JPH09199552A - Measuring prober for circuit element with contact part of fine structure - Google Patents

Measuring prober for circuit element with contact part of fine structure

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JPH09199552A
JPH09199552A JP8009470A JP947096A JPH09199552A JP H09199552 A JPH09199552 A JP H09199552A JP 8009470 A JP8009470 A JP 8009470A JP 947096 A JP947096 A JP 947096A JP H09199552 A JPH09199552 A JP H09199552A
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JP
Japan
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prober
substrate
land
relay
contact
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JP8009470A
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Japanese (ja)
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Katsuyoshi Nakano
勝吉 中野
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AGING TESUTA KAIHATSU KYODO KU
AGING TESUTA KAIHATSU KYODO KUMIAI
Original Assignee
AGING TESUTA KAIHATSU KYODO KU
AGING TESUTA KAIHATSU KYODO KUMIAI
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To conduct the contact with a specimen with high accuracy and reliability and obtain low cost and high mass productivity by disposing a metal thin piece for constituting a contact land corresponding to the contact part of a circuit element on a prober board mounted and held on a base via a buffer member. SOLUTION: The measuring prober for a circuit element with the contact part of a fine structure comprises a base 21 and a prober board 1 mounted and held on the base 21 via a buffer member. A conductive metal thin piece having springness to constitute a contact land 3 corresponding to the array pattern of the contact part 6 of a circuit element 5 is disposed on the surface of the board 1 oppositely to the base 21, and the contact 7 which makes it possible to be brought into contact with the corresponding part 6 of the element 5 is given to the piece. A recess is formed at the position corresponding to the contact 7 of the piece on the surface of the board 1, and electric connecting means for electrically connecting the pieces to the external measuring unit is provided between base 21 and the board 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路装
置や液晶表示装置等に使用するような、微細構造の接触
部を有する回路素子のための測定用プローバに関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a measuring prober for a circuit element having a contact portion having a fine structure, such as a semiconductor integrated circuit device or a liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体集積回路用の検査装置やエ
ージング装置において、半導体集積回路素子ウエハーや
単数あるいは複数の素子を含むペレット(以下、被検体
という)等に対する高精度、高信頼度のプロービングを
目的とする測定用プローバが使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in an inspection device or an aging device for a semiconductor integrated circuit, probing of a semiconductor integrated circuit device wafer, a pellet containing a single or a plurality of devices (hereinafter referred to as a test object) and the like with high accuracy and high reliability. A prober for measurement is used for the purpose.

【0003】この種の従来の測定用プローバとしては、
タングステンカーバイト等による針状の硬質金属を並べ
たものや、ポリイミド等の薄いプラスチックシートを貫
通して両面にバンプと呼ぶ金属材料による凸部を多数形
成することにより垂直方向のみに導電性を持たせた異方
性導電シート、あるいは一般に異方性導電ゴムと呼ばれ
ているシリコンゴム等の比較的厚手のシートの垂直面に
多数の金属細線を埋め込み、これら細線の屈曲による弾
性を利用したものがあった。
As a conventional measuring prober of this type,
It has conductivity only in the vertical direction by arranging needle-shaped hard metal such as tungsten carbide, or by penetrating a thin plastic sheet such as polyimide and forming a number of convex parts made of metal material called bumps on both sides A large number of thin metal wires are embedded in the vertical surface of a relatively thick sheet such as an anisotropic conductive sheet or a silicon rubber generally called anisotropic conductive rubber, and the elasticity of these thin wires is used for bending. was there.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、針状の硬質金
属によるものは、被検体である半導体集積回路素子に比
較して単位当りの面積が非常に大きく、複数の半導体回
路を一度にプロービングできるようなものを製作するこ
とは不可能であった。また、異方性導電シートは、基材
であるプラスチックシートの剛性のために個々のバンプ
に加わる応力に係わる分離性が悪く、バンプの高さの微
小な不揃いに対しても大きな圧力を印加しなければ接触
率が良くならず、異方性導電ゴムはベースが高分子の弾
性体なので機械的な精度が取り難く温度特性も悪い等の
欠点がある。
However, the needle-shaped hard metal has a very large area per unit as compared with the semiconductor integrated circuit element which is the object to be inspected, and a plurality of semiconductor circuits can be probed at one time. It was impossible to make something like that. In addition, the anisotropic conductive sheet has a poor separability related to the stress applied to each bump due to the rigidity of the plastic sheet as the base material, and a large pressure is applied even to the minute unevenness of the bump height. If it is not, the contact ratio will not be good, and since the anisotropic conductive rubber has a base made of a polymeric elastic body, it is difficult to obtain mechanical precision and has poor temperature characteristics.

【0005】本発明の目的は、前述したような従来の技
術の問題点を解消しうるような測定用プローバを提供す
ることである。
An object of the present invention is to provide a measuring prober which can solve the above-mentioned problems of the conventional techniques.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、微細構
造の接触部を有する回路素子のための測定用プローバに
おいて、基台と、該基台に対して緩衝部材を介して取り
付け保持されるプローバ基板とを備えており、該プロー
バ基板の前記基台とは反対側の面には、前記回路素子の
前記接触部の配列パターンに対応した配列パターンに
て、接点ランドを構成するばね性のある導電性金属薄片
が配設されており、該金属薄片には、前記回路素子の対
応する接触部に接触しうる接点が付与されており、前記
プローバ基板の前記面には、前記金属薄片の接点に対応
する位置に凹所が形成されており、前記基台と前記プロ
ーバ基板との間には、前記金属薄片の各々を外部測定装
置へと電気的に接続しうるようにするための電気接続手
段が設けられていることを特徴とする測定用プローバが
提供される。
According to the present invention, in a measuring prober for a circuit element having a microstructured contact portion, the prober is attached and held to the base through a buffer member. A prober substrate, and the surface of the prober substrate opposite to the base is provided with a spring property that constitutes a contact land in an array pattern corresponding to the array pattern of the contact portion of the circuit element. A conductive thin metal piece is provided, the thin metal piece is provided with a contact capable of contacting a corresponding contact portion of the circuit element, and the thin metal piece is provided on the surface of the prober substrate. A recess is formed at a position corresponding to the contact point of, and between each of the base and the prober substrate, each of the metal flakes is electrically connected to an external measuring device. Electrical connection means provided Measuring prober characterized the door is provided.

【0007】本発明の一実施例においては、前記金属薄
片の各々は、先端が対応する前記凹所の上にて終わるよ
うなカンチレバー形状とされている。
In one embodiment of the present invention, each of the metal flakes is shaped like a cantilever with its tip terminating above the corresponding recess.

