JPH09181452A - Multilayer printed wiring board manufacturing method - Google Patents

Multilayer printed wiring board manufacturing method

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JPH09181452A
JPH09181452A JP33756595A JP33756595A JPH09181452A JP H09181452 A JPH09181452 A JP H09181452A JP 33756595 A JP33756595 A JP 33756595A JP 33756595 A JP33756595 A JP 33756595A JP H09181452 A JPH09181452 A JP H09181452A
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JP
Japan
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resin
metal foil
wiring board
printed wiring
multilayer printed
Prior art date
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Pending
Application number
JP33756595A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shingo Yoshioka
慎悟 吉岡
Katsuhiko Ito
克彦 伊藤
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
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Publication of JPH09181452A publication Critical patent/JPH09181452A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the connection reliability and productivity by ensuring an electric conduction between upper and lower layers. SOLUTION: A multilayer printed wiring board manufacturing method comprises previously forming protrudent conductive parts 4 at positions to ensure electric conduction between layers on the surface of an inner layer sheet 3 having a wiring pattern 2 and laminating and forming metal foils 6 through insulating layers so that the conductive parts 4 pierce the insulation layers to ensure the interlayer electric conduction wherein the metal foil 6 is coated with a thermosetting resin at the B-stage state at which the resin is molten at a high temp., to form an insulation film, thereby forming a resin-coated metal foil 5 which is then formed on the sheet 3 having the conductive parts 4.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多層プリント配線
板の製造方法、詳しくは、多層プリント配線板の層間接
続を行う導電路を形成する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, and more particularly, to a method of forming a conductive path for making an interlayer connection of a multilayer printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の多層プリント配線板の製造方法で
は、ドリル加工によりスルーホールを形成し、このスル
ーホールにめっきを施して層間の電気的接続用の導電路
を形成する方法が一般的であった。しかしながら、高密
度化を達成するために、スルーホールではなくビアホー
ルと呼ばれる非貫通の経由穴を層間に形成し、この経由
穴に導電性物質を付与して層間の電気的接続用の導電路
を形成する方法が近年広く利用されている。
2. Description of the Related Art In a conventional method of manufacturing a multilayer printed wiring board, a method is generally used in which a through hole is formed by drilling, and the through hole is plated to form a conductive path for electrical connection between layers. there were. However, in order to achieve higher densities, non-through via holes called via holes are formed between the layers instead of through holes, and a conductive substance is applied to the via holes to form conductive paths for electrical connection between the layers. The forming method has been widely used in recent years.

【0003】この非貫通の経由穴を形成する加工方法の
1つとしては、経由穴を形成する位置の金属箔を除去
し、次いで、熱硬化性樹脂層に経由穴をCO2 レーザー
加工により形成するコンホーマルマスクレーザー法と呼
ばれる方法がある。
As one of the processing methods for forming the non-penetrating via hole, a metal foil at a position where the via hole is to be formed is removed, and then the via hole is formed in the thermosetting resin layer by CO 2 laser processing. There is a method called a conformal mask laser method.

【0004】このレーザー加工により穴明けを行う方法
として、例えば、特開昭58−64097号に開示され
ているように、配線パターンが形成された内層用基板の
表面に、熱硬化性樹脂層を介して金属箔を接着し、次い
で経由穴を形成する位置の金属箔を除去し、露出した熱
硬化性樹脂層に経由穴をレーザ加工で穴明けをする方法
がある。
As a method of making a hole by the laser processing, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-64097, a thermosetting resin layer is formed on the surface of an inner layer substrate on which a wiring pattern is formed. There is a method in which a metal foil is adhered to the via hole, the metal foil at a position where the via hole is to be formed is removed, and the via hole is formed in the exposed thermosetting resin layer by laser processing.

【0005】これはレーザー光が内層に埋設された金属
層の反射率が高いことを利用して、熱硬化性樹脂だけを
レーザーで除去し、非貫通の経由孔を形成するものであ
る。この方法によると、穴明けはレーザーにより一穴づ
つ明けられ、製造コストおよび加工所要時間が膨大なも
のになる。
In this technique, only the thermosetting resin is removed by a laser by utilizing the high reflectance of a metal layer embedded in an inner layer of a laser beam, and a non-penetrating via hole is formed. According to this method, the holes are drilled one by one by a laser, and the production cost and the processing time are enormous.

【0006】また、上層と下層の電気的接続を行う導電
路の形成は、上記レーザーにより明けられた経由穴をパ
ネルメッキすることにより得られる。この時に経由穴の
みならず表面の金属箔上にもメッキが析出し、表面金属
箔の厚さを増大させることになり、金属箔に微細回路を
形成する妨げとなる。
A conductive path for electrically connecting the upper and lower layers can be formed by panel plating of the via hole formed by the laser. At this time, plating is deposited not only on the via holes but also on the surface metal foil, which increases the thickness of the surface metal foil and hinders formation of a fine circuit in the metal foil.

【0007】また、この非貫通の経由穴を形成する加工
方法を合理化し、また、経由穴の形成と同時に経由穴の
電気的接続を図るためのパネルメッキを省略して、結果
として表面の金属箔上へのメッキ析出による表面銅厚さ
の増大を回避する方法として、例えば、第9回回路実装
学術講演大会「新工法(B2it)によるプリント配線板
の提案」に紹介されているように、経由穴を形成する位
置に対応する内層用基板の表面に、予め、凸状の導電性
バンプを形成し、ガラス基材にエポキシ樹脂を含浸した
ガラスエポキシプリプレグを介して金属箔と積層成形
し、導電性バンプがガラスエポキシプリプレグを貫通し
て、経由穴に代わる導電路の形成と上下層間の電気的接
続を図る方法がある。
In addition, the processing method for forming the non-penetrating via hole is rationalized, and panel plating for establishing electrical connection of the via hole at the same time as the formation of the via hole is omitted. as a method of avoiding an increase in the surface copper thickness by plating deposition on foils, e.g., 9th circuit mounting academic Lecture convention as introduced in "new method (B 2 it) proposed by the printed wiring board" On the surface of the inner layer substrate corresponding to the position where the via hole is to be formed, a convex conductive bump is formed in advance and laminated with a metal foil via a glass epoxy prepreg impregnated with epoxy resin on a glass base material However, there is a method in which a conductive bump penetrates through the glass epoxy prepreg to form a conductive path instead of a via hole and to electrically connect the upper and lower layers.

