JPH09183999A - Cleaning composition and cleaning method - Google Patents

Cleaning composition and cleaning method

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JPH09183999A
JPH09183999A JP34401295A JP34401295A JPH09183999A JP H09183999 A JPH09183999 A JP H09183999A JP 34401295 A JP34401295 A JP 34401295A JP 34401295 A JP34401295 A JP 34401295A JP H09183999 A JPH09183999 A JP H09183999A
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JP
Japan
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cleaning
benzyl acetate
cleaning composition
wax
composition
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Application number
JP34401295A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoyasu Hanamura
尚容 花村
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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  • Detergent Compositions (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To cleanly remove pitch and wax stuck in the process of manufacturing optical parts. SOLUTION: Cleaning is made with a cleaning composition consisting of a mixture of a benzyl acetate as represented by the formula (wherein R is a methyl group or an ethyl group.) and a naphthene solvent. The benzyl acetate readily dissolves wax and the naphthene solvent swells and releases pitch and wax and the synergistic cleaning developed by mixing both components.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、主に光学部品のレ
ンズやプリズムの製造工程に用いられている研磨や加工
時の固定用の接着剤であるピッチ類やワックス類を除去
する洗浄組成物及び洗浄方法に関する。さらに本発明は
ピッチ類、ワックス類のみならず、研磨材、切削油或い
は研磨面保護用の保護膜等が付着した光学部品或いはそ
の加工用の治工具類を洗浄する洗浄組成物及び洗浄方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning composition for removing pitches and waxes, which are adhesives for fixing during polishing and processing, which are mainly used in the manufacturing process of lenses and prisms of optical parts. And a cleaning method. Further, the present invention relates to a cleaning composition and a cleaning method for cleaning not only pitches and waxes, but also optical components to which an abrasive, cutting oil, a protective film for protecting a polishing surface or the like is attached or jigs and tools for processing the same. .

【0002】[0002]

【従来の技術】上述した部品や部材の洗浄には、1,
1,1−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、塩化
メチレン、パークロロエチレン等の塩素系溶剤が用いら
れている。これに対して、特開平3−36079号公報
には、光学部品の固定用に用いるワックスを除去する洗
浄組成物としてハロゲン化炭化水素または、非ハロゲン
化炭化水素とフッ素化アルコールと極性有機溶剤の混合
組成物が提案されている。さらに、特開平6−9329
5号公報には、塩素系溶剤を使用することなく、すすぎ
性に優れた洗浄液として、極性溶剤と界面活性剤と水と
からなる洗浄液が提案されている。
2. Description of the Related Art To clean the above-mentioned parts and members,
Chlorine-based solvents such as 1,1-trichloroethane, trichloroethylene, methylene chloride and perchloroethylene are used. On the other hand, JP-A-3-36079 discloses a halogenated hydrocarbon or a non-halogenated hydrocarbon, a fluorinated alcohol and a polar organic solvent as a cleaning composition for removing a wax used for fixing an optical component. Mixed compositions have been proposed. Furthermore, JP-A-6-9329
Japanese Patent Laid-Open Publication No. 5 proposes a cleaning liquid containing a polar solvent, a surfactant and water as a cleaning liquid excellent in rinsing property without using a chlorine-based solvent.

【0003】なお、ピッチ類は芳香族炭化水素系溶剤に
良く溶解することが知られている。このため、トルエ
ン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤を
用いてピッチ類を除去することが行われている。また、
特開平6−279786号公報には、ワックス類の洗浄
剤として炭化水素およびエステルを含有する洗浄剤が提
案されている。さらに、特開平6−340898号公報
には、炭酸エステルを用いた洗浄組成物が提案されてい
る。
It is known that pitches are well dissolved in an aromatic hydrocarbon solvent. Therefore, pitches have been removed using an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene, xylene, or benzene. Also,
JP-A-6-279786 proposes a detergent containing hydrocarbons and esters as a detergent for waxes. Furthermore, JP-A-6-3409898 proposes a cleaning composition using a carbonic acid ester.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】塩素系溶剤やフッ素系
溶剤或いはこれらを含有した洗浄液は、環境汚染等の問
題や人体に対する安全性において大きな問題がある。
A chlorine-based solvent, a fluorine-based solvent, or a cleaning liquid containing these has a serious problem in terms of environmental pollution and safety for the human body.

