like can be used. The thickness of the magnetic metal thin film is preferably 2 to 5 μm per layer in order to improve high frequency characteristics.

【0017】また、一方の絶縁膜10b1,10b2,1
1b1,11b2としては、例えばSiO2 ,Ta2 5
等の酸化物膜やSi3 4 等の窒化物膜等が使用され
る。上記絶縁膜の膜厚としては、例えば0.1〜0.3
μm程度が好ましい。
Further, one of the insulating films 10b 1 , 10b 2 , 1
Examples of 1b 1 and 11b 2 include SiO 2 and Ta 2 O 5
An oxide film such as SiN 4 or a nitride film such as Si 3 N 4 is used. The thickness of the insulating film is, for example, 0.1 to 0.3.
About μm is preferable.

【0018】さらに、下地膜10a,11aには、第2
の基板5,6と磁性金属薄膜1a,2aの付着力を高め
る必要性から、SiO2 ,Ta2 5 等の酸化物膜、S
34 等の窒化物膜、Cr,Al,Si,Pt等の金
属膜及びそれらの合金膜、或いはそれらを組合わせた積
層膜等が使用される。
Further, a second film is formed on the base films 10a and 11a.
Since it is necessary to increase the adhesive force between the substrates 5 and 6 and the magnetic metal thin films 1a and 2a, an oxide film such as SiO 2 or Ta 2 O 5 , S
A nitride film of i 3 N 4 or the like, a metal film of Cr, Al, Si, Pt or the like and an alloy film thereof, or a laminated film combining them is used.

【0019】なお、本実施例においては、磁性金属薄膜
1a,1b,1c及び2a,2b,2cとしてセンダス
ト膜、絶縁膜10b1,10b2,11b1,11b2とし
てSiO2 膜を使用した。そのときの膜厚は、図2中T
wで示す磁気ギャップgのトラック幅を5μmとするた
めに、一層あたりの磁性金属薄膜1a,1b,1c及び
2a,2b,2cを3μmとし、絶縁膜10b1,10
2,11b1,11b2を0.2μmとした。また、下
地膜10a,11aとして、膜厚50nmのSiO2
を用いた。
In this embodiment, sendust films are used as the magnetic metal thin films 1a, 1b, 1c and 2a, 2b, 2c, and SiO 2 films are used as the insulating films 10b 1 , 10b 2 , 11b 1 and 11b 2 . The film thickness at that time is T in FIG.
In order to set the track width of the magnetic gap g shown by w to 5 μm, the magnetic metal thin films 1a, 1b, 1c and 2a, 2b, 2c per layer are set to 3 μm, and the insulating films 10b 1 and 10 are formed.
b 2 , 11b 1 and 11b 2 were 0.2 μm. Further, as the base films 10a and 11a, a SiO 2 film having a film thickness of 50 nm was used.

【0020】また、第1の基板3,4及び第2の基板
5,6は、前述のように磁性フェライト材よりなる。上
記磁性フェライト材としては、単結晶フェライト、多結
晶フェライト、単結晶フェライトと多結晶フェライトの
接合材、面指数の異なる単結晶フェライト,これらの接
合材の何れを用いても良い。
The first substrates 3 and 4 and the second substrates 5 and 6 are made of magnetic ferrite material as described above. As the magnetic ferrite material, any one of single crystal ferrite, polycrystal ferrite, a joining material of single crystal ferrite and polycrystal ferrite, single crystal ferrite having a different surface index, and these joining materials may be used.

【0021】なお、本実施例においては、上記第1の基
板3,4及び第2の基板5,6を単結晶フェライトによ
って構成し、その面指数を、媒体対向面が(110)、
積層磁性膜接合面が(110)、突き合わせ面が(10
0)となるようにした。
In the present embodiment, the first substrate 3, 4 and the second substrate 5, 6 are made of single crystal ferrite, and the plane index thereof is (110) for the medium facing surface,
The laminated magnetic film bonding surface is (110) and the abutting surface is (10).
0).

【0022】さらに、上記のような第1の基板3,4と
第2の基板5,6は、図2に示すようにガラス膜18,
19によって接合一体化されており、第1の基板3,4
及び第2の基板5,6とガラス膜18,19間にはこれ
らの反応防止等のために下地膜16a,16b及び17
a,17bが設けられている。
Further, as shown in FIG. 2, the first substrate 3, 4 and the second substrate 5, 6 as described above have a glass film 18,
The first substrates 3, 4 are joined and integrated by 19
Further, between the second substrates 5 and 6 and the glass films 18 and 19, underlayer films 16a, 16b and 17 are provided to prevent these reactions.
a and 17b are provided.

