JPH09198721A - 光記録媒体の製造装置、製造方法および光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体の製造装置、製造方法および光記録媒体Info
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- JPH09198721A JPH09198721A JP591096A JP591096A JPH09198721A JP H09198721 A JPH09198721 A JP H09198721A JP 591096 A JP591096 A JP 591096A JP 591096 A JP591096 A JP 591096A JP H09198721 A JPH09198721 A JP H09198721A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光記録媒体または光記録媒体用基板に塗布
した光硬化性樹脂を光硬化させるコーティング工程にお
いて、コーティング面の平坦性が高く、均一な膜厚を保
持したままで光硬化する。 【解決手段】 受け皿の側面に吹き付けあるいは吸引用
の孔を設けることで、気体が塗布面の上部に回り込むこ
とがなく、塗布面の平坦性が良好で、均一な膜厚が保持
されたままで光硬化することが可能となる。
した光硬化性樹脂を光硬化させるコーティング工程にお
いて、コーティング面の平坦性が高く、均一な膜厚を保
持したままで光硬化する。 【解決手段】 受け皿の側面に吹き付けあるいは吸引用
の孔を設けることで、気体が塗布面の上部に回り込むこ
とがなく、塗布面の平坦性が良好で、均一な膜厚が保持
されたままで光硬化することが可能となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光硬化型樹脂を塗布
し、光硬化させる光記録媒体の製造装置およびこれを用
いた光記録媒体製造方法、さらに光記録媒体に関するも
のである。
し、光硬化させる光記録媒体の製造装置およびこれを用
いた光記録媒体製造方法、さらに光記録媒体に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体の製造工程において、光硬化
型樹脂は表面保護などを目的としたコーティング剤とし
て用いられたり、貼り合わせディスクの接着剤として用
いられている。
型樹脂は表面保護などを目的としたコーティング剤とし
て用いられたり、貼り合わせディスクの接着剤として用
いられている。
【０００３】従来の硬化方法は光硬化型樹脂をスピンコ
ート法などによりある膜厚に塗布した後、塗布面に光を
照射し光硬化を行っていた。この方法の場合、樹脂が硬
化した後、ディスクに変形や反りが生じる。この原因は
主に光硬化型樹脂の硬化に伴う収縮によるものと光照射
に伴う基板の熱変形によるものと考えられる。このディ
スクの変形や反りは光記録媒体または光記録媒体用基板
の厚みが厚い場合、強度的に強く、あまり問題にならな
かった。しかし、光記録媒体の高密度化に伴い、従来の
基板よりも薄い基板を用いる必要性が生じて来つつあ
り、この場合、強度的に弱いため、樹脂の光硬化に伴い
ディスクに変形や反りが生じやすくなる。光硬化型樹脂
の硬化時の収縮が原因で生じる変形や反りは、樹脂の特
性によるものであり、硬化時の収縮が小さい樹脂などの
検討が行われている。
ート法などによりある膜厚に塗布した後、塗布面に光を
照射し光硬化を行っていた。この方法の場合、樹脂が硬
化した後、ディスクに変形や反りが生じる。この原因は
主に光硬化型樹脂の硬化に伴う収縮によるものと光照射
に伴う基板の熱変形によるものと考えられる。このディ
スクの変形や反りは光記録媒体または光記録媒体用基板
の厚みが厚い場合、強度的に強く、あまり問題にならな
かった。しかし、光記録媒体の高密度化に伴い、従来の
基板よりも薄い基板を用いる必要性が生じて来つつあ
り、この場合、強度的に弱いため、樹脂の光硬化に伴い
ディスクに変形や反りが生じやすくなる。光硬化型樹脂
の硬化時の収縮が原因で生じる変形や反りは、樹脂の特
性によるものであり、硬化時の収縮が小さい樹脂などの
