JPH09125092A - Cleansing composition and cleansing - Google Patents

Cleansing composition and cleansing

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JPH09125092A
JPH09125092A JP28568495A JP28568495A JPH09125092A JP H09125092 A JPH09125092 A JP H09125092A JP 28568495 A JP28568495 A JP 28568495A JP 28568495 A JP28568495 A JP 28568495A JP H09125092 A JPH09125092 A JP H09125092A
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JP
Japan
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solvent
cleaning
solvents
composition
wax
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JP28568495A
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Japanese (ja)
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Naoyasu Hanamura
尚容 花村
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Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a cleansing composition comprising the mixture of a specific ketone solvent with a hydrocarbon solvent such as an isoparaffinic solvent, high in safety for human bodies, capable of efficiently removing pitches or waxes from an article to be cleansed, and useful for the production of optical parts, etc. SOLUTION: This cleansing composition comprises the mixture of (A) a ketone solvent of the formula: R1 COR2 (R1 is a 1-4C alkyl; R2 is a 4-5C alkyl) such as 4-methyl-2-pentanone and (B) one or more kind of solvents selected from hydrocarbon solvents such as isoparaffinic solvents, normal paraffinic solvents and naphthenic solvents. The mixing ratio of the components A and B is 9/1 to 1/9, and the cleansing composition is preferably used together with ultrasonic waves on the low frequency side of <=30KHz.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は主にレンズやプリズ
ム等の光学部品の製造工程における研磨・加工時の固定
用接着剤であるピッチ類やワックス類の洗浄に使用する
洗浄組成物及び洗浄方法に関する。さらに本発明はこれ
らのピッチやワックスの他にも研磨材、研削油、研磨面
保護の保護膜等が付着した光学部品、あるいはその加工
用の治工具類を洗浄する洗浄組成物及び洗浄方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention mainly relates to a cleaning composition and a cleaning method used for cleaning pitches and waxes which are fixing adhesives during polishing and processing in the manufacturing process of optical components such as lenses and prisms. Regarding Further, the present invention relates to a cleaning composition and a cleaning method for cleaning an optical component to which an abrasive, a grinding oil, a protective film for protecting the polishing surface, or the like, or jigs and tools for processing the same, in addition to these pitches and waxes. .

【0002】[0002]

【従来の技術】上述のような洗浄には、従来より1,
1,1−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、塩化
メチレン、パークロロエチレン等の塩素系有機溶剤が用
いられている。また、特開平3−36079号公報では
固定用ワックスを除去する洗浄組成物としてハロゲン化
炭化水素または、非ハロゲン化炭化水素とフッ素化アル
コールと極性有機溶剤の混合組成物が提案されている。
特開平6−93295号公報では、すすぎ性に優れた塩
素系溶剤を使用しない洗浄液として、極性溶剤と界面活
性剤と水とからなる洗浄液が提案されている。
2. Description of the Related Art For cleaning as described above,
Chlorine-based organic solvents such as 1,1-trichloroethane, trichloroethylene, methylene chloride and perchloroethylene are used. Further, JP-A-3-36079 proposes a halogenated hydrocarbon or a mixed composition of a non-halogenated hydrocarbon, a fluorinated alcohol and a polar organic solvent as a cleaning composition for removing the fixing wax.
JP-A-6-93295 proposes a cleaning liquid containing a polar solvent, a surfactant, and water as a cleaning liquid that does not use a chlorine-based solvent having excellent rinsing properties.

【0003】さらにピッチ類は芳香族炭化水素系溶剤に
良く溶解することが知られている。このため、トルエ
ン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤で
ピッチ類の洗浄を行うこともなされている。また、特開
平6−128592号公報では、芳香族炭化水素系溶剤
の誘導体であるトリメチルベンゼン、メチルエチルベン
ゼン、プロピルベンゼンとN−メチル−2−ピロリドン
の混合組成物からなる洗浄液が提案されている。
Further, it is known that pitches are well dissolved in an aromatic hydrocarbon solvent. Therefore, the pitches are also washed with an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene, xylene, or benzene. Further, JP-A-6-128592 proposes a cleaning liquid composed of a mixed composition of trimethylbenzene, methylethylbenzene, propylbenzene and N-methyl-2-pyrrolidone, which are derivatives of an aromatic hydrocarbon solvent.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、塩素系
溶剤やフッ素系溶剤やこれらを含有した洗浄液は、環境
汚染等の問題や人体に対する安全性において大きな問題
がある。
However, chlorine-based solvents, fluorine-based solvents, and cleaning liquids containing these have serious problems such as environmental pollution and safety for the human body.

【0005】また、特開平6−93295号公報の洗浄
組成物は、界面活性剤と水との混合により、使用中に水
分量が変化し、液組成が安定しない。また、ケトン系溶
剤と多価アルコール誘導体との混合組成物では、ピッチ
やワックスの溶解力が多価アルコール類誘導体により低
下する。しかも洗浄液の粘度が増大して、超音波を併用
して洗浄する場合でも、超音波の効果が低下したり、洗
浄液が被洗浄物に付着して持ち出されることによる洗浄
液の消耗が多くなる問題がある。
Further, in the cleaning composition disclosed in JP-A-6-93295, the water content changes during use due to the mixing of the surfactant and water, and the liquid composition is not stable. Further, in a mixed composition of a ketone solvent and a polyhydric alcohol derivative, the dissolving power of pitch and wax is lowered by the polyhydric alcohol derivative. Moreover, the viscosity of the cleaning liquid increases, and even when cleaning is performed by using ultrasonic waves together, the effect of ultrasonic waves decreases, and there is a problem that the cleaning liquid is consumed by adhering it to an object to be cleaned and carrying it out. is there.

【0006】さらに洗浄液を蒸留により再生する場合に
は、液組成が変化する。このため、再生利用ができず使
い捨てとなり、洗浄液の使用量が膨大となり、ランニン
グコストが大幅に上昇する。加えて、このような多量の
洗浄液を廃棄することによる多量の産業廃棄物の処理
は、環境上問題ともなる。
Further, when the cleaning liquid is regenerated by distillation, the liquid composition changes. For this reason, it cannot be recycled and becomes disposable, and the amount of cleaning liquid used becomes enormous, which greatly increases the running cost. In addition, the treatment of a large amount of industrial waste by discarding such a large amount of cleaning liquid becomes an environmental problem.

【0007】次に、極性溶剤と界面活性剤から構成され
る洗浄液は、一般的に粘度が高いため、上述と同様に、
超音波による洗浄の効果が低下したり、被洗浄物に付着
した洗浄剤が多量に持ち出され、洗浄液の消耗が激しい
などの問題がある。
Next, since a cleaning liquid composed of a polar solvent and a surfactant generally has a high viscosity, similar to the above,
There are problems that the effect of cleaning by ultrasonic waves is reduced, a large amount of the cleaning agent attached to the object to be cleaned is taken out, and the cleaning liquid is heavily consumed.