【0008】しかし、導電性バンプによる多層プリント
配線板の製造方法は工程数が少なくコストの低減は図り
やすいが、導電性バンプがガラスエポキシプリプレグを
貫通して導電路を形成する際、ガラスエポキシプリプレ
グを構成するガラス繊維の疎密により導電性バンプの貫
通にバラツキが生じ、上下層間の電気的接続の信頼性が
乏しくなる。さらに、上下層間の電気的接続を要する部
分は、ガラスエポキシプリプレグのガラス繊維を破断す
ることになり、多層成形の加熱加圧を行うと、プリプレ
グの破れが発生し、ボイドやふくれ等の不良が発生する
ことがある。
However, the method of manufacturing a multilayer printed wiring board using conductive bumps has a small number of steps and is easy to reduce the cost. However, when the conductive bumps penetrate the glass epoxy prepreg to form a conductive path, the glass epoxy prepreg does not have to be used. The variation in the density of the glass fibers that constitutes the above-mentioned structure causes variations in the penetration of the conductive bumps, and the reliability of the electrical connection between the upper and lower layers becomes poor. In addition, the portions that require electrical connection between the upper and lower layers will break the glass fibers of the glass epoxy prepreg, and when heating and pressing for multilayer molding, the prepreg will be broken and defects such as voids and blisters will occur. May occur.

【0009】また、この導電性バンプによる方法では、
例えば、プリプレグを構成する基材の厚さが200μm
程度の厚さとすると、このプリプレグを貫通する導電性
バンプの高さは200μm以上になり、このように形成
された導電性バンプの底面面積も大となり、微細回路形
成性を阻害する。
In the method using the conductive bumps,
For example, the thickness of the base material constituting the prepreg is 200 μm
When the thickness is of the order of magnitude, the height of the conductive bump penetrating this prepreg becomes 200 μm or more, and the bottom surface area of the conductive bump formed in this way also becomes large, impeding the formation of a fine circuit.

【0010】以上のように、導電性バンプによる方法は
工程数が少なくコストの低減は図りやすい反面、製品信
頼性及び製造性の両面において様々的接続の信頼性が低
下するとう問題があり、信頼性を向上し得る経由穴を形
成することができる方法が求められている。
As described above, the method using conductive bumps has a small number of steps and is easy to reduce the cost, but has a problem that the reliability of various connections is lowered in terms of both product reliability and manufacturability. There is a demand for a method capable of forming via holes that can improve the properties.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な事情に鑑みてなされたものであって、上下の層間の電
気的導通を確保し、接続信頼性が高く、かつ、製造性が
向上する多層プリント配線板の製造方法を提供すること
を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and ensures electrical conduction between upper and lower layers, has high connection reliability, and has high productivity. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a multilayer printed wiring board which is improved.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
多層プリント配線板の製造方法は、配線パターンが形成
された内層用基板の表面に、層間の電気的導通を図る位
置に予め凸状の導電性部を形成し、絶縁層を介して金属
箔を積層成形し、該凸状の導電性部が絶縁層を貫通して
層間の電気的導通を図ってなる多層プリント配線板の製
造方法において、上記金属箔に高温で溶融するBステー
ジ状態の熱硬化性樹脂を塗布して絶縁層を形成した樹脂
付き金属箔を形成し、前記凸状の導電性部が形成された
内層用基板とこの樹脂付き金属箔とを積層成形すること
を特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein a surface of an inner layer substrate having a wiring pattern is preliminarily projected at a position where electrical conduction between layers is intended. Of a multi-layer printed wiring board in which a conductive portion having a circular shape is formed, a metal foil is laminated and formed through an insulating layer, and the conductive portion having a convex shape penetrates the insulating layer to electrically connect the layers. In the method, a thermosetting resin in a B-stage state that melts at a high temperature is applied to the metal foil to form a resin-coated metal foil having an insulating layer formed thereon, and the inner layer substrate having the convex conductive portion formed therein. And the resin-coated metal foil are laminated and formed.

【0013】本発明の請求項2に係る多層プリント配線
板の製造方法は、配線パターンが形成された内層用基板
の表面に、層間の電気的導通を図る位置に予め凸状の導
電性部を形成し、絶縁層を介して金属箔を積層成形し、
該凸状の導電性部が絶縁層を貫通して層間の電気的導通
を図ってなる多層プリント配線板の製造方法において、
上記金属箔に高温で軟化する第1の樹脂層と低温で溶融
する第2の樹脂層を塗布して絶縁層を形成した樹脂付き
金属箔を形成し、前記凸状の導電性部が形成された内層
用基板と、この樹脂付き金属箔とを積層成形することを
特徴とする。
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to a second aspect of the present invention, convex conductive portions are previously formed on the surface of the inner layer substrate on which the wiring patterns are formed, at positions where electrical conduction between the layers is intended. Formed and laminated metal foil through the insulating layer,
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein the convex conductive portion penetrates an insulating layer to achieve electrical conduction between layers,
A first resin layer that softens at a high temperature and a second resin layer that melts at a low temperature are applied to the metal foil to form a resin-coated metal foil having an insulating layer, and the convex conductive portion is formed. The inner layer substrate and the resin-coated metal foil are laminated and formed.

【0014】本発明の請求項3に係る多層プリント配線
板の製造方法は、上記凸状の導電性部が金属ペースト及
び、又は金属成形体を使用して形成することを特徴とす
る。
A method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to a third aspect of the present invention is characterized in that the convex conductive portion is formed by using a metal paste and / or a metal molded body.

【0015】本発明の請求項4に係る多層プリント配線
板の製造方法は、上記金属ペースト及び、又は金属成形
体が、金、銀、銅の単体またはその合金で形成されてい
ることを特徴とする。
A method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to a fourth aspect of the present invention is characterized in that the metal paste and / or the metal molded body is formed of a simple substance of gold, silver or copper or an alloy thereof. To do.

【0016】本発明の請求項5に係る多層プリント配線
板の製造方法は、上記凸状の導電性部がハンダを使用し
て形成されていることを特徴とする。
A method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to a fifth aspect of the present invention is characterized in that the convex conductive portion is formed by using solder.