検討が行われている。
【０００４】一方、光照射に伴って生じる熱変形は、主
に光を照射した面と光記録媒体または光記録媒体用基板
の内部および照射面と反対の面との間で熱膨張に差が生
じるためである。すなわち、光照射時の光記録媒体また
は光記録媒体用基板の厚さ方向の不均一な熱膨張による
ものであるから、光硬化後数分間は特に光記録媒体また
は光記録媒体用基板が著しく変形しており、光記録媒体
製造のコーティング工程においてチャック不良や搬送ミ
スなどのトラブルが生じるばかりでなく、記録層部分に
無理な内部応力がかかり、記録層と基板との接着性に悪
影響を与えたり、記録層の信頼性、耐久性の低下をまね
くことが懸念される。
に光を照射した面と光記録媒体または光記録媒体用基板
の内部および照射面と反対の面との間で熱膨張に差が生
じるためである。すなわち、光照射時の光記録媒体また
は光記録媒体用基板の厚さ方向の不均一な熱膨張による
ものであるから、光硬化後数分間は特に光記録媒体また
は光記録媒体用基板が著しく変形しており、光記録媒体
製造のコーティング工程においてチャック不良や搬送ミ
スなどのトラブルが生じるばかりでなく、記録層部分に
無理な内部応力がかかり、記録層と基板との接着性に悪
影響を与えたり、記録層の信頼性、耐久性の低下をまね
くことが懸念される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、先に光硬化時に光記録媒体または光記録媒体用基板
に気体を吹き付けて冷却する方法を考案した。しかし、
吹き付けた気体の圧力、流量、気体の流れる経路によっ
ては、未硬化の液体状態のコート剤が吹き付けた気体に
より波うち、塗布面がすりガラスのようになり、コート
層の膜厚が不均一になった状態で光硬化される、という
重大な問題が生じる。
は、先に光硬化時に光記録媒体または光記録媒体用基板
に気体を吹き付けて冷却する方法を考案した。しかし、
吹き付けた気体の圧力、流量、気体の流れる経路によっ
ては、未硬化の液体状態のコート剤が吹き付けた気体に
より波うち、塗布面がすりガラスのようになり、コート
層の膜厚が不均一になった状態で光硬化される、という
重大な問題が生じる。
【０００６】本発明は光記録媒体または光記録媒体用基
板に塗布した光硬化性樹脂を光硬化させるコーティング
工程において、コーティング面の平坦性が高く、均一な
膜厚を保持した状態で光硬化させるための光記録媒体の
製造装置およびこれを用いた光記録媒体の製造方法、さ
らにコーティング面の平坦性の高い光記録媒体を提供す
るものである。
板に塗布した光硬化性樹脂を光硬化させるコーティング
工程において、コーティング面の平坦性が高く、均一な
膜厚を保持した状態で光硬化させるための光記録媒体の
製造装置およびこれを用いた光記録媒体の製造方法、さ
らにコーティング面の平坦性の高い光記録媒体を提供す
るものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明は下記の構成よりなる。すなわち、光記録媒
体または光記録媒体用基板に塗布した光硬化型樹脂を光
硬化させる装置において、気体の流入孔および／または
排出孔を設けており、気体の流入および／または排出が
強制的に行われていることを特徴とする光記録媒体の製
造装置に関するものである。また、本発明は光硬化型樹
脂を塗布して光硬化させた光硬化型樹脂の表面の中心線
平均粗さが０．３μｍ以下、最大高さが２μｍ以下であ
ることを特徴とする光記録媒体に関するものである。
に、本発明は下記の構成よりなる。すなわち、光記録媒
体または光記録媒体用基板に塗布した光硬化型樹脂を光
硬化させる装置において、気体の流入孔および／または
排出孔を設けており、気体の流入および／または排出が
強制的に行われていることを特徴とする光記録媒体の製
造装置に関するものである。また、本発明は光硬化型樹
脂を塗布して光硬化させた光硬化型樹脂の表面の中心線
平均粗さが０．３μｍ以下、最大高さが２μｍ以下であ
ることを特徴とする光記録媒体に関するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明で使用する光硬化装置は、
どのような方式のものでもよいが、例えばラジカル反応