【0008】一方、一般的に用いられているトルエン、
キシレン、ベンゼンなどの芳香族系溶剤及びこれらの誘
導体であるトリメチルベンゼン、メチルエチルベンゼ
ン、プロピルベンゼンや1.1.1−トリクロロエタ
ン、トリクロロエチレン、塩化メチレン、パークロロエ
チレンなどの塩素系溶剤は、人体に対して毒性が高く、
労働安全衛生法・有機溶剤中毒予防規則などの法的規制
を受ける。また、蒸発による飛散や排水への混入などに
よる環境汚染が社会的問題となっている。したがって、
これを取り扱う作業の危険性およびその煩雑さを考慮す
ると洗浄液として用いることは好ましくない。
On the other hand, the commonly used toluene,
Aromatic solvents such as xylene and benzene, and their derivatives such as trimethylbenzene, methylethylbenzene, propylbenzene and 1.1.1-trichloroethane, trichlorethylene, methylene chloride, perchlorethylene and other chlorine-based solvents are Highly toxic,
Subject to legal restrictions such as the Industrial Safety and Health Act and the organic solvent poisoning prevention rules. In addition, environmental pollution due to scattering due to evaporation and mixing into drainage has become a social problem. Therefore,
It is not preferable to use it as a cleaning liquid in consideration of the danger of handling this and its complexity.

【0009】本発明は、これらの問題点を考慮してなさ
れたものであり、ピッチ、ワックスや研磨材、研削油、
保護膜などの溶解、洗浄性に優れ、人体、環境に対して
安全性の高い洗浄組成物を提供する。また、本発明はこ
の洗浄液を用いた洗浄方法を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in consideration of these problems, and pitches, waxes, abrasives, grinding oils,
Provided is a cleaning composition which is excellent in dissolution and cleaning properties of a protective film and the like and is highly safe for human body and environment. Another object of the present invention is to provide a cleaning method using this cleaning liquid.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の洗浄組成物は、
ケトン系溶剤とイソパラフィン系溶剤の混合組成物、あ
るいはケトン系溶剤とノルマルパラフィン系溶剤の混合
組成物、あるいはケトン系溶剤とナフテン系溶剤の混合
組成物、あるいはケトン系溶剤とナフテン系溶剤とイソ
パラフィン系溶剤か、ノルマルパラフィン系溶剤の混合
組成物により構成される。ここでイソパラフィン系溶
剤、ノルマルパラフィン系溶剤及びナフテン系溶剤は炭
化水素系溶剤であり、一方、ケトン系溶剤は、下記の一
般式となっている。 (式中、R1 はメチル基、エチル基、プロピル基等の炭
素数1〜4のアルキル基、R2 は炭素数4〜5のアルキ
ル基である。)
The cleaning composition of the present invention comprises:
A mixed composition of a ketone solvent and an isoparaffinic solvent, a mixed composition of a ketone solvent and a normal paraffinic solvent, a mixed composition of a ketone solvent and a naphthene-based solvent, or a ketone solvent, a naphthene-based solvent and an isoparaffinic solvent. It is composed of a solvent or a mixed composition of normal paraffinic solvents. Here, the isoparaffin-based solvent, the normal paraffin-based solvent and the naphthene-based solvent are hydrocarbon-based solvents, while the ketone-based solvent has the following general formula. (In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group and a propyl group, and R 2 is an alkyl group having 4 to 5 carbon atoms.)

【0011】これらの洗浄組成物の混合組成は、炭化水
素系溶剤がイソパラフィン系溶剤またはノルマルパラフ
ィン系溶剤またはナフテン系溶剤から選ばれる少なくと
も1種の場合、ケトン系溶剤:炭化水素系溶剤=9:1
〜1:9である。
When the hydrocarbon solvent is at least one selected from an isoparaffin solvent, a normal paraffin solvent, and a naphthene solvent, the mixed composition of these cleaning compositions is: ketone solvent: hydrocarbon solvent = 9: 1
˜1: 9.

【0012】また、炭化水素系溶剤がイソパラフィン系
溶剤とナフテン系溶剤の混合物の場合、この混合溶剤に
おける重量混合比はイソパラフィン系溶剤:ナフテン系
溶剤=9:1〜1:9である。さらに、炭化水素系溶剤
がノルマルパラフィン系溶剤とナフテン系溶剤の混合物
の場合、この混合溶剤における重量混合比はノルマルパ
ラフィン系溶剤とナフテン系溶剤=9:1〜1:9であ
る。
When the hydrocarbon solvent is a mixture of an isoparaffin solvent and a naphthene solvent, the weight mixing ratio of the mixed solvent is isoparaffin solvent: naphthene solvent = 9: 1 to 1: 9. Further, when the hydrocarbon-based solvent is a mixture of a normal paraffinic solvent and a naphthene-based solvent, the weight mixing ratio in this mixed solvent is a normal paraffin-based solvent and a naphthene-based solvent = 9: 1 to 1: 9.

【0013】本発明で使用するケトン系溶剤およびイソ
パラフィン系溶剤、ノルマルパラフィン系溶剤、ナフテ
ン系溶剤は、分子中に全く塩素やフッ素などのハロゲン
原子を含んでいないため、オゾン層破壊などの環境破壊
を引き起こすことがない。また、ケトン系溶剤の中で、
特に2,6−ジメチル−4−ヘプタノン(ジイソブチル
ケトン)は、人体に対して安全性が高く、労働安全衛生
法の有機溶剤中毒予防規則にも該当しない。同様にイソ
パラフィン系溶剤、ノルマルパラフィン系溶剤、ナフテ
ン系溶剤も人体への毒性が低いことが知られている。特
に、イソパラフィン系溶剤、ノルマルパラフィン系溶剤
は化粧品や香料の溶剤として使用されるなど極めて安全
性が高い。
The ketone-based solvent, isoparaffin-based solvent, normal paraffin-based solvent, and naphthene-based solvent used in the present invention do not contain halogen atoms such as chlorine and fluorine in the molecule, and therefore environmental destruction such as ozone layer destruction. Will not cause. In a ketone solvent,
In particular, 2,6-dimethyl-4-heptanone (diisobutyl ketone) is highly safe for the human body and does not fall under the organic solvent poisoning prevention regulations of the Industrial Safety and Health Law. Similarly, isoparaffin solvents, normal paraffin solvents, and naphthene solvents are known to have low toxicity to humans. In particular, isoparaffinic solvents and normal paraffinic solvents are extremely safe as they are used as cosmetics and fragrance solvents.

