JPH0918073A - マイクロ波励起ガスレーザ発振装置 - Google Patents
マイクロ波励起ガスレーザ発振装置Info
- Publication number
- JPH0918073A JPH0918073A JP7160412A JP16041295A JPH0918073A JP H0918073 A JPH0918073 A JP H0918073A JP 7160412 A JP7160412 A JP 7160412A JP 16041295 A JP16041295 A JP 16041295A JP H0918073 A JPH0918073 A JP H0918073A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- gas
- discharge
- microwave
- excited
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/07—Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
- H01S3/073—Gas lasers comprising separate discharge sections in one cavity, e.g. hybrid lasers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 発振効率の高い、小型／大出力のマイクロ波
励起ガスレーザ発振装置の提供を目的とする。 【構成】 電界の振動方向が異なるマイクロ波により光
軸外で放電励起したレーザガスを冷却効果が図れる金属
等で構成された共振器に導く小型／大出力のマイクロ波
励起ガスレーザ発振装置。
励起ガスレーザ発振装置の提供を目的とする。 【構成】 電界の振動方向が異なるマイクロ波により光
軸外で放電励起したレーザガスを冷却効果が図れる金属
等で構成された共振器に導く小型／大出力のマイクロ波
励起ガスレーザ発振装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はマイクロ波放電励起を行
う小型／大出力のマイクロ波励起ガスレーザ発振装置に
関するものである。
う小型／大出力のマイクロ波励起ガスレーザ発振装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】マイクロ波を用いたガスレーザ装置の例
は、APPLED PHYSICS LETTER、３７（１９８０）Ｐ６７
３に提案されて以来、多くのメリットが期待できること
から、実用化に向けての提案（たとえば特開平１−２６
２６８１号）がなされているが、現在のところ、一般産
業用としてマイクロ波励起のガスレーザ発振装置は実用
化されていない。レーザ発振には放電管の断面方向に均
一な放電が必要であり、放電管の外部から電界を印加し
て放電を発生させる外部放電の場合、放電管に加わる電
界分布を均一にすることが必要不可欠である。現在レー
ザ発振器に採用されている百数十ＭＨｚまでの高周波放
電では、図５に示すように、放電管５０と放電部５１の
間にシースと呼ばれる層５２が発生し、放電部５１に局
所的に変位電流が流れ、放電が集中しようとすれば、シ
ースと呼ばれる層５２が変位電流を妨げるバラスト抵抗
の働きをするため、多少電界強度分布が均一でなくても
安定した放電が行えている。しかし、このシースと呼ば
れる層５２は周波数が高くなれば徐々に薄くなり、２０
０ＭＨｚ以上では発生しなくなることが知られている。
そのため、マイクロ波放電のような２４５０ＭＨｚでの
周波数ではシースと呼ばれる層はなく、より一層電界強
度を均一にしなければ、レーザ発振に必要な均一な放電
を達成できない。このため、図６に示すマイクロ波放電
部を用い、放電管６０に対して電界の振動方向が異なる
マイクロ波６１を印加し、電界強度を均一にできること
を確認した。なお、６２はマグネトロン、６３は導波管
である。このマイクロ波放電部を用いて検討したマイク
ロ波励起の炭酸ガスレーザ発振装置の概略構成図を図７
に示す。
は、APPLED PHYSICS LETTER、３７（１９８０）Ｐ６７
３に提案されて以来、多くのメリットが期待できること
から、実用化に向けての提案（たとえば特開平１−２６
２６８１号）がなされているが、現在のところ、一般産
業用としてマイクロ波励起のガスレーザ発振装置は実用
化されていない。レーザ発振には放電管の断面方向に均
一な放電が必要であり、放電管の外部から電界を印加し
て放電を発生させる外部放電の場合、放電管に加わる電
界分布を均一にすることが必要不可欠である。現在レー
