JP2006176700A - Detergent composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、レンズやプリズムなどの光学物品を製造する際に使用される固定剤、保護膜等を除去する目的で使用される洗浄剤用の組成物に関する。 The present invention relates to a composition for a cleaning agent used for the purpose of removing a fixing agent, a protective film and the like used in manufacturing an optical article such as a lens or a prism.
レンズ等の光学物品を製造する場合、ガラス基板等の光学基材の表面を研磨して加工する必要がある。この研磨工程では光学基材を保持台に固定して研磨を行なうが、保持台への固定に際しては、ワックス、アスファルトピッチ等からなる固定剤が用いられている。また、一方の面の研磨が終了した後にもう一方の面を研磨する場合、研磨済みの面を保護するためにフェノール系樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂等からなるマスキング剤を塗布し、保護膜を形成することが行なわれている。そして、研磨工程終了後、これら固定剤や保護膜は洗浄剤を用いて光学基材から除去され、研磨済みの光学基材は研磨剤除去工程等の次工程へと移される。 When manufacturing an optical article such as a lens, it is necessary to polish and process the surface of an optical base material such as a glass substrate. In this polishing step, the optical substrate is fixed to a holding table for polishing, and a fixing agent made of wax, asphalt pitch or the like is used for fixing to the holding table. Also, when polishing the other surface after the polishing of one surface, apply a masking agent made of phenolic resin, acrylic resin, vinyl chloride resin, etc. to protect the polished surface, A protective film is formed. And after completion | finish of a grinding | polishing process, these fixing agents and a protective film are removed from an optical base material using a washing | cleaning agent, and polished optical base materials are moved to following processes, such as an abrasive | polishing agent removal process.
従来、これら固定剤や保護膜の洗浄剤としては、塩素系溶剤或いはフロン系溶剤が使用されてきた。しかしながら、近年、これらの溶剤は、オゾン層破壊や地下水汚染を引き起こすことが問題視され、完全密閉系による使用以外は取り扱いが困難な状況となってきている。 Conventionally, chlorine-based solvents or chlorofluorocarbon-based solvents have been used as cleaning agents for these fixing agents and protective films. However, in recent years, these solvents have been considered to cause problems of ozone layer destruction and groundwater contamination, and it has become difficult to handle except for use in a completely sealed system.
このような状況のもと、光学物品製造に用いられる新しい洗浄剤用組成物として、（１）ジアルキルグリコールエーテルを配合したもの（特許文献１参照）、（２）特定のアルコールとプロピレングリコールモノアルキルエーテルもしくはジプロピレングリコールモノアルキルエーテルとの混合物（特許文献２参照）、（３）特定の芳香族化合物と脂肪族化合物とを特定の割合で混合した溶剤（特許文献３参照）及び（４）イソパラフィン系溶剤とグリコールエーテルとの混合物（特許文献４参照）が提案されている。 Under such circumstances, as a new composition for a cleaning agent used in optical article production, (1) a compound containing a dialkyl glycol ether (see Patent Document 1), (2) a specific alcohol and a propylene glycol monoalkyl A mixture of ether or dipropylene glycol monoalkyl ether (see Patent Document 2), (3) a solvent in which a specific aromatic compound and an aliphatic compound are mixed at a specific ratio (see Patent Document 3), and (4) isoparaffin A mixture of a system solvent and a glycol ether (see Patent Document 4) has been proposed.
しかしながら、前記（１）及び（２）の洗浄剤組成物は、ワックスピッチの溶解性に優れるものの、他のアスファルトピッチ、樹脂系保護膜の溶解除去性では十分なものとはいえない。また、前記（３）の洗浄剤では、アスファルトピッチ及び一部の樹脂系保護膜しか溶解除去できないばかりでなく、その成分として使用されている芳香族系化合物には環境的問題及び人体への影響面での問題があり、臭気も強いという問題がある。また、前記（４）の洗浄剤は、ワックスピッチ、アスファルトピッチ等の固定剤及びフェノール系、アクリル系保護膜に対して概ね良好な除去性能を発揮するものの、その洗浄性能は必ずしも十分とはいえず、ピッチと保護膜、特に塩化ビニル系保護膜の両方に十分な洗浄力を持たせることが難しい。 However, although the detergent compositions (1) and (2) are excellent in the solubility of wax pitch, it cannot be said that the dissolution and removal properties of other asphalt pitches and resin-based protective films are sufficient. In addition, the cleaning agent (3) can dissolve and remove only asphalt pitch and a part of the resin-based protective film, and the aromatic compounds used as its components have environmental problems and effects on the human body. There is a problem with the aspect, and there is a problem that the odor is strong. In addition, the cleaning agent (4) exhibits good removal performance for fixing agents such as wax pitch and asphalt pitch, and phenolic and acrylic protective films, but the cleaning performance is not always sufficient. Therefore, it is difficult to give sufficient cleaning power to both the pitch and the protective film, particularly the vinyl chloride protective film.