【0014】洗浄性においてケトン系溶剤は、ピッチに
対して良好な溶解作用を示すが、ワックスに対する溶解
作用は、ワックスの種類により緩慢で、ピッチとワック
ス双方が付着した被洗浄物を洗浄する場合、完全にワッ
クスを除去するためには、ある程度の時間を要する。
In terms of detergency, the ketone solvent has a good dissolving action on pitch, but the dissolving action on wax is slow depending on the type of wax, and when cleaning an object to be washed on which both the pitch and the wax adhere. However, it takes some time to completely remove the wax.

【0015】しかし、イソパラフィン系溶剤、ノルマル
パラフィン系溶剤、ナフテン系溶剤と混合した場合は、
これらのイソパラフィン系溶剤、ノルマルパラフィン系
溶剤、ナフテン系溶剤がピッチ、ワックスに対して膨
潤、溶解する作用と浸透性が高く、汚れを被洗浄から剥
離する作用を有しているため、ケトン系溶剤の溶解作用
との相乗効果により、単一組成で洗浄した場合よりも、
ピッチ、ワックスの混合系の汚れに対して、短時間で完
全にピッチやワックス類を溶解除去でき、良好な洗浄性
を得ることができる。ただし、被洗浄物の汚れの種類が
限定されている場合や汚れの程度が軽度の場合は、ケト
ン系溶剤を単独で用いることもできる。
However, when mixed with an isoparaffinic solvent, a normal paraffinic solvent or a naphtheneic solvent,
These isoparaffin-based solvents, normal paraffin-based solvents, and naphthene-based solvents have a high action of swelling and dissolving in pitch and wax and a high penetrability, and have an action of separating dirt from the object to be washed. Due to the synergistic effect with the dissolving action of
Pitch and wax can be completely dissolved and removed in a short period of time with respect to dirt in a mixed system of pitch and wax, and good cleaning properties can be obtained. However, if the type of stain on the object to be cleaned is limited or if the degree of stain is mild, the ketone solvent can be used alone.

【0016】上述した混合組成において、ケトン系溶剤
と炭化水素系溶剤の混合組成比は、被洗浄物の汚れがピ
ッチである場合、ケトン系溶剤:炭化水素系溶剤=3:
7〜9:1が良好で、この場合の炭化水素系溶剤として
はナフテン系溶剤が望ましい。被洗浄物の汚れがワック
スなどの極性系の汚れに対しての混合組成比は、ケトン
系溶剤:炭化水素系溶剤=5:5〜9:1が良い。炭化
水素系溶剤としては、ナフテン系溶剤単体よりは、イソ
パラフィン系溶剤または、ノルマルパラフィン系溶剤を
混合したほうがよい。また、被洗浄物の汚れが切削油な
どの軽度の場合に対しては、ケトン系溶剤:炭化水素系
溶剤=4:6〜1:9の組成比で洗浄が可能で、低コス
トの炭化水素系溶剤を多くすることによって洗浄液のコ
ストを抑えることができる。さらに、ケトン系溶剤は臭
気が強いが、炭化水素系溶剤との混合により臭気を抑え
ることができる。また、炭化水素系溶剤を多くすること
によって洗浄液自体の溶解力は低下するが、洗浄液の粘
度が低下するため、却って物理力としての超音波の洗浄
効果が増大する効果があり、切削油などの軽度の汚れに
対しては、十分有効となる。
In the above-mentioned mixed composition, the composition ratio of the ketone-based solvent and the hydrocarbon-based solvent is such that when the object to be cleaned is pitch, the ketone-based solvent: hydrocarbon-based solvent = 3:
7 to 9: 1 is preferable, and a naphthene-based solvent is preferable as the hydrocarbon-based solvent in this case. The mixture composition ratio of the stains on the object to be cleaned to polar stains such as wax is preferably ketone solvent: hydrocarbon solvent = 5: 5 to 9: 1. As the hydrocarbon solvent, it is better to mix an isoparaffin solvent or a normal paraffin solvent than a naphthene solvent alone. Further, when the object to be cleaned is lightly contaminated with cutting oil or the like, it is possible to clean with a composition ratio of ketone solvent: hydrocarbon solvent = 4: 6 to 1: 9, which is a low-cost hydrocarbon. The cost of the cleaning liquid can be suppressed by increasing the amount of the system solvent. Further, although the ketone solvent has a strong odor, the odor can be suppressed by mixing it with a hydrocarbon solvent. Further, by increasing the amount of hydrocarbon solvent, the dissolving power of the cleaning liquid itself decreases, but since the viscosity of the cleaning liquid decreases, there is an effect of increasing the ultrasonic cleaning effect as a physical force, and cutting oil and the like. It is effective enough for light stains.

【0017】また、本発明の洗浄組成物は、引火点が大
きいケトン系溶剤(例えば、2,6−ジメチル−4−ヘ
プタノン:引火点49℃)とそれぞれのケトン系溶剤の
引火点に近い(±10℃程度がよい)イソパラフィン系
溶剤、ノルマルパラフィン系溶剤、ナフテン系溶剤を選
択し、混合することによって、洗浄液の引火点を40〜
60℃に維持することができる。そのため、洗浄液を常
温で使用しても引火の危険性から回避でき、安全性を確
保することができる。
Further, the cleaning composition of the present invention is close to the flash point of a ketone solvent having a large flash point (eg, 2,6-dimethyl-4-heptanone: flash point 49 ° C.) and each of the ketone solvents ( ± 10 ° C is preferable) Isoparaffinic solvent, normal paraffinic solvent, and naphthene solvent are selected and mixed to make the flash point of the cleaning liquid 40 to 40
It can be maintained at 60 ° C. Therefore, even if the cleaning liquid is used at room temperature, it is possible to avoid the risk of ignition and ensure safety.

【0018】さらに、洗浄機に超音波を併用した場合
は、ピッチやワックスに物理的な力が加わり、短時間で
良好な洗浄性を得ることができる。特に本発明の洗浄組
成物は、洗浄液の粘度を低くすることができるため、超
音波によるキャビテーション効果が十分に発揮され、効
率的に洗浄することができる。
Further, when ultrasonic waves are used together in the washing machine, physical force is applied to the pitch and the wax, and good washing performance can be obtained in a short time. In particular, since the cleaning composition of the present invention can lower the viscosity of the cleaning liquid, the cavitation effect by ultrasonic waves is sufficiently exerted, and cleaning can be efficiently performed.

