JPH09213496A - レーザプラズマ光源 - Google Patents
レーザプラズマ光源Info
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- JPH09213496A JPH09213496A JP8019861A JP1986196A JPH09213496A JP H09213496 A JPH09213496 A JP H09213496A JP 8019861 A JP8019861 A JP 8019861A JP 1986196 A JP1986196 A JP 1986196A JP H09213496 A JPH09213496 A JP H09213496A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザ光を被爆することなくレーザ入射光学
系の光学素子の埃や飛散物質等の付着状態や傷等の発生
状態をモニタすることができる、安全なレーザプラズマ
光源を提供する。 【解決手段】 レーザ本体１１と、レーザ本体１１から
のレーザ光１２を集光する集光レンズ１３と、レーザ光
１２の集光位置に配置されたターゲット１７と、ターゲ
ット１７を収納する真空容器１４と、真空容器１４内に
レーザ光１２を導入するレーザ入射窓１５と、レーザ光
１２およびその散乱光２１の外部への漏洩を防止する遮
光装置２０とを具え、レーザ光１２をターゲット１７の
集光点１８上に集光することによって生成したプラズマ
よりＸ線を発生するレーザプラズマ光源に、レーザ本体
１１およびターゲット１７間の光路上の光学素子の少な
くとも１つを光電的に観察する光電的観察手段であるＣ
ＣＤカメラ１９を設けた。
系の光学素子の埃や飛散物質等の付着状態や傷等の発生
状態をモニタすることができる、安全なレーザプラズマ
光源を提供する。 【解決手段】 レーザ本体１１と、レーザ本体１１から
のレーザ光１２を集光する集光レンズ１３と、レーザ光
１２の集光位置に配置されたターゲット１７と、ターゲ
ット１７を収納する真空容器１４と、真空容器１４内に
レーザ光１２を導入するレーザ入射窓１５と、レーザ光
１２およびその散乱光２１の外部への漏洩を防止する遮
光装置２０とを具え、レーザ光１２をターゲット１７の
集光点１８上に集光することによって生成したプラズマ
よりＸ線を発生するレーザプラズマ光源に、レーザ本体
１１およびターゲット１７間の光路上の光学素子の少な
くとも１つを光電的に観察する光電的観察手段であるＣ
ＣＤカメラ１９を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線顕微鏡やＸ線
露光装置等の光源として使用することができるレーザプ
ラズマ光源に関するものである。
露光装置等の光源として使用することができるレーザプ
ラズマ光源に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、Ｘ線領域の光源としては、Ｘ線管
やシンクロトロン光源が用いられることが多かった。し
かし、Ｘ線管は特定のＸ線のみにしか使用することがで
きないため使用できる場合が限定されるという問題があ
り、また、シンクロトロン光源は設置のために大規模な
施設が必要になるという問題があり、実験室規模の光源
としては適当なものがなかった。
やシンクロトロン光源が用いられることが多かった。し
かし、Ｘ線管は特定のＸ線のみにしか使用することがで
きないため使用できる場合が限定されるという問題があ
り、また、シンクロトロン光源は設置のために大規模な
施設が必要になるという問題があり、実験室規模の光源
としては適当なものがなかった。
【０００３】このような状況に鑑みて、近年、コンパク
トに構成した白色Ｘ線光源が開発されつつある。この白
色Ｘ線光源は、レーザプラズマ光源と呼ばれるものであ
り、図４にその原理的構成を示すように、レーザ本体１
から発せられたレーザ光２を、集光レンズ３および真空
容器４のレーザ入射窓５を介して金属等のターゲット６
上に集光するようになっている。上記真空容器４内の圧
力は０．１Ｐａ以下に保たれており、ターゲット６の集
光点７で１０12Ｗ／ｃｍ2 以上のエネルギーとなるよう
に集光した場合、ターゲット物質がプラズマ状態にな