【0008】本発明の別の実施例においては、前記金属
薄片の各々は、前記凹所の上を横切るようにして張り渡
された両端固定形状とされている。
[0008] In another embodiment of the present invention, each of the metal flakes has a fixed end shape that is stretched across the recess.

【0009】本発明のさらに別の実施例においては、前
記凹所には、対応する前記金属薄片の前記接点に対して
緩衝作用を与える補助緩衝部材が配設されている。
In a further embodiment of the present invention, the recess is provided with an auxiliary cushioning member for cushioning the contact of the corresponding thin metal piece.

【0010】本発明のもう一つ別の実施例においては、
前記プローブ基板の前記面とは反対側の面には、それぞ
れスルーホールを介して前記金属薄片の各々と電気的に
接続された裏面ランドが配設されており、前記基台に
は、親基板が組み付けられており、該親基板には、前記
外部測定装置への接続のための電気コネクタと、前記プ
ローブ基板の前記裏面ランドの各々に対応する位置に配
列された中継ランドと、該中継ランドのそれぞれを前記
電気コネクタの対応する接触端子へと電気的に接続する
ための中継パターンとが設けられており、前記緩衝部材
は、前記親基板の前記中継ランドの各々と、前記プロー
バ基板の対応する前記裏面ランドとの間に介在させられ
る個々の緩衝導電部材からなり、前記電気接続手段は、
前記プローバ基板の前記スルーホールおよび前記裏面ラ
ンドと、前記個々の緩衝導電部材と、前記親基板の前記
中継ランド、前記中継パターンおよび前記電気コネクタ
とで構成されている。
In another embodiment of the invention,
On the surface opposite to the surface of the probe board, a back surface land electrically connected to each of the metal flakes via a through hole is provided, and the base board is provided on the base board. Is attached to the main board, an electrical connector for connection to the external measuring device, relay lands arranged at positions corresponding to the respective backside lands of the probe board, and the relay lands. And a relay pattern for electrically connecting each of them to corresponding contact terminals of the electrical connector, and the buffer member corresponds to each of the relay lands of the parent board and the prober board. Consisting of individual buffer conductive members interposed between the back surface land and the electrical connection means,
The prober board includes the through hole and the back surface land, the individual buffer conductive members, the relay land of the parent board, the relay pattern, and the electrical connector.

【0011】本発明のさらに別の実施例においては、前
記プローブ基板の前記面とは反対側の面には、前記金属
薄片と対応する位置にスルーホールを介してその金属薄
片と電気的に接続された裏面ランドを構成するばね性の
ある導電性金属薄片が配設されており、前記プローバ基
板の前記反対側の面には、前記裏面ランドを構成する金
属薄片の下に位置する部分に凹所が形成されており、前
記基台には、親基板が組み付けられており、該親基板に
は、前記外部測定装置への接続のための電気コネクタ
と、前記プローブ基板の前記裏面ランドを構成する金属
薄片の各々に対応する位置に配列された中継ランドと、
該中継ランドのそれぞれを前記電気コネクタの対応する
接触端子へと電気的に接続するための中継パターンとが
設けられており、前記接点ランドを構成する金属薄片に
付与された接点は、金属薄片に固着された導電性精密球
により与えられており、前記裏面ランドを構成する金属
薄片と前記親基板の対応する中継ランドとの間にも、同
様の導電性精密球が付与され、前記緩衝部材は、前記裏
面ランドを構成する金属薄片のばね性によって与えら
れ、前記電気接続手段は、前記プローバ基板の前記スル
ーホールおよび前記裏面ランドを構成する金属薄片と、
この金属薄片と前記親基板の対応する前記中継ランドと
の間に付与された導電性精密球と、前記親基板の前記中
継ランドと、前記中継パターンおよび前記電気コネクタ
とで構成されている。
In still another embodiment of the present invention, a surface of the probe substrate opposite to the surface is electrically connected to the metal thin piece through a through hole at a position corresponding to the metal thin piece. A conductive metal thin piece having a spring property that constitutes the backside land is disposed, and the surface of the opposite side of the prober substrate is recessed in a portion located below the metal thin piece forming the backside land. A base board is assembled to the base, and an electric connector for connection to the external measurement device and the back surface land of the probe board are configured on the base board. Relay lands arranged at positions corresponding to each of the metal flakes,
Relay patterns for electrically connecting each of the relay lands to the corresponding contact terminals of the electric connector are provided, and the contacts applied to the metal thin pieces forming the contact lands are the metal thin pieces. It is provided by a fixed conductive precision sphere, and a similar conductive precision sphere is provided between the metal thin piece forming the back surface land and the corresponding relay land of the parent substrate, and the buffer member is Provided by the springiness of the metal flakes forming the back surface land, the electrical connection means, the through-hole of the prober substrate and the metal foil forming the back surface land,
It is composed of a conductive precision sphere provided between the thin metal piece and the corresponding relay land of the parent board, the relay land of the parent board, the relay pattern and the electrical connector.

【0012】本発明のさらに別の実施例においては、前
記プローバ基板の前記面の前記凹所と前記反対側の面の
前記凹所とは、前記面から前記反対側の面へと貫通する
共通の貫通穴によって与えられており、該貫通穴には、
両面側にある前記金属薄片の間に介在する結合部材が配
設されている。
In still another embodiment of the present invention, the recess on the surface of the prober substrate and the recess on the opposite surface are common to penetrate from the surface to the opposite surface. Is provided by a through hole of
A coupling member is arranged between the thin metal pieces on both sides.

【0013】本発明のさらに別の実施例においては、前
記結合部材は、弾性材料で形成されている。
In yet another embodiment of the present invention, the connecting member is made of an elastic material.

【0014】本発明のさらに別の実施例においては、前
記結合部材は、弾性のある導電性材料で形成されてお
り、前記スルーホールの機能も果たしている。
In still another embodiment of the present invention, the coupling member is made of an elastic conductive material and also functions as the through hole.