そこで、本発明は、ピッチ及びフェノール系、アクリル系、塩化ビニル系保護膜の全てに対して十分な能力を持つ洗浄剤を提供することを目的とする。 Then, an object of this invention is to provide the cleaning agent which has sufficient capability with respect to all of pitch, a phenol type, an acrylic type, and a vinyl chloride type protective film.
本発明者等は、上記課題を解決すべく鋭意検討を行なった。その結果、アルキレングリコールアルキルエーテルとパラフィン系溶媒と特定の環状化合物を一定割合で混合した場合、ピッチ、フェノール系保護膜、アクリル系保護膜、塩化ビニル系保護膜の全ての汚れに対して所期の目的を達成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have intensively studied to solve the above problems. As a result, when an alkylene glycol alkyl ether, a paraffinic solvent and a specific cyclic compound are mixed in a certain ratio, all the dirt of pitch, phenolic protective film, acrylic protective film, and vinyl chloride protective film are expected. The inventors have found that the object can be achieved and have completed the present invention.
即ち、第一の本発明は、
（Ｉ） 下記式
Ｒ１−（Ｏ−ＣｎＨ２ｎ）ｍ−Ｏ−Ｒ２
（式中、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であり、ｍは１〜３の整数であり、ｎは２又は３である。）
で表されるアルキレングリコールアルキルエーテル２４〜７５質量％、
（II） 炭素数１０〜１５のパラフィン系溶媒２４〜７５質量％、および
（III） 下記式
That is, the first invention is
(I) the following formula R 1 - (O-C n H 2n) m -O-R 2
(In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, m is an integer of 1 to 3, and n is 2 or 3) .)
24 to 75% by mass of an alkylene glycol alkyl ether represented by
(II) 24 to 75% by mass of a paraffinic solvent having 10 to 15 carbon atoms, and (III)
（式中、Ｒ３はＯまたはＣＨ２であり、Ｒ４は置換基を有してもよいアルキレン基である。）
で表される環状化合物（以下、単に環状化合物ともいう。）１〜３０質量％
からなることを特徴とする洗浄剤用組成物である。
(In the formula, R 3 is O or CH 2 and R 4 is an alkylene group which may have a substituent.)
1 to 30% by mass (hereinafter also referred to simply as a cyclic compound)
It is a composition for cleaning agents characterized by comprising.
また、第二の本発明は、上記組成物を主成分とする洗浄剤であり、第三の本発明は、少なくとも２つの主表面を有する光学基材を基材保持台に固定剤を用いて固定する基材固定工程、基材保持台に固定された前記光学基材の露出した主表面を研磨する研磨工程、洗浄剤を用いて前記固定剤を除去することにより研磨された基材と基材保持台とを分離する基材分離工程を含む光学物品の製造方法において、前記洗浄剤として該本発明の洗浄剤を使用することを特徴とする光学物品の製造方法である。 The second aspect of the present invention is a cleaning agent comprising the above composition as a main component, and the third aspect of the present invention uses an optical base material having at least two main surfaces as a base material holding table with a fixing agent. A base material fixing step for fixing, a polishing step for polishing the exposed main surface of the optical base material fixed to a base material holder, a base material and a base polished by removing the fixing agent using a cleaning agent In the manufacturing method of the optical article including the base material separation process which isolate | separates from a material holding stand, it is the manufacturing method of the optical article characterized by using the cleaning agent of this invention as said cleaning agent.