【0023】上記ガラス膜18,19には、低融点ガラ
スをスパッタリングして形成したもの、或いはフリット
ガラスをスピンコーティング等によって塗布して形成し
たものが使用でき、その膜厚としては、0.1μm〜
0.5μmが好ましい。上記下地膜16a,16b及び
17a,17bには、磁性金属薄膜1c,2cまたは第
1の基板3,4とガラス膜18,19の反応防止等を目
的として、SiO2 ,Ta2 5 等の酸化物膜、Si3
4 等の窒化物膜、Cr,Al,Si,Pt等の金属膜
及びこれらの合金膜、或いはそれらを組合わせた積層膜
等が使用できる。
As the glass films 18 and 19, those formed by sputtering low melting point glass or those formed by applying frit glass by spin coating or the like can be used, and the film thickness thereof is 0.1 μm. ~
0.5 μm is preferable. The base films 16a, 16b and 17a, 17b are made of SiO 2 , Ta 2 O 5 or the like for the purpose of preventing reaction between the magnetic metal thin films 1c, 2c or the first substrates 3, 4 and the glass films 18, 19. Oxide film, Si 3
A nitride film such as N 4 or the like, a metal film such as Cr, Al, Si, Pt or the like, an alloy film thereof, or a laminated film combining them can be used.

【0024】なお、本実施例においては、下地膜16
a,16b及び17a,17bとして膜厚0.1μmの
Cr膜を用い、ガラス膜18,19として膜厚0.2μ
mのスパッタリングによって形成したPb系ガラス膜を
使用した。
In this embodiment, the base film 16
Cr films having a thickness of 0.1 μm are used as a, 16b and 17a, 17b, and a thickness of 0.2 μ is used as glass films 18 and 19.
A Pb-based glass film formed by sputtering m was used.

【0025】また、特に本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、前述したように磁気コア半体7,8のそれぞれの突
き合わせ面に磁性金属膜101,102が形成されてお
り、これらを突き合わせるようにして上記磁気コア半体
7,8は融着ガラス9により接合一体化されている。
Further, in particular, in the magnetic head of this embodiment, the magnetic metal films 101 and 102 are formed on the abutting surfaces of the magnetic core halves 7 and 8 as described above, and these are abutted. The magnetic core halves 7 and 8 are joined and integrated by a fused glass 9.

【0026】なお、磁気コア半体7,8においては、第
1の基板3,4と第2の基板5,6が磁性フェライト材
によって構成されていることから積層磁性膜1,2の突
き合わせ側の端面の幅が規制される。すなわち、図2に
拡大して示すように、磁気コア半体7,8の突き合わせ
側の端面の幅は、トラック幅規制溝14a,14b,1
5a,15bによって規制されており、上記磁気コア半
体7,8の突き合わせ面の形状に沿った形で形成される
磁性金属膜101,102の突き合わせ側の端面の幅も
自ずと規制され、上記突き合わせ側の端面間に形成さ
れ、記録再生ギャップとして動作する磁気ギャップgの
トラック幅Twも決定される。また、積層磁性膜1,2
の突き合わせ側の端面であるギャップ部が磁性金属膜の
みによって構成されていることから、ギャップ部の実質
的なトラック幅が減少することもない。なお、上記磁気
ギャップgは所定のアジマス角を有する磁気ギャップと
して形成されている。
In the magnetic core halves 7 and 8, since the first substrates 3 and 4 and the second substrates 5 and 6 are made of a magnetic ferrite material, the abutting sides of the laminated magnetic films 1 and 2 will be described. The width of the end face of is regulated. That is, as shown in an enlarged manner in FIG. 2, the widths of the end faces of the magnetic core halves 7 and 8 on the abutting side are equal to the widths of the track width regulating grooves 14a, 14b and 1.
5a and 15b, and the width of the end surface of the magnetic metal films 101 and 102 formed along the shape of the abutting surfaces of the magnetic core halves 7 and 8 on the abutting side is naturally regulated. The track width Tw of the magnetic gap g which is formed between the end faces on the side and operates as a recording / reproducing gap is also determined. In addition, the laminated magnetic films 1 and 2
Since the gap portion, which is the end surface on the butting side, is composed of only the magnetic metal film, the substantial track width of the gap portion does not decrease. The magnetic gap g is formed as a magnetic gap having a predetermined azimuth angle.

【0027】そして、磁気コア半体7,8と磁性金属膜
101,102の界面にはこれらの付着力向上のために
下地膜103,104が設けられている。
Underlayer films 103 and 104 are provided at the interfaces between the magnetic core halves 7 and 8 and the magnetic metal films 101 and 102 in order to improve their adhesion.