【0005】特開平6−93295号公報の洗浄組成物
は、界面活性剤と水の混合により使用中に水分量が変化
すると共に、蒸留等により再生する場合に組成の変化が
生じる。このため、この洗浄組成物は再生利用ができず
使い捨てとなり、その使用量が膨大となって、ランニン
グコストが大幅に上昇する。また、産業廃棄物として廃
棄する場合には、その量が増大して、処理上の問題を生
じる。さらに、極性溶剤と界面活性剤から構成される洗
浄組成物は、一般的に粘度が高いため、超音波を併用し
ても、その洗浄効果が低下したり、被洗浄物に付着した
洗浄剤が多量に持ち出され、洗浄液の消耗が激しい等の
問題がある。
The cleaning composition of JP-A-6-93295 changes the amount of water during use due to the mixing of the surfactant and water, and also changes the composition when regenerated by distillation or the like. For this reason, this cleaning composition cannot be reused and becomes disposable, resulting in an enormous amount of use and a significant increase in running cost. In addition, when disposing as industrial waste, the amount increases, which causes a problem in processing. Furthermore, since a cleaning composition composed of a polar solvent and a surfactant generally has a high viscosity, even if ultrasonic waves are used together, the cleaning effect is reduced, or the cleaning agent attached to the object to be cleaned is There is a problem that a large amount is taken out and the cleaning liquid is consumed so much.

【0006】一方、一般的に用いられているトルエン、
キシレン、ベンゼンやこれらの誘導体であるトリメチル
ベンゼン、メチルエチルベンゼン、プロピルベンゼン等
の芳香族炭化水素系溶剤や1,1,1−トリクロロエタ
ン、トリクロロエチレン、塩化メチレン、パークロロエ
チレン等の塩素系溶剤は、人体に対して毒性が高く、日
本では労働安全衛生法有機溶剤中毒予防規則等の法的規
制を受ける。また、蒸発による飛散や排水への混入等に
よる環境汚染が社会的問題の原因となる。したがって、
これを取り扱う作業の危険性及び、その煩雑さを考慮す
ると、洗浄液として用いることは好ましくない。
On the other hand, the commonly used toluene,
Aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, benzene and their derivatives such as trimethylbenzene, methylethylbenzene and propylbenzene, and chlorine solvents such as 1,1,1-trichloroethane, trichloroethylene, methylene chloride and perchloroethylene are It is highly toxic to Japan and is subject to legal regulations in Japan such as the Industrial Safety and Health Act Organic solvent poisoning prevention rules. In addition, environmental pollution caused by scattering due to evaporation and mixing into drainage causes social problems. Therefore,
Considering the risk of handling this and its complexity, it is not preferable to use it as a cleaning liquid.

【0007】本発明は以上の問題を考慮してなされたも
のであり、ピッチ、ワックスや研磨材、研削脂、保護膜
等の溶解、洗浄性に優れ、人体、環境に対して極めて安
全性が高く、しかも安価な洗浄組成物を提供することを
目的とする。又、本発明はこの洗浄組成物を用いること
で良好に洗浄することが可能な洗浄方法を提供すること
を目的とする。
The present invention has been made in consideration of the above problems and is excellent in dissolving and cleaning pitch, wax, abrasives, grinding oil, protective film and the like, and is extremely safe for human body and environment. It is an object to provide a cleaning composition which is expensive and inexpensive. Another object of the present invention is to provide a cleaning method capable of excellent cleaning by using this cleaning composition.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の洗浄組成物は、
ベンジルアセテートと、ナフテン系溶剤の混合組成物か
らなるものであり、特に、ベンジルアセテートとナフテ
ン系溶剤の混合比が8:2〜2:8であることを特徴と
する。ここで、ベンジルアセテートは下記式により表さ
れ、式中、Rは、メチル基又はエチル基である。
The cleaning composition of the present invention comprises:
It is composed of a mixed composition of benzyl acetate and a naphthene-based solvent, and is particularly characterized in that the mixing ratio of benzyl acetate and the naphthene-based solvent is 8: 2 to 2: 8. Here, benzyl acetate is represented by the following formula, wherein R is a methyl group or an ethyl group.