【0019】ところで界面活性剤を含有した組成物によ
る洗浄液は、蒸留による再生時に洗浄液の組成が崩れ
る。そのため再生液は安定した洗浄性能が得られないた
め、蒸留による再生使用が困難である。しかし、本発明
の組成物による洗浄液は、ケトン系溶剤と沸点が近いイ
ソパラフィン系溶剤やノルマルパラフィン系溶剤やナフ
テン系溶剤を組み合わせることにより、双方の沸点を極
めて近くすることができる。具体例としては、ケトン系
溶剤として2,6−ジメチル−4−ヘプタノン(沸点1
68℃)を用いた場合には、150〜190℃の沸点範
囲のイソパラフィン系溶剤やノルマルパラフィン系溶剤
やナフテン系溶剤と組み合わせると共沸組成としなくて
も、各成分の蒸気圧曲線が類似してくるため、近似的な
共沸をとることができ、組成比が変わることなく蒸留再
生によるリサイクル使用ができる。したがって、安定し
た洗浄性能が得られると同時に経済的である。また、こ
の再利用を行うことにより、産業廃棄物の量を極めて少
なくすることができる。
By the way, the composition of the cleaning liquid with the composition containing the surfactant is destroyed during regeneration by distillation. Therefore, the regenerated liquid cannot obtain a stable cleaning performance, and thus it is difficult to regenerate and use it by distillation. However, the boiling point of the cleaning liquid containing the composition of the present invention can be made extremely close to each other by combining a ketone solvent and an isoparaffin solvent, a normal paraffin solvent, or a naphthene solvent having a similar boiling point. As a specific example, 2,6-dimethyl-4-heptanone (boiling point 1
68 ° C.), the vapor pressure curve of each component is similar even if it is not an azeotropic composition if it is combined with an isoparaffinic solvent, a normal paraffinic solvent or a naphthene type solvent having a boiling range of 150 to 190 ° C. Therefore, it is possible to take an approximate azeotrope, and it is possible to recycle and use by regenerating by distillation without changing the composition ratio. Therefore, stable cleaning performance can be obtained and at the same time economical. Further, by performing this reuse, the amount of industrial waste can be extremely reduced.

【0020】加えて、液単価の安いイソパラフィン系溶
剤やノルマルパラフィン系溶剤やナフテン系溶剤を混合
することにより、洗浄液のコストを低く抑えられるメリ
ットもある。
In addition, by mixing an isoparaffinic solvent, a normal paraffinic solvent or a naphtheneic solvent having a low liquid unit price, there is an advantage that the cost of the cleaning liquid can be kept low.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下の各実施の形態に用いる汚れ
として、下記のものを使用した。すなわち、ピッチはス
トレートアスファルト系として、K1、K3、K8、ブ
ローンアスファルト系として、KB4(共に、九重電気
(株)製)を選択し、ワックスはスロットワックスM、
プルーフワックス、イエローワックスB、スカイワック
スM1(共に、日化精工(株)製)を選択した。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The followings were used as stains used in the following embodiments. That is, the pitch is K1, K3, K8 as a straight asphalt type and KB4 (both are made by Kuju Electric Co., Ltd.) as a blown asphalt type, and the wax is a slot wax M,
Proof wax, yellow wax B, and sky wax M1 (both manufactured by Nikka Seiko Co., Ltd.) were selected.

【0022】洗浄組成物としてケトン系溶剤は各実施の
形態のものを使用したが、このケトン系溶剤と混合する
炭化水素系溶剤はイソパラフィン系溶剤としてアイソゾ
ール300(日本石油化学(株)製)を、ノルマルパラ
フィン系溶剤として、NSクリーン100(日鉱石油化
学(株)製)を、ナフテン系溶剤として、エクソールD
40(エクソン化学(株)製)を選択した。
As the cleaning composition, the ketone solvent used in each of the embodiments was used. As the hydrocarbon solvent mixed with the ketone solvent, Isosol 300 (manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd.) was used as the isoparaffinic solvent. , NS Clean 100 (manufactured by Nikko Petrochemical Co., Ltd.) as a normal paraffin solvent, and Exol D as a naphthene solvent.
40 (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) was selected.

【0023】イソパラフィン系溶剤としては、一般式C
n 2n+2(nは整数)で表される鎖状飽和炭化水素の
内、沸点が150〜190℃の範囲の中から混合対象と
なるケトン系溶剤のそれぞれの沸点(蒸留範囲)に近い
ものを選択した。同様に、ナフテン系溶剤としては、一
般式Cn 2n(nは整数)で表される環状飽和炭化水素
の内、沸点が150〜190℃の範囲の中から、混合対
象となるケトン系溶剤のそれぞれの沸点(蒸留範囲)に
近いものを選択した。以下の各実施の形態で用いるケト
ン系溶剤、イソパラフィン系溶剤、ノルマルパラフィン
系溶剤、ナフテン系溶剤の沸点、引火点などの基本物性
値を表1に示す。
The isoparaffinic solvent is represented by the general formula C
Among the chain saturated hydrocarbons represented by n H 2n + 2 (n is an integer), the boiling point is close to the boiling point (distillation range) of the ketone solvent to be mixed from the range of 150 to 190 ° C. I chose one. Similarly, as the naphthene-based solvent, among cyclic saturated hydrocarbons represented by the general formula C n H 2n (n is an integer), a ketone-based solvent to be mixed is selected from the boiling point range of 150 to 190 ° C. Those close to the respective boiling points (distillation range) of the above were selected. Table 1 shows basic physical properties such as boiling points and flash points of ketone solvents, isoparaffin solvents, normal paraffin solvents, and naphthene solvents used in the following embodiments.

【0024】[0024]

【表1】 [Table 1]

【0025】(実施の形態1)この実施の形態では、ケ
トン系溶剤として4−メチル−2−ペンタノンと2,6
−ジメチル−4−ヘプタノンを選択し、これとイソパラ
フィン系溶剤、ノルマルパラフィン系溶剤または、ナフ
テン系溶剤を重量比で1:1に混合し、洗浄組成物を調
整した。これらの洗浄組成物の各種ピッチ、ワックスに
対する洗浄性を確認するため、ピッチ及びワックスの溶
解状態を確認した。比較として、4−メチル−2−ペン
タノン、2,6−ジメチル−4−ヘプタノン、イソパラ
フィン系溶剤、ノルマルパラフィン系溶剤、ナフテン系
溶剤をそれぞれ単体で用いて洗浄した。
(Embodiment 1) In this embodiment, 4-methyl-2-pentanone and 2,6 are used as a ketone solvent.
-Dimethyl-4-heptanone was selected, and this and an isoparaffin solvent, a normal paraffin solvent, or a naphthene solvent were mixed at a weight ratio of 1: 1 to prepare a cleaning composition. In order to confirm the cleaning properties of these cleaning compositions for various pitches and waxes, the dissolved state of the pitches and waxes was confirmed. For comparison, 4-methyl-2-pentanone, 2,6-dimethyl-4-heptanone, isoparaffin-based solvent, normal paraffin-based solvent, and naphthene-based solvent were used alone for cleaning.