【0015】本発明のさらに別の実施例においては、前
記プローブ基板の前記面には、前記金属薄片のそれぞれ
に電気的に接続され且つ該プローブ基板の一端部まで延
びる中継パターンが配設されており、前記基台には、親
基板が組み付けられており、該親基板には、前記外部測
定装置への接続のための電気コネクタが設けられてお
り、前記電気接続手段は、前記プローバ基板の前記一端
部における前記中継パターンと前記電気コネクタの対応
する接触端子との間の電気的接続を行うフレキシブル基
板を含む。
In still another embodiment of the present invention, the surface of the probe substrate is provided with a relay pattern which is electrically connected to each of the metal thin pieces and extends to one end of the probe substrate. The base is assembled with a parent board, the parent board is provided with an electrical connector for connection to the external measuring device, and the electrical connection means is provided on the prober board. A flexible substrate is provided for electrically connecting the relay pattern at the one end to a corresponding contact terminal of the electrical connector.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】次に、添付図面に基づいて、本発
明の実施例について、本発明をより詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

【0017】先ず、本発明の好ましい実施例について説
明する前に、本発明に至るまでの本発明者の創意工夫に
ついて、以下に概略述べておく。本発明者は、被検体と
の接触を高精度、高信頼度で行え、従来のプローバの持
つ欠点を払拭し量産性が良く、さらに同じような微細構
造の電極を持つ液晶表示装置等ICウエハー以外の検査
装置にも適用することが可能であり、広範な用途に応用
できる測定用プローバを提供せんとして、種々検討し
た。その結果、本発明者は、概略次のような構造および
技法にて測定用プローブを構成することにより、前述の
目的を首尾よく達成することができることを見出した。
First, before describing the preferred embodiments of the present invention, the ingenuity and ingenuity of the inventor until the present invention will be outlined below. The inventor of the present invention can contact an object with high accuracy and high reliability, eliminates the drawbacks of the conventional prober and is excellent in mass productivity, and further, IC wafers such as liquid crystal display devices having electrodes of the same fine structure. It was also possible to apply it to other inspection devices than the above, and various investigations were made with the intention of not providing a measurement prober that can be applied to a wide range of applications. As a result, the present inventor has found that the above-mentioned object can be successfully achieved by constructing the measurement probe with the following structure and technique.

【0018】すなわち、セラミックやガラス等の絶縁体
あるいは金属等の表面に絶縁部分を形成してなるプロー
バ基板の表面に、ベリリウム銅や燐青銅等のバネ材の金
属薄板や金属層を適用し、化学エッチングやレーザーカ
ットあるいは放電カット等の手法や、あらかじめプレス
機械等により成型加工を行った薄板を貼付することによ
り、回路パターンを設定し、該回路パターン上の被検体
のパッドと対応する位置に、メッキや金属溶接あるいは
電鋳、接着、成型等の手段により凸部を形成するか、ベ
アリングのような精密球を溶接して接点とする。
That is, a metal thin plate or metal layer of a spring material such as beryllium copper or phosphor bronze is applied to the surface of a prober substrate formed by forming an insulating portion on the surface of an insulator such as ceramic or glass or metal. Set the circuit pattern by chemical etching, laser cutting, discharge cutting, etc., or by pasting a thin plate that has been molded in advance with a press machine, etc., and place it on the circuit pattern at the position that corresponds to the pad of the subject. The protrusions are formed by means such as plating, metal welding, electroforming, adhesion, or molding, or precision balls such as bearings are welded to form contacts.

【0019】そして、接点付近の回路パターンの裏面に
あたるプローバ基板に凹部または貫通孔等の開放部を設
け、当該回路パターン部分の運動に係わる自由度を大き
くすると共に、接点を設置する回路パターンの先端部付
近にダイアフラム状やカンチレバー状、あるいは十字型
やY字型等の架橋型、先端固定型等の運動部分を形成し
て被検体や接点相互あるいは機構の凹凸を吸収できるよ
うな構造とし、さらに必要であれば前記プローバ基板に
設けた凹部または開放部と、前記金属薄板による回路パ
ターンとの空間にシリコンゴムのような弾性体を挿入し
て強度や弾力に係わるバックアップを行うように構成す
ることにより、被検体との精密な電気的接触を行うこと
ができる。また、プローバ基板の両端に半月部を設け、
小熱膨張係数の金属を材料とした基台に設置したボス
と、該半月部との突き合わせによりプローバ基板の位置
精度を確保するように構成した。
Then, an opening such as a recess or a through hole is provided in the prober substrate corresponding to the back surface of the circuit pattern near the contact to increase the degree of freedom regarding the movement of the circuit pattern portion, and the tip of the circuit pattern on which the contact is installed. A moving part such as a diaphragm, a cantilever, or a cross-shaped or Y-shaped cross-linking type, a fixed tip type, etc. is formed in the vicinity of the part to make it possible to absorb the unevenness of the object or contacts or the mechanism. If necessary, an elastic body such as silicon rubber may be inserted into the space between the concave or open portion provided on the prober board and the circuit pattern formed by the thin metal plate to perform backup related to strength and elasticity. This allows precise electrical contact with the subject. In addition, half-moon parts are provided at both ends of the prober board,
A boss installed on a base made of a metal having a small thermal expansion coefficient and the half-moon portion are butted against each other to ensure the positional accuracy of the prober substrate.

【0020】また、前記の如きプローバ基板は、被検体
の1個または数個分程度を単位とした寸法を想定してい
るが、基板の剛性や加工方法等を考慮することにより被
検体に係わる更に大規模な集積度を持つ対象にも適用可
能であると共に、それらのプローバ基板上の回路パター
ンに関する外部接続用のランド群による電気的接続と機
構的な結合機能を持ち、複数のプローバ基板を結合させ
半導体ウエハー等被検体に係わる大規模集積体を一度に
プロービングを行えるように拡張することも可能であ
る。
Further, the prober substrate as described above is assumed to have a size in units of one or several test objects, but the prober board is related to the test object by considering the rigidity of the board and the processing method. In addition to being applicable to objects with a larger scale of integration, it also has the electrical connection and mechanical coupling function of external connection lands related to the circuit patterns on those prober boards, and allows the use of multiple prober boards. It is also possible to combine and expand a large-scale integrated body related to an object such as a semiconductor wafer so that probing can be performed at one time.

【0021】この場合、親基板と所属する各プローバ基
板との結合部を気密かつ柔軟性を持たせてプローバ基板
の動きに自由度を持たせる構造とし、該親基板に気体や
流体等による圧力を印加するか、親基板および各プロー
バ基板と大規模集積体との間隙部分を減圧し大気圧を利
用することにより、前記接点付近の運動部分と個々のプ
ローバ基板の自由度に係わる相乗作用により、被検体の
表面誤差や機構の加工誤差による接点と被検体のパッド
部との間の誤差を吸収できる。
In this case, the connecting portion between the parent substrate and each prober substrate to which it belongs is made airtight and flexible so that the prober substrate can move freely, and the parent substrate is pressed by gas or fluid. Is applied or the atmospheric pressure is used by depressurizing the gap between the parent substrate and each prober substrate and the large-scale integrated body, and by the synergistic effect of the degree of freedom of the moving portion near the contact point and the individual prober substrate. It is possible to absorb the error between the contact point and the pad portion of the subject due to the surface error of the subject or the machining error of the mechanism.