なお、該本発明の製造方法においては、前記基材固定工程において光学基材として保護膜で被覆された少なくとも１つの主表面と保護膜で被覆されない少なくとも１つの主表面を有する光学基材を用い、前記研磨工程で、保護膜で被覆されていない少なくとも１つの主表面を研磨し、前記基材分離工程において前記固定剤と共に前記保護膜を除去することもできる。 In the production method of the present invention, an optical substrate having at least one main surface coated with a protective film and at least one main surface not coated with a protective film is used as an optical substrate in the substrate fixing step. In the polishing step, at least one main surface not covered with the protective film may be polished, and the protective film may be removed together with the fixing agent in the base material separating step.
本発明の洗浄剤用組成物は、研磨工程で使用する固定剤及びマスキング剤塗膜（保護膜）に対する洗浄性が極めて高く、短い洗浄時間で十分な洗浄効果を得ることができる。したがって、本発明の組成物を主成分とする洗浄剤を使用することによりレンズ等の光学物品を低コスト及び高効率で製造することが可能となる。 The cleaning composition of the present invention has extremely high cleaning properties for the fixing agent and the masking agent coating film (protective film) used in the polishing step, and a sufficient cleaning effect can be obtained in a short cleaning time. Accordingly, it becomes possible to produce an optical article such as a lens at low cost and high efficiency by using the cleaning agent mainly composed of the composition of the present invention.
本発明の洗浄剤用組成物は、特定のアルキレングリコールアルキルエーテル２４〜７５質量％及び炭素数１０〜１５のパラフィン系溶媒２４〜７５質量％および前記式で示される環状化合物１〜３０質量％からなる。三者を特定の割合で含むことにより、相乗効果が生まれ夫々単独の洗浄力をからは予想できない洗浄力を得ることができる（具体的には前記各種保護膜及び固定剤のいずれに対しても高い洗浄力を得ることができる）。洗浄力の高さの観点から上記アルキレングリコールアルキルエーテルの含有割合は２５〜７０質量％であり、上記パラフィン系溶媒の含有割合は２５〜７０質量％、前記式で示される環状化合物５〜３０質量％であるのが好適である。なお、環状化合物の割合が３０重量％を超える場合には、組成物が相分離を起こすようになり、これを洗浄剤として用いた場合には洗浄槽内の液成分が不均一となるために洗浄ムラが発生する。 The composition for a cleaning agent of the present invention comprises 24 to 75% by mass of a specific alkylene glycol alkyl ether, 24 to 75% by mass of a paraffinic solvent having 10 to 15 carbon atoms, and 1 to 30% by mass of a cyclic compound represented by the above formula. Become. By including the three components in a specific ratio, a synergistic effect is produced, and a detergency that cannot be predicted from a single detergency can be obtained (specifically, for any of the various protective films and fixatives). High detergency can be obtained). From the viewpoint of high detergency, the content of the alkylene glycol alkyl ether is 25 to 70 mass%, the content of the paraffinic solvent is 25 to 70 mass%, and the cyclic compound represented by the above formula is 5 to 30 mass%. % Is preferred. When the ratio of the cyclic compound exceeds 30% by weight, the composition will undergo phase separation, and when this is used as a cleaning agent, the liquid components in the cleaning tank become non-uniform. Uneven cleaning occurs.
本発明の組成物の第一の成分であるアルキレングリコールアルキルエーテルは、下記式で表される。 The alkylene glycol alkyl ether which is the first component of the composition of the present invention is represented by the following formula.
Ｒ１−（Ｏ−ＣｎＨ２ｎ）ｍ−Ｏ−Ｒ２
上記式において、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基を意味し、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を意味する。Ｒ１又はＲ２としての炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、２−ブチル基およびｔ−ブチル基を挙げることができる。また、ｍは１〜３の整数であり、ｎは２又は３である。
R 1 - (O-C n H 2n) m -O-R 2
In the above formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms as R 1 or R 2 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a 2-butyl group, and a t-butyl group. M is an integer of 1 to 3, and n is 2 or 3.
本発明で好適に使用できる前記式で示されるアルキレングリコールアルキルエーテルを例示すればモノプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、モノプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテル、モノプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、モノエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、モノエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、モノエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等のアルキレングリコールモノアルキルエーテル；プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等のアルキレングリコールジアルキルエーテルを挙げることができる。これらアルキレングリコールアルキルエーテルは単独で用いてもよいし、異なる種類のものを複数混合して用いてもよい。 Examples of the alkylene glycol alkyl ether represented by the above formula that can be suitably used in the present invention include monopropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, monopropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monopropyl. Ether, tripropylene glycol monopropyl ether, monopropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether, monoethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, monoethylene glycol monopropyl ether, Diethylene glycol Alkylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol Examples include alkylene glycol dialkyl ethers such as dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether. These alkylene glycol alkyl ethers may be used alone or in combination with a plurality of different types.