【0028】上記磁性金属膜101,102は、上記磁
性金属薄膜1a,1b,1c及び2a,2b,2cを構
成するものと同様の材料にて構成すれば良く、0.5〜
10μmの膜厚で形成することが好ましい。一方、上記
下地膜103,104としては、SiO2 ,Ta2 5
等の酸化物膜、Si3 4 等の窒化物膜、Cr,Al,
Si,Pt等の金属膜及びそれらの合金膜、或いはそれ
らを組合わせた積層膜等が使用される。
The magnetic metal films 101, 102 may be made of the same material as that for forming the magnetic metal thin films 1a, 1b, 1c and 2a, 2b, 2c, and are 0.5-.
It is preferably formed with a film thickness of 10 μm. On the other hand, as the base films 103 and 104, SiO 2 , Ta 2 O 5 is used.
Oxide film, etc., nitride film such as Si 3 N 4 , Cr, Al,
A metal film of Si, Pt or the like, an alloy film thereof, or a laminated film combining them is used.

【0029】なお、本実施例においては、磁性金属膜1
01,102として膜厚4μmのセンダストを用い、下
地膜103,104としては膜厚50nmのCr膜を用
いた。
In this embodiment, the magnetic metal film 1 is used.
Sendust having a film thickness of 4 μm was used as 01 and 102, and a Cr film having a film thickness of 50 nm was used as the base films 103 and 104.

【0030】さらに、積層磁性膜101,102と融着
ガラス9の反応を防止するために、これらの間には図示
しない反応防止膜が設けられている。上記反応防止膜と
しては、SiO2 ,Ta2 5 等の酸化物膜、Si3
4 等の窒化物膜、Cr,Al,Si,Pt等の金属膜及
びこれらの合金膜、或いはそれらを組合わせた積層膜等
が使用できる。上記反応防止膜の膜厚は0.05μm以
上とすることが好ましい。なお、本実施例においては、
反応防止膜として0.2μmのCr膜を用いた。
Further, in order to prevent the reaction between the laminated magnetic films 101 and 102 and the fused glass 9, a reaction preventive film (not shown) is provided between them. As the reaction preventing film, an oxide film of SiO 2 , Ta 2 O 5 or the like, Si 3 N
A nitride film such as 4 or the like, a metal film such as Cr, Al, Si, Pt or the like, an alloy film thereof, or a laminated film combining them can be used. The film thickness of the reaction preventive film is preferably 0.05 μm or more. In this example,
A 0.2 μm Cr film was used as a reaction preventing film.

【0031】さらに、磁気コア半体7,8の突き合わせ
面側にはコイル巻装用の巻き線溝12,13、ガラス溝
22,23が設けられており、磁気コア半体7,8の接
合強度を確保するため、これらにも融着ガラス9が溶融
充填されている。さらに、この磁気ヘッドにおいては、
磁気記録媒体に対する当たりを確保するために磁気記録
媒体と摺接する磁気記録媒体摺動面に段差が設けられる
とともに、巻線溝12,13に形成されたコイルの巻装
状態を良好なものとなすためにこの巻線溝12,13と
相対向する位置に巻線補助溝20,21が形成されてい
る。
Furthermore, winding grooves 12, 13 for coil winding and glass grooves 22, 23 are provided on the abutting surface side of the magnetic core halves 7, 8, and the bonding strength of the magnetic core halves 7, 8 is provided. In order to ensure the above, the fusion glass 9 is also melt-filled in these. Furthermore, in this magnetic head,
A step is provided on the sliding surface of the magnetic recording medium that is in sliding contact with the magnetic recording medium to ensure contact with the magnetic recording medium, and the winding state of the coils formed in the winding grooves 12 and 13 is improved. Therefore, auxiliary winding grooves 20 and 21 are formed at positions facing the winding grooves 12 and 13, respectively.

【0032】このように構成された本実施例の磁気ヘッ
ドにおいては、磁気ギャップgのトラック幅TwがTw
≦13μmであることから、挟ギャップ化がなされ、高
密度記録化を達成することが可能である。また、一対の
磁気コア半体の積層磁性膜の突き合わせ側の端面に磁性
金属膜が形成されていることから、上記端面に形成され
るギャップ部全体が磁路として機能し、ギャップ部の実
質的なトラック幅の減少が抑えられ、再生出力を向上さ
せることが可能である。
In the magnetic head of this embodiment having the above structure, the track width Tw of the magnetic gap g is Tw.
Since ≦ 13 μm, a narrow gap is formed and high density recording can be achieved. Further, since the magnetic metal film is formed on the end faces of the pair of magnetic core halves on the abutting side of the laminated magnetic films, the entire gap portion formed on the end faces functions as a magnetic path, and the gap portions are substantially formed. It is possible to suppress the reduction of the track width and improve the reproduction output.