【0017】本発明の請求項6に係る多層プリント配線
板の製造方法は、上記凸状の導電性部の頂部に金メッキ
を施すことを特徴とする。
A method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to a sixth aspect of the present invention is characterized in that the top of the convex conductive portion is plated with gold.

【0018】本発明の請求項7に係る多層プリント配線
板の製造方法は、上記樹脂付き金属箔が、樹脂を塗布す
る面に金メッキを施し、その上に樹脂を塗布して形成さ
れていることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board, the resin-coated metal foil is formed by gold-plating a surface on which the resin is applied, and then applying the resin thereon. Is characterized by.

【0019】本発明の請求項8に係る多層プリント配線
板の製造方法は、上記樹脂付き金属箔を構成する樹脂層
が、異方導電性を有する樹脂組成物で構成されているこ
とを特徴とする。
The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 8 of the present invention is characterized in that the resin layer forming the resin-coated metal foil is formed of a resin composition having anisotropic conductivity. To do.

【0020】本発明の請求項9に係る多層プリント配線
板の製造方法は、上記請求項2記載の樹脂付き金属箔を
構成する第1の樹脂層が、異方導電性を有する樹脂組成
物で構成されていることを特徴とする。
In the method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 9 of the present invention, the first resin layer constituting the resin-coated metal foil according to claim 2 is a resin composition having anisotropic conductivity. It is characterized by being configured.

【0021】本発明の請求項10に係る多層プリント配
線板の製造方法は、上記異方導電性を有する樹脂組成物
が、グラファイト、ウィスカー、カーボン、及び、導電
性金属粒子等の導電性を有する粒子のいずれかを含有す
る樹脂組成物であることを特徴とする。
In the method for producing a multilayer printed wiring board according to a tenth aspect of the present invention, the resin composition having anisotropic conductivity has conductivity such as graphite, whiskers, carbon, and conductive metal particles. It is a resin composition containing any of the particles.

【0022】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】本発明に使用される配線パターン
が形成された内層用基板としては、例えば、ガラスエポ
キシ銅張積層板に回路を形成したもの等があり、配線パ
ターンには、粗化処理等の表面処理が施されていること
が接着性向上のため好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The inner layer substrate having a wiring pattern used in the present invention includes, for example, one having a circuit formed on a glass epoxy copper clad laminate, and the wiring pattern has a roughened surface. It is preferable that a surface treatment such as a treatment is applied in order to improve the adhesiveness.

【0024】また、配線パターンの上層との電気的接続
を必要とする位置に凸状の導電性部を形成する方法とし
ては、例えば、印刷法、ディップ法、ギャングボンディ
ング法、及び、振動振込装置等により形成することがで
きる。この凸状の導電性部は、頂部が尖った形状を有す
るもの、球状になったもの、平らになったもの等が使用
される。この凸状の導電性部は、金属ペースト、金属成
形体またはその合金で構成されているのが好ましく、導
電性材料として、金、銀、銅、半田等が使用されるのが
好ましい。
As a method of forming a convex conductive portion at a position requiring electrical connection with the upper layer of the wiring pattern, for example, a printing method, a dipping method, a gang bonding method, and a vibration transfer device are used. And the like. The convex conductive portion may have a pointed top, a spherical shape, a flat shape, or the like. The convex conductive portion is preferably composed of a metal paste, a metal molded body or an alloy thereof, and gold, silver, copper, solder or the like is preferably used as the conductive material.

【0025】さらに、上記凸状の導電性部の頂部に金メ
ッキを施すのが好ましく、この金メッキを施すことによ
り、積層成形した際に、導電性部の頂部が金属箔と当接
し、さらに、金属接合することが容易になり、接続信頼
性を向上することができる。
Further, it is preferable that the top of the convex conductive portion is plated with gold. By plating with gold, the top of the conductive portion comes into contact with the metal foil when laminated and formed, It becomes easy to join and the connection reliability can be improved.

【0026】また、本発明では、金属箔にBステージ状
の熱硬化性樹脂を塗布した樹脂付き金属箔を使用する。
この金属箔に塗布される熱硬化性樹脂層は、エポキシ樹
脂、イミド樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、
ポリフェニレンオキシド含有熱硬化性樹脂等の熱硬化性
樹脂で形成し、必要に応じて、無機粉末充填材等を含有
させたものが使用される。この熱硬化性樹脂層は、少な
くとも一層塗布されたものを使用する。
Further, in the present invention, a resin-coated metal foil in which a B-stage-shaped thermosetting resin is applied to the metal foil is used.
The thermosetting resin layer applied to this metal foil is an epoxy resin, an imide resin, a polyester resin, a phenol resin,
It is formed of a thermosetting resin such as a polyphenylene oxide-containing thermosetting resin, and if necessary, an inorganic powder filler or the like is used. As this thermosetting resin layer, one coated at least one layer is used.

【0027】上記熱硬化性樹脂を金属箔の表面に塗布す
る方法としては、コンマコーター、転写コーター、カー
テンコーター、により液状の熱硬化性樹脂ワニスを塗布
し、連続または非連続的に加熱乾燥半硬化してBステー
ジ化して形成する。
As a method for applying the above-mentioned thermosetting resin to the surface of the metal foil, a liquid thermosetting resin varnish is applied by a comma coater, a transfer coater or a curtain coater, and is continuously or discontinuously heated and dried. It is formed by curing and B-stage.

【0028】また、複数層塗布された熱硬化性樹脂層
は、それぞれ樹脂各層の軟化する温度を変えて塗布する
のが好ましく、金属箔側に近づくに従って、高温で軟化
することが好ましい。この熱硬化性樹脂層の軟化温度を
変える方法としては、各熱硬化性樹脂層を塗布する毎に
加熱する方法がある。このように、各樹脂層の軟化温度
を変えることにより、積層成形する際、凸状の導電性部
が容易に樹脂層を貫く事ができる。
The thermosetting resin layers applied in plural layers are preferably applied by changing the softening temperature of each resin layer. It is preferable that the thermosetting resin layers are softened at a high temperature as they approach the metal foil side. As a method of changing the softening temperature of the thermosetting resin layer, there is a method of heating each time the thermosetting resin layer is applied. In this way, by changing the softening temperature of each resin layer, the convex conductive portion can easily penetrate the resin layer at the time of laminate molding.