高洗浄力と低毒性、取扱の容易な物性の観点から、これらの中でも（１）プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル及びトリエチレングリコールジメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルキレングリコールジアルキルエーテルを含有するもの、又は（２）ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル及びトリエチレングリコールジメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルキレングリコールジアルキルエーテル又は（３）当該（２）のアルキレングリコールジアルキルエーテル並びに、モノプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、モノプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテル、モノプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル及びトリプロピレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルキレングリコールモノアルキルエーテルを含有するものであるのが好適である。特に前記（２）及び（３）においてジアルキルエーテルの含有割合が３０〜１００質量％であるもの、中でもジプロピレングリコールジメチルエーテル３０〜１００質量％及びジプロピレングリコールモノメチルエーテル０〜７０質量％からなるのものが特に好適である。 Among these, from the viewpoint of high detergency, low toxicity, and easy-to-handle physical properties, among these, (1) at least one alkylene glycol dialkyl ether selected from the group consisting of propylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether and triethylene glycol dimethyl ether is used. Or (2) at least one alkylene glycol dialkyl ether selected from the group consisting of dipropylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether and triethylene glycol dimethyl ether, or (3) the alkylene glycol dialkyl ether of (2) , Monopropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol At least one selected from the group consisting of methyl ether, monopropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, tripropylene glycol monopropyl ether, monopropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether and tripropylene glycol monobutyl ether It is preferable to contain an alkylene glycol monoalkyl ether. In particular, in the above (2) and (3), the dialkyl ether content is 30 to 100% by mass, and in particular, it is composed of 30 to 100% by mass of dipropylene glycol dimethyl ether and 0 to 70% by mass of dipropylene glycol monomethyl ether Is particularly preferred.
本発明の組成物の第二の成分である炭素数１０〜１５のパラフィン系溶媒としては、このような条件を満足するものであれば特に限定されず、ノルマルパラフィン系、イソパラフィン系、シクロパラフィン系の各種溶媒が使用できるが、各汚染物質に対する溶解力の点からシクロパラフィン系を用いるのが特に好適であり、簡便な洗浄装置を使用することができるという観点から「沸点が１８０℃〜２５０℃である炭素数１０〜１５のシクロパラフィン」を使用するのが好適である。シクロパラフィンでも炭素数が１０未満のものを使用した場合は引火点の低下によって取り扱いに注意が必要となり、沸点の低下による放散量の増加による作業環境の悪化や液組成の変化が無視できなくなる。また、炭素数が１５を越えるものを使用した場合には汚染物質除去能力が低下する。 The paraffinic solvent having 10 to 15 carbon atoms, which is the second component of the composition of the present invention, is not particularly limited as long as it satisfies such conditions, and is a normal paraffinic, isoparaffinic, or cycloparaffinic one. However, it is particularly preferable to use a cycloparaffin type from the viewpoint of the dissolving power with respect to each pollutant. From the viewpoint that a simple washing apparatus can be used, “boiling point is 180 ° C. to 250 ° C. It is preferable to use a cycloparaffin having 10 to 15 carbon atoms. When a cycloparaffin having a carbon number of less than 10 is used, it is necessary to be careful in handling due to a decrease in the flash point, and the deterioration of the working environment and the change in the liquid composition due to the increase in the amount of emission due to the decrease in the boiling point cannot be ignored. In addition, when a material having more than 15 carbon atoms is used, the ability to remove contaminants decreases.
本発明で好適に使用できるパラフィン系溶媒を具体的に例示すればシクロデカン、シクロウンデカン、シクロドデカン等を挙げることがでる。これらは単独で用いてもよいし、異なる種類のものを複数混合して用いてもよい。 Specific examples of paraffinic solvents that can be suitably used in the present invention include cyclodecane, cycloundecane, and cyclododecane. These may be used alone, or a plurality of different types may be mixed and used.