【0033】そこで、本実施例の磁気ヘッドと磁気コア
半体の突き合わせ面に磁性金属膜を有しない従来の磁気
ヘッドの再生出力を比較した。上記従来の磁気ヘッド
は、本実施例の磁気ヘッドと同様の構成を有し、突き合
わせ面に形成される磁性金属膜のみ有しないものとし
た。再生出力は、以下のようにして測定した。すなわ
ち、磁気記録媒体としてHi8用蒸着テープを用い、回
転ドラム固定ヘッド方式の電磁変換特性測定装置を用い
て周速を7.5m/sとし、周波数15MHzのときの
再生出力を測定した。その結果、本実施例の磁気ヘッド
は従来の磁気ヘッドと比較して、約0.7dB高い再生
出力を得ることができた。これは、本実施例及び従来の
磁気ヘッドの磁気ギャップのトラック幅を5μmとした
ことを考慮すると、トラック幅5μmの時の絶縁膜によ
るギャップ部の実質的なトラック幅の減少に伴う再生出
力の低下分と略一致する。
Therefore, the reproducing outputs of the magnetic head of this embodiment and a conventional magnetic head having no magnetic metal film on the abutting surfaces of the magnetic core halves were compared. The above-mentioned conventional magnetic head has the same structure as the magnetic head of the present embodiment and does not have only the magnetic metal film formed on the abutting surface. The reproduction output was measured as follows. That is, a vapor deposition tape for Hi8 was used as a magnetic recording medium, and a reproduction output at a frequency of 15 MHz was measured using a rotary drum fixed head type electromagnetic conversion characteristic measuring device at a peripheral speed of 7.5 m / s. As a result, the magnetic head of this embodiment was able to obtain a reproduction output about 0.7 dB higher than that of the conventional magnetic head. Considering that the track width of the magnetic gap of the magnetic head of the present example and the conventional magnetic head is 5 μm, the reproduction output accompanying the substantial reduction of the track width of the gap portion due to the insulating film when the track width is 5 μm. It almost coincides with the decrease.

【0034】次いで、前述した図1の磁気ヘッドを製造
する方法について工程順に従って説明する。先ず、図3
(a)に示すように、フェライト基板24を用意し、こ
のフェライト基板24の一主面24aをポリッシング加
工等によって鏡面加工する。
Next, a method of manufacturing the above-described magnetic head of FIG. 1 will be described in the order of steps. First, FIG.
As shown in (a), a ferrite substrate 24 is prepared, and one main surface 24a of the ferrite substrate 24 is mirror-finished by polishing or the like.

【0035】次に、上記フェライト基板24の一主面2
4aに、マスクスパッタにより必要最小限の面積に積層
磁性膜25,26を帯状に所定間隔を持って平行となる
ように被着形成する。
Next, one main surface 2 of the ferrite substrate 24
Layered magnetic films 25 and 26 are formed on the strip 4a by mask sputtering so as to be parallel to each other in a strip shape at a predetermined interval so as to be parallel to each other.

【0036】積層磁性膜25,26を形成するに際して
は、前述のようにフェライト基板24との付着力向上等
のために、図3(b)中に示されるように膜厚50nm
のSiO2 よりなる下地膜27を予め形成する。そし
て、高周波特性を向上させるために、積層磁性膜25,
26はSiO2 よりなる絶縁膜28を介して膜厚の薄い
センダストよりなる金属磁性薄膜25a,25b,25
c(一方の積層磁性膜26は図示を省略する。)を何層
にも積層することにより形成する。なお、積層磁性膜2
5,26の厚さは、後行程においてトラック幅規制溝を
形成する必要があることから目的とする記録トラック幅
の1.2〜3倍とすることが好ましい。本実施例の磁気
ヘッドを形成するに際しては、トラック幅5μmの磁気
ギャップを形成するために膜厚0.2μmの絶縁膜28
を介して一層あたりの膜厚3μmの磁性金属薄膜25
a,25b,25cを3層重ねた。
When forming the laminated magnetic films 25 and 26, the film thickness is 50 nm as shown in FIG. 3B in order to improve the adhesive force with the ferrite substrate 24 as described above.
A base film 27 made of SiO 2 is previously formed. Then, in order to improve high frequency characteristics, the laminated magnetic film 25,
Reference numeral 26 denotes a metal magnetic thin film 25a, 25b, 25 made of sendust having a small film thickness via an insulating film 28 made of SiO 2.
c (one laminated magnetic film 26 is omitted in the drawing) is formed by laminating a number of layers. The laminated magnetic film 2
Since it is necessary to form the track width regulating groove in the subsequent process, the thicknesses of 5, 5 and 26 are preferably 1.2 to 3 times the target recording track width. When forming the magnetic head of this embodiment, an insulating film 28 having a film thickness of 0.2 μm is formed in order to form a magnetic gap having a track width of 5 μm.
Magnetic metal thin film 25 with a thickness of 3 μm per layer
Three layers a, 25b and 25c were stacked.