【0029】さらに、上記第1の樹脂層を構成する熱硬
化性樹脂組成物に、例えば、グラファイト、ウィスカ
ー、カーボン、及び、金、銀、銅等の導電性金属粒子等
の導電性を有する粒子を含有することが好ましく、この
ような導電性を有する粒子を含有することにより、積層
成形して凸状の導電性部が樹脂層を貫く際、上記導電性
を有する粒子が凸状の導電性部で金属箔面まで押し上げ
られ、金属箔と凸状の導電性部の電気接続を加担する。
Further, in the thermosetting resin composition constituting the first resin layer, particles having conductivity such as graphite, whiskers, carbon, and conductive metal particles such as gold, silver and copper are added. It is preferable to contain, by containing particles having such conductivity, when the conductive part having a convex shape through lamination molding penetrates the resin layer, the particle having the conductivity has a convex conductivity. The part is pushed up to the metal foil surface, and takes part in electrical connection between the metal foil and the convex conductive part.

【0030】また、熱硬化性樹脂を塗布する前の金属箔
の樹脂を塗布する面に、金メッキを施すと、積層成形し
た際に、導電性部の頂部がこの金メッキに当接し、金属
接合することが容易になり、接続信頼性を向上すること
ができる。
Further, when the resin-coated surface of the metal foil before the thermosetting resin is coated with gold, the top of the conductive portion comes into contact with the gold-plating and metal-bonds when laminated and molded. It becomes easier and the connection reliability can be improved.

【0031】上記のようにして形成した電気的接続を必
要とする位置に凸状の導電性部を形成した配線パターン
が形成された内層用基板と2層の樹脂層を形成した樹脂
付き金属箔を積層し加熱加圧プレスにて多層成形して、
さらに外層の回路形成を施し、仕上げ工程をほどこして
多層プリント配線板を得た。
An inner layer substrate having a wiring pattern formed with a convex conductive portion at a position requiring electrical connection formed as described above, and a resin-coated metal foil having two resin layers formed thereon. Are laminated and multi-layered by heating and pressing,
Further, an outer layer circuit was formed and a finishing process was performed to obtain a multilayer printed wiring board.

【0032】図1及び図2は、本発明の一実施例に係る
積層成形前の樹脂付き金属箔及び内層用基板の断面図で
ある。
1 and 2 are cross-sectional views of a resin-coated metal foil and an inner layer substrate before lamination molding according to an embodiment of the present invention.

【0033】図に示すごとく、本発明の多層プリント配
線板の製造方法では、まず、配線パターン2が表裏に形
成された内層用基板3を準備し、この内層用基板3の配
線パターン2の表面に、他の層と電気的接続を必要とす
る位置に凸状の導電性部4を形成する。
As shown in the figure, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, first, the inner layer substrate 3 having the wiring patterns 2 formed on the front and back sides is prepared, and the surface of the wiring pattern 2 of the inner layer substrate 3 is prepared. Then, the convex conductive portion 4 is formed at a position where electrical connection with other layers is required.

【0034】また、この内層用基板3の上下の面に重ね
合わせる樹脂付き金属箔5を準備する。この樹脂付き金
属箔5は、金属箔6の表面に、熱硬化性樹脂ワニスより
構成される第1の樹脂層7を塗布され、この第1の樹脂
層7の上に、熱硬化性樹脂ワニスより構成される第2の
樹脂層8が塗布されている。
Further, a resin-coated metal foil 5 to be laminated on the upper and lower surfaces of the inner layer substrate 3 is prepared. The resin-coated metal foil 5 has a surface of a metal foil 6 coated with a first resin layer 7 composed of a thermosetting resin varnish, and the thermosetting resin varnish is applied onto the first resin layer 7. The second resin layer 8 composed of is applied.

【0035】上記第1の樹脂層7を構成する熱硬化性樹
脂組成物は、上述したように、導電性を有する粒子を含
有するのが好ましい。
The thermosetting resin composition forming the first resin layer 7 preferably contains particles having conductivity as described above.

【0036】図2は、配線パターン2の表面に、凸状の
導電性部4を形成した内層用基板3は図1と同様だが、
この凸状の導電性部4の頂部に金メッキ9が施されてい
るものを使用している。また、樹脂付き金属箔5には、
第1の樹脂層7を塗布する前に、金属箔5に金メッキ1
0を施したものを使用した。
FIG. 2 shows the inner layer substrate 3 in which the convex conductive portions 4 are formed on the surface of the wiring pattern 2 as in FIG.
A gold plating 9 is applied to the top of the convex conductive portion 4. Also, the metal foil with resin 5
Before applying the first resin layer 7, the metal foil 5 is plated with gold 1
What was given 0 was used.

【0037】これらを被圧体1とし、積層成形を行う。
図3は、上記図1の内層用基板及び樹脂付き金属箔を積
層成形した断面図である。
These are used as the body to be pressed 1 and laminated molding is performed.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the inner layer substrate and the resin-coated metal foil of FIG. 1 laminated and molded.

【0038】図に示す如く、内層用基板3の配線パター
ン2の表面に形成された凸状の導電性部4が、樹脂付き
金属箔5に塗布された第1及び第2の樹脂層7、8を貫
き、金属箔6に接合し、導電路11を形成している。そ
して、表層の金属箔5に回路パターンを形成し、多層プ
リント配線板を形成する。
As shown in the figure, the convex conductive portion 4 formed on the surface of the wiring pattern 2 of the inner layer substrate 3 is coated with the resin-coated metal foil 5, and the first and second resin layers 7, 8 and is bonded to the metal foil 6 to form a conductive path 11. Then, a circuit pattern is formed on the surface metal foil 5 to form a multilayer printed wiring board.

【0039】[0039]

【実施例および比較例】以下、本発明を実施例及び比較
例に基づいて説明するが、これら実施例は、本発明を特
に限定するものではない。
EXAMPLES AND COMPARATIVE EXAMPLES The present invention is described below based on Examples and Comparative Examples, but these Examples do not limit the present invention in particular.