り、０．５ｎｍ以上の波長の白色Ｘ線が発生する。
トに構成した白色Ｘ線光源が開発されつつある。この白
色Ｘ線光源は、レーザプラズマ光源と呼ばれるものであ
り、図４にその原理的構成を示すように、レーザ本体１
から発せられたレーザ光２を、集光レンズ３および真空
容器４のレーザ入射窓５を介して金属等のターゲット６
上に集光するようになっている。上記真空容器４内の圧
力は０．１Ｐａ以下に保たれており、ターゲット６の集
光点７で１０12Ｗ／ｃｍ2 以上のエネルギーとなるよう
に集光した場合、ターゲット物質がプラズマ状態にな
り、０．５ｎｍ以上の波長の白色Ｘ線が発生する。
【０００４】この従来のレーザプラズマ光源は、プラズ
マ化した物質が飛散してレーザ入射窓５に付着し、レー
ザ光の透過率を低下させるおそれがある。このため、レ
ーザ入射窓５におけるレーザ光の透過率をモニタして、
レーザ光の透過率が所定値以下に低下したときレーザ入
射窓５を新品と交換する必要がある。その際、レーザ入
射窓は高価であるため、レーザ入射窓５からターゲット
６までの光路上のターゲット側に汚染防止窓８を設け、
この汚染防止窓８をレーザ入射窓の代わりに交換するよ
うにする手法も一般的である。また、集光レンズ３、レ
ーザ入射窓５、汚染防止窓８等の、レーザ本体１からタ
ーゲット６までの入射光学系の光学素子に埃等が付着し
たり、僅かな傷等が生じた場合には、その部分に熱が集
中することにより当該光学素子の寿命が劣化するおそれ
がある。
マ化した物質が飛散してレーザ入射窓５に付着し、レー
ザ光の透過率を低下させるおそれがある。このため、レ
ーザ入射窓５におけるレーザ光の透過率をモニタして、
レーザ光の透過率が所定値以下に低下したときレーザ入
射窓５を新品と交換する必要がある。その際、レーザ入
射窓は高価であるため、レーザ入射窓５からターゲット
６までの光路上のターゲット側に汚染防止窓８を設け、
この汚染防止窓８をレーザ入射窓の代わりに交換するよ
うにする手法も一般的である。また、集光レンズ３、レ
ーザ入射窓５、汚染防止窓８等の、レーザ本体１からタ
ーゲット６までの入射光学系の光学素子に埃等が付着し
たり、僅かな傷等が生じた場合には、その部分に熱が集
中することにより当該光学素子の寿命が劣化するおそれ
がある。
【０００５】以上のように、レーザ入射光学系の光学素
子の状態（埃や飛散物質等の付着状態や傷等の発生状
態）をモニタし得るようにするのが、不具合が生じた光
学素子の交換時期を把握する上で重要である。そのた
め、現在、研究段階にあるレーザプラズマ光源において
は、レーザ入射光学系の光学素子の状態（埃や飛散物質
等の付着状態や傷等の発生状態）を容易に確認できるよ
うに、レーザ光２の光路を外部に対して覆っていなかっ
たり、覆っていても簡単に確認できるようにしている。
子の状態（埃や飛散物質等の付着状態や傷等の発生状
態）をモニタし得るようにするのが、不具合が生じた光
学素子の交換時期を把握する上で重要である。そのた
め、現在、研究段階にあるレーザプラズマ光源において
は、レーザ入射光学系の光学素子の状態（埃や飛散物質
等の付着状態や傷等の発生状態）を容易に確認できるよ
うに、レーザ光２の光路を外部に対して覆っていなかっ
たり、覆っていても簡単に確認できるようにしている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のレーザプラ
ズマ光源においては、プラズマ励起用光源としてＪＩＳ
の分類ではクラス４に相当する出力が極めて高いパルス
レーザを用いているため、レーザ光ばかりでなくその散
乱光も大きなエネルギーを有している。よって、実用化
するためには、ＪＩＳにも定められているように、レー
ザ光は勿論、レーザ入射光学系の光学素子やターゲット
上での散乱光も外部に漏れないような構造にする安全対
策が要求される。ところが、上記のようにレーザ光およ
びその散乱光が外部に漏れない構造にした場合、目視に
よりレーザ入射光学系の光学素子の状態（埃や飛散物質
等の付着状態や傷等の発生状態）を確認することができ
ない。逆に、目視により簡単に確認できるような構造で
は、安全対策がなされていないものとなる。 このよう
な問題について、従来のレーザプラズマ光源では指摘が