【0022】このような本発明によれば、絶縁体あるい
は表面に絶縁部分を形成した金属等によるプローバ基板
の表面に、弾性金属の金属薄板や金属層による回路パタ
ーンを設定し、さらに該回路パターン上における被検体
のパッドとの対応位置に接点を設けると共に該接点部分
の裏面のプローバ基板に凹部または貫通孔等の開放部を
形成し、該凹部または開放部上の金属薄板や金属箔等に
運動部分を形成することにより、個々の接点の自由度を
大きくすることができ、機構部分の加工、組立誤差や接
点相互の高さの違い等に金する不具合の是正、すなわち
接点と被検体のパッド部との接触誤差を吸収すると共に
接触圧を平均化するという効用がある。
According to the present invention as described above, a circuit pattern made of a thin metal plate or a metal layer of elastic metal is set on the surface of a prober substrate made of an insulator or a metal having an insulating portion formed on the surface, and the circuit pattern is further set. An opening such as a recess or a through hole is formed in the prober substrate on the back surface of the contact portion while providing a contact at a position corresponding to the pad of the subject on the top, and a metal thin plate or a metal foil on the recess or the opening is formed. By forming the moving part, it is possible to increase the degree of freedom of each contact, and to correct defects such as machining of the mechanical part, assembly error and difference in height between contacts, that is, contact and subject. It is effective in absorbing the contact error with the pad portion and averaging the contact pressure.

【0023】また、親基板と、これと組み合う各プロー
バ基板との結合部を気密かつ柔軟性を持った構造として
プローバ基板の動きに自由度を持たせ、さらに該親基板
に気体や流体等による圧力を印加するか、親基板および
各プローバ基板と大規模集積体との間隙部分を減圧し大
気圧を利用することにより、前記接点付近の運動部分と
個々のプローバ基板による自由度に係わる相乗作用によ
り、被検体の表面誤差や機構の加工、組立誤差による接
点と被検体のパッド部間の誤差を吸収でき、被検体との
精密且つ高信頼性のある接触が可能となる。
In addition, the connecting portion between the parent substrate and each prober substrate to be combined with the parent substrate is made airtight and flexible to allow the prober substrate to move freely, and the parent substrate is formed by gas or fluid. By applying pressure or depressurizing the gap between the parent substrate and each prober substrate and the large-scale integrated body and using atmospheric pressure, a synergistic effect on the degree of freedom by the moving portion near the contact point and individual prober substrate As a result, it is possible to absorb the error between the contact point and the pad portion of the subject due to the surface error of the subject, the machining of the mechanism, and the assembly error, and it is possible to make a precise and highly reliable contact with the subject.

【0024】[0024]

【実施例】次に、添付図面を参照して、本発明の種々な
実施例としての測定用プローバの構造および動作につい
て説明する。図1は、本発明の一実施例としての測定用
プローバの構造を示す概略平面図であり、図2は、図1
のA−A線断面図である。これら図1および図2に示さ
れるように、この実施例の測定用プローバは、プローバ
基板1と、このプローバ基板1を取り付け保持するため
の基台21とを備えている。プローバ基板1は、微細構
造の接触部を有する回路素子である被検体5の各パッド
(接触部)に接触する接点を搭載するものであり、基台
21には、接点信号を外部回路に中継、接続するための
親基板2が組み付けられる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The structure and operation of a measuring prober as various embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic plan view showing the structure of a measuring prober as one embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 4 is a sectional view taken along line AA of FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the measuring prober of this embodiment includes a prober substrate 1 and a base 21 for mounting and holding the prober substrate 1. The prober substrate 1 is mounted with contacts that come into contact with the pads (contact portions) of the subject 5 that is a circuit element having a contact portion having a fine structure. The base 21 relays contact signals to an external circuit. The parent board 2 for connection is assembled.

【0025】プローバ基板1の表面と裏面には、燐青銅
やベリリウム銅等の弾性金属薄板によりなる接点ランド
3と、スルーホール9により電気的に結合された裏面ラ
ンド4とが、それぞれ配設されている。各接点ランド3
の先端部3aには、図2に示す被検体5のパッド6との
対応位置に精密な金属球を溶接し接点7とすると共に、
該接点7の裏面部分付近のプローバ基板1には、凹所で
ある貫通穴あるいは図示の如き盲穴等による開放部8を
設けている。
Contact lands 3 made of an elastic metal plate such as phosphor bronze or beryllium copper, and back lands 4 electrically connected by through holes 9 are provided on the front and back surfaces of the prober substrate 1, respectively. ing. Each contact land 3
A precision metal ball is welded to the tip portion 3a of the object 3 at a position corresponding to the pad 6 of the subject 5 shown in FIG.
The prober substrate 1 near the back surface of the contact 7 is provided with an opening 8 such as a through hole or a blind hole as shown in the drawing.

【0026】従って、各接点ランド3は、カンチレバー
状とされており、先端部3aは、運動に係る自由度が高
くなるので、プローバ基板1に印加される押圧により変
形し、被検体5や接点相互あるいは機構の凹凸に対応す
ることができると共に、その際に発生するモーメントに
より接点7がパッド6の表面を擦る、いわゆる、セルフ
クリーンアクションが生じて酸化被膜の破壊を行うこと
ができる。また、接点7は、種々の方式のものを使用で
きるが、金属球の他に通常の円錐状や類似形状のもの
や、先端部の一部を凸状に成型する等、種々な形状のも
のとすることができる。
Therefore, each contact land 3 is formed in a cantilever shape, and the tip end portion 3a has a high degree of freedom regarding movement, so that the tip end portion 3a is deformed by the pressure applied to the prober substrate 1, and the subject 5 and the contact point are contacted. It is possible to cope with the mutual or unevenness of the mechanism, and the contact 7 rubs the surface of the pad 6 due to the moment generated at that time, so-called self-clean action occurs, and the oxide film can be destroyed. The contacts 7 may be of various types, but in addition to metal balls, those of ordinary conical shape or similar shape, or of various shapes such as molding a part of the tip in a convex shape. Can be

【0027】スルーホール9を経て裏面ランド4に伝達
された個々の接点7からの電気信号は、図2に示すよう
に、親基板2上に形成された中継パターン10を経由し
てコネクタ11を経て外部回路につながる中継ランド1
2に伝達されるが、その際に裏面ランド4と中継ランド
12との間には、図示の如く、導電ゴムや金属バネ等の
緩衝導電手段13を介在させることにより、プローバ基
板1と親基板2間に生ずる偏位等の相対誤差を吸収する
ことができる。
The electrical signals from the individual contacts 7 transmitted to the back surface land 4 through the through holes 9 pass through the relay pattern 10 formed on the mother board 2 to the connector 11 as shown in FIG. Relay land 1 connected to an external circuit
2, the buffer conductive means 13 such as a conductive rubber or a metal spring is interposed between the back surface land 4 and the relay land 12 at this time, so that the prober board 1 and the parent board 1 are connected. It is possible to absorb a relative error such as a deviation occurring between the two.