【0009】本発明で使用するベンジルアセテート及び
ナフテン系溶剤は、分子中に塩素やフッ素等のハロゲン
原子を全く含んでいないため、オゾン層破壊等の環境破
壊を引き起こすことがない。また、ベンジルアセテート
は石鹸、化粧品、食品香料等に使用されており、人体に
対する安全性が高い。ナフテン系溶剤も塩素系溶剤や芳
香族系溶剤と比較して人体への毒性が低いことが知られ
ている。
The benzyl acetate and naphthenic solvents used in the present invention do not cause environmental destruction such as ozone layer destruction because they do not contain halogen atoms such as chlorine and fluorine in the molecule. Further, benzyl acetate is used in soaps, cosmetics, food flavors, etc., and is highly safe for the human body. It is known that naphthenic solvents are also less toxic to the human body than chlorine-based solvents and aromatic solvents.

【0010】洗浄性においてベンジルアセテートは、ワ
ックスに対して良好な溶解作用を示すが、ピッチに対す
る溶解作用は、ピッチの種類により緩慢である。このた
めピッチとワックスの双方が付着した被洗浄物を洗浄す
る場合、完全にピッチを除去するためには、ある程度の
時間を要する。しかし、ベンジルアセテートにナフテン
系溶剤を混合した場合は、ナフテン系溶剤がピッチ、ワ
ックスに対して膨潤、剥離作用を有しているため、ベン
ジルアセテートのピッチ、ワックスの溶解作用との相乗
効果により、単一組成で洗浄した場合より短時間で完全
にピッチやワックス類を溶解除去でき、良好な洗浄性を
得ることができる。
In terms of detergency, benzyl acetate has a good dissolving action on wax, but its dissolving action on pitch is slow depending on the type of pitch. Therefore, when cleaning an object to be cleaned to which both pitch and wax adhere, it takes some time to completely remove the pitch. However, when naphthenic solvent is mixed with benzyl acetate, the naphthenic solvent has a swelling and peeling action on pitch and wax. Pitches and waxes can be completely dissolved and removed in a shorter time than in the case of cleaning with a single composition, and good cleaning properties can be obtained.

【0011】ベンジルアセテートとナフテン系溶剤の混
合組成比において、被洗浄物の汚れがピッチである場合
は、ベンジルアセテート:ナフテン系溶剤=4:6〜
5:5の範囲が良好である。一方、被洗浄物の汚れがワ
ックス等の極性系の汚れである場合は、ベンジルアセテ
ート:ナフテン系溶剤=8:2〜5:5の範囲が良好で
ある。
In the mixed composition ratio of benzyl acetate and naphthenic solvent, when the object to be cleaned is pitched, benzyl acetate: naphthenic solvent = 4: 6 to
The range of 5: 5 is good. On the other hand, when the stains on the object to be cleaned are polar stains such as wax, the range of benzyl acetate: naphthene solvent = 8: 2 to 5: 5 is preferable.

【0012】また、被洗浄物の汚れが切削油等の軽度の
汚れに対しては、ベンジルアセテート:ナフテン系溶剤
=2:8〜4:6の混合組成比で洗浄が可能で、この場
合は、低コストのナフテン系溶剤が多くなるところか
ら、洗浄組成物のコストを抑えることができる。なお、
ナフテン系溶剤の混合比を多くすることによって、洗浄
組成物自体の溶解力は低下するが、この場合でも切削油
等の軽度の汚れに対しては、十分に有効である。
Further, when the stain on the object to be cleaned is mild such as cutting oil, it can be cleaned with a mixed composition ratio of benzyl acetate: naphthene solvent = 2: 8 to 4: 6. Since the amount of low-cost naphthenic solvent increases, the cost of the cleaning composition can be suppressed. In addition,
By increasing the mixing ratio of the naphthene-based solvent, the dissolving power of the cleaning composition itself is lowered, but even in this case, it is sufficiently effective for mild dirt such as cutting oil.