第三の成分である環状化合物は、下記式で示される。 The cyclic compound as the third component is represented by the following formula.
上記式中、基−Ｒ３−は、−Ｏ−または−ＣＨ２−を意味する。また、Ｒ４は置換基を有してもよいアルキレン基を意味する。当該置換基を有していてもよいアルキレン基を例示すれば、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−等を挙げることができる。 In the above formula, the group —R 3 — means —O— or —CH 2 —. R 4 means an alkylene group which may have a substituent. To exemplify alkylene group which may have the substituent, -CH 2 -, - CH ( CH 3) -, - CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH (CH 3) -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH (CH 2 CH 2 CH 3 ) — and the like can be mentioned.
前記式で示される環状化合物のうち、好適なものを具体的に例示すれば、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン等のラクトン；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、グルタリックアンヒドライド、メチルグルタリックアンヒドライド、グリセロール１，２−カーボネート等の環状カーボネート；を挙げることができる。これらの中でもラクトンが好ましく、洗浄力や安全性、入手の容易さの観点から、ε−カプロラクトンが特に好ましい。 Specific examples of preferred cyclic compounds represented by the above formula include lactones such as β-propiolactone, γ-butyrolactone, δ-valerolactone, ε-caprolactone, and hydroxy-γ-butyrolactone; ethylene And cyclic carbonates such as carbonate, propylene carbonate, glutaric anhydride, methyl glutaric anhydride, and glycerol 1,2-carbonate. Among these, lactone is preferable, and ε-caprolactone is particularly preferable from the viewpoints of detergency, safety, and availability.
本発明の洗浄用組成物は、光学レンズの製造方法のように、少なくとも２つの主表面を有する光学基材を基材保持台に固定剤を用いて固定する基材固定工程、基材保持台に固定された前記光学基材の露出した主表面を研磨する研磨工程、洗浄剤を用いて前記固定剤を除去することにより研磨された基材と基材保持台とを分離する基材分離工程を含む光学物品の製造方法において、前記基材分離工程で使用する洗浄剤用の組成物として好適に使用できる。 The cleaning composition of the present invention comprises a base material fixing step for fixing an optical base material having at least two main surfaces to a base material holder using a fixing agent, as in the method for producing an optical lens, A polishing step for polishing the exposed main surface of the optical substrate fixed to the substrate, and a substrate separation step for separating the substrate that has been polished by removing the fixing agent using a cleaning agent and the substrate holder Can be suitably used as a composition for a cleaning agent used in the substrate separation step.
ここで光学基材とは光学レンズやプリズム等の光学物品の材料となるガラス、石英等の透光性材料で構成される基板やブロック等を意味する。また、固定剤としてはワックスピッチ、アスファルトピッチ、松やに及び蜜蝋を挙げることができる。また、上記分離工程で洗浄剤を用いて研磨された基材と基材保持台とを分離するためには、洗浄槽に導入された洗浄剤に固定剤により接合された基材及び基材保持台を浸漬し、必要に応じて超音波を用いて洗浄をすればよい。本発明の洗浄剤は固定剤や保護膜となる各種成分に対する洗浄力が極めて高いので、短時間で両者をきれいに分離することができる。 Here, the optical base material means a substrate, a block, or the like made of a light-transmitting material such as glass or quartz, which is a material of an optical article such as an optical lens or a prism. Examples of the fixing agent include wax pitch, asphalt pitch, pine nuts and beeswax. In addition, in order to separate the substrate polished with the cleaning agent and the substrate holding table in the separation step, the substrate and the substrate holding bonded to the cleaning agent introduced into the cleaning tank by the fixing agent. What is necessary is just to immerse a stand and to wash | clean using an ultrasonic wave as needed. Since the cleaning agent of the present invention has a very high cleaning power for various components that serve as a fixing agent and a protective film, both can be separated cleanly in a short time.