なされておらず、当然、安全対策等も提案されていな
い。
ズマ光源においては、プラズマ励起用光源としてＪＩＳ
の分類ではクラス４に相当する出力が極めて高いパルス
レーザを用いているため、レーザ光ばかりでなくその散
乱光も大きなエネルギーを有している。よって、実用化
するためには、ＪＩＳにも定められているように、レー
ザ光は勿論、レーザ入射光学系の光学素子やターゲット
上での散乱光も外部に漏れないような構造にする安全対
策が要求される。ところが、上記のようにレーザ光およ
びその散乱光が外部に漏れない構造にした場合、目視に
よりレーザ入射光学系の光学素子の状態（埃や飛散物質
等の付着状態や傷等の発生状態）を確認することができ
ない。逆に、目視により簡単に確認できるような構造で
は、安全対策がなされていないものとなる。 このよう
な問題について、従来のレーザプラズマ光源では指摘が
なされておらず、当然、安全対策等も提案されていな
い。
【０００７】本発明は、上述した問題に鑑みてなされた
ものであり、レーザ光を被爆することなくレーザ入射光
学系の光学素子の埃や飛散物質等の付着状態や傷等の発
生状態をモニタすることができる、安全性の高いレーザ
プラズマ光源を提供することを目的とする。
ものであり、レーザ光を被爆することなくレーザ入射光
学系の光学素子の埃や飛散物質等の付着状態や傷等の発
生状態をモニタすることができる、安全性の高いレーザ
プラズマ光源を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的のため、本発明
の請求項１の構成は、レーザ本体と、該レーザ本体から
のレーザ光を集光する集光レンズと、前記レーザ光の集
光位置に配置されたターゲットと、該ターゲットを収納
する真空容器と、該真空容器内に前記レーザ光を導入す
るレーザ入射窓と、前記レーザ光およびその散乱光の外
部への漏洩を防止する遮光装置とを具え、前記レーザ光
を前記ターゲット上に集光することによって生成したプ
ラズマよりＸ線を発生するレーザプラズマ光源におい
て、前記レーザ本体および前記ターゲット間の光路上の
光学素子の少なくとも１つを光電的に観察する光電的観
察手段を設けたことを特徴とするものである。
の請求項１の構成は、レーザ本体と、該レーザ本体から
のレーザ光を集光する集光レンズと、前記レーザ光の集
光位置に配置されたターゲットと、該ターゲットを収納
する真空容器と、該真空容器内に前記レーザ光を導入す
るレーザ入射窓と、前記レーザ光およびその散乱光の外
部への漏洩を防止する遮光装置とを具え、前記レーザ光
を前記ターゲット上に集光することによって生成したプ
ラズマよりＸ線を発生するレーザプラズマ光源におい
て、前記レーザ本体および前記ターゲット間の光路上の
光学素子の少なくとも１つを光電的に観察する光電的観
察手段を設けたことを特徴とするものである。
【０００９】本発明の請求項１のレーザプラズマ光源に
よれば、光電的観察手段によってレーザ本体およびター
ゲット間の光路上の光学素子の少なくとも１つを光電的
に観察することにより、使用者がレーザ光を被爆するこ
となく、当該光学素子の埃や飛散物質等の付着状態や傷
等の発生状態を把握することができる。
よれば、光電的観察手段によってレーザ本体およびター
ゲット間の光路上の光学素子の少なくとも１つを光電的
に観察することにより、使用者がレーザ光を被爆するこ
となく、当該光学素子の埃や飛散物質等の付着状態や傷
等の発生状態を把握することができる。
【００１０】また、本発明の請求項２の構成は、上記請
求項１において、前記光電的観察手段は、前記光学素子
の光学像に基づいて当該光学素子の状態を観察すること
を特徴とするものである。
求項１において、前記光電的観察手段は、前記光学素子
の光学像に基づいて当該光学素子の状態を観察すること
を特徴とするものである。
【００１１】本発明の請求項２のレーザプラズマ光源に
よれば、光電的観察手段によってレーザ本体およびター
ゲット間の光路上の光学素子の少なくとも１つをその光
学像に基づいて光電的に観察することにより、使用者が
レーザ光を被爆することなく、当該光学素子の埃や飛散
物質等の付着状態や傷等の発生状態を把握することがで
きる。
よれば、光電的観察手段によってレーザ本体およびター