【0037】さらに、上記フェライト基板24上の積層
磁性膜25,26の上に、図4に示すように(図中に
は、積層磁性膜25のみを示す。)、下地膜36を成膜
した後、ガラス膜37を成膜する。本実施例において
は、下地膜36として膜厚0.1μmのCr膜を形成
し、ガラス膜37として膜厚0.2μmのPb系の低融
点ガラスをスパッタリングによって形成した。
Further, a base film 36 is formed on the laminated magnetic films 25 and 26 on the ferrite substrate 24 as shown in FIG. 4 (only the laminated magnetic film 25 is shown in the drawing). After that, the glass film 37 is formed. In this embodiment, a Cr film having a thickness of 0.1 μm is formed as the base film 36, and a Pb-based low melting point glass having a thickness of 0.2 μm is formed as the glass film 37 by sputtering.

【0038】また、図5に示すように、他方のフェライ
ト基板35上にも上記フェライト基板24と同様に下地
膜38,ガラス膜39を形成する。
Further, as shown in FIG. 5, a base film 38 and a glass film 39 are formed on the other ferrite substrate 35 similarly to the ferrite substrate 24.

【0039】そして、積層メタル膜が形成されたフェラ
イト基板24と上記フェライト基板35を、図6(a)
に示すように、互いの突合わせ面に形成されたガラス膜
37,39同士を突合わせ、圧着しながら、500℃〜
700℃に加熱する。この結果、互いの突合わせ面に形
成されたガラス膜37,39同士は図6(b)に示すよ
うに融合する。
The ferrite substrate 24 having the laminated metal film formed thereon and the ferrite substrate 35 are shown in FIG. 6 (a).
As shown in, the glass films 37 and 39 formed on the abutting surfaces are abutted against each other and pressure-bonded at 500 ° C.
Heat to 700 ° C. As a result, the glass films 37 and 39 formed on the abutting surfaces are fused as shown in FIG. 6B.

【0040】なお、本実施例においては、一対のフェラ
イト基板24,35の両者にガラス膜37,39を形成
してこれらを融着させたが、フェライト基板24,35
の少なくとも一方のみにガラス膜を形成して融着させて
も良い。
In this embodiment, the glass films 37 and 39 are formed on both of the pair of ferrite substrates 24 and 35 and the glass substrates 37 and 39 are fused together.
Alternatively, a glass film may be formed on at least one of the above and fused.

【0041】次に、この接合一体化された積層基板を、
作製する磁気ヘッドに付与するアジマス角と同じ角度を
持って図7中線A−A´,線B−B´,線C−C´で示
す位置で切断する。
Next, the laminated substrate integrated and joined is
The magnetic head is cut at the positions indicated by the line AA ', the line BB', and the line CC 'in FIG. 7 at the same angle as the azimuth angle given to the magnetic head to be manufactured.

【0042】次いで、フェライトの不要部分を平面研削
盤等を用いて除去した後、各磁気コア半体ブロック4
0,41に、図8及び図9に示すようにコイルを巻装す
るための巻線溝42,43とガラス融着する際のガラス
溝44,45をそれぞれの突合わせ面に形成する。
Next, after removing unnecessary portions of ferrite by using a surface grinder or the like, each magnetic core half block 4 is removed.
As shown in FIGS. 8 and 9, winding grooves 42 and 43 for winding coils and glass grooves 44 and 45 for glass fusion are formed on the abutting surfaces of Nos. 0 and 41, respectively.

【0043】上記巻線溝42,43とガラス溝44,4
5は、いずれも断面略コ字状をなす溝として形成する
が、巻線溝42,43の一方の側面42a,43aは磁
気ギャップgのデプスを規制するために傾斜面とする。
なお、巻線溝42,43の他方の側面42b,43b
は、傾斜面又は垂直面のいずれでもよい。
The winding grooves 42 and 43 and the glass grooves 44 and 4
5 is formed as a groove having a substantially U-shaped cross section, but one side surface 42a, 43a of the winding groove 42, 43 is an inclined surface in order to restrict the depth of the magnetic gap g.
The other side surfaces 42b, 43b of the winding grooves 42, 43
May be an inclined surface or a vertical surface.

【0044】次に、図10,11に示すように上記各磁
気コア半体ブロック40,41に、ブロックの接合強度
を確保し、且つ磁気ヘッドのトラック幅を規制するため
のトラック幅規制溝46a,46b及び47a,47b
を形成する。
Next, as shown in FIGS. 10 and 11, in each of the magnetic core half blocks 40 and 41, a track width restricting groove 46a for securing the bonding strength of the blocks and restricting the track width of the magnetic head is formed. , 46b and 47a, 47b
To form.