【0040】まず、FR−4タイプの両面銅張積層板
(積層板の厚み1.0mm、銅箔の厚み18μm)の一
方の面には配線パターンを形成し、他方の面には銅箔を
全面にわたってエッチングにより除去して、配線パター
ンが形成された内層用基板を作製し、この配線パターン
の表面に黒化処理といわれる表面処理を施した。
First, a wiring pattern is formed on one surface of a FR-4 type double-sided copper-clad laminate (laminate thickness 1.0 mm, copper foil thickness 18 μm), and a copper foil is formed on the other surface. The entire surface was removed by etching to prepare an inner layer substrate on which a wiring pattern was formed, and the surface of this wiring pattern was subjected to a surface treatment called blackening treatment.

【0041】そして、厚さ18μmの電気用電解銅箔
(古河サーキット社製:GT−18μm)に対してビス
フェノールA型エポキシ樹脂とジシアンジアミドを主成
分とする、FR−4タイプの積層板の製造に使用される
エポキシ樹脂ワニスを、コンマコーターを用いて、以下
の実施例に示す様に塗布、硬化して樹脂付き銅箔を形成
した。
Then, for the production of FR-4 type laminated plate containing a bisphenol A type epoxy resin and dicyandiamide as main components with respect to an electrolytic copper foil for electrical use (GT-18 μm manufactured by Furukawa Circuit Co., Ltd.) having a thickness of 18 μm. The epoxy resin varnish used was applied and cured using a comma coater as shown in the following examples to form a resin-coated copper foil.

【0042】さらに、前出の配線パターンが形成された
内層用基板の上層との電気的接続を要する位置に凸状の
導電性部を形成した。 (実施例1)樹脂付き銅箔は、乾燥後の厚さが50μm
となるようにエポキシ樹脂ワニスを塗工し、130℃、
20分乾燥して半硬化(Bステージ化)して形成した。
Further, a convex conductive portion was formed at a position requiring electrical connection with the upper layer of the inner layer substrate on which the above wiring pattern was formed. (Example 1) The resin-coated copper foil has a thickness after drying of 50 μm.
Epoxy resin varnish so that
It was dried for 20 minutes and semi-cured (B-staged).

【0043】凸状の導電性部は、配線パターンを形成済
両面銅張積層板の電気的層間接続が必要とされる位置
に、130℃から170℃で軟化する銅ペーストを印刷
工法により、高さが80μm、低面の直径が100μm
となるように円錐状に印刷、硬化した。 (実施例2)樹脂付き銅箔は、乾燥後の厚さが30μm
となるようにエポキシ樹脂ワニスを塗工して150℃、
30分乾燥して半硬化(Bステージ化)して、さらに厚
さが30μmとなるようにエポキシ樹脂ワニスを塗工し
て130℃、20分乾燥して半硬化(Bステージ化)し
て形成した。
The convex conductive portion is formed by printing a copper paste, which is softened at 130 ° C. to 170 ° C., at a position where electrical inter-layer connection of the double-sided copper clad laminate on which a wiring pattern has been formed is required, by a printing method. 80 μm, the diameter of the lower surface is 100 μm
It was printed and cured in a conical shape so that (Example 2) The resin-coated copper foil has a thickness after drying of 30 μm.
To coat the epoxy resin varnish so that
Formed by drying for 30 minutes and semi-curing (B-stage), then applying epoxy resin varnish to a thickness of 30 μm, drying at 130 ° C. for 20 minutes and semi-curing (B-stage). did.

【0044】凸状の導電性部は配線パターンを形成済両
面銅張積層板の電気的層間接続が必要とされる位置に、
130℃から170℃で軟化する銅ペーストを印刷工法
により、高さが40μm、低面の直径が50μmとなる
ように円錐状に印刷、硬化した。 (実施例3)樹脂付き銅箔は、乾燥後の厚さが50μm
となるようにエポキシ樹脂ワニスを塗工して130℃、
20分乾燥して半硬化(Bステージ化)して形成した。
The convex conductive portion is formed with a wiring pattern at a position where electrical interlayer connection of the double-sided copper clad laminate is required,
A copper paste softening at 130 ° C. to 170 ° C. was printed and hardened by a printing method in a conical shape so that the height was 40 μm and the diameter of the lower surface was 50 μm. (Example 3) The resin-coated copper foil has a thickness after drying of 50 μm.
130 ° C by applying epoxy resin varnish so that
It was dried for 20 minutes and semi-cured (B-staged).

【0045】凸状の導電性部は、配線パターンを形成済
両面銅張積層板の電気的層間接続が必要とされる位置
に、130℃から170℃で軟化する銀ペーストを印刷
工法により、高さが80μm、低面の直径が100μm
となるように円錐状に印刷、硬化した。 (実施例4)樹脂付き銅箔は、乾燥後の厚さが30μm
となるようにエポキシ樹脂ワニスを塗工して150℃、
30分乾燥して半硬化(Bステージ化)し、さらに、そ
の上に厚さが30μmとなるように再塗工して130
℃、20分乾燥して半硬化(Bステージ化)して形成し
た。
The convex conductive portion is formed by printing a silver paste which is softened at 130 ° C. to 170 ° C. by a printing method at a position where electrical interlayer connection of a double-sided copper clad laminate having a wiring pattern is required. 80 μm, the diameter of the lower surface is 100 μm
It was printed and cured in a conical shape so that (Example 4) The resin-coated copper foil has a thickness after drying of 30 μm.
To coat the epoxy resin varnish so that
It is dried for 30 minutes, semi-cured (B stage), and then re-coated so that the thickness becomes 30 μm.
It was formed by semi-curing (B-stage) by drying at 20 ° C. for 20 minutes.

【0046】凸状の導電性部は、配線パターンを形成済
両面銅張積層板の電気的層間接続が必要とされる位置
に、130℃から170℃で軟化する金ペーストを印刷
工法により、高さが40μm、低面の直径50μmとな
るように円錐状に印刷、硬化した。 (実施例5)樹脂付き銅箔は、乾燥後の厚さが50μm
となるようにエポキシ樹脂ワニスを塗工して130℃、
20分乾燥して半硬化(Bステージ化)して形成した。
The convex conductive portion is formed by printing a gold paste that is softened at 130 ° C. to 170 ° C. by a printing method at a position where electrical interlayer connection of the double-sided copper clad laminate having a wiring pattern formed thereon is required. Was 40 μm, and the diameter of the lower surface was 50 μm. (Example 5) The resin-coated copper foil has a thickness after drying of 50 μm.
130 ° C by applying epoxy resin varnish so that
It was dried for 20 minutes and semi-cured (B-staged).