【0013】本発明の洗浄組成物は、ベンジルアセテー
ト(例えば、酢酸ベンジル:引火点102℃)の引火点
に近い(±15℃程度が良い)蒸留範囲のナフテン系溶
剤を選択し、混合することによって、洗浄組成物の引火
点を85〜110℃に維持することができる。このた
め、洗浄組成物が難燃性となり、洗浄組成物を加温して
使用しても引火の危険から回避でき、安全性を確保する
ことができる。このように洗浄組成物を加温すること
は、被洗浄物に付着しているピッチやワックス等の汚れ
を軟化させて洗浄することができるため、短時間で効率
的に洗浄することができる。
In the cleaning composition of the present invention, a naphthenic solvent in a distillation range close to the flash point of benzyl acetate (eg, benzyl acetate: flash point 102 ° C.) (about ± 15 ° C. is good) is selected and mixed. Allows the flash point of the cleaning composition to be maintained at 85-110 ° C. Therefore, the cleaning composition becomes flame-retardant, and even if the cleaning composition is heated and used, it can be avoided from the risk of ignition and safety can be ensured. By heating the cleaning composition in this manner, stains such as pitch and wax adhering to the object to be cleaned can be softened and cleaned, so that the cleaning composition can be efficiently cleaned in a short time.

【0014】洗浄に際しては超音波や噴流等の物理力を
併用することができ、これにより、熱により軟化したピ
ッチやワックスに物理的な力が作用するため、短時間で
良好な洗浄性を得ることができる。特に本発明の洗浄組
成物は、その粘度が低いため、超音波洗浄によるキャビ
テーション効果が発揮でき、効率的に洗浄することがで
きる。
In cleaning, a physical force such as ultrasonic waves or a jet flow can be used in combination, and the physical force acts on the pitch and wax softened by heat, so that good cleaning property can be obtained in a short time. be able to. In particular, since the cleaning composition of the present invention has a low viscosity, it can exhibit the cavitation effect by ultrasonic cleaning and can be efficiently cleaned.

【0015】一般的な混合組成物による洗浄組成物は、
蒸留等による再生時に洗浄組成物の組成が崩れる。この
ため、安定した洗浄性能が得られず、蒸留による再生使
用が困難である。しかし、本発明の洗浄組成物は、ベン
ジルアセテートと沸点が近いナフテン系溶剤を組み合わ
せることにより、双方の沸点を極めて近くすることがで
きる。具体例としては、ベンジルアセテートとして酢酸
ベンジル(沸点125℃)を用いた場合には、この沸点
に近い蒸留幅のナフテン系溶剤、具体的には沸点200
〜230℃の幅の中から選択したナフテン系溶剤を組み
合わせることにより、共沸組成としなくても、近似的な
共沸となり、組成比が変わることなく蒸留再生によるリ
サイクル利用ができる。これにより安定した洗浄性能が
得られると同時に経済的となる。また、洗浄組成物の再
利用が可能となることにより、産業廃棄物の量を極めて
少なくすることができる。
A general mixed composition cleaning composition comprises:
The composition of the cleaning composition collapses during regeneration by distillation or the like. For this reason, stable cleaning performance cannot be obtained, and it is difficult to recycle by distillation. However, in the cleaning composition of the present invention, the boiling points of both can be made extremely close by combining benzyl acetate and a naphthenic solvent having a close boiling point. As a specific example, when benzyl acetate (boiling point 125 ° C.) is used as benzyl acetate, a naphthene-based solvent having a distillation width close to this boiling point, specifically, a boiling point of 200
By combining a naphthene-based solvent selected from the range of up to 230 ° C., even if an azeotropic composition is not used, it becomes an approximate azeotrope and the composition can be recycled by distillation regeneration without changing the composition ratio. This makes it possible to obtain stable cleaning performance and at the same time be economical. Further, since the cleaning composition can be reused, the amount of industrial waste can be extremely reduced.