【0028】また、先端部3a付近の裏面と開放部8と
の間には、先端部3aに係わる金属薄板3の弾性や機械
的強度の補助のためにシリコンゴムや金属バネ等の補助
緩衝手段14を挿入しているが、金属薄板3の弾性や可
撓性が適当であれば省略してもよい。さらに、接点7の
ストロークを稼ぐ手段として、先端部3a付近を屈曲さ
せて先端部3aをプローバ基板1の表面より持ち上げる
構造とすることもできるが、その場合にも、補助緩衝手
段14を適用することができる。
Between the back surface near the tip 3a and the open portion 8, auxiliary cushioning means such as silicon rubber or metal spring is provided to assist the elasticity and mechanical strength of the thin metal plate 3 related to the tip 3a. Although 14 is inserted, it may be omitted if the elasticity and flexibility of the thin metal plate 3 are appropriate. Further, as a means for increasing the stroke of the contact 7, a structure in which the vicinity of the tip portion 3a is bent and the tip portion 3a is lifted from the surface of the prober substrate 1 can be used. In that case, the auxiliary buffering means 14 is also applied. be able to.

【0029】プローバ基板1は、セラミックやガラス等
の絶縁体、あるいは表面に絶縁部分を形成した金属基板
等が使用できるが、特に、最近普及してきたフォトレジ
ストによりガラス表面にパターンを形成し、ケミカルエ
ッチングにより立体構造を形成する技術が最適である。
接点ランド3や裏面ランド4等は、プローバ基板1にバ
ネ材であるベリリウム銅や燐青銅等の金属薄板や金属層
を形成し、化学エッチングやレーザーカットあるいは放
電加工等の手法や、あらかじめプレス機械等により成型
加工を行った薄板を貼付することにより形成することが
可能である。
As the prober substrate 1, an insulator such as ceramic or glass, or a metal substrate having an insulating portion formed on the surface thereof can be used. In particular, a pattern is formed on the glass surface by a photoresist which has recently become popular, and a chemical is used. The technique of forming a three-dimensional structure by etching is optimal.
The contact land 3 and the back surface land 4 are formed by forming a thin metal plate or metal layer of beryllium copper, phosphor bronze or the like, which is a spring material, on the prober substrate 1, and performing a method such as chemical etching, laser cutting or electric discharge machining, or a press machine beforehand. It is possible to form it by pasting a thin plate that has been molded by the above method.

【0030】基台21の両端には、プローバ基板1およ
び親基板2を取り付け保持するための締付けボス15が
設けられている。プローバ基板1の両端部には、対応す
るボス15のロッド部に係合して位置決めするための半
円形開孔部1aが形成されている。基台21および親基
板2に対するプローバ基板1の位置決めは、この半円形
開孔部1aと対応するボス15のロッド部との精密嵌合
による摺動により行うのであるが、このままでは、両者
の摩擦によってパーティクルが発生する可能性があるの
で、図2に示すように、ボス15とプローバ基板1に形
成した半円形開孔部1aとの嵌合部付近に、シリコンゴ
ム等の弾性体による防塵材16を塗布し、柔らかい塗膜
を形成することにより防止することもできる。また、先
端部3aや接点7を保護する目的でプローバ基板1の底
部にストッパ17を設けているが、これは半円部1aと
ボス15との間に設けてもよい。
Clamping bosses 15 for attaching and holding the prober substrate 1 and the parent substrate 2 are provided at both ends of the base 21. At both ends of the prober board 1, semi-circular apertures 1a for engaging and positioning the rods of the corresponding bosses 15 are formed. Positioning of the prober substrate 1 with respect to the base 21 and the parent substrate 2 is performed by sliding the semi-circular opening 1a and the corresponding rod portion of the boss 15 by precision fitting. Particles may be generated due to the dust. Therefore, as shown in FIG. 2, a dustproof material made of an elastic material such as silicon rubber is provided near the fitting portion between the boss 15 and the semicircular opening 1a formed in the prober substrate 1. It can also be prevented by applying 16 to form a soft coating film. Further, although the stopper 17 is provided at the bottom of the prober substrate 1 for the purpose of protecting the tip portion 3a and the contact 7, it may be provided between the semicircular portion 1a and the boss 15.

【0031】図3は、接点ランド3の先端部3aの構造
例を数種類例示したものである。図1および図2に示し
た実施例では、接点ランド3の先端部3aの構造は、必
要な圧力を得るためにカンチレバー形状としたのである
が、接点ランド3の先端部3aは、凹所である開放部8
の上を横切るようにして張り渡されたものとすることも
できる。例えば、接点ランド3の先端部3aは、図3の
(A) に示すようなダイヤフラム状としてもよいし、図3
の(B) に示すような十字型やY字型等の架橋型としても
よいし、図3の(C) に示すような先端固定型としてもよ
い。このように、これら先端部3aの構造は、目的に合
わせて選択することができる。
FIG. 3 illustrates several types of structural examples of the tip portion 3a of the contact land 3. In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the tip portion 3a of the contact land 3 has a cantilever shape in order to obtain a necessary pressure, but the tip portion 3a of the contact land 3 is a recess. Open part 8
It can also be stretched across the top of. For example, the tip portion 3a of the contact land 3 has
It may have a diaphragm shape as shown in FIG.
It may be a cross-shaped type such as a cross type or a Y-shaped type as shown in FIG. 3B, or a fixed tip type as shown in FIG. 3C. In this way, the structure of these tip portions 3a can be selected according to the purpose.