なお、上記のような光学物品の製造方法においては、光学物品が光学レンズやプリズムのように研磨する面を２以上有する場合には、一つの面を研磨後、他の面を研磨するときに研磨済みの面を傷つけないために研磨済みの面を保護膜で被覆することが一般に行なわれている。この場合、他の面の研磨も上記基材固定工程、研磨工程及び基材分離工程を経て行なわれるが、前記基材分離工程において固定剤と共に保護膜を除去することもできる。ここで、保護膜とは、マスキング剤を塗布して形成されるフェノール系樹脂、アクリル系樹脂又は塩化ビニル系樹脂からなる樹脂膜を意味する。本発明の洗浄剤は、固定剤だけでなくこのような保護膜に対する洗浄力も高い。従って、このような製造方法における基材分離工程では基材と基材保持台をきれいに分離すると同時に保護膜の除去も合わせて行なうことができる。 In the method of manufacturing an optical article as described above, when the optical article has two or more surfaces to be polished like an optical lens or a prism, after polishing one surface, the other surface is polished. In order not to damage the polished surface, it is generally performed to coat the polished surface with a protective film. In this case, the other surface is also polished through the base material fixing step, the polishing step, and the base material separation step. In the base material separation step, the protective film can be removed together with the fixing agent. Here, the protective film means a resin film made of a phenol resin, an acrylic resin, or a vinyl chloride resin formed by applying a masking agent. The cleaning agent of the present invention has a high cleaning power for such a protective film as well as the fixing agent. Therefore, in the base material separation step in such a manufacturing method, the base material and the base material holder can be separated cleanly and at the same time, the protective film can be removed.
本発明の洗浄剤用組成物を上記のような基材分離工程で使用する洗浄剤として使用する場合、本発明の洗浄剤組成物をそのまま洗浄剤として使用することができるが、洗浄力を高めるための成分を添加することもできる。このような成分としてはアルコール、ケトン、エーテル等の含酸素有機溶剤、界面活性剤等を挙げることができる。これら成分の添加量は特に限定されるものではないが、本発明の洗浄用組成物の特性が十分に発揮できるという観点から、１０質量％以下、特に５質量％以下であるのが好適である。なお、界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、両性界面活性剤いずれでもよいが疎水性の強い界面活性剤を使用するのが望ましい。好ましくは非イオン界面活性剤であり、例えば、高級アルコール類のアルキレンオキサイド付加物、アルキルフェニルエーテルのアルキレンオキサイド付加物や脂肪酸のアルキレンオキサイド付加物等が挙げられる。 When the cleaning composition of the present invention is used as a cleaning agent used in the base material separation process as described above, the cleaning composition of the present invention can be used as a cleaning agent as it is, but the cleaning power is increased. Ingredients can also be added. Examples of such components include oxygen-containing organic solvents such as alcohol, ketone, and ether, and surfactants. The addition amount of these components is not particularly limited, but it is preferably 10% by mass or less, particularly 5% by mass or less from the viewpoint that the characteristics of the cleaning composition of the present invention can be sufficiently exhibited. . The surfactant may be any of a nonionic surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant, and an amphoteric surfactant, but it is desirable to use a highly hydrophobic surfactant. . Nonionic surfactants are preferred, and examples thereof include alkylene oxide adducts of higher alcohols, alkylene oxide adducts of alkylphenyl ethers, and alkylene oxide adducts of fatty acids.
以上、光学物品を製造する際に使用する場合を例に本発明の洗浄剤について説明したが、本発明の洗浄剤の用途はこれに限定されものではなく、例えばピッチ、ワックスによりジグ（治具）に固定して研磨する機械部品や電子部品の研磨後の洗浄、樹脂塗布用マスク、ジグ類の洗浄等、同様の汚染物質を取り除くための洗浄剤としても好適に使用することができる。 As described above, the cleaning agent of the present invention has been described by taking as an example the case of using the optical article, but the use of the cleaning agent of the present invention is not limited to this. It can also be suitably used as a cleaning agent for removing similar pollutants such as cleaning after polishing of mechanical parts and electronic parts fixed on the surface and polishing, resin coating mask, jigs and the like.
以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、各実施例及び比較例で使用する有機溶剤の略号は、夫々以下の化合物を意味する。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples. In addition, the symbol of the organic solvent used by each Example and a comparative example means the following compounds, respectively.