【0026】洗浄に際して、各洗浄組成物の洗浄液の液
温は常温(25℃)とした。洗浄組成物の溶解力を確認
するため、超音波は使用しなかった。浸漬30分後のピ
ッチ、ワックスの残留状態を確認し、次のA〜Eのラン
ク付けにより評価した。ピッチ洗浄性を表2に、ワック
ス洗浄性を表3に示す。 A:ピッチ、ワックスの残留なし。またはピッチ、ワッ
クスが軟化して流れ、軽い物理力ですぐに取れそうな状
態 B:ピッチ、ワックスが軟化しまたは、剥離した状態 C:ピッチ、ワックスがやや軟化または、膨潤した状態 D:若干の表面変化が見られた程度 E:変化なく、溶解現象が全く見られない
During cleaning, the temperature of the cleaning liquid of each cleaning composition was room temperature (25 ° C.). No ultrasonic waves were used to confirm the solvency of the cleaning composition. The residual state of the pitch and wax after 30 minutes of immersion was confirmed and evaluated by the following rankings A to E. Pitch detergency is shown in Table 2 and wax detergency is shown in Table 3. A: No pitch or wax remained. Or the state where the pitch and wax are softened and flow, and are likely to be removed immediately with a light physical force B: The state where the pitch and wax are softened or peeled off C: The state where the pitch and wax are slightly softened or swollen D: Some Degree of surface change E: No change, no dissolution phenomenon

【0027】また、総合的な評価を○、△、×で表し
た。「○」は、ピッチやワックス等の重度の汚れに対応
し、優れた洗浄性を有する評価である。「△」は、洗浄
性はやや劣るが、少量のピッチやワックスが付着してい
る場合や切削油等の軽度汚れには十分有効なレベルの評
価である。この場合、若干洗浄性が劣っても経済的であ
り洗浄液として有効な場合もある。「×」は、洗浄力が
劣り、目的の汚れを十分に除去できない評価である。
Further, the comprehensive evaluation is represented by ◯, Δ, and x. “◯” is an evaluation that corresponds to a heavy stain such as pitch or wax and has an excellent cleaning property. “Δ” is a level which is slightly inferior in cleanability, but is a level which is sufficiently effective when a small amount of pitch or wax is adhered or for light dirt such as cutting oil. In this case, even if the cleaning property is slightly inferior, it is economical and sometimes effective as a cleaning liquid. “X” is an evaluation that the cleaning power is poor and the target stain cannot be sufficiently removed.

【0028】[0028]

【表2】 [Table 2]

【0029】[0029]

【表3】 [Table 3]

【0030】表2及び表3からわかるように、4−メチ
ル−2−ペンタノンまたは、2,6−ジメチル−4−ヘ
プタノンと、イソパラフィン系溶剤、ノルマルパラフィ
ン系溶剤または、ナフテン系溶剤と混合した洗浄組成物
は、それぞれの単体で洗浄したものよりも短時間でピッ
チ、ワックスの双方を溶解でき、良好な洗浄性を得るこ
とができた。このなかで、ピッチ、ワックスの双方に最
も良好な洗浄性を示したのは、低分子側の4−メチル−
2−ペンタノンとナフテン系溶剤との混合による洗浄組
成物であった。
As can be seen from Tables 2 and 3, cleaning in which 4-methyl-2-pentanone or 2,6-dimethyl-4-heptanone was mixed with an isoparaffin solvent, a normal paraffin solvent or a naphthene solvent. The composition was able to dissolve both the pitch and the wax in a shorter time than the case where the composition was washed by itself, and it was possible to obtain good detergency. Among them, the one showing the best cleaning properties for both pitch and wax is 4-methyl-
The cleaning composition was a mixture of 2-pentanone and a naphthenic solvent.

【0031】また、溶解力だけで判断すると、低分子側
のケトン系溶剤が良いが、人体に対する安全性を考慮す
ると、2,6−ジメチル−4−ヘプタノンなどの高分子
側のケトン系溶剤を用いた方が良い。
Further, when judging only by the dissolving power, a low molecular weight ketone solvent is preferable, but in view of safety to the human body, a high molecular weight ketone solvent such as 2,6-dimethyl-4-heptanone is used. It is better to use.

【0032】一方、乾燥性を向上させるためには、低分
子側のケトン系溶剤を用いた方が良い。具体例として
は、4−メチル−2−ペンタノン(沸点116℃)とナ
フテン系溶剤としてアイソゾール200(日本石油化学
(株)製、沸点95〜135℃)を混合した洗浄組成物
は乾燥性が良好である。このように、各種ケトン系溶剤
とイソパラフィン系溶剤、ノルマルパラフィン系溶剤、
ナフテン系溶剤の沸点、引火点、粘度などの性質を利用
することで、目的の性能を有した洗浄組成物を得ること
ができる。
On the other hand, in order to improve the drying property, it is better to use a low molecular weight ketone solvent. As a specific example, a cleaning composition in which 4-methyl-2-pentanone (boiling point: 116 ° C.) and Isosol 200 (manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd., boiling point: 95 to 135 ° C.) as a naphthenic solvent are mixed has good drying property. Is. In this way, various ketone solvents and isoparaffin solvents, normal paraffin solvents,
By utilizing the properties of the naphthene-based solvent such as the boiling point, the flash point, and the viscosity, it is possible to obtain a cleaning composition having the desired performance.

【0033】(実施の形態2)実施の形態1から、ケト
ン系溶剤として2,6−ジメチル−4−ヘプタノンを選
択し、これとナフテン系溶剤との混合比による洗浄性を
確認するため、ケトン系溶剤とナフテン系溶剤をそれぞ
れ重量比で9:1、7:3、5:5、3:7、1:9と
した洗浄組成物を調整した。この洗浄組成物のピッチ及
びワックスに対する洗浄性を確認するため、ピッチ及び
ワックスを0.26mm塗布したスライドガラスを各洗
浄組成物に30分間浸漬して、ピッチ、ワックスの溶解
状態を確認した。洗浄液の液温は常温(25℃)とし
た。洗浄組成物の溶解力を確認するため、超音波は使用
しなかった。
(Embodiment 2) From Embodiment 1, 2,6-dimethyl-4-heptanone is selected as a ketone solvent, and in order to confirm the detergency based on the mixing ratio of this and the naphthene solvent, a ketone is used. A cleaning composition was prepared in which the weight ratio of the system solvent and the naphthene system solvent was 9: 1, 7: 3, 5: 5, 3: 7, and 1: 9, respectively. In order to confirm the cleaning properties of the cleaning composition with respect to pitch and wax, a slide glass coated with 0.26 mm of pitch and wax was dipped in each cleaning composition for 30 minutes to confirm the dissolved state of the pitch and wax. The temperature of the cleaning liquid was normal temperature (25 ° C). No ultrasonic waves were used to confirm the solvency of the cleaning composition.