の障害となる酸素を取り除く目的で窒素雰囲気になるよ
うに基板が受け皿内に収まり、光照射面には光透過性の
石英板の蓋が備わったバッチ式のものや、コンベア式の
ものなどが考えられる。
どのような方式のものでもよいが、例えばラジカル反応
の障害となる酸素を取り除く目的で窒素雰囲気になるよ
うに基板が受け皿内に収まり、光照射面には光透過性の
石英板の蓋が備わったバッチ式のものや、コンベア式の
ものなどが考えられる。
【０００９】本発明における気体の流れは、気体の流れ
の経路の途中に塗布面があると塗布面の平坦性が乱れる
ことを鑑みると、光記録媒体または光記録媒体用基板の
面に関して同一の側で行われることが好ましい。
の経路の途中に塗布面があると塗布面の平坦性が乱れる
ことを鑑みると、光記録媒体または光記録媒体用基板の
面に関して同一の側で行われることが好ましい。
【００１０】また、装置に形成される孔の位置は、塗布
面の平坦性を乱すことがない限り、特に限定するもので
ないが、複数個の孔が光記録媒体または光記録媒体用基
板を隔てて存在する場合、気体の流れの経路の途中に塗
布面があるため、塗布面の平坦性が乱れることを鑑みる
と、孔は基板の面に関して同一の側にある方が好まし
い。なお、基板の面の位置も同一の側に含む。
面の平坦性を乱すことがない限り、特に限定するもので
ないが、複数個の孔が光記録媒体または光記録媒体用基
板を隔てて存在する場合、気体の流れの経路の途中に塗
布面があるため、塗布面の平坦性が乱れることを鑑みる
と、孔は基板の面に関して同一の側にある方が好まし
い。なお、基板の面の位置も同一の側に含む。
【００１１】さらに、形成される孔の位置は、塗布面と
同じ側の場合、吹き付けや吸引による気体の流れによ
り、塗布面が波うち、すりガラス状になり、塗布面の平
坦性が劣ることから、塗布面と反対側にあることが好ま
しい。
同じ側の場合、吹き付けや吸引による気体の流れによ
り、塗布面が波うち、すりガラス状になり、塗布面の平
坦性が劣ることから、塗布面と反対側にあることが好ま
しい。
【００１２】また、形成される孔の数についても特に限
定するものではないが、複数個の孔により周方向に関し
略均一に形成されている方が塗布面の平坦性を乱すこと
なく均一な膜厚を保持したまま均一に冷却できるという
点から好ましい。この場合、略均一とはふく数個の孔が
周方向に関して、ほぼ等間隔に並んでいることを言う。
定するものではないが、複数個の孔により周方向に関し
略均一に形成されている方が塗布面の平坦性を乱すこと
なく均一な膜厚を保持したまま均一に冷却できるという
点から好ましい。この場合、略均一とはふく数個の孔が
周方向に関して、ほぼ等間隔に並んでいることを言う。
【００１３】基板に吹き付ける気体も特に限定する必要
はなく、空気、窒素、不活性ガス、その他どんな気体で
もよいが、上述したように、光硬化型樹脂の光硬化反応
（ラジカル反応）の観点から雰囲気中の酸素は少ない方
が好ましく、すなわち、窒素や不活性ガスであることが
好ましい。
はなく、空気、窒素、不活性ガス、その他どんな気体で
もよいが、上述したように、光硬化型樹脂の光硬化反応
（ラジカル反応）の観点から雰囲気中の酸素は少ない方
が好ましく、すなわち、窒素や不活性ガスであることが
好ましい。
【００１４】形成される孔の大きさ、形も特に限定する
ものではなく、円形、楕円形、そらまめ型、多角形（三
角形、四角形など）、スリット状などのいずれであって
もかまわない。また、装置上の隙間を孔として利用して
もかまわない。孔の加工性、吹き付け、あるいは吸引さ
れる気体の流れの均一性などから、円形、楕円形および
これらに準じた形状が好ましい。
ものではなく、円形、楕円形、そらまめ型、多角形（三
角形、四角形など）、スリット状などのいずれであって
もかまわない。また、装置上の隙間を孔として利用して
もかまわない。孔の加工性、吹き付け、あるいは吸引さ
れる気体の流れの均一性などから、円形、楕円形および
これらに準じた形状が好ましい。
【００１５】また、基板の厚みは特に限定するものでは
ないが、熱変形にもとづくディスクの変形や反りは、基
板が薄い方が著しく、気体を吹き付けあるいは吸引する