【0032】プローバ基板1と親基板2に係わる裏面ラ
ンド4と中継パターン10との間の電気的接続の手段と
しては、図1および図2に示した実施例では、裏面ラン
ド4と中継ランド12および緩衝導電手段13によるも
のであったが、これに限らず、種々なものとすることが
できる。例えば、図4および図5の部分図に示すよう
に、フレキシブル基板18を介して行うこともできる。
この場合には、裏面ランド4、中継ランド12、スルー
ホール9等の加工が不必要であり、プローバ基板1の構
造が簡単になるが、図中に黒点10aに示す如く、溶接
や半田付け等により電気的な接続を行う必要があり、ま
た、プローバ基板1と親基板2との間の緩衝用として、
シリコンゴム等による緩衝材19を介在させる必要があ
る。
As means for electrically connecting the backside land 4 and the relay pattern 10 relating to the prober substrate 1 and the parent substrate 2, the backside land 4 and the relay land 12 are used in the embodiment shown in FIGS. Also, the buffer conductive means 13 is used, but the invention is not limited to this, and various types can be used. For example, as shown in the partial views of FIGS. 4 and 5, it may be performed through the flexible substrate 18.
In this case, it is not necessary to process the back surface land 4, the relay land 12, the through hole 9 and the like, and the structure of the prober substrate 1 is simplified, but as shown by a black dot 10a in the figure, welding, soldering, etc. Therefore, it is necessary to electrically connect the prober board 1 and the parent board 2 with each other.
It is necessary to interpose a cushioning material 19 made of silicon rubber or the like.

【0033】また、裏面ランド4と中継パターン10と
の間の電気的接続に係わる他の手段としては、図6に示
すように、プローバ基板1の裏面ランド4を、表面に設
けた接点ランド3と先端部3aおよび接点7からなる機
構と同じような構造とし、親基板2に形成されている中
継ランド12に接触するように構成することもできる。
この場合には、図7に示す如く、開放部8の構成を貫通
穴とし、その中に、スプリングやシリコンゴム等の緩衝
材あるいはロッド等の剛体からなる結合手段20を挿入
することにより、先端部3aおよび4a付近の弾性の補
助や先端部3aおよび4a相互間の応力に関係を持たせ
た、いわゆる、フライング方式とすることもでき、さら
に、結合手段20を導体とした場合には、スルーホール
9を省略することも可能である。
Further, as another means relating to the electrical connection between the rear surface land 4 and the relay pattern 10, as shown in FIG. 6, the rear surface land 4 of the prober substrate 1 is provided with the contact land 3 provided on the surface. It is also possible to adopt a structure similar to that of the mechanism including the tip portion 3a and the contact point 7 so as to be in contact with the relay land 12 formed on the mother board 2.
In this case, as shown in FIG. 7, the open end 8 is formed as a through hole, and a coupling means 20 made of a shock absorbing material such as a spring or silicon rubber, or a rigid body such as a rod is inserted into the through hole so that the tip end is A so-called flying method, which is related to the elasticity assistance near the portions 3a and 4a and the stress between the tip portions 3a and 4a, can also be used. Further, when the coupling means 20 is a conductor, a through It is also possible to omit the hole 9.

【0034】これらの機構は、加速エージング等で高温
に曝される場合が多いので、材料の膨張係数による誤差
を生じやすい。本発明においては、プローバ基板1の位
置精度を確保する手段として、図1や図2に示す如く、
熱膨張係数が小さいか、金属や被検体5の材料であるシ
リコン等に近い合金(例えば、株式会社日本鋳造のRE
X25シリーズ等)やセラミックを材料とした基台21
に設置したボス15と、プローバ基板1の半月部1aと
の係合によって精度を保つ構造としている。この場合、
通常はエポキシ樹脂等の材料による親基板2の熱膨張の
影響を受けないように、ボス15が親基板2を貫通する
孔はボス15の直径より大きめに設定する必要がると共
に、親基板2を当該基台21に接着することにより熱膨
張を規制している。
Since these mechanisms are often exposed to high temperatures due to accelerated aging, errors due to the expansion coefficient of the material are likely to occur. In the present invention, as a means for ensuring the positional accuracy of the prober substrate 1, as shown in FIG. 1 and FIG.
An alloy having a small coefficient of thermal expansion, or an alloy close to metal such as silicon which is the material of the sample 5 (for example, RE of Nippon Foundry Co., Ltd.
X25 series, etc.) and ceramic base 21
The accuracy is maintained by engaging the boss 15 installed on the above with the half-moon portion 1a of the prober substrate 1. in this case,
Normally, the hole through which the boss 15 penetrates the parent substrate 2 needs to be set to be larger than the diameter of the boss 15 so as not to be affected by the thermal expansion of the parent substrate 2 due to a material such as epoxy resin. Is bonded to the base 21 to control thermal expansion.

【0035】また、最近要請されている半導体ウエハー
等の大規模集積回路に対する一括プロービングについて
は、プローバ基板1の集積度を上げて対応することもで
きるが、全体の剛性や故障時の対応等について不都合な
場合が多い。そのような場合には、親基板2を拡張して
設置した多数のボス15に、プローバ基板1の半円部1
aを突き合わせて設置することにより、無駄な空間を必
要とせずに効率良く精密な位置合わせを行うことができ
る。
For batch probing of a large-scale integrated circuit such as a semiconductor wafer, which has been recently requested, it is possible to increase the integration degree of the prober substrate 1 to deal with it. It is often inconvenient. In such a case, the semi-circular portion 1 of the prober substrate 1 is attached to a large number of bosses 15 that are installed by expanding the parent substrate 2.
By arranging “a” in abutment with each other, it is possible to perform efficient and precise alignment without needing a wasted space.

【0036】また、プローバ基板1の位置精度を左右す
るボス15は、図2や図5に示す如く、親基板2を貫通
して基台21に設置されているが、ボス15には、個々
のプローバ基板1に係わるプロービング時の押圧の補正
の目的から図5に示す円筒状コイルバネ等の弾性体22
が付加される場合もある。
Further, the boss 15 which influences the positional accuracy of the prober board 1 is installed on the base 21 so as to penetrate the parent board 2 as shown in FIGS. The elastic body 22 such as a cylindrical coil spring shown in FIG.
May be added.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明による測定用プローバの構造によ
れば、被検体との接触を高精度、高信頼度で行え、且つ
量産性が良く、安価なものとすることができる。
According to the structure of the prober for measurement of the present invention, the prober can be brought into contact with the subject with high accuracy and high reliability, and can be mass-produced with good cost.