【0034】ピッチに対する洗浄性を表4に、ワックス
に対する洗浄性を表5に示す。洗浄性は浸漬30分後の
ピッチ、ワックスの残留状態を確認し、A〜Eのランク
付けにより評価した。また、総合的な評価を「○」、
「△」、「×」で示す。これらの評価のランクは実施の
形態1と同様である。
The cleaning properties with respect to pitch are shown in Table 4, and the cleaning properties with respect to wax are shown in Table 5. Detergency was evaluated by confirming the residual state of pitch and wax after 30 minutes of immersion and ranking by A to E. Also, a comprehensive evaluation is "○",
Indicated by “△” and “×”. The rank of these evaluations is the same as that of the first embodiment.

【0035】[0035]

【表4】 [Table 4]

【0036】[0036]

【表5】 [Table 5]

【0037】表4及び表5からわかるように、混合組成
比9:1〜1:9の範囲で、良好な洗浄性を得ることが
できた。
As can be seen from Tables 4 and 5, good detergency could be obtained in the mixed composition ratio range of 9: 1 to 1: 9.

【0038】同様にケトン系溶剤と混合する溶剤をイソ
パラフィン系溶剤または、ノルマルパラフィン系溶剤を
用いた場合もケント系溶剤とイソパラフィン系溶剤の混
合組成比9:1〜1:9の範囲で、ケトン系溶剤とノル
マルパラフィン系溶剤の混合組成比9:1〜1:9の範
囲で、良好な洗浄性を得ることができた。
Similarly, when an isoparaffinic solvent or a normal paraffinic solvent is used as the solvent mixed with the ketone solvent, the ketone composition is mixed with the ketone in the range of 9: 1 to 1: 9. When the mixed composition ratio of the system solvent and the normal paraffin solvent was in the range of 9: 1 to 1: 9, good detergency could be obtained.

【0039】(実施の形態3)ケトン系溶剤とナフテン
系溶剤とノルマルパラフィン系溶剤または、イソパラフ
ィン系溶剤をそれぞれ重量比で2:1:1に混合し、3
成分混合の洗浄組成物を調整した。この洗浄組成物のピ
ッチ及びワックスに対する洗浄性を確認するため、ピッ
チ及びワックスを0.26mm塗布したスライドガラス
を30分間浸漬して、ピッチ、ワックスの溶解状態を確
認した。洗浄液の液温は常温(25℃)とした。洗浄組
成物の溶解力を確認するため、超音波は使用しなかっ
た。
(Embodiment 3) A ketone solvent, a naphthene solvent and a normal paraffin solvent or an isoparaffin solvent are mixed in a weight ratio of 2: 1: 1, respectively, and 3
A cleaning composition of mixed components was prepared. In order to confirm the cleaning properties of the cleaning composition with respect to pitch and wax, a slide glass coated with 0.26 mm of pitch and wax was immersed for 30 minutes to confirm the dissolved state of the pitch and wax. The temperature of the cleaning liquid was normal temperature (25 ° C). No ultrasonic waves were used to confirm the solvency of the cleaning composition.

【0040】ピッチに対する洗浄性を表6に、ワックス
に対する洗浄性を表7に示す。洗浄性は浸漬30分後の
ピッチ、ワックスの残留状態を確認し、A〜Eのランク
付けにより評価した。また、総合的な評価を「○」、
「△」、「×」で示す。これらの評価のランクは実施の
形態1と同様である。
Table 6 shows the cleaning properties with respect to pitch, and Table 7 shows the cleaning properties with respect to wax. Detergency was evaluated by confirming the residual state of pitch and wax after 30 minutes of immersion and ranking by A to E. Also, a comprehensive evaluation is "○",
Indicated by “△” and “×”. The rank of these evaluations is the same as that of the first embodiment.

【0041】[0041]

【表6】 [Table 6]

【0042】[0042]

【表7】 [Table 7]

【0043】表6及び表7からわかるように、4−メチ
ル−2−ペンタノンまたは、2,6−ジメチル−4−ヘ
プタノンとイソパラフィン系溶剤または、マルマルパラ
フィン系溶剤とナフテン系溶剤を混合した洗浄組成物で
は、特定のワックスに対して、良好な洗浄性を得ること
ができた。
As can be seen from Tables 6 and 7, a cleaning composition in which 4-methyl-2-pentanone or 2,6-dimethyl-4-heptanone and an isoparaffin solvent or a marmalparaffin solvent and a naphthene solvent are mixed. The product was able to obtain good detergency against a specific wax.

【0044】同様に実施の形態2のように、ケトン系溶
剤と混合する溶剤の重量混合比を9:1〜1:9として
も良好な溶解・洗浄性を示した。ピッチに対しては、ナ
フテン系溶剤の比率が高い方が洗浄性が良好で、ワック
スに対しては、イソパラフィン系溶剤または、ノルマル
パラフィン系溶剤の比率が高い方が良好であった。した
がって、比洗浄物の汚れの種類によってノルマルパラフ
ィンまたは、イソパラフィン系溶剤を混合し、3成分系
にすることよって溶解・洗浄性を高めることができる。
また、ピッチ、ワックス双方の汚れを同時に洗浄する場
合は、ケトン系溶剤とナフテン系溶剤とノルマルパラフ
ィン系溶剤または、イソパラフィン系溶剤が2:1:1
付近での重量混合比が幅広い汚れに対応できる。
Similarly, as in the second embodiment, even if the weight mixing ratio of the solvent mixed with the ketone solvent is 9: 1 to 1: 9, good dissolution and cleaning properties are exhibited. The higher the ratio of the naphthene-based solvent to the pitch, the better the cleanability, and the higher the ratio of the wax to the isoparaffin-based solvent or the normal paraffin-based solvent. Therefore, by dissolving the normal paraffin or isoparaffin type solvent in a three-component system depending on the type of dirt of the specific cleaning product, the dissolution / cleanability can be improved.
When cleaning both pitch and wax at the same time, use a ketone solvent, naphthene solvent, normal paraffin solvent, or isoparaffin solvent in a ratio of 2: 1: 1.
It can handle stains with a wide range of weight mixing ratios.