【0045】かかるトラック幅規制溝46a,46b及
び47a,47bは、積層磁性膜25,26の両側であ
ってこの積層磁性膜25,26に近接した位置に積層磁
性膜25,26の一部を切り欠くようにして、それぞれ
断面略台形状をなす溝としてブロック全体に亘って形成
される。なお、トラック幅規制溝46a,46b及び4
7a,47bの積層磁性膜25,26側の一側面46a
1,46b1及び47a 1,47b1は傾斜面となされてお
り、積層磁性膜25,26の突き合わせ側の端面の幅を
規制し、磁気ギャップのトラック幅を規制するようにな
されている。
The track width regulating grooves 46a, 46b and
And 47a and 47b on both sides of the laminated magnetic films 25 and 26.
Therefore, the laminated magnetic film is placed at a position close to the laminated magnetic films 25 and 26.
Notch a part of the elastic films 25 and 26,
Formed over the entire block as a groove with a trapezoidal cross section
To be done. The track width regulating grooves 46a, 46b and 4
One side surface 46a on the side of the laminated magnetic films 25 and 26 of 7a and 47b
1, 46b1And 47a 1, 47b1Is an inclined surface
The width of the end faces of the laminated magnetic films 25 and 26 on the abutting side.
To regulate the track width of the magnetic gap.
Has been done.

【0046】そして、図12,図13に示すように各磁
気コア半体ブロック40,41の突き合わせ面の全面に
わたって、スパッタリングにより磁性金属膜105,1
06を形成する。
Then, as shown in FIGS. 12 and 13, the magnetic metal films 105, 1 are formed on the entire abutting surfaces of the magnetic core half blocks 40, 41 by sputtering.
06 is formed.

【0047】磁性金属膜105,106を形成するに際
しては、前述のように磁気コア半体ブロック40,41
との付着力向上等のために、図14中に示されるように
(図14中には磁気コア半体ブロック40のみを示
す。)、膜厚50nmのCr膜よりなる下地膜107を
予め形成し、、磁性金属膜105として膜厚4μmのセ
ンダスト膜を形成する。
When forming the magnetic metal films 105 and 106, as described above, the magnetic core half blocks 40 and 41 are formed.
In order to improve the adhesive force between the base film 107 and the like, as shown in FIG. 14 (only the magnetic core half block 40 is shown in FIG. 14), a base film 107 made of a Cr film having a film thickness of 50 nm is previously formed. Then, a sendust film having a film thickness of 4 μm is formed as the magnetic metal film 105.

【0048】次いで、各磁気コア半体ブロック40,4
1の突き合わせ面に図示しない膜厚0.2μmのCr膜
を反応防止膜として形成し、各磁気コア半体ブロック4
0,41の突合わせ面であるギャップ形成面40a,4
1aをポリッシング等によって磁性金属膜105,10
6の突き合わせ側の端面の幅が所定のトラック幅となる
ように鏡面加工する。
Next, each magnetic core half block 40, 4
A Cr film (not shown) having a film thickness of 0.2 μm is formed as a reaction preventing film on the abutting surfaces of the magnetic core half blocks 4
Gap forming surfaces 40a, 4 which are 0, 41 butting surfaces
1a is formed by polishing the magnetic metal films 105, 10
Mirror finishing is performed so that the width of the end face of 6 on the butting side becomes a predetermined track width.

【0049】そして、一方の磁気コア半体ブロック40
のギャップ形成面40a又は双方の磁気コア半体ブロッ
ク40,41のギャップ形成面40a及び41aにギャ
ップ膜(図示は省略する。)を形成した後、図15に示
すように、これら磁気コア半体ブロック40,41を、
磁性金属膜105,106の突き合わせ側の端面の位置
合わせを行い、融着ガラス48を流し込みながら接合を
行う。
Then, one magnetic core half block 40
After forming a gap film (not shown) on the gap forming surface 40a of FIG. 15 or on the gap forming surfaces 40a and 41a of both magnetic core half blocks 40 and 41, as shown in FIG. Blocks 40 and 41
The end faces of the magnetic metal films 105 and 106 on the abutting side are aligned with each other, and bonding is performed while pouring the fused glass 48.

【0050】この結果、これら磁気コア半体ブロック4
0,41は、融着ガラス48によって接合一体化され、
積層磁性膜25,26の突合わせ面間に記録再生ギャッ
プとして動作する磁気ギャップgが構成される。
As a result, these magnetic core half blocks 4
0 and 41 are joined and integrated by a fused glass 48,
A magnetic gap g that operates as a recording / reproducing gap is formed between the abutting surfaces of the laminated magnetic films 25 and 26.