（１）アルキレングリコールアルキルエーテル
PGME：プロピレングリコールモノメチルエーテル
DPGME：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル
DPGDME：ジプロピレングリコールジメチルエーテル
DPGMEＥ：ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル
（２）炭化水素系溶剤
TPS-3200：株式会社トクヤマ製 シクロパラフィン系炭化水素洗浄剤 TPS-3200
CnH2n ｎ＝１１〜１３ 引火点 ７４℃
TPS-1150：株式会社トクヤマ製 イソパラフィン系炭化水素洗浄剤 TPS-1150
CnH2n＋２ ｎ＝９〜１４ 引火点 ７１℃
TPS-2250：株式会社トクヤマ製 ノルマルパラフィン系炭化水素洗浄剤 TPS-2250
CnH2n＋２ ｎ＝１０〜１４ 引火点 ５２．５℃。
(1) Alkylene glycol alkyl ether
PGME: Propylene glycol monomethyl ether
DPGME: Dipropylene glycol monomethyl ether
DPGDME: Dipropylene glycol dimethyl ether
DPGMEE: Dipropylene glycol methyl ethyl ether (2) Hydrocarbon solvents
TPS-3200: Tokuyama Co., Ltd. cycloparaffin hydrocarbon cleaner TPS-3200
C n H 2n n = 11-13 Flash point 74 ° C.
TPS-1150: Isoparaffinic hydrocarbon cleaner TPS-1150 manufactured by Tokuyama Corporation
C n H 2n + 2 n = 9-14 Flash point 71 ° C
TPS-2250: Normal paraffinic hydrocarbon cleaner TPS-2250 manufactured by Tokuyama Corporation
C n H 2n + 2 n = 10~14 flash point 52.5 ° C..
実施例１〜６及び比較例１〜６
表１および表2に示す各組成の洗浄剤を用い各種除去対象物質｛洗浄対象物質：ココノエ研磨用ピッチ 級別Ｋ級 No８（九重電気株式会社製）（以下、「ピッチK-8」と略記する）、保護膜 ＬＧ＃８８ ブラック（カナエ塗料株式会社）（以下、「保護膜８８」と略記する）、ビニローゼ（塩化ビニル系塗料 大日本塗料株式会社製）、スーパーコート＃４（九重電気株式会社製 以下、「スーパーコート」と略記する）｝に対する溶解性評価を行なった。評価は、２５℃に保たれた各洗浄剤に除去対象物質を少量入れ、５分間静置した際の溶解性を目視により確認することにより行なった。なお、除去対象物質が保護膜であるものは評価用レンズに塗布後１日乾燥させたものを使用している。
Examples 1-6 and Comparative Examples 1-6
Various substances to be removed using cleaning agents having the compositions shown in Table 1 and Table 2 {Substances to be cleaned: Kokonoe polishing pitches, grade K class No8 (manufactured by Kuju Electric Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as "pitch K-8") ), Protective film LG # 88 black (Kanae Paint Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “protective film 88”), vinylose (vinyl chloride paint, Dainippon Paint Co., Ltd.), Supercoat # 4 (Kuju Electric Co., Ltd.) Hereinafter, solubility evaluation for “abbreviated as“ super coat ”)} was performed. The evaluation was performed by visually checking the solubility when a small amount of a substance to be removed was put in each cleaning agent kept at 25 ° C. and left to stand for 5 minutes. In addition, the thing used as the removal target substance which is a protective film uses the thing dried for one day after apply | coating to the lens for evaluation.
なお、これら表における評価基準は次のとおりである。 The evaluation criteria in these tables are as follows.
〔溶解性〕
ピッチK-8、リセスワックス、シフトワックスに対して５分間の静置で
５：完全に溶解できたもの
４：ほぼ溶解できたが、僅かに残りのみられるもの
３：量は減少しているが、完全に残っているもの（残存率５０％未満）
２：量は減少しているが、完全に残っているもの（残存率５０％以上）
１：ほぼそのまま残っているもの
保護膜に対して５分間の静置後に
５：拭き取ることなく全て除去できたもの
４：軽く拭き取ることで、全て除去できたもの
３：拭き取り後のレンズ表面に目視で確認困難な極僅かの保護膜残りがあるもの
２：拭き取り後のレンズ表面に目視で確認できる少量の保護膜残りがあるもの
１：除去が不十分なもの。
[Solubility]
Pitch K-8, recess wax and shift wax after standing for 5 minutes 5: completely dissolved 4: almost dissolved, but remaining a little 3: amount decreased , Completely remaining (remaining rate less than 50%)
2: The amount has decreased, but remains completely (remaining rate of 50% or more)
1: What remains almost as it is After standing for 5 minutes against the protective film 5: All that could be removed without wiping 4: All that could be removed by wiping lightly 3: Visually observed on the lens surface after wiping 2. There is a very little protective film residue that is difficult to confirm. 2: There is a small amount of protective film residue that can be visually confirmed on the lens surface after wiping. 1: Insufficient removal.