ゲット間の光路上の光学素子の少なくとも１つをその光
学像に基づいて光電的に観察することにより、使用者が
レーザ光を被爆することなく、当該光学素子の埃や飛散
物質等の付着状態や傷等の発生状態を把握することがで
きる。
【００１２】また、本発明の請求項２の構成は、上記請
求項１において、前記電気的観察手段は、前記光学素子
からの散乱光の強度に基づいて当該光学素子の状態を観
察することを特徴とするものである。
求項１において、前記電気的観察手段は、前記光学素子
からの散乱光の強度に基づいて当該光学素子の状態を観
察することを特徴とするものである。
【００１３】本発明の請求項３のレーザプラズマ光源に
よれば、光電的観察手段によってレーザ本体およびター
ゲット間の光路上の光学素子の少なくとも１つをその光
学素子からの散乱光の強度に基づいて光電的に観察する
ことにより、使用者がレーザ光を被爆することなく、当
該光学素子の埃や飛散物質等の付着状態や傷等の発生状
態を把握することができる。
よれば、光電的観察手段によってレーザ本体およびター
ゲット間の光路上の光学素子の少なくとも１つをその光
学素子からの散乱光の強度に基づいて光電的に観察する
ことにより、使用者がレーザ光を被爆することなく、当
該光学素子の埃や飛散物質等の付着状態や傷等の発生状
態を把握することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づき詳細に説明する。図１（ａ），（ｂ）は本発明の
第１実施形態のレーザプラズマ光源の構成を示す図であ
る。図１（ａ）において、１１はレーザ本体であり、レ
ーザ本体１１から発せられたレーザ光１２を、集光レン
ズ１３、真空容器１４のレーザ入射窓１５および汚染防
止窓１６を介して金属等のターゲット１７の集光点１８
上に集光する。上記真空容器１４内の圧力は０．１Ｐａ
以下に保たれており、ターゲット１６の集光点１７で１
０12Ｗ／ｃｍ2 以上のエネルギーとなるように集光した
場合、ターゲット物質がプラズマ状態になり、０．５ｎ
ｍ以上の波長の白色Ｘ線が発生する。
基づき詳細に説明する。図１（ａ），（ｂ）は本発明の
第１実施形態のレーザプラズマ光源の構成を示す図であ
る。図１（ａ）において、１１はレーザ本体であり、レ
ーザ本体１１から発せられたレーザ光１２を、集光レン
ズ１３、真空容器１４のレーザ入射窓１５および汚染防
止窓１６を介して金属等のターゲット１７の集光点１８
上に集光する。上記真空容器１４内の圧力は０．１Ｐａ
以下に保たれており、ターゲット１６の集光点１７で１
０12Ｗ／ｃｍ2 以上のエネルギーとなるように集光した
場合、ターゲット物質がプラズマ状態になり、０．５ｎ
ｍ以上の波長の白色Ｘ線が発生する。
【００１５】本実施形態においては、真空容器１４の内
部の、レーザ本体１１からターゲット１７へ向かう光路
の延長線上（ターゲット１７の背面）に光電観察手段と
してのＣＣＤカメラ１９を設ける。また、真空容器１４
内には、ターゲット１７を上記光路から待避させる図示
しないターゲット移動機構を設ける。さらに、レーザ本
体１１と真空容器１４との間に、レーザ本体１１から真
空容器１４のレーザ入射窓１５を経てターゲット１７に
至る光路を覆う遮光装置２０を設け、各光学素子からの
散乱光２１が外部に漏れないようにする。なお、ＣＣＤ
カメラ１９の位置は図示の位置に限定されず、レーザ入
射光学系の光学素子が観察可能な位置であればどこに設
けてもよい。
部の、レーザ本体１１からターゲット１７へ向かう光路
の延長線上（ターゲット１７の背面）に光電観察手段と
してのＣＣＤカメラ１９を設ける。また、真空容器１４
内には、ターゲット１７を上記光路から待避させる図示
しないターゲット移動機構を設ける。さらに、レーザ本
体１１と真空容器１４との間に、レーザ本体１１から真
空容器１４のレーザ入射窓１５を経てターゲット１７に
至る光路を覆う遮光装置２０を設け、各光学素子からの
散乱光２１が外部に漏れないようにする。なお、ＣＣＤ
カメラ１９の位置は図示の位置に限定されず、レーザ入
射光学系の光学素子が観察可能な位置であればどこに設
けてもよい。
【００１６】次に、本実施形態の作用を説明する。本実
施形態のレーザプラズマ光源は通常の使用時には図１