【0047】凸状の導電性部は、配線パターンを形成済
両面銅張積層板の電気的層間接続が必要とされる位置
に、直径100μmのハンダボールを形成した。 (実施例6)樹脂付き銅箔は、銅箔の樹脂塗布面に対し
て予め、0.10μmの厚さに金をメッキした後、乾燥
後の厚さが30μmとなるようにエポキシ樹脂ワニスを
塗工して150℃、30分乾燥して半硬化(Bステー
ジ)して、さらに厚さが30μmとなるようにエポキシ
樹脂ワニスを塗工して130℃、20分乾燥して半硬化
(Bステージ)化して形成した。
In the convex conductive portion, a solder ball having a diameter of 100 μm was formed at a position where electrical interlayer connection of the double-sided copper clad laminate having a wiring pattern formed thereon was required. (Example 6) The resin-coated copper foil was plated with gold to a thickness of 0.10 μm on the resin-coated surface of the copper foil in advance, and then an epoxy resin varnish was applied so that the thickness after drying was 30 μm. It is applied and dried at 150 ° C for 30 minutes and then semi-cured (B stage). Further, an epoxy resin varnish is applied so that the thickness becomes 30 µm, and dried at 130 ° C for 20 minutes and semi-cured (B Formed into a stage).

【0048】凸状の導電性部は配線パターンが形成され
た両面銅張積層板の電気的層間接続が必要とされる位置
に、130℃から170℃で軟化する銅ペーストを印刷
工法により高さが40μmで低面が直径50μmとなる
ように円錐状に印刷、硬化した。 (実施例7)樹脂付き銅箔は乾燥後の厚さが50μmと
なるようにエポキシ樹脂ワニスを塗工して130℃、2
0分乾燥して半硬化(Bステージ化)して形成した。
The convex conductive portion is formed by printing a copper paste which is softened at 130 to 170 ° C. by a printing method at a position where electrical interlayer connection of the double-sided copper clad laminate having a wiring pattern is required. Is 40 μm and the lower surface has a diameter of 50 μm. (Example 7) The resin-coated copper foil was coated with an epoxy resin varnish so that the thickness after drying was 50 μm, and the temperature was set to 130 ° C.
It was dried for 0 minutes and semi-cured (B-staged).

【0049】凸状の導電性部は配線パターンを形成済両
面銅張積層板の電気的層間接続が必要とされる位置に、
130℃から170℃で軟化する銅ペーストを印刷工法
により高さが80μmで低面が直径100μmとなるよ
うに円錐状に印刷、硬化した後に0.10μmの厚さに
金をメッキした。 (実施例8)樹脂付き銅箔は、乾燥後の厚さが30μm
となるように導電性を有するグラファイトが含有するエ
ポキシ樹脂ワニスを塗工して150℃、30分乾燥して
半硬化(Bステージ化)して、さらに厚さが30μmと
なるようにエポキシ樹脂ワニスを塗工して130℃、2
0分乾燥して半硬化(Bステージ化)して形成した。
The convex conductive portion is formed with a wiring pattern, and the double-sided copper clad laminate is provided at a position where electrical interlayer connection is required.
A copper paste that softens at 130 ° C. to 170 ° C. was printed in a conical shape by a printing method so that the height was 80 μm and the lower surface was 100 μm in diameter, and after curing, gold was plated to a thickness of 0.10 μm. (Example 8) The resin-coated copper foil has a thickness after drying of 30 μm.
The epoxy resin varnish containing graphite having electrical conductivity is applied and dried at 150 ° C. for 30 minutes to be semi-cured (B stage), and the epoxy resin varnish to have a thickness of 30 μm. Coated at 130 ℃, 2
It was dried for 0 minutes and semi-cured (B-staged).

【0050】凸状の導電性部は配線パターンを形成済両
面銅張積層板の電気的層間接続が必要とされる位置に、
130℃から170℃で軟化する銅ペーストを印刷工法
により、高さが40μm、低面の直径が50μmとなる
ように円錐状に印刷、硬化した。
The convex conductive portion is provided with a wiring pattern, and the double-sided copper clad laminate is provided at a position where electrical inter-layer connection is required.
A copper paste that softens at 130 ° C. to 170 ° C. was printed and hardened by a printing method in a conical shape so that the height was 40 μm and the diameter of the lower surface was 50 μm.

【0051】実施例1〜8に示す配線パターンおよび柱
状ペーストが形成された内層材の両面に同じく実施例1
〜8に示す樹脂付き銅箔を配して被圧体とし、この被圧
体をさらにステンレスプレートで挟み、以下の条件で多
層化成形を行った。
Similarly to Example 1 on both surfaces of the inner layer material on which the wiring pattern and the columnar paste shown in Examples 1 to 8 are formed.
The resin-coated copper foils shown in FIGS. 8 to 8 were arranged as pressure-receiving bodies, and the pressure-receiving bodies were further sandwiched by stainless plates, and multilayer molding was performed under the following conditions.

【0052】実施例1、2、3、7、8では、100
℃、5kg/cm2の条件にて樹脂付き銅箔の第2の樹脂層が
溶融流動して内層回路パターンを埋め込み成形後、さら
に130℃にて15kg/cm2 の条件にて第1の樹脂層を
軟化させて前出の柱状ペーストが第1回目の塗布樹脂層
を貫通するように加熱加圧した。
In Examples 1, 2, 3, 7, and 8, 100
The second resin layer of the copper foil with resin melts and flows under the condition of 5 ° C and 5 kg / cm 2 to embed the inner layer circuit pattern, and then the first resin under the condition of 15 kg / cm 2 at 130 ° C. The layer was softened and heated and pressed so that the above-mentioned columnar paste penetrated the first applied resin layer.