【0045】(実施の形態4)この実施の形態では、ケ
トン系溶剤として2,6−ジメチル−4−ヘプタノンを
用い、この溶剤とナフテン系溶剤及びイソパラフィンを
混合した3成分混合組成物とした。ナフテン系溶剤とイ
ソパラフィン系溶剤を9:1、7:3,5:5、3:
7、1:9の重量比で混合して調整し、この混合物と
2,6−ジメチル−4−ヘプタノンとを重量比で1:1
に混合して調整した。
(Embodiment 4) In this embodiment, 2,6-dimethyl-4-heptanone was used as a ketone solvent, and a three-component mixed composition was prepared by mixing this solvent with a naphthene solvent and isoparaffin. Naphthene solvent and isoparaffin solvent 9: 1, 7: 3, 5: 5, 3:
The weight ratio of this mixture to 2,6-dimethyl-4-heptanone was 1: 1.
It was mixed and adjusted.

【0046】この洗浄組成物のピッチ及びワックスに対
する洗浄性を確認するため、ピッチ及びワックスを0.
26mm塗布したスライドガラスを各洗浄組成物に30
分間浸漬して、ピッチ、ワックスの溶解状態を確認し
た。洗浄液の液温は常温(25℃)とした。洗浄組成物
の溶解力を確認するため、超音波は使用しなかった。
In order to confirm the cleanability of the cleaning composition with respect to pitch and wax, the pitch and wax were adjusted to 0.
Apply 26 mm of slide glass to each cleaning composition.
It was immersed for a minute, and the dissolved state of pitch and wax was confirmed. The temperature of the cleaning liquid was normal temperature (25 ° C). No ultrasonic waves were used to confirm the solvency of the cleaning composition.

【0047】ピッチに対する洗浄性を表8に、ワックス
に対する洗浄性を表9に示す。洗浄性は浸漬30分後の
ピッチ、ワックスの残留状態を確認し、A〜Eのランク
付けにより評価した。また、総合的な評価を「○」、
「△」、「×」で示す。これらの評価のランクは実施の
形態1と同様である。
Detergency against pitch is shown in Table 8 and detergency against wax is shown in Table 9. Detergency was evaluated by confirming the residual state of pitch and wax after 30 minutes of immersion and ranking by A to E. Also, a comprehensive evaluation is "○",
Indicated by “△” and “×”. The rank of these evaluations is the same as that of the first embodiment.

【0048】[0048]

【表8】 [Table 8]

【0049】[0049]

【表9】 [Table 9]

【0050】これらの結果からわかるように、ケトン系
溶剤と混合する溶剤の混合組成比が、ナフテン系溶剤:
イソパラフィン系溶剤=9:1〜1:9の範囲で、良好
な洗浄性を得ることができた。
As can be seen from these results, the mixture composition ratio of the solvent mixed with the ketone solvent is naphthene solvent:
In the range of isoparaffin solvent = 9: 1 to 1: 9, good detergency could be obtained.

【0051】(実施の形態5)この実施の形態では、ケ
トン系溶剤として2,6−ジメチル−4−ヘプタノンを
用い、この溶剤とナフテン系溶剤及びノルマルパラフィ
ンを混合した3成分混合組成物とした。ナフテン系溶剤
とノルマルパラフィン系溶剤を9:1、7:3,5:
5、3:7、1:9の重量比で混合して調整し、この混
合物と2,6−ジメチル−4−ヘプタノンとを重量比で
1:1に混合して調整した。
(Embodiment 5) In this embodiment, 2,6-dimethyl-4-heptanone is used as a ketone solvent, and a three-component mixed composition is prepared by mixing this solvent with a naphthene solvent and normal paraffin. . Naphthene solvent and normal paraffin solvent 9: 1, 7: 3, 5:
The mixture was adjusted by mixing it in a weight ratio of 5, 3: 7, 1: 9, and this mixture was adjusted by mixing the mixture with 2,6-dimethyl-4-heptanone in a weight ratio of 1: 1.

【0052】この洗浄組成物のピッチ及びワックスに対
する洗浄性を確認するため、ピッチ及びワックスを0.
26mm塗布したスライドガラスを各洗浄組成物に30
分間浸漬して、ピッチ、ワックスの溶解状態を確認し
た。洗浄液の液温は常温(25℃)とした。洗浄組成物
の溶解力を確認するため、超音波は使用しなかった。
In order to confirm the cleaning properties of the cleaning composition with respect to pitch and wax, the pitch and wax were mixed with 0.
Apply 26 mm of slide glass to each cleaning composition.
It was immersed for a minute, and the dissolved state of pitch and wax was confirmed. The temperature of the cleaning liquid was normal temperature (25 ° C). No ultrasonic waves were used to confirm the solvency of the cleaning composition.

【0053】ピッチに対する洗浄性を表10に、ワック
スに対する洗浄性を表11に示す。洗浄性は浸漬30分
後のピッチ、ワックスの残留状態を確認し、A〜Eのラ
ンク付けにより評価した。また、総合的な評価を
「○」、「△」、「×」で示す。これらの評価のランク
は実施の形態1と同様である。
Table 10 shows the cleaning properties with respect to pitch, and Table 11 shows the cleaning properties with respect to wax. Detergency was evaluated by confirming the residual state of pitch and wax after 30 minutes of immersion and ranking by A to E. In addition, the comprehensive evaluation is shown by “◯”, “Δ”, and “x”. The rank of these evaluations is the same as that of the first embodiment.

【0054】[0054]

【表10】 [Table 10]

【0055】[0055]

【表11】 [Table 11]

【0056】これらの結果からわかるように、ケトン系
溶剤と混合する溶剤の混合組成比が、ナフテン系溶剤:
ノルマルパラフィン系溶剤=9:1〜1:9の範囲で、
良好な洗浄性を得ることができた。
As can be seen from these results, the mixture composition ratio of the solvent mixed with the ketone solvent is naphthene solvent:
Normal paraffin solvent = in the range of 9: 1 to 1: 9,
Good detergency could be obtained.

【0057】(実施の形態6)2,6−ジメチル−4−
ヘプタノンとナフテン系溶剤を重量比で1:1の混合し
た洗浄組成物を用いて、超音波洗浄の有無の場合と超音
波の周波数を低周波または高周波を用いた場合の洗浄結
果を表12に示す。低周波側の周波数は28KHzを、
高周波側の周波数は40KHzを用いた。これらの周波
数を洗浄に一般的に用いられるものである。
(Embodiment 6) 2,6-dimethyl-4-
Table 12 shows the results of cleaning using a cleaning composition in which heptanone and a naphthene-based solvent were mixed at a weight ratio of 1: 1, with or without ultrasonic cleaning, and with ultrasonic frequency of low frequency or high frequency. Show. The low frequency side is 28 KHz,
The frequency on the high frequency side was 40 KHz. These frequencies are commonly used for cleaning.