量は基板が薄い方が多くを必要とすることから、１ｍｍ
以下の場合に特に効果的である。
ないが、熱変形にもとづくディスクの変形や反りは、基
板が薄い方が著しく、気体を吹き付けあるいは吸引する
量は基板が薄い方が多くを必要とすることから、１ｍｍ
以下の場合に特に効果的である。
【００１６】本発明で用いる光は紫外線、電子線、ある
いはガンマ線などであり、それらの線源としては高圧水
銀灯、キセノンランプ、メタハライドランプや加速電子
などが使用できる。
いはガンマ線などであり、それらの線源としては高圧水
銀灯、キセノンランプ、メタハライドランプや加速電子
などが使用できる。
【００１７】また、光硬化型樹脂としては、従来一般に
用いられている（メタ）アクリル酸エステル誘導体など
の光重合性樹脂組成物などがあり、装置の簡便さおよい
び線源の取扱いやすさの点から、特に紫外線硬化型樹脂
が一般的に用いられており、基板の表面保護コート剤、
記録層保護コート剤あるいは貼り合わせディスクの接着
剤等として用いることができる。
用いられている（メタ）アクリル酸エステル誘導体など
の光重合性樹脂組成物などがあり、装置の簡便さおよい
び線源の取扱いやすさの点から、特に紫外線硬化型樹脂
が一般的に用いられており、基板の表面保護コート剤、
記録層保護コート剤あるいは貼り合わせディスクの接着
剤等として用いることができる。
【００１８】本発明は再生専用（ＲＯＭ）光記録媒体、
光磁気ディスクや相変化光記録媒体などの書換型（ＲＡ
Ｍ）光記録媒体、部分再生専用型（ＰＲＯＭ）光記録媒
体、追記型（ＷＯ）光記録媒体などのいずれも光記録媒
体を製造する場合にも用いることができる。特に、書き
込み時に高いエネルギーを用いる相変化型光記録媒体で
は、基板の光透過性の欠如、基板の変形や反りによる光
エネルギーの損失が低減されることが望ましく、本製造
装置および製造方法は効果的である。
光磁気ディスクや相変化光記録媒体などの書換型（ＲＡ
Ｍ）光記録媒体、部分再生専用型（ＰＲＯＭ）光記録媒
体、追記型（ＷＯ）光記録媒体などのいずれも光記録媒
体を製造する場合にも用いることができる。特に、書き
込み時に高いエネルギーを用いる相変化型光記録媒体で
は、基板の光透過性の欠如、基板の変形や反りによる光
エネルギーの損失が低減されることが望ましく、本製造
装置および製造方法は効果的である。
【００１９】
【実施例】以下、本発明について、実施例により説明す
る。ただし、本発明は以下の実施例により限定されるも
のではない。
る。ただし、本発明は以下の実施例により限定されるも
のではない。
【００２０】コート層の表面物性は表面粗さ測定器サー
フコーダＳＥ−３４００（（株）小坂研究所）を用い
て、ＪＩＳＢ０６０１−１９８２の規格に基づいて測定
を行った。以下にそれら表面物性の説明を以下に示す。
フコーダＳＥ−３４００（（株）小坂研究所）を用い
て、ＪＩＳＢ０６０１−１９８２の規格に基づいて測定
を行った。以下にそれら表面物性の説明を以下に示す。
【００２１】中心線平均粗さ（μｍ）・・・・・粗さ曲
線をｆ（ｘ）としたときの
線をｆ（ｘ）としたときの
【００２２】
【式１】 最大高さ（μｍ）・・・・・・・・平均線に平行な２直
線の間隔 局所的山頂の平均間隔（ｍｍ）・・隣り合う山頂間隔の
平均値 凸凹の平均間隔（ｍｍ）・・・・・山とそれと隣り合う
谷の間隔の平均値 （実施例１）紫外線照射装置は窒素雰囲気下で紫外線硬
化できるように基板が受け皿内に完全に収まり、石英板
の蓋（光透過性カバー）が備わったバッチ式のものを用
いた。さらに、受け皿は図１、図２に示すように吹き付
けた空気が塗布面に回り込まないように塗布面より下側
の位置で側面に孔を形成し、ここから吹き付けた空気が
排出されるように作製した。本装置を用いることによ
り、吹き付けた空気のほとんどが塗布面より下側のみで
流れるようにできた。
線の間隔 局所的山頂の平均間隔（ｍｍ）・・隣り合う山頂間隔の
平均値 凸凹の平均間隔（ｍｍ）・・・・・山とそれと隣り合う
谷の間隔の平均値 （実施例１）紫外線照射装置は窒素雰囲気下で紫外線硬
化できるように基板が受け皿内に完全に収まり、石英板
の蓋（光透過性カバー）が備わったバッチ式のものを用
いた。さらに、受け皿は図１、図２に示すように吹き付