【0053】結果として柱状ペーストにより層間の電気
的接続が行われ、第1樹脂層により柱状ペースト部以外
の層間の電気的絶縁が確保され、第2の樹脂層により内
層回路の成形性が確保される。
As a result, the columnar paste makes an electrical connection between the layers, the first resin layer ensures electrical insulation between layers other than the columnar paste portion, and the second resin layer ensures the moldability of the inner layer circuit. It

【0054】以上の条件により成形した多層板について
さらに外層回路形成、仕上げをへてPWBとした。 (比較例)FR−4タイプの両面銅張積層板(積層板の
厚み1.0mm、銅箔の厚み18μm)の両面に配線パ
ターンを形成し、ついで、配線パターン表面に黒化処理
といわれる表面処理を施し、配線パターンが形成された
内層用基板を作製した。
The multilayer board molded under the above conditions was further subjected to outer layer circuit formation and finishing to obtain PWB. (Comparative Example) A wiring pattern is formed on both sides of an FR-4 type double-sided copper-clad laminate (laminate thickness: 1.0 mm, copper foil thickness: 18 μm), and then the surface of the wiring pattern is referred to as a blackening treatment. The treatment was performed to produce an inner layer substrate on which a wiring pattern was formed.

【0055】さらに内層配線パターンの上層との電気的
接続を必要とする位置に銅ペーストを印刷工法により高
さが250μmで低面が直径300μmとなるような円
錐状に印刷、硬化した。
Further, a copper paste was printed and hardened by a printing method at a position requiring electrical connection with the upper layer of the inner layer wiring pattern into a conical shape having a height of 250 μm and a lower surface of 300 μm in diameter.

【0056】また、18μm厚さの電気用電解銅箔(古
河サーキット社製GT−18μm)と、0.2mm厚さ
のガラス織布基エポキシ樹脂プリプレグを用意した。
Further, an electrolytic copper foil for electrical use (GT-18 μm, manufactured by Furukawa Circuit Co., Ltd.) having a thickness of 18 μm and a glass woven cloth-based epoxy resin prepreg having a thickness of 0.2 mm were prepared.

【0057】前出の配線パターンが形成された内層用基
板の両面にプリプレグを各1枚配し、さらに銅箔を配し
て、さらにステンレスプレートで挟み、以下の条件で多
層化成形を行った。
One prepreg was placed on each side of the inner layer substrate on which the above-mentioned wiring pattern was formed, copper foil was further placed, and the sheets were sandwiched between stainless plates, and multilayered molding was performed under the following conditions. .

【0058】成形は、100℃、5kg/cm2の条件にて5
0分間保持した後180℃にて30kg/cm2の条件で完全
硬化し、多層成形を完了する。
Molding was carried out under conditions of 100 ° C. and 5 kg / cm 2 for 5 minutes.
After holding for 0 minutes, it is completely cured at 180 ° C. under the condition of 30 kg / cm 2 , and the multilayer molding is completed.

【0059】以上の条件により成形した多層板について
さらに外層回路形成、仕上げをへてPWBとした。
The multilayer board molded under the above conditions was further subjected to outer layer circuit formation and finishing to obtain PWB.

【0060】上記実施例1乃至実施例8及び比較例で得
られたPWBについて、以下の評価を行い、その結果を
表1に示す。
The PWBs obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Example were evaluated as follows, and the results are shown in Table 1.

【0061】総作業工数 :比較例を100とした時間
工数 総製造コスト:比較例を100としたコスト 層間絶縁厚さ:絶縁層の平均厚さ 成形時不良率:成形時に発生する不良率 層間接続不良率:上下の層間接続導電路の接続不良率 冷熱サイクルテスト :ー60℃、120℃のサイクルテストを
実施 内層回路形成性:内層の最小形成可能な回路幅及び回路
間隔 表層回路形成性:表層の最小形成可能な回路幅及び回路
間隔
Total work man-hours: Time man-hours when the comparative example is 100 Total manufacturing cost: Cost when the comparative example is 100 Inter-layer insulation thickness: Average thickness of insulating layer Defect ratio during molding: Defect ratio occurring during molding Inter-layer connection Failure rate: Connection failure rate of upper and lower interlayer conductive paths Thermal cycle test: -60 ° C, 120 ° C cycle test Inner layer circuit formability: Minimum inner circuit width and circuit spacing Surface layer circuit formability: Surface layer Minimum formable circuit width and circuit spacing

【0062】[0062]

【表1】 [Table 1]

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明の多層プリント配線板の製造方法
では、絶縁層である樹脂層を一様に形成することが可能
で、凸状の導電性部の貫通性が、非常に安定したものに
なる。またガラス織布等の補強材を破壊する事も無く、
絶縁層の破断による不良の発生も抑制することができ、
さらに、塗布により金属箔上に形成された絶縁層は、容
易に30〜50μmの絶縁厚さを形成することが可能で
あり、必然的に凸状の導電性部は小さいものとなり、微
細回路形成性にも効果がある。
According to the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, a resin layer as an insulating layer can be uniformly formed, and the penetration of the convex conductive portion is very stable. become. Also, without destroying the reinforcing material such as glass woven cloth,
The occurrence of defects due to breakage of the insulating layer can also be suppressed,
Furthermore, the insulating layer formed on the metal foil by coating can easily form an insulating thickness of 30 to 50 μm, and the convex conductive portion is inevitably small, so that a fine circuit can be formed. It also has an effect on sex.

【0064】さらに、積層成形時に、凸状の導電性部は
成形時の高温により軟化した樹脂層を容易に貫通し外層
の銅箔まで達して内層と外層間の電気的接続を確保す
る。また、ガラス繊維の破断を伴わないことから、初期
及び加熱後の不良の発生が抑制され、信頼性の向上を図
ることができる。
Further, during the laminated molding, the convex conductive portion easily penetrates the resin layer softened by the high temperature during molding to reach the outer copper foil to secure the electrical connection between the inner layer and the outer layer. Further, since the glass fiber is not broken, the occurrence of defects at the initial stage and after heating is suppressed, and the reliability can be improved.