〔相溶性〕：洗浄剤組成物が均一相を形成するか否かの指標
○：各成分が相溶し、汚れが混入しても相分離が起こらないもの
△：各成分は相溶するが、一定の汚れが多量に混入すると相分離することがあるもの
×：各成分が相溶せず、均一相とならないもの
結果を表１及び２に示す。
[Compatibility]: Indicator of whether or not the detergent composition forms a homogeneous phase. ○: Each component is compatible and no phase separation occurs even if dirt is mixed. Δ: Each component is compatible. When a certain amount of dirt is mixed, the phase may be separated. X: Each component is not compatible and does not become a uniform phase. The results are shown in Tables 1 and 2.
表１に示されるように本発明の洗浄剤を用いた実施例１〜６においては、全ての除去対象物質に対して高い洗浄力が得られている。これに対し、環状化合物を含まず、パラフィン系溶媒の含有率が本発明で規定する範囲より高く、且つアルキレングリコールアルキルエーテルの含有率が本発明で規定する範囲より低い場合（比較例１〜３）には、ワックスや保護膜に対する洗浄力が低くなっている。また、環状化合物を含まず、パラフィン系溶媒の含有率が本発明で規定する範囲より低く、且つアルキレングリコールアルキルエーテルの含有率が本発明で規定する範囲より高い場合（比較例４）には、ピッチに対する洗浄力が低下している。さらに、パラフィン系溶媒及びルキレングリコールアルキルエーテルの含有率が本発明で規定する範囲内であっても環状化合物を含まない場合（比較例５）にはビニローゼとピッチに対する溶解力が共に不足している。また、環状化合物の含有割合が本発明で規定する範囲より高くなると、洗浄剤は均一組成を形成しなくなる（比較例６）。
As shown in Table 1, in Examples 1 to 6 using the cleaning agent of the present invention, high cleaning power was obtained for all the substances to be removed. On the other hand, when a cyclic compound is not included, the content of the paraffinic solvent is higher than the range specified in the present invention, and the content of the alkylene glycol alkyl ether is lower than the range specified in the present invention (Comparative Examples 1 to 3). ) Has low detergency against wax and protective film. In the case where the cyclic compound is not included, the content of the paraffinic solvent is lower than the range specified in the present invention, and the content of the alkylene glycol alkyl ether is higher than the range specified in the present invention (Comparative Example 4), Detergency against pitch is reduced. Further, even when the content ratio of the paraffinic solvent and the ruxylene glycol alkyl ether is within the range specified in the present invention, when the cyclic compound is not included (Comparative Example 5), both the solvent for vinylose and pitch are insufficient. Yes. Moreover, when the content rate of a cyclic compound becomes higher than the range prescribed | regulated by this invention, a cleaning agent will not form a uniform composition (comparative example 6).
Claims (4)
Ｒ１−（Ｏ−ＣｎＨ２ｎ）ｍ−Ｏ−Ｒ２
（式中、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であり、ｍは１〜３の整数であり、ｎは２又は３である。）
で表されるアルキレングリコールアルキルエーテル２４〜７５質量％、炭素数１０〜１５のパラフィン系溶媒２４〜７５質量％、および下記式
で表される環状化合物１〜３０質量％からなることを特徴とする洗浄剤用組成物。 The following formula: R 1 — (O—C n H 2n ) m —O—R 2
(In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, m is an integer of 1 to 3, and n is 2 or 3) .)
24 to 75% by mass of an alkylene glycol alkyl ether represented by the formula, 24 to 75% by mass of a C10-15 paraffin solvent, and
The composition for cleaning agents characterized by consisting of 1-30 mass% of cyclic compounds represented by these.
An optical substrate having at least one main surface coated with a protective film as an optical substrate in the substrate fixing step and at least one main surface not coated with a protective film is used, and is coated with a protective film in the polishing step. The method according to claim 3, wherein at least one main surface that is not polished is polished, and the protective film is removed together with the fixing agent in the base material separation step.
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