（ａ）に示すようにターゲット１７がレーザ本体１１か
らＣＣＤカメラ１９へ向かう光路上に位置する状態にな
っている。この状態で、図示しないターゲット移動機構
を作動させることにより、図１（ｂ）に示すようにター
ゲット１７が上記光路から待避した状態になる。この状
態においては、レーザ本体１１からターゲット１７まで
のレーザ入射光学系の光学素子である汚染防止窓１６、
真空容器１４のレーザ入射窓１５および集光レンズ１３
がＣＣＤカメラ１９から見通せるため、以下のようにし
て各光学素子の状態（埃や飛散物質等の付着状態や傷等
の発生状態）を各光学素子の像に基づいて観察すること
ができる。
施形態のレーザプラズマ光源は通常の使用時には図１
（ａ）に示すようにターゲット１７がレーザ本体１１か
らＣＣＤカメラ１９へ向かう光路上に位置する状態にな
っている。この状態で、図示しないターゲット移動機構
を作動させることにより、図１（ｂ）に示すようにター
ゲット１７が上記光路から待避した状態になる。この状
態においては、レーザ本体１１からターゲット１７まで
のレーザ入射光学系の光学素子である汚染防止窓１６、
真空容器１４のレーザ入射窓１５および集光レンズ１３
がＣＣＤカメラ１９から見通せるため、以下のようにし
て各光学素子の状態（埃や飛散物質等の付着状態や傷等
の発生状態）を各光学素子の像に基づいて観察すること
ができる。
【００１７】すなわち、各光学素子の光学像をＣＣＤカ
メラ１９によって撮像して電気信号に変換し、その電気
信号に基づいて当該光学素子の埃や飛散物質等の付着状
態や傷等の発生状態を光電的に観察する。なお、この観
察において、当該光学素子の埃や飛散物質等の付着状態
や傷等の発生状態が顕著であると判断された場合には、
当該光学素子を新品と交換することになる。
メラ１９によって撮像して電気信号に変換し、その電気
信号に基づいて当該光学素子の埃や飛散物質等の付着状
態や傷等の発生状態を光電的に観察する。なお、この観
察において、当該光学素子の埃や飛散物質等の付着状態
や傷等の発生状態が顕著であると判断された場合には、
当該光学素子を新品と交換することになる。
【００１８】本実施形態によれば、遮光装置２０を開放
することなくレーザ入射光学系の各光学素子の状態を把
握することができる、安全性の高いレーザプラズマ光源
を提供することができる。
することなくレーザ入射光学系の各光学素子の状態を把
握することができる、安全性の高いレーザプラズマ光源
を提供することができる。
【００１９】図２は本発明の第２実施形態のレーザプラ
ズマ光源の構成を示す図であり、上記第１実施形態と同
一の部分には同一符号を付けて説明を省略する。本実施
形態では、第１実施形態で使用したＣＣＤカメラの代わ
りに、レーザ入射光学系の光学素子である汚染防止窓１
６、レーザ入射窓１５および集光レンズ１３からの散乱
光を夫々モニタするフォトダイオード光電観察手段とし
て使用している。
ズマ光源の構成を示す図であり、上記第１実施形態と同
一の部分には同一符号を付けて説明を省略する。本実施
形態では、第１実施形態で使用したＣＣＤカメラの代わ
りに、レーザ入射光学系の光学素子である汚染防止窓１
６、レーザ入射窓１５および集光レンズ１３からの散乱
光を夫々モニタするフォトダイオード光電観察手段とし
て使用している。
【００２０】すなわち、本実施形態においては、真空容
器１４内の汚染防止窓１６からの散乱光２１をモニタし
得る位置にはフォトダイオード３１を設け、遮光装置２
０により形成される閉鎖空間内のレーザ入射窓１５から
の散乱光２１をモニタし得る位置にはフォトダイオード
３２を設け、前記閉鎖空間内の集光レンズ１３からの散
乱光２１をモニタし得る位置にはフォトダイオード３３
を設ける。なお、フォトダイオード３１，３２，３３の
出力信号は図示しない光強度測定回路に入力され、そこ
で各散乱光２１の強度が測定されるようになっている。
器１４内の汚染防止窓１６からの散乱光２１をモニタし
得る位置にはフォトダイオード３１を設け、遮光装置２
０により形成される閉鎖空間内のレーザ入射窓１５から
の散乱光２１をモニタし得る位置にはフォトダイオード
３２を設け、前記閉鎖空間内の集光レンズ１３からの散
乱光２１をモニタし得る位置にはフォトダイオード３３