【0038】本発明による測定用プローバを適用したI
Cテスターやエージング装置によれば、ICのペレット
の状態、さらに、ペレットにカットする以前のウエハー
の状態での検査が可能になるので、パッケージング後の
検査の場合に比べて途中工程の無駄を未然に防ぐことが
でき、生産効率が格段に向上する上に、当該プローバを
使用した装置の構成を考慮することにより、ウエハー上
での不良部分の分布状態を判定することが可能なので、
当該ICパターン用マスクの不良等のように遡った工程
の不具合も検出できる如き大きなメリットを生ずる。
Application of the measuring prober according to the present invention I
With the C tester and aging device, it is possible to inspect the state of the IC pellets and the state of the wafer before cutting into pellets, so waste of intermediate steps is possible compared to the case of inspection after packaging. It can be prevented in advance, the production efficiency is significantly improved, and by considering the configuration of the device using the prober, it is possible to determine the distribution state of defective portions on the wafer.
There is a great merit that a defect in a retroactive process such as a defect of the IC pattern mask can be detected.

【0039】さらにまた、本発明による測定用プローバ
は、被検体として同じような微細構造の電極を持つ液晶
表示装置等のICウエハー以外の欠陥検査装置にも適用
することが可能であり、広汎な用途が期待できる。
Furthermore, the measuring prober according to the present invention can be applied to a defect inspection device other than an IC wafer such as a liquid crystal display device having an electrode having a similar fine structure as an object, and is widely used. Applications can be expected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例としての測定用プローバの構
造を示す概略平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view showing the structure of a measuring prober as one embodiment of the present invention.

【図2】図1のA−A線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.

【図3】本発明の測定用プローバにおけるプローバ基板
に設ける接点ランドの先端部の構造例を数種類例示した
図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating several types of structural examples of the tip end portions of contact lands provided on the prober substrate in the measuring prober of the present invention.

【図4】本発明の測定用プローバにおけるプローバ基板
と親基板との間の電気的接続にフレキシブル基板を用い
た例を示す部分平面図である。
FIG. 4 is a partial plan view showing an example in which a flexible substrate is used for electrical connection between a prober substrate and a parent substrate in the measuring prober of the present invention.

【図5】図4のC−C線断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line CC of FIG. 4;

【図6】本発明の測定用プローバにおいてプローバ基板
の裏面にも表面と略同様な構造の接点ランドと接点とを
設けた場合を示す図1のB−B線断面図に相当する断面
図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view corresponding to the cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 1, showing a case where a contact land and a contact having substantially the same structure as the front surface are provided on the back surface of the prober substrate in the measuring prober of the present invention. is there.

【図7】本発明の測定用プローバにおいてプローバ基板
の裏面にも表面と略同様な構造の接点ランドと接点とを
設け且つ凹所である開放部を貫通穴とした場合を示す図
6と同様の断面図である。
FIG. 7 is a view similar to FIG. 6 showing a case where contact holes and contacts having substantially the same structure as the front surface are provided on the back surface of the prober substrate in the measuring prober of the present invention, and the open portion which is the recess is a through hole. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プローバ基板 2 親基板 3 接点ランド 3a 先端部 4 裏面ランド 4a 先端部 5 被検体 6 パッド 7 接点 8 開放部 9 スルーホール 10 中継パターン 11 コネクタ 12 中継ランド 13 緩衝導電手段 14 補助緩衝手段 15 ボス 16 防塵材 17 ストッパ 18 フレキシブル基板 19 緩衝材 20 結合手段 21 基台 22 弾性体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Prober board 2 Parent board 3 Contact land 3a Tip part 4 Back side land 4a Tip part 5 Specimen 6 Pad 7 Contact point 8 Open part 9 Through hole 10 Relay pattern 11 Connector 12 Relay land 13 Buffer conductive means 14 Auxiliary buffer means 15 Boss 16 Dustproof material 17 Stopper 18 Flexible substrate 19 Cushioning material 20 Coupling means 21 Base 22 Elastic body