【0058】洗浄サンプルとしては、ピッチK1と研磨
材、保護膜(ハードコート♯3、九重電気(株)製)が
付着している光学硝子レンズ(硝材FSL5、(株)小
原光学硝子製造所製)を用いた。洗浄には、28KH
z、600Wまたは、40KHz、600Wの超音波発
振器が設置された洗浄機に上述した洗浄組成物を充填
し、この洗浄組成物に上述した被洗浄物を浸漬して洗浄
を行い、ピッチが完全に洗浄できるまでの時間を測定し
た。洗浄液の液温は常温(25℃)とした。
As a cleaning sample, an optical glass lens (glass material FSL5, manufactured by Ohara Optical Glass Manufacturing Co., Ltd.) having a pitch K1, an abrasive, and a protective film (hard coat # 3, manufactured by Kuju Denki Co., Ltd.) attached thereto. ) Was used. 28KH for cleaning
z, 600 W, or 40 KHz, 600 W ultrasonic oscillator is installed in the cleaning machine, the above-mentioned cleaning composition is filled, and the above-mentioned cleaning object is immersed in this cleaning composition for cleaning, and the pitch is completely The time required for cleaning was measured. The temperature of the cleaning liquid was normal temperature (25 ° C).

【0059】[0059]

【表12】 [Table 12]

【0060】表12から判るように、超音波を併用する
ことにより、洗浄液で膨潤、軟化されたピッチ、ワック
スが超音波のキャビテーション効果により容易に剥離、
分解され、短時間で効率的に完全に洗浄することができ
る。なお、この洗浄組成物においては、超音波として3
0KHz以下の低周波の超音波を用いることにより、更
に洗浄効果があり、効率的に洗浄することができる。
As can be seen from Table 12, when ultrasonic waves are used in combination, the pitch and wax swollen and softened by the cleaning solution are easily peeled off due to the cavitation effect of ultrasonic waves.
It is decomposed and can be thoroughly cleaned efficiently in a short time. In addition, in this cleaning composition, 3
The use of low-frequency ultrasonic waves of 0 KHz or less has a further cleaning effect and enables efficient cleaning.

【0061】(実施の形態7)実施の形態1の洗浄組成
物の中から、2,6−ジメチル−4−ヘプタノンとナフ
テン系溶剤(エクソールD40)を選択し、混合比率を
重量比で9:1〜1:9に変えて減圧蒸留装置による蒸
留再生後の組成比を確認した。蒸留後の組成比を表13
に示す。蒸留条件としては、蒸留温度103℃(蒸気圧
4kg/cm2)、減圧度730mmHgで蒸留を行っ
た。減圧蒸留装置は、DC−31(オリンパス光学工業
(株)製)を用いた。
(Embodiment 7) From the cleaning composition of Embodiment 1, 2,6-dimethyl-4-heptanone and a naphthenic solvent (Exol D40) are selected, and the mixing ratio is 9: weight. The composition ratio after distillation regeneration by a vacuum distillation apparatus was confirmed by changing the ratio to 1 to 1: 9. Table 13 shows the composition ratio after distillation.
Shown in As distillation conditions, distillation was carried out at a distillation temperature of 103 ° C. (vapor pressure 4 kg / cm 2 ) and a degree of reduced pressure of 730 mmHg. As the vacuum distillation device, DC-31 (manufactured by Olympus Optical Co., Ltd.) was used.

【0062】[0062]

【表13】 [Table 13]

【0063】表13からわかるように、2,6−ジメチ
ル−4−ヘプタノンとナフテン系溶剤の沸点が近いた
め、近似的な共沸となり、蒸留後の組成比が十分に洗浄
性に影響しないレベルであり、再生による再使用が充分
可能となっている。
As can be seen from Table 13, since the boiling points of 2,6-dimethyl-4-heptanone and the naphthene-based solvent are close to each other, an approximate azeotrope is formed, and the composition ratio after distillation does not sufficiently affect detergency. Therefore, it can be reused by recycling.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明の洗浄組成物は特に光学部品のレ
ンズやプリズムの加工に用いられているピッチ、ワック
ス類を被洗浄物から効率よく洗浄除去することができる
と共に、研磨材、研削油、保護膜などの洗浄も行うこと
ができる。また、本発明の洗浄組成物は、環境を破壊す
ることなく、人体に対しても安全性が高く、しかも安価
となっている。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The cleaning composition of the present invention is capable of efficiently cleaning and removing pitches and waxes used for processing lenses and prisms of optical parts from an object to be cleaned, as well as an abrasive and a grinding oil. It is also possible to clean the protective film and the like. Moreover, the cleaning composition of the present invention is highly safe for humans and inexpensive, without damaging the environment.

【0065】本発明の洗浄方法は、上述した洗浄組成物
と超音波とを併用するため、ピッチ、ワックス類を確実
に、しかも迅速に除去することができる。
In the cleaning method of the present invention, since the cleaning composition described above and ultrasonic waves are used in combination, pitches and waxes can be removed reliably and rapidly.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式で表されるケトン結合を有し
たケトン系溶剤と、イソパラフィン系溶剤、ノルマルパ
ラフィン系溶剤またはナフテン系溶剤の炭化水素系溶剤
から選ばれる少なくとも1種の溶剤とが混合されている
ことを特徴とする洗浄組成物。 (式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基、R2 は炭素
数4〜5のアルキル基である。)
1. A ketone solvent having a ketone bond represented by the following general formula and at least one solvent selected from isoparaffin solvents, normal paraffin solvents or hydrocarbon solvents such as naphthene solvents are mixed. A cleaning composition comprising: (In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 2 is an alkyl group having 4 to 5 carbon atoms.)
【請求項2】 前記ケトン系溶剤と炭化水素系溶剤の混
合組成比が、ケトン系溶剤:炭化水素系溶剤=9:1〜
1:9の組成比であり、炭化水素系溶剤はイソパラフィ
ン系溶剤またはノルマルパラフィン系溶剤またはナフテ
ン系溶剤を単独または混合した状態で用いることを特徴
とする請求項1記載の洗浄組成物。
2. The mixture composition ratio of the ketone solvent and the hydrocarbon solvent is as follows: ketone solvent: hydrocarbon solvent = 9: 1
The cleaning composition according to claim 1, wherein the composition ratio is 1: 9, and the hydrocarbon solvent is an isoparaffin solvent, a normal paraffin solvent, or a naphthene solvent, either alone or in a mixture.
【請求項3】 前記1または2項記載の洗浄組成物を用
い、30KHz以下の低周波側の超音波を併用して洗浄
することを特徴とする洗浄方法。
3. A cleaning method, wherein the cleaning composition according to claim 1 or 2 is used in combination with ultrasonic waves on the low frequency side of 30 KHz or less.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100465844B1 (en) * 2002-06-03 2005-01-13 주식회사 티씨케이 Method for processing hole in cathode electrode

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100465844B1 (en) * 2002-06-03 2005-01-13 주식회사 티씨케이 Method for processing hole in cathode electrode

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