【0016】なお、ベンジルアセテートはそのコストが
若干高いが、単価の安いナフテン系溶剤と混合すること
により、洗浄組成物のコストを低く抑えることができる
副次的なメリットもある。
Although the cost of benzyl acetate is slightly high, the cost of the cleaning composition can be kept low by mixing it with a naphthenic solvent having a low unit price.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下の実施の形態においては、ベ
ンジルアセテートとして酢酸ベンジルを選択した。一
方、このベンジルアセテートと混合するナフテン系溶剤
としては、一般式Cn 2n(nは整数)で表される環状
飽和炭化水素であって、沸点が190〜240℃の範囲
の中から、混合対象となるベンジルアセテートのそれぞ
れの沸点(蒸留範囲)に近いものを選択した。以下の実
施の形態では、ナフテン系溶剤として、ナフテゾールM
(日本石油化学(株)製)を選択した。表1はこのベン
ジルアセテートとナフテン系溶剤の沸点、引火点等の基
本物性値を示す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the following embodiments, benzyl acetate was selected as the benzyl acetate. On the other hand, the naphthene-based solvent to be mixed with this benzyl acetate is a cyclic saturated hydrocarbon represented by the general formula C n H 2n (n is an integer) and has a boiling point of 190 to 240 ° C. Those having a boiling point (distillation range) close to that of the target benzyl acetate were selected. In the following embodiments, the naphthene-based solvent is naphthezol M.
(Manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd.) was selected. Table 1 shows basic physical properties such as boiling points and flash points of the benzyl acetate and the naphthenic solvent.

【0018】[0018]

【表1】 [Table 1]

【0019】(実施の形態1)洗浄組成物による各種ピ
ッチ、ワックスの洗浄性を確認するため、ピッチ及びワ
ックスを0.13mm塗布したスライドガラスを以下の
混合組成比からなる各洗浄組成物に30分間浸漬して、
ピッチ、ワックスの溶解状態を確認した。洗浄組成物の
液温は40℃に設定した。洗浄組成物の溶解力を確認す
るため、超音波は使用しなかった。
(Embodiment 1) In order to confirm the cleaning properties of various pitches and waxes by the cleaning composition, slide glass coated with 0.13 mm of pitch and wax was added to each cleaning composition having the following mixing composition ratio. Soak for a minute,
The dissolved state of pitch and wax was confirmed. The liquid temperature of the cleaning composition was set to 40 ° C. No ultrasonic waves were used to confirm the solvency of the cleaning composition.

【0020】ピッチとしては、ストレートアスファルト
として、K1、K3、K8(共に九重電気(株)製)を
用い、ブローンアスファルトとして、KB4(九重電気
(株)製)を用いた。ワックスはスロットワックスM、
プルーフワックス、イエローワックスB、スカイワック
スM1(共に日化精工(株)製)を用いた。
As the pitch, K1, K3, and K8 (all manufactured by Kuju Denki KK) were used as straight asphalt, and KB4 (manufactured by Kuju Denki KK) was used as blown asphalt. The wax is slot wax M,
Proof wax, yellow wax B, and sky wax M1 (both manufactured by Nikka Seiko Co., Ltd.) were used.

【0021】スライドガラスの洗浄組成物への浸漬30
分後のピッチ、ワックスの残留状態を確認し、次のA〜
Eのランク付けにより評価した。 A:ピッチ、ワックスの残留なし。またはピッチ、ワッ
クスが軟化して流れ、軽い物理力ですぐに取れそうな状
態。 B:ピッチ、ワックスが軟化または、剥離した状態。 C:ピッチ、ワックスがやや軟化または、膨潤した状
態。 D:若干の表面変化が見られた程度の状態。 E:変化なく、溶解現象が全く見られない状態。
Immersion of slide glass in cleaning composition 30
After confirming the remaining state of pitch and wax after a minute,
It was evaluated by ranking E. A: No pitch or wax remained. Or, the pitch and wax are softened and flow, and it is likely to be removed immediately with a light physical force. B: Pitch and wax are softened or peeled off. C: Pitch and wax are slightly softened or swollen. D: A state in which a slight surface change was observed. E: No change and no dissolution phenomenon.