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 微細構造の接触部を有する回路素子のた
めの測定用プローバにおいて、基台と、該基台に対して
緩衝部材を介して取り付け保持されるプローバ基板とを
備えており、該プローバ基板の前記基台とは反対側の面
には、前記回路素子の前記接触部の配列パターンに対応
した配列パターンにて、接点ランドを構成するばね性の
ある導電性金属薄片が配設されており、該金属薄片に
は、前記回路素子の対応する接触部に接触しうる接点が
付与されており、前記プローバ基板の前記面には、前記
金属薄片の接点に対応する位置に凹所が形成されてお
り、前記基台と前記プローバ基板との間には、前記金属
薄片の各々を外部測定装置へと電気的に接続しうるよう
にするための電気接続手段が設けられていることを特徴
とする測定用プローバ。
1. A prober for measurement for a circuit element having a microstructured contact portion, comprising a base and a prober substrate attached and held to the base via a buffer member, On the surface of the prober substrate opposite to the base, spring-like conductive metal flakes forming contact lands are arranged in an arrangement pattern corresponding to the arrangement pattern of the contact portions of the circuit element. The metal flakes are provided with contacts capable of contacting the corresponding contact portions of the circuit element, and the surface of the prober substrate has a recess at a position corresponding to the contacts of the metal flakes. An electrical connection means is provided between the base and the prober substrate for electrically connecting each of the metal flakes to an external measuring device. A characteristic prober for measurement.
【請求項2】 前記金属薄片の各々は、先端が対応する
前記凹所の上にて終わるようなカンチレバー形状とされ
ている請求項1記載の測定用プローバ。
2. The prober for measurement according to claim 1, wherein each of the metal thin pieces is formed in a cantilever shape such that a tip end thereof is located above the corresponding recess.
【請求項3】 前記金属薄片の各々は、前記凹所の上を
横切るようにして張り渡された両端固定形状とされてい
る請求項1記載の測定用プローバ。
3. The prober for measurement according to claim 1, wherein each of the thin metal pieces has a fixed shape in which both ends are stretched across the recess.
【請求項4】 前記凹所には、対応する前記金属薄片の
前記接点に対して緩衝作用を与える補助緩衝部材が配設
されている請求項1または2記載の測定用プローバ。
4. The prober for measurement according to claim 1, wherein an auxiliary cushioning member that cushions the contact of the corresponding thin metal piece is provided in the recess.
【請求項5】 前記プローブ基板の前記面とは反対側の
面には、それぞれスルーホールを介して前記金属薄片の
各々と電気的に接続された裏面ランドが配設されてお
り、前記基台には、親基板が組み付けられており、該親
基板には、前記外部測定装置への接続のための電気コネ
クタと、前記プローブ基板の前記裏面ランドの各々に対
応する位置に配列された中継ランドと、該中継ランドの
それぞれを前記電気コネクタの対応する接触端子へと電
気的に接続するための中継パターンとが設けられてお
り、前記緩衝部材は、前記親基板の前記中継ランドの各
々と、前記プローバ基板の対応する前記裏面ランドとの
間に介在させられる個々の緩衝導電部材からなり、前記
電気接続手段は、前記プローバ基板の前記スルーホール
および前記裏面ランドと、前記個々の緩衝導電部材と、
前記親基板の前記中継ランド、前記中継パターンおよび
前記電気コネクタとで構成されている請求項1または2
または3または4記載の測定用プローバ。
5. A back surface land electrically connected to each of the metal flakes through a through hole is provided on a surface of the probe substrate opposite to the surface, and the base is provided. A main board is attached to the main board, and the main board has an electrical connector for connection to the external measuring device and a relay land arranged at a position corresponding to each of the back surface lands of the probe board. And a relay pattern for electrically connecting each of the relay lands to a corresponding contact terminal of the electrical connector, the buffer member, each of the relay lands of the parent board, The prober board includes individual buffer conductive members interposed between the back surface land and the corresponding back surface land, and the electrical connection means includes the through hole and the back surface land of the prober board. , The individual buffer conductive members,
3. The relay land of the parent board, the relay pattern, and the electrical connector.
Alternatively, the measuring prober according to 3 or 4.
【請求項6】 前記プローブ基板の前記面とは反対側の
面には、前記金属薄片と対応する位置にスルーホールを
介してその金属薄片と電気的に接続された裏面ランドを
構成するばね性のある導電性金属薄片が配設されてお
り、前記プローバ基板の前記反対側の面には、前記裏面
ランドを構成する金属薄片の下に位置する部分に凹所が
形成されており、前記基台には、親基板が組み付けられ
ており、該親基板には、前記外部測定装置への接続のた
めの電気コネクタと、前記プローブ基板の前記裏面ラン
ドを構成する金属薄片の各々に対応する位置に配列され
た中継ランドと、該中継ランドのそれぞれを前記電気コ
ネクタの対応する接触端子へと電気的に接続するための
中継パターンとが設けられており、前記接点ランドを構
成する金属薄片に付与された接点は、金属薄片に固着さ
れた導電性精密球により与えられており、前記裏面ラン
ドを構成する金属薄片と前記親基板の対応する中継ラン
ドとの間にも、同様の導電性精密球が付与され、前記緩
衝部材は、前記裏面ランドを構成する金属薄片のばね性
によって与えられ、前記電気接続手段は、前記プローバ
基板の前記スルーホールおよび前記裏面ランドを構成す
る金属薄片と、この金属薄片と前記親基板の対応する前
記中継ランドとの間に付与された導電性精密球と、前記
親基板の前記中継ランドと、前記中継パターンおよび前
記電気コネクタとで構成されている請求項1記載の測定
用プローバ。
6. A spring property which forms a back surface land electrically connected to the metal thin piece via a through hole at a position corresponding to the metal thin piece on a surface opposite to the surface of the probe substrate. A conductive thin metal piece having a groove is formed, and a recess is formed in a portion of the opposite surface of the prober substrate located below the thin metal piece forming the back surface land. A mother board is assembled to the table, and the mother board has a position corresponding to each of an electrical connector for connecting to the external measuring device and a metal thin piece forming the back surface land of the probe board. And relay patterns for electrically connecting each of the relay lands to the corresponding contact terminals of the electric connector are provided, and the relay lands are provided on the metal thin pieces forming the contact lands. The contact point provided is provided by a conductive precision sphere fixed to a metal thin piece, and a similar conductive precision sphere is provided between the metal thin piece forming the backside land and the corresponding relay land of the parent board. The cushioning member is provided by the spring property of the metal thin piece forming the back surface land, and the electrical connecting means is a metal thin piece forming the through hole of the prober substrate and the back surface land, and the metal. 2. A conductive precision sphere provided between a thin piece and the corresponding relay land of the parent board, the relay land of the parent board, the relay pattern and the electrical connector. Prober for measuring.
【請求項7】 前記プローバ基板の前記面の前記凹所と
前記反対側の面の前記凹所とは、前記面から前記反対側
の面へと貫通する共通の貫通穴によって与えられてお
り、該貫通穴には、両面側にある前記金属薄片の間に介
在する結合部材が配設されている請求項6記載の測定用
プローバ。
7. The recess of the surface of the prober substrate and the recess of the opposite surface are provided by a common through hole penetrating from the surface to the opposite surface, 7. The prober for measurement according to claim 6, wherein a coupling member interposed between the thin metal pieces on both sides is arranged in the through hole.
【請求項8】 前記結合部材は、弾性材料で形成されて
いる請求項7記載の測定用プローバ。
8. The measuring prober according to claim 7, wherein the coupling member is made of an elastic material.
【請求項9】 前記結合部材は、弾性のある導電性材料
で形成されており、前記スルーホールの機能も果たして
いる請求項7記載の測定用プローバ。
9. The prober for measurement according to claim 7, wherein the coupling member is formed of a conductive material having elasticity and also functions as the through hole.
【請求項10】 前記プローブ基板の前記面には、前記
金属薄片のそれぞれに電気的に接続され且つ該プローブ
基板の一端部まで延びる中継パターンが配設されてお
り、前記基台には、親基板が組み付けられており、該親
基板には、前記外部測定装置への接続のための電気コネ
クタが設けられており、前記電気接続手段は、前記プロ
ーバ基板の前記一端部における前記中継パターンと前記
電気コネクタの対応する接触端子との間の電気的接続を
行うフレキシブル基板を含む請求項1または2または3
または4記載の測定用プローバ。
10. A relay pattern, which is electrically connected to each of the metal flakes and extends to one end of the probe substrate, is provided on the surface of the probe substrate, and the base is provided with a relay pattern. A substrate is assembled, the parent substrate is provided with an electrical connector for connection to the external measurement device, and the electrical connection means is the relay pattern and the relay pattern at the one end of the prober substrate. 4. A flexible substrate for making an electrical connection between corresponding contact terminals of an electrical connector.
Or the prober for measurement according to 4.
JP8009470A 1996-01-23 1996-01-23 Measuring prober for circuit element with contact part of fine structure Pending JPH09199552A (en)

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