けた空気が塗布面に回り込まないように塗布面より下側
の位置で側面に孔を形成し、ここから吹き付けた空気が
排出されるように作製した。本装置を用いることによ
り、吹き付けた空気のほとんどが塗布面より下側のみで
流れるようにできた。
【００２３】直径１２０mm、厚さ０．６mmの基板にスパ
ッタ法により記録層を成膜した。次に記録層上に紫外線
硬化型樹脂をスピンコート法により１０μｍの膜厚に塗
布し、受け皿内へと搬送し、石英板の蓋をした。冷却す
るために空気を２０Ｎｌ／ｍｉｎの流量で流しながら、
９００ｍＪ／cm2 の紫外線を照射し、紫外線硬化したと
ころ、塗布面が波をうつようなことはなく、平坦性が保
持されたままであった。コート面の表面物性の測定結果
を表１に示す。中心線平均粗さ、最大高さ、局所的山頂
の平均間隔、凸凹の平均間隔ともに実用上問題のないこ
とが確認できた。
ッタ法により記録層を成膜した。次に記録層上に紫外線
硬化型樹脂をスピンコート法により１０μｍの膜厚に塗
布し、受け皿内へと搬送し、石英板の蓋をした。冷却す
るために空気を２０Ｎｌ／ｍｉｎの流量で流しながら、
９００ｍＪ／cm2 の紫外線を照射し、紫外線硬化したと
ころ、塗布面が波をうつようなことはなく、平坦性が保
持されたままであった。コート面の表面物性の測定結果
を表１に示す。中心線平均粗さ、最大高さ、局所的山頂
の平均間隔、凸凹の平均間隔ともに実用上問題のないこ
とが確認できた。
【００２４】（実施例２）図３、図４に示すように今度
は石英板の蓋（光透過性カバー）をせずに実施例１と同
様の実験を行った。吹き付けた空気のほとんどは受け皿
の側面の孔から排出され、コート面に回り込むようなこ
とはなかったが実施例１に比べて、コート面の表面物性
は幾分悪くなった（表１）。
は石英板の蓋（光透過性カバー）をせずに実施例１と同
様の実験を行った。吹き付けた空気のほとんどは受け皿
の側面の孔から排出され、コート面に回り込むようなこ
とはなかったが実施例１に比べて、コート面の表面物性
は幾分悪くなった（表１）。
【００２５】（比較例１）紫外線照射装置に実施例１と
同様の吹き付け孔を設け、一方、排出孔を側面ではな
く、光記録媒体の上部の石英板の蓋（光透過性カバー）
に直径８ｍｍφの孔を設け、吹き付けた空気が基板の下
側から基板の周辺を通り排出孔に流れるような装置を用
いて、実施例１と同様の条件で紫外線硬化型樹脂をスピ
ンコート法により１０μｍの膜厚に塗布し、空気を２０
Ｎｌ／ｍｉｎ流しながら９００ｍＪ／cm2 の紫外線を照
射し、紫外線硬化した（図５、図６）。本装置を用いる
と、吹き付けた空気のほとんどが基板面より下側から、
上側に流れた。
同様の吹き付け孔を設け、一方、排出孔を側面ではな
く、光記録媒体の上部の石英板の蓋（光透過性カバー）
に直径８ｍｍφの孔を設け、吹き付けた空気が基板の下
側から基板の周辺を通り排出孔に流れるような装置を用
いて、実施例１と同様の条件で紫外線硬化型樹脂をスピ
ンコート法により１０μｍの膜厚に塗布し、空気を２０
Ｎｌ／ｍｉｎ流しながら９００ｍＪ／cm2 の紫外線を照
射し、紫外線硬化した（図５、図６）。本装置を用いる
と、吹き付けた空気のほとんどが基板面より下側から、
上側に流れた。
【００２６】実施例１と同様にして表面粗さ測定器を用
いて、コート面の表面物性を測定した。測定結果を実施
例１とともに表１に示す。
いて、コート面の表面物性を測定した。測定結果を実施
例１とともに表１に示す。
【００２７】
【表１】 吹き付けた空気が塗布面に回り込み、基板の周辺から中
心に向かって塗布面が徐々に波うち、平坦性が失われ
た。
心に向かって塗布面が徐々に波うち、平坦性が失われ
た。
【００２８】（比較例２）比較例１と同様に、石英板の
蓋をせず吹き付け孔から空気を流して実験した。この場
合も比較例１と同様に、吹き付けた空気のほとんどが基
板面より下側から、上側に流れた。
蓋をせず吹き付け孔から空気を流して実験した。この場
合も比較例１と同様に、吹き付けた空気のほとんどが基
板面より下側から、上側に流れた。
【００２９】実施例１と同様にして表面粗さ測定器を用
いて、コート面の表面物性を測定した。測定結果を実施
例１、比較例１とともに表１に示す。基板の周辺（エッ