【0022】また、洗浄の総合的な評価を「◎」、
「○」、「△」、「×」で表した。「◎」や「○」は、
ピッチやワックス等の重度な汚れに対応し、優れた洗浄
性を有した評価を示す。「△」は、洗浄性はやや劣る
が、少量のピッチやワックスが付着している場合や切削
油等の汚れには十分有効なレベルである評価を示す。す
なわち若干洗浄性が劣っても経済的であり、洗浄組成物
として有効な場合もあるためである。「×」は、洗浄性
があり目的の汚れを十分に除去できない評価である。
In addition, the comprehensive evaluation of cleaning is "◎",
It is represented by “◯”, “Δ”, and “x”. "◎" and "○" are
The evaluation shows that it has excellent cleaning properties in response to heavy dirt such as pitch and wax. The symbol “Δ” indicates that the cleaning property is slightly inferior, but the level is sufficiently effective when a small amount of pitch or wax is attached or when it is contaminated with cutting oil or the like. That is, even if the cleaning property is slightly inferior, it is economical and sometimes effective as a cleaning composition. “X” is an evaluation that has cleaning properties and cannot sufficiently remove target stains.

【0023】洗浄組成物としては、ベンジルアセテート
として酢酸ベンジルを、ナフテン系溶剤としてナフテゾ
ールMを重量比で8:2、6;4、5:5、4:6、
2:8の混合組成比で混合して調整した。この洗浄組成
物を用いて洗浄したときのピッチ洗浄性を表2に、ワッ
クス洗浄性を表3に示す。比較として、酢酸ベンジル、
ナフテゾールMを各単体で洗浄した結果も表2、表3に
併記してある。
As the cleaning composition, benzyl acetate was used as benzyl acetate, and Naphthesol M was used as a naphthene-based solvent in a weight ratio of 8: 2, 6; 4, 5: 5, 4: 6,
It was adjusted by mixing at a mixing composition ratio of 2: 8. Pitch detergency and wax detergency when cleaning with this cleaning composition are shown in Table 2 and Table 3, respectively. For comparison, benzyl acetate,
The results of washing Naphthesol M alone are also shown in Tables 2 and 3.

【0024】この結果から判るように、ベンジルアセテ
ートとナフテン系溶剤を混合した洗浄組成物は、それぞ
れの単体で洗浄したものよりも両者の相乗効果により溶
解力が向上し、ピッチ、ワックスの双方を溶解でき、良
好な洗浄性を得ることができた。
As can be seen from these results, the cleaning composition in which benzyl acetate and a naphthenic solvent are mixed has a higher dissolving power due to the synergistic effect of the cleaning composition and the cleaning composition containing both pitch and wax, as compared with the cleaning composition cleaned with each of them alone. It was possible to dissolve, and it was possible to obtain good detergency.

【0025】本実施の形態では、ベンジルアセテートと
して酢酸ベンジルに替えてアルキル基がエチル基となっ
ているフェニル酢酸エチルを選択して同様に洗浄したと
ころ、同様の洗浄性を示した。
In this embodiment, benzyl acetate was used as the benzyl acetate instead of benzyl acetate, and ethyl phenylacetate having an alkyl group as an ethyl group was selected and washed in the same manner.

【0026】[0026]

【表2】 [Table 2]

【0027】[0027]

【表3】 [Table 3]

【0028】(実施の形態2)ベンジルアセテートとし
て酢酸ベンジル、ナフテン系溶剤としてナフテゾールM
を1:1の重量比で混合した洗浄組成物を用い、この洗
浄組成物の液温を25℃、40℃、50℃、60℃、8
0℃として実施の形態1と同様に洗浄した。洗浄結果を
表4、表5に示す。ただし、有意差を出すため洗浄時間
は15分短縮した。実施の形態1と同様に超音波は使用
しなかった。浸漬15分後のピッチ、ワックスの残留状
態を確認し、実施の形態1と同様なA〜Eのランク付け
により評価した。また、総合的な評価を実施の形態1と
同様の「◎」、「○」、「△」、「×」によって示し
た。
(Embodiment 2) Benzyl acetate as benzyl acetate and Naphthesol M as naphthenic solvent
Was used at a weight ratio of 1: 1 and the liquid temperature of this cleaning composition was 25 ° C, 40 ° C, 50 ° C, 60 ° C, 8 ° C.
The washing was performed at 0 ° C. as in the first embodiment. The washing results are shown in Tables 4 and 5. However, the washing time was shortened by 15 minutes in order to make a significant difference. No ultrasonic waves were used as in the first embodiment. The residual state of the pitch and wax after 15 minutes of immersion was confirmed, and the evaluation was performed by ranking A to E as in the first embodiment. In addition, the comprehensive evaluation is shown by “⊚”, “◯”, “Δ”, and “x” similar to those in the first embodiment.