【0051】そして、融着ガラス48によって接合一体
化された磁気コア半体ブロックに、巻線補助溝を形成し
た後、磁気記録媒体摺動面に円筒研磨を行い当たり幅加
工を施し、所定チップ形状となるように切断する。
Then, after forming a winding auxiliary groove in the magnetic core half block joined and integrated by the fused glass 48, the sliding surface of the magnetic recording medium is subjected to cylindrical polishing to be subjected to contact width processing to obtain a predetermined chip. Cut to shape.

【0052】この結果、図1に示すような高密度記録が
達成でき、良好な再生特性を有する磁気ヘッドが完成す
る。
As a result, high density recording as shown in FIG. 1 can be achieved, and a magnetic head having good reproducing characteristics is completed.

【0053】なお、本発明を適用した磁気ヘッドの実施
例としては、上述のようなものの他、図16に示される
ような磁気ヘッドが挙げられる。すなわち、磁気コア
7,8の突き合わせ側の端面のみに磁性金属膜107,
108が設けられるものであり、このような磁気ヘッド
は上述の磁気ヘッドと略同様の製造工程を経て製造され
る。すなわち、第2の基板5,6上に積層磁性膜1,2
を被着形成した後、第1の基板を接合して一対の磁気コ
ア半体7,8を形成する。そして、磁気コア半体7,8
の突き合わせ面に磁性金属膜107,108を形成した
後に、上記突き合わせ面に磁性金属膜107,108の
突き合わせ側の端面を規制するようなトラック幅規制溝
55a,55b,56a,56bを設け、上記端面間に
形成される磁気ギャップgのトラック幅Twも規制す
る。その後、一対の磁気コア半体の接合を行い、磁気ヘ
ッドを形成する。上記磁気ヘッドにおいても、前述の磁
気ヘッドと同様に下地膜等を設けても良い。
Examples of the magnetic head to which the present invention is applied include the magnetic head shown in FIG. 16 in addition to the above-mentioned ones. In other words, the magnetic metal films 107,
108 is provided, and such a magnetic head is manufactured through substantially the same manufacturing process as the above-described magnetic head. That is, the laminated magnetic films 1 and 2 are formed on the second substrates 5 and 6.
Then, the first substrate is joined to form the pair of magnetic core halves 7 and 8. And the magnetic core halves 7, 8
After the magnetic metal films 107 and 108 are formed on the abutting surfaces of the magnetic metal films 107 and 108, track width regulating grooves 55a, 55b, 56a and 56b are formed on the abutting surfaces to regulate the end faces of the magnetic metal films 107 and 108 on the abutting side. The track width Tw of the magnetic gap g formed between the end faces is also regulated. Then, the pair of magnetic core halves are joined to form a magnetic head. Also in the above magnetic head, a base film or the like may be provided as in the above magnetic head.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、磁性
金属薄膜が絶縁膜を介して積層されてなる積層磁性膜を
少なくとも磁性フェライト材よりなる一対の基板により
膜厚方向より挟み込んでなる一対の磁気コア半体が、上
記積層磁性膜を突き合わせるように接合一体化されて閉
磁路を構成する磁気ヘッドにおいて、少なくとも、積層
磁性膜の突き合わせ側の端面に磁性金属膜が形成されて
おり、磁気ギャップのトラック幅をTwとしたときに、
Tw≦13μmであるため、高密度記録が達成され、上
記積層磁性膜の突き合わせ側の端面に磁性金属膜が形成
されていることから、突き合わせ側の端面であるギャッ
プ部が磁性金属膜のみによって構成され、上記ギャップ
部全体が磁路として機能する。従って、ギャップ部の実
質的なトラック幅の減少が抑制され、再生出力が低下す
ることもない。
As is apparent from the above description, a pair of magnetic metal thin films laminated with an insulating film sandwiching a laminated magnetic film between at least a pair of substrates made of a magnetic ferrite material in the thickness direction. In the magnetic head in which the magnetic core halves are joined and integrated so as to abut the laminated magnetic films to form a closed magnetic circuit, at least a magnetic metal film is formed on the end face of the laminated magnetic films on the abutting side, When the track width of the magnetic gap is Tw,
Since Tw ≦ 13 μm, high-density recording is achieved, and since the magnetic metal film is formed on the end surface of the laminated magnetic film on the abutting side, the gap portion, which is the end surface on the abutting side, is composed of only the magnetic metal film. The entire gap portion functions as a magnetic path. Therefore, the substantial reduction of the track width of the gap portion is suppressed, and the reproduction output is not reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した磁気ヘッドの一実施例を示す
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a magnetic head to which the present invention is applied.

【図2】図1の磁気ヘッドにおける磁気記録媒体摺動面
部分を示す要部拡大断面図である。
2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a sliding surface portion of a magnetic recording medium in the magnetic head of FIG.