を設ける。なお、フォトダイオード３１，３２，３３の
出力信号は図示しない光強度測定回路に入力され、そこ
で各散乱光２１の強度が測定されるようになっている。
【００２１】次に、本実施形態の作用を図３に基づいて
説明する。図３は上記各光学素子を新品に交換してから
プラズマを発生させ続ける連続耐久試験を行ったときの
散乱光の散乱量の変化の度合を各フォトダイオードに対
応させて示した図である。なお、図中の散乱量（散乱光
の強度）は、測定開始時の値を１としたときの相対値で
ある。図３において、フォトダイオード３１の散乱量は
初期に急増しているが、その理由は、レーザプラズマ光
源からの飛散物質が汚染防止窓１６の表面に付着してレ
ーザパワーを吸収して熱を発生した結果、汚染防止窓１
６の反射防止コーティングを劣化させたためであると推
定される。この状態のまま使用を続けたところ、図示ａ
点で散乱量がさらに急増した。このとき、汚染防止窓１
６の表面から内部にかけて損傷が見られたので、ａ点の
時点でフォトダイオード３１を新品と交換した。
説明する。図３は上記各光学素子を新品に交換してから
プラズマを発生させ続ける連続耐久試験を行ったときの
散乱光の散乱量の変化の度合を各フォトダイオードに対
応させて示した図である。なお、図中の散乱量（散乱光
の強度）は、測定開始時の値を１としたときの相対値で
ある。図３において、フォトダイオード３１の散乱量は
初期に急増しているが、その理由は、レーザプラズマ光
源からの飛散物質が汚染防止窓１６の表面に付着してレ
ーザパワーを吸収して熱を発生した結果、汚染防止窓１
６の反射防止コーティングを劣化させたためであると推
定される。この状態のまま使用を続けたところ、図示ａ
点で散乱量がさらに急増した。このとき、汚染防止窓１
６の表面から内部にかけて損傷が見られたので、ａ点の
時点でフォトダイオード３１を新品と交換した。
【００２２】一方、フォトダイオード３２は図示ｂ点で
散乱量が急増した。このとき、レーザ入射窓１５のコー
ティングにダメージが生じており、これ以上のダメージ
をレーザ入射窓１５に与えるとレーザ入射窓１５が破損
するおそれがあり、レーザ入射窓１５が破損すると真空
容器１４内の真空を保つための図示しない真空装置に影
響を及ぼすおそれがあるので、ｂ点の時点でフォトダイ
オード３２を新品と交換した。なお、フォトダイオード
３３の散乱量はこの連続耐久試験を通して変化がないこ
とから、集光レンズ１３には損傷等のダメージが生じて
いないことがわかる。
散乱量が急増した。このとき、レーザ入射窓１５のコー
ティングにダメージが生じており、これ以上のダメージ
をレーザ入射窓１５に与えるとレーザ入射窓１５が破損
するおそれがあり、レーザ入射窓１５が破損すると真空
容器１４内の真空を保つための図示しない真空装置に影
響を及ぼすおそれがあるので、ｂ点の時点でフォトダイ
オード３２を新品と交換した。なお、フォトダイオード
３３の散乱量はこの連続耐久試験を通して変化がないこ
とから、集光レンズ１３には損傷等のダメージが生じて
いないことがわかる。
【００２３】本実施形態によれば、遮光装置２０を開放
することなくレーザ入射光学系の各光学素子の状態を把
握することができる、安全性の高いレーザプラズマ光源
を提供することができる。
することなくレーザ入射光学系の各光学素子の状態を把
握することができる、安全性の高いレーザプラズマ光源
を提供することができる。
【図１】（ａ），（ｂ）は本発明の第１実施形態のレー
ザプラズマ光源の構成を示す図である。
ザプラズマ光源の構成を示す図である。
【図２】本発明の第２実施形態のレーザプラズマ光源の
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図３】第２実施形態において連続耐久試験を行ったと
きの散乱光の散乱量の変化の度合を各フォトダイオード
に対応させて示した図である。
きの散乱光の散乱量の変化の度合を各フォトダイオード
に対応させて示した図である。
【図４】従来例のレーザプラズマ光源の原理的構成を示
す図である。
す図である。
１１ レーザ本体 １２ レーザ光 １３ 集光レンズ １４ 真空容器 １５ レーザ入射窓 １６ 汚染防止窓 １７ ターゲット １８ 集光点 １９ ＣＣＤカメラ ２０ 遮光装置 ２１ 散乱光 ３１，３２，３３ フォトダイオード