【0029】この結果から判るように、洗浄組成物の液
の温度が高くなるにつれて、ピッチ、ワックスを軟化さ
せると同時に溶解速度が上がり、低温で洗浄したよりも
短時間で効率的にピッチ、ワックスを同時に溶解、洗浄
することができている。
As can be seen from these results, as the temperature of the liquid of the cleaning composition becomes higher, the pitch and wax are softened and at the same time the dissolution rate is increased. Can be dissolved and washed at the same time.

【0030】[0030]

【表4】 [Table 4]

【0031】[0031]

【表5】 [Table 5]

【0032】(実施の形態3)ベンジルアセテートとし
て酢酸ベンジル、ナフテン系溶剤としてナフテゾールM
を1:1の重量比で混合した洗浄組成物を用いて、超音
波洗浄の有無の場合と超音波の周波数を低周波または、
高周波を用いた場合の洗浄を行った。結果を表6に示
す。低周波側の周波数は、一般に市販されている代表的
なものとして28KHzを用いた。また、高周波側の周
波数は、一般に市販されている代表的なものとして40
KHzを用いた。
(Embodiment 3) Benzyl acetate as benzyl acetate and naphthezol M as naphthene-based solvent
By using a cleaning composition in which the ratio of 1: 1 is mixed in a weight ratio of 1: 1 with or without ultrasonic cleaning, and the frequency of ultrasonic waves is low or
Cleaning was performed when a high frequency was used. Table 6 shows the results. As the frequency on the low frequency side, 28 KHz was used as a typical commercially available one. In addition, the frequency on the high frequency side is 40 as a typical commercially available one.
KHz was used.

【0033】洗浄サンプルとしては、ピッチK1と研磨
材、保護膜(商品名「ハードコート♯3」、九重電気
(株)製)が付着しているレンズ(硝材FSL5、
(株)小原光学硝子製造所製)を用いた。
As a cleaning sample, a lens (glass material FSL5, glass material FSL5, which has a pitch K1, an abrasive material, and a protective film (trade name "hard coat # 3", manufactured by Kuju Denki KK) attached thereto.
(Manufactured by Ohara Optical Glass Co., Ltd.) was used.

【0034】洗浄は28KHz、600W又は、40K
Hz、600Wの超音波発振器((株)サン電子製)が
設置された洗浄機に被洗浄物を浸漬して、ピッチ、ワッ
クスが完全に洗浄できるまでの時間を測定した。
Cleaning is 28 KHz, 600 W or 40 K
The object to be cleaned was immersed in a cleaning machine equipped with an ultrasonic oscillator of 600 Hz and a frequency of 600 W (manufactured by Sun Denshi Co., Ltd.), and the time until the pitch and wax could be completely cleaned was measured.

【0035】超音波を併用することにより、洗浄組成物
で膨潤、軟化されたピッチ、ワックスが超音波のキャビ
テーション効果により容易に剥離、分解されるため、短
時間で効率的に完全に洗浄することができる。超音波の
周波数においては、低周波側(28KHz)が高周波数
側よりも洗浄効果があり、効率的に洗浄することができ
ている。
When ultrasonic waves are used in combination, pitch and wax swelled and softened by the cleaning composition are easily separated and decomposed by the cavitation effect of ultrasonic waves, so that the cleaning can be performed efficiently and completely in a short time. You can Regarding the frequency of ultrasonic waves, the low frequency side (28 KHz) has a cleaning effect more than the high frequency side, and efficient cleaning is possible.

【0036】[0036]

【表6】 [Table 6]

【0037】(実施の形態4)酢酸ベンジルとナフテゾ
ールMを選択し、この混合比率を重量比で8:2〜2:
8の範囲で調整して減圧蒸留装置による蒸留再生前後の
組成比を確認した。蒸留前後の洗浄組成物の組成比を表
7に示す。
(Embodiment 4) Benzyl acetate and naphthezol M are selected, and the mixing ratio is 8: 2 to 2: 2 by weight.
The composition ratio before and after the distillation regeneration by the vacuum distillation apparatus was confirmed by adjusting in the range of 8. Table 7 shows the composition ratio of the cleaning composition before and after distillation.