ジ）の塗布面が少し波うち、平坦性が失われてしまっ
た。
いて、コート面の表面物性を測定した。測定結果を実施
例１、比較例１とともに表１に示す。基板の周辺（エッ
ジ）の塗布面が少し波うち、平坦性が失われてしまっ
た。
【００３０】（実施例３）紫外線照射装置は実施例１と
同様のものを用いた。さらに、基板支持軸の側面に一様
に気体の吹き出し孔８を形成し、図７、図８に示すよう
に、気体が塗布面に回り込まないように塗布面より下側
の位置で側面に吸引孔９を形成し、孔８から吹き出され
た気体が孔９で吸引して排出されるように作製した。本
装置を用いることにより、吹き付けた空気のほとんどが
塗布面より下側のみで流れるようにできた。気体には空
気を用いた。
同様のものを用いた。さらに、基板支持軸の側面に一様
に気体の吹き出し孔８を形成し、図７、図８に示すよう
に、気体が塗布面に回り込まないように塗布面より下側
の位置で側面に吸引孔９を形成し、孔８から吹き出され
た気体が孔９で吸引して排出されるように作製した。本
装置を用いることにより、吹き付けた空気のほとんどが
塗布面より下側のみで流れるようにできた。気体には空
気を用いた。
【００３１】直径１２０mm、厚さ０．６mmの基板の情報
記録面の反対側の面に紫外線硬化型樹脂をスピンコート
法により１０μｍの膜厚に塗布し、受け皿内へと搬送
し、石英板の蓋をした。冷却するために２０Ｎｌ／ｍｉ
ｎの流量で気体を流しながら、９００ｍＪ／cm2 の紫外
線を照射し、紫外線硬化した。塗布面が波をうつような
ことがなく、平坦性が保持されたままであった。
記録面の反対側の面に紫外線硬化型樹脂をスピンコート
法により１０μｍの膜厚に塗布し、受け皿内へと搬送
し、石英板の蓋をした。冷却するために２０Ｎｌ／ｍｉ
ｎの流量で気体を流しながら、９００ｍＪ／cm2 の紫外
線を照射し、紫外線硬化した。塗布面が波をうつような
ことがなく、平坦性が保持されたままであった。
【００３２】実施例１と同様にして表面粗さ測定器を用
いて、コート面の表面物性を測定したところ、中心線平
均粗さ、最大高さ、局所的山頂の平均間隔、凸凹の平均
間隔ともに実用上問題のないことが確認できた。測定結
果を実施例１、実施例２、比較例１、比較例２とともに
表１に示す。
いて、コート面の表面物性を測定したところ、中心線平
均粗さ、最大高さ、局所的山頂の平均間隔、凸凹の平均
間隔ともに実用上問題のないことが確認できた。測定結
果を実施例１、実施例２、比較例１、比較例２とともに
表１に示す。
【００３３】
【発明の効果】光記録媒体または光記録媒体用基板に塗
布した光硬化性樹脂を光硬化させるコーティング工程に
おいて、コーティング面の平坦性が高く、均一な膜厚を
保持した状態で光硬化させることができる。
布した光硬化性樹脂を光硬化させるコーティング工程に
おいて、コーティング面の平坦性が高く、均一な膜厚を
保持した状態で光硬化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 吹き付け孔、排出孔を設けた受け皿の正面図
【図２】 吹き付け孔、排出孔を設けた受け皿の断面図
【図３】 吹き付け孔、排出孔を設けた光透過性カバー
のない受け皿の正面図
のない受け皿の正面図
【図４】 吹き付け孔、排出孔を設けた光透過性カバー
のない受け皿の断面図
のない受け皿の断面図
【図５】 従来の受け皿の正面図
【図６】 従来の受け皿の断面図
【図７】 吹き出し孔、吸引孔を設けた受け皿の正面図
【図８】 吹き出し孔、吸引孔を設けた受け皿の断面図
１：気体の吹き付け孔 ２：光記録媒体 ３：光透過性カバー ４：吹き付け気体の排出孔 ５：基板支持軸 ６：受け皿 ７：光記録媒体用基板 ８：気体の吹きだし孔 ９：気体の吸引孔
Claims (8)
- 【請求項１】 光記録媒体または光記録媒体用基板に塗
布した光硬化型樹脂を光硬化させる装置において、気体
の流入孔および／または排出孔を設けており、気体の流
入および／または排出が強制的に行われていることを特
徴とする光記録媒体の製造装置。 - 【請求項２】 請求項１の装置が、少なくとも光記録媒
体または光記録媒体用基板の受け皿から形成されている
ことを特徴とする光記録媒体の製造装置。 - 【請求項３】 請求項１の装置が、少なくとも光記録媒