【図3】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工程
順に示すもので、(a)はフェライト基板に積層磁性膜
を形成する工程を示す斜視図であり、(b)は積層磁性
膜部分を示す要部拡大正面図である。
3A to 3C show a method of manufacturing a magnetic head to which the present invention is applied in the order of steps, (a) is a perspective view showing a step of forming a laminated magnetic film on a ferrite substrate, and (b) is a laminated magnetic film portion. It is a principal part enlarged front view which shows.

【図4】フェライト基板上に成膜された積層磁性膜上に
ガラス膜を成膜する工程を示す要部拡大正面図である。
FIG. 4 is an enlarged front view of an essential part showing a step of forming a glass film on a laminated magnetic film formed on a ferrite substrate.

【図5】フェライト基板上にガラス膜を成膜する工程を
示す要部拡大正面図である。
FIG. 5 is an enlarged front view of an essential part showing a step of forming a glass film on a ferrite substrate.

【図6】(a)は積層磁性膜が形成されたフェライト基
板と他方のフェライト基板を接合する工程を示す斜視図
であり、(b)はその接合部分を拡大して示す要部拡大
正面図である。
FIG. 6A is a perspective view showing a step of joining a ferrite substrate on which a laminated magnetic film is formed and the other ferrite substrate, and FIG. 6B is an enlarged front view of an essential part showing the joined portion in an enlarged manner. Is.

【図7】接合一体化された積層基板を切断する工程を示
す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a step of cutting a laminated substrate which has been joined and integrated.

【図8】一方の磁気コア半体ブロックに巻線溝及びガラ
ス溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing a process of forming a winding groove and a glass groove in one magnetic core half block.

【図9】他方の磁気コア半体ブロックに巻線溝及びガラ
ス溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing a step of forming a winding groove and a glass groove in the other magnetic core half block.

【図10】一方の磁気コア半体ブロックにトラック幅規
制溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing a step of forming a track width regulating groove in one magnetic core half block.

【図11】他方の磁気コア半体ブロックにトラック幅規
制溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view showing a step of forming a track width regulating groove on the other magnetic core half block.

【図12】一方の磁気コア半体ブロックに磁性金属膜を
形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing a step of forming a magnetic metal film on one magnetic core half block.

【図13】他方の磁気コア半体ブロックに磁性金属膜を
形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view showing a step of forming a magnetic metal film on the other magnetic core half block.

【図14】磁性金属膜部分を示す要部拡大正面図であ
る。
FIG. 14 is an enlarged front view of an essential part showing a magnetic metal film portion.

【図15】磁気コア半体ブロック同士の加圧融着工程を
示す斜視図である。
FIG. 15 is a perspective view showing a pressure fusion process of magnetic core half blocks.

【図16】本発明を適用した磁気ヘッドの他の実施例の
磁気記録媒体摺動面部分を示す要部拡大面図である。
FIG. 16 is an enlarged plan view of a main part showing a sliding surface portion of a magnetic recording medium of another embodiment of the magnetic head to which the invention is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2・・・積層磁性膜 1a,1b,1c,2a,2b,2c・・・磁性金属薄
膜 3,4・・・第1の基板 5,6・・・第2の基板 7,8・・・磁気コア半体 9・・・融着ガラス 101,102・・・磁性金属膜 g・・・磁気ギャップ Tw・・・トラック幅
1, 2 ... Laminated magnetic film 1a, 1b, 1c, 2a, 2b, 2c ... Magnetic metal thin film 3, 4 ... First substrate 5, 6 ... Second substrate 7, 8 ... ..Magnetic core half body 9 ... Fused glass 101, 102 ... Magnetic metal film g ... Magnetic gap Tw ... Track width

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 利信 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toshinori Watanabe 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁性金属薄膜が絶縁膜を介して積層され
てなる積層磁性膜を少なくとも磁性フェライト材よりな
る一対の基板により膜厚方向より挟み込んでなる一対の
磁気コア半体が、上記積層磁性膜を突き合わせるように
接合一体化されて閉磁路を構成する磁気ヘッドにおい
て、 少なくとも、積層磁性膜の突き合わせ側の端面に磁性金
属膜が形成されており、 磁気ギャップのトラック幅を
Twとしたときに、Tw≦13μmであることを特徴と
する磁気ヘッド。
1. A pair of magnetic core halves in which a laminated magnetic film formed by laminating magnetic metal thin films via an insulating film is sandwiched between a pair of substrates made of at least a magnetic ferrite material in the film thickness direction to form a laminated magnetic layer. In a magnetic head having a closed magnetic circuit that is joined and integrated so as to butt the films, a magnetic metal film is formed on at least the end face of the laminated magnetic film on the butt side, and the track width of the magnetic gap is Tw. And Tw ≦ 13 μm.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4865796A (en) * 1988-01-29 1989-09-12 Hashimoto Forming Industry Co., Ltd. Method of producing molding members

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