【0038】蒸留条件としては、蒸留温度126℃(加
熱蒸気圧6kg/cm2 )、減圧度−730mmHgで
行った。減圧蒸留装置は、商品名「DC−31(オリン
パス光学工業(株)製)」を用いた。
As distillation conditions, the distillation temperature was 126 ° C. (heating vapor pressure 6 kg / cm 2 ), and the degree of vacuum was −730 mmHg. As the vacuum distillation apparatus, a trade name “DC-31 (manufactured by Olympus Optical Co., Ltd.)” was used.

【0039】表7から酢酸ベンジルとナフテゾールMは
その沸点が近いため、疑似的な共沸となり、蒸留後にお
ける組成比は、十分に洗浄性に影響しないレベルであ
り、再生使用が可能となっている。
From Table 7, since the boiling points of benzyl acetate and naphthezol M are close to each other, a pseudo azeotrope is formed, and the composition ratio after distillation is at a level at which the detergency is not sufficiently affected, and reusable and reusable. There is.

【0040】[0040]

【表7】 [Table 7]

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明の洗浄組成物は光学部品のレンズ
やプリズムの加工に用いられているピッチ、ワックス類
を被組成物から効率よく洗浄除去することができる。ま
た、同時に、研磨材、研削油、保護膜等の洗浄も行うこ
とができる。さらに、本発明の洗浄組成物は、環境を破
壊することなく、人体に対しても安全性が極めて高く、
使用上、有効な洗浄を行うことができる。加えて、再生
使用が可能であり、産業廃棄物としての廃棄量を少なく
することができる。
Industrial Applicability The cleaning composition of the present invention can efficiently clean and remove pitches and waxes used for processing lenses and prisms of optical parts from the composition. At the same time, cleaning of the abrasive, grinding oil, protective film, etc. can be performed. Furthermore, the cleaning composition of the present invention is extremely safe for humans without damaging the environment,
Effective cleaning can be performed in use. In addition, it can be reused and the amount of waste as industrial waste can be reduced.

【0042】本発明の洗浄方法は、このような洗浄組成
物に対して超音波等の物理力を作用させるため、上述し
た汚れをさらに効率的に除去することができる。
In the cleaning method of the present invention, a physical force such as ultrasonic waves is applied to such a cleaning composition, so that the above-mentioned stains can be removed more efficiently.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C11D 7:24) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location C11D 7:24)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 式(1)で表されるベンジルアセテート
とナフテン系溶剤の混合組成からなることを特徴とする
洗浄組成物。 (Rは、メチル基又はエチル基である。)
1. A cleaning composition comprising a mixed composition of benzyl acetate represented by the formula (1) and a naphthene-based solvent. (R is a methyl group or an ethyl group.)
【請求項2】 ベンジルアセテート:ナフテン系溶剤=
8:2〜2:8の混合組成比であることを特徴とする請
求項1記載の洗浄組成物。
2. Benzyl acetate: naphthene-based solvent =
The cleaning composition according to claim 1, which has a mixed composition ratio of 8: 2 to 2: 8.
【請求項3】 請求項1記載の洗浄組成物の液温を40
〜80℃に加温し、洗浄組成物に物理力を作用させて洗
浄することを特徴とする洗浄方法。
3. The liquid temperature of the cleaning composition according to claim 1 is 40.
A cleaning method comprising heating to -80 ° C and applying a physical force to the cleaning composition for cleaning.
【請求項4】 前記物理力として30KHz以下の低周
波側の超音波、噴流或いは加温のいずれかを用いること
を特徴とする請求項3記載の洗浄方法。
4. The cleaning method according to claim 3, wherein one of ultrasonic waves on the low frequency side of 30 KHz or less, a jet stream, and heating is used as the physical force.
JP34401295A 1995-12-28 1995-12-28 Cleaning composition and cleaning method Withdrawn JPH09183999A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015040217A (en) * 2013-08-20 2015-03-02 アクア化学株式会社 Detergent composition and distillation reproduction system therefor

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