【0065】また、総作業工数の削減と総製造コストが
削減され、さらにパネルメッキを行わない為、表層微細
回路形性も向上することができる。
Further, the total work man-hours and the total manufacturing cost are reduced, and since the panel plating is not performed, the surface fine circuit formability can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態を示す一実施例の被圧体の断
面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a body to be pressed according to an example showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施形態を示す他の一実施例の被圧体
の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a body to be pressed according to another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施形態を示す一実施例の積層成形し
た断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of an example showing the embodiment of the present invention, which is formed by laminating.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被圧体 2 配線パターン 3 内層用基板 4 凸状の導電性部 5 樹脂付き金属箔 6 金属箔 7 第1の樹脂層 8 第2の樹脂層 9 金メッキ 10 金メッキ 11 導電路 1 Pressure Target 2 Wiring Pattern 3 Inner Layer Substrate 4 Convex Conductive Part 5 Metal Foil with Resin 6 Metal Foil 7 First Resin Layer 8 Second Resin Layer 9 Gold Plating 10 Gold Plating 11 Conductive Path

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成8年4月1日[Submission date] April 1, 1996

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】請求項10[Correction target item name] Claim 10

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0021[Correction target item name] 0021

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0021】本発明の請求項10に係る多層プリント配
線板の製造方法は、上記異方導電性を有する樹脂組成物
が、ウィスカー、カーボン、及び、導電性金属粒子の導
電性を有する粒子等のいずれかを含有する樹脂組成物で
あることを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, in the method for producing a multilayer printed wiring board, the anisotropically conductive resin composition comprises whiskers, carbon, and conductive particles such as conductive metal particles. It is a resin composition containing any of the above.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 配線パターンが形成された内層用基板の
表面に、層間の電気的導通を図る位置に予め凸状の導電
性部を形成し、絶縁層を介して金属箔を積層成形し、該
凸状の導電性部が絶縁層を貫通して層間の電気的導通を
図ってなる多層プリント配線板の製造方法において、上
記金属箔に高温で溶融するBステージ状態の熱硬化性樹
脂を塗布して絶縁層を形成した樹脂付き金属箔を形成
し、前記凸状の導電性部が形成された内層用基板とこの
樹脂付き金属箔とを積層成形することを特徴とする多層
プリント配線板の製造方法。
1. A convex conductive portion is previously formed on a surface of an inner layer substrate on which a wiring pattern is formed at a position where electrical conduction between layers is intended, and a metal foil is laminated and formed with an insulating layer interposed therebetween. In a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein the convex conductive portion penetrates an insulating layer to establish electrical conduction between layers, a thermosetting resin in a B stage state that melts at high temperature is applied to the metal foil. To form a resin-coated metal foil having an insulating layer formed thereon, and to laminate-mold the inner layer substrate on which the convex conductive portion is formed and this resin-coated metal foil. Production method.
【請求項2】 配線パターンが形成された内層用基板の
表面に、層間の電気的導通を図る位置に予め凸状の導電
性部を形成し、絶縁層を介して金属箔を積層成形し、該
凸状の導電性部が絶縁層を貫通して層間の電気的導通を
図ってなる多層プリント配線板の製造方法において、上
記金属箔に高温で軟化する第1の樹脂層と低温で溶融す
る第2の樹脂層を塗布して絶縁層を形成した樹脂付き金
属箔を形成し、前記凸状の導電性部が形成された内層用
基板と、この樹脂付き金属箔とを積層成形することを特
徴とする多層プリント配線板の製造方法。
2. A convex conductive portion is previously formed on a surface of the inner layer substrate on which a wiring pattern is formed at a position where electrical conduction between layers is achieved, and a metal foil is laminated and formed with an insulating layer interposed therebetween. In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein the convex conductive portion penetrates an insulating layer to establish electrical conduction between the layers, in which the metal foil is melted at a low temperature with a first resin layer which is softened at a high temperature. A second resin layer is applied to form an insulating layer-formed metal foil with resin, and the inner layer substrate on which the convex conductive portion is formed and the metal foil with resin are laminated and formed. A method for manufacturing a characteristic multilayer printed wiring board.
【請求項3】 上記凸状の導電性部が金属ペースト及
び、又は金属成形体を使用して形成することを特徴とす
る請求項1又は請求項2記載の多層プリント配線板の製
造方法。
3. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the convex conductive portion is formed by using a metal paste and / or a metal molded body.
【請求項4】 上記金属ペースト及び、又は金属成形体
が、金、銀、銅の単体またはその合金で形成されている
ことを特徴とする請求項3記載の多層プリント配線板の
製造方法。
4. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 3, wherein the metal paste and / or the metal molded body is formed of a simple substance of gold, silver or copper or an alloy thereof.
【請求項5】 上記凸状の導電性部がハンダを使用して
形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2
記載の多層プリント配線板の製造方法。
5. The method according to claim 1 or 2, wherein the convex conductive portion is formed by using solder.
A method for producing the multilayer printed wiring board according to the above.
【請求項6】 上記凸状の導電性部の頂部に金メッキを
施すことを特徴とする請求項1乃至請求項6記載の多層
プリント配線板の製造方法。
6. The method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the top of the convex conductive portion is plated with gold.
【請求項7】 上記樹脂付き金属箔が、樹脂を塗布する
面に金メッキを施し、その上に樹脂を塗布して形成され
ていることを特徴とする請求項1乃至請求項6記載の多
層プリント配線板の製造方法。
7. The multi-layer print according to claim 1, wherein the resin-coated metal foil is formed by gold-plating a resin-coated surface and then coating the resin thereon. Wiring board manufacturing method.
【請求項8】 上記樹脂付き金属箔を構成する樹脂層
が、異方導電性を有する樹脂組成物で構成されているこ
とを特徴とする請求項1乃至請求項7記載の多層プリン
ト配線板の製造方法。
8. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the resin layer forming the metal foil with resin is formed of a resin composition having anisotropic conductivity. Production method.
【請求項9】 上記請求項2記載の樹脂付き金属箔を構
成する第1の樹脂層が、異方導電性を有する樹脂組成物
で構成されていることを特徴とする多層プリント配線板
の製造方法。
9. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein the first resin layer constituting the resin-coated metal foil according to claim 2 is formed of a resin composition having anisotropic conductivity. Method.
【請求項10】 上記異方導電性を有する樹脂組成物
が、グラファイト、ウィスカー、カーボン、及び、導電
性金属粒子の導電性を有する粒子のいずれかを含有する
樹脂組成物であることを特徴とする請求項8又は請求項
9記載の多層プリント配線板の製造方法。
10. The resin composition having anisotropic conductivity is a resin composition containing any one of graphite, whiskers, carbon, and conductive particles of conductive metal particles. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 8 or 9.
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