Claims (3)
- 【請求項１】 レーザ本体と、該レーザ本体からのレー
ザ光を集光する集光レンズと、前記レーザ光の集光位置
に配置されたターゲットと、該ターゲットを収納する真
空容器と、該真空容器内に前記レーザ光を導入するレー
ザ入射窓と、前記レーザ光およびその散乱光の外部への
漏洩を防止する遮光装置とを具え、前記レーザ光を前記
ターゲット上に集光することによって生成したプラズマ
よりＸ線を発生するレーザプラズマ光源において、 前記レーザ本体および前記ターゲット間の光路上の光学
素子の少なくとも１つを光電的に観察する光電的観察手
段を設けたことを特徴とするレーザプラズマ光源。 - 【請求項２】 前記光電的観察手段は、前記光学素子の
光学像に基づいて当該光学素子の状態を観察することを
特徴とする請求項１記載のレーザプラズマ光源。 - 【請求項３】 前記電気的観察手段は、前記光学素子か
らの散乱光の強度に基づいて当該光学素子の状態を観察
することを特徴とする請求項１記載のレーザプラズマ光
源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8019861A JPH09213496A (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | レーザプラズマ光源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8019861A JPH09213496A (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | レーザプラズマ光源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09213496A true JPH09213496A (ja) | 1997-08-15 |
Family
ID=12011016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8019861A Withdrawn JPH09213496A (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | レーザプラズマ光源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09213496A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007200671A (ja) * | 2006-01-25 | 2007-08-09 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
| WO2017216847A1 (ja) * | 2016-06-13 | 2017-12-21 | ギガフォトン株式会社 | チャンバ装置及び極端紫外光生成装置 |
-
1996
- 1996-02-06 JP JP8019861A patent/JPH09213496A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007200671A (ja) * | 2006-01-25 | 2007-08-09 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
| WO2017216847A1 (ja) * | 2016-06-13 | 2017-12-21 | ギガフォトン株式会社 | チャンバ装置及び極端紫外光生成装置 |
| US10631393B2 (en) | 2016-06-13 | 2020-04-21 | Gigaphoton Inc. | Chamber device and extreme ultraviolet light generating device |
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Legal Events
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