体または光記録媒体用基板の受け皿および光透過性カバ
ーから形成されていることを特徴とする光記録媒体の製
造装置。 - 【請求項４】 流入孔および排出孔を設けており、流入
孔および排出孔が、光記録媒体または光記録媒体用基板
の面に関して同じ側に形成されていることを特徴とする
請求項１記載の光記録媒体の製造装置。 - 【請求項５】 流入孔および排出孔が、光記録媒体また
は光記録媒体用基板の面に関して塗布面の反対側に形成
されていることを特徴とする請求項４記載の光記録媒体
の製造装置。 - 【請求項６】 装置に形成された孔が、光記録媒体また
は光記録媒体用基板の周方向に関し略均一に形成されて
いることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造
装置。 - 【請求項７】 請求項１に記載の光記録媒体の製造装置
を用いることを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 【請求項８】 光硬化型樹脂を塗布して光硬化させた光
硬化型樹脂の表面の中心線平均粗さが０．３μｍ以下、
最大高さが２μｍ以下であることを特徴とする光記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP591096A JPH09198721A (ja) | 1996-01-17 | 1996-01-17 | 光記録媒体の製造装置、製造方法および光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP591096A JPH09198721A (ja) | 1996-01-17 | 1996-01-17 | 光記録媒体の製造装置、製造方法および光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09198721A true JPH09198721A (ja) | 1997-07-31 |
Family
ID=11624063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP591096A Pending JPH09198721A (ja) | 1996-01-17 | 1996-01-17 | 光記録媒体の製造装置、製造方法および光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09198721A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100538332B1 (ko) * | 1998-05-23 | 2006-03-22 | 엘지전자 주식회사 | 디스크구동장치 |
| JP2006272662A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Shibaura Mechatronics Corp | 樹脂層硬化装置及び樹脂層硬化方法 |
-
1996
- 1996-01-17 JP JP591096A patent/JPH09198721A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100538332B1 (ko) * | 1998-05-23 | 2006-03-22 | 엘지전자 주식회사 | 디스크구동장치 |
| JP2006272662A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Shibaura Mechatronics Corp | 樹脂層硬化装置及び樹脂層硬化方法 |
| JP4598577B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2010-12-15 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 樹脂層硬化装置及び樹脂層硬化方法 |
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