ザ発振器に採用されている百数十ＭＨｚまでの高周波放
電では、図５に示すように、放電管５０と放電部５１の
間にシースと呼ばれる層５２が発生し、放電部５１に局
所的に変位電流が流れ、放電が集中しようとすれば、シ
ースと呼ばれる層５２が変位電流を妨げるバラスト抵抗
の働きをするため、多少電界強度分布が均一でなくても
安定した放電が行えている。しかし、このシースと呼ば
れる層５２は周波数が高くなれば徐々に薄くなり、２０
０ＭＨｚ以上では発生しなくなることが知られている。
そのため、マイクロ波放電のような２４５０ＭＨｚでの
周波数ではシースと呼ばれる層はなく、より一層電界強
度を均一にしなければ、レーザ発振に必要な均一な放電
を達成できない。このため、図６に示すマイクロ波放電
部を用い、放電管６０に対して電界の振動方向が異なる
マイクロ波６１を印加し、電界強度を均一にできること
を確認した。なお、６２はマグネトロン、６３は導波管
である。このマイクロ波放電部を用いて検討したマイク
ロ波励起の炭酸ガスレーザ発振装置の概略構成図を図７
に示す。
【０００３】７０はガラス等の誘電体で形成される放電
管で長さは５５cm、７１は電界の振動方向が異なるマイ
クロ波を発生、放電部へ供給する図６に相当するマイク
ロ波放電部である。放電管７０は前記マイクロ波放電部
７１を貫通している。７２は放電管７０内でマイクロ波
放電部７１からのエネルギーを受け放電する放電空間で
あり、１０cmとした。７３は放電管７０の端面に全反射
鏡７４が、他端に部分反射鏡７５が配置された光共振器
で、部分反射鏡７５よりはレーザビーム７６が出射され
る。なお放電管７０の両端には送気管７７が接続され、
さらに放電管７０の中央部にも吸気管が接続され、放電
空間７２での放電ならびにブロワー部７８により温度上
昇したレーザガスの温度を下げるための熱交換器７９，
８０とレーザガスを循環させる前記ブロワー部７８が接
続されている。矢印Ｇはレーザガスの流れる方向を示し
ており、ガスレーザ発振装置の中をレーザガスが循環し
ている。
管で長さは５５cm、７１は電界の振動方向が異なるマイ
クロ波を発生、放電部へ供給する図６に相当するマイク
ロ波放電部である。放電管７０は前記マイクロ波放電部
７１を貫通している。７２は放電管７０内でマイクロ波
放電部７１からのエネルギーを受け放電する放電空間で
あり、１０cmとした。７３は放電管７０の端面に全反射
鏡７４が、他端に部分反射鏡７５が配置された光共振器
で、部分反射鏡７５よりはレーザビーム７６が出射され
る。なお放電管７０の両端には送気管７７が接続され、
さらに放電管７０の中央部にも吸気管が接続され、放電
空間７２での放電ならびにブロワー部７８により温度上
昇したレーザガスの温度を下げるための熱交換器７９，
８０とレーザガスを循環させる前記ブロワー部７８が接
続されている。矢印Ｇはレーザガスの流れる方向を示し
ており、ガスレーザ発振装置の中をレーザガスが循環し
ている。
【０００４】以上のように構成された炭酸ガスレーザ発
振装置の動作について説明する。まず、放電管７０内の
両放電空間７２にマイクロ波放電部７１からマイクロ波
電力を注入し、放電空間７２にグロー放電を発生させ
る。放電空間７２を通過するレーザガスは、この放電エ
ネルギーを得て励起され、その励起されたレーザガスは
全反射鏡７４と部分反射鏡７５により形成された光共振
器７３で共振状態となり、部分反射鏡７５を透過してレ
ーザビーム７６が出射される。
振装置の動作について説明する。まず、放電管７０内の
両放電空間７２にマイクロ波放電部７１からマイクロ波
電力を注入し、放電空間７２にグロー放電を発生させ
る。放電空間７２を通過するレーザガスは、この放電エ
ネルギーを得て励起され、その励起されたレーザガスは
全反射鏡７４と部分反射鏡７５により形成された光共振
器７３で共振状態となり、部分反射鏡７５を透過してレ
ーザビーム７６が出射される。
【０００５】図８は本構成から得られた放電部へのマイ
クロ波注入電力に対するレーザ出力、発振効率の特性図
を示し、特性的にはガス流量２０００ｍ3／ｈで、発振
効率２０％、最大出力１３００Ｗ、最大出力時発振効率
１６％、注入電力８ｋＷの結果を得た。
クロ波注入電力に対するレーザ出力、発振効率の特性図
を示し、特性的にはガス流量２０００ｍ3／ｈで、発振
効率２０％、最大出力１３００Ｗ、最大出力時発振効率
１６％、注入電力８ｋＷの結果を得た。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らが検討した
方式では図９に示すように放電管の長さを５５cmから４
０cmに短くすると、レーザ出力、発振効率共実線から点
線の曲線へと低下した。またガス流量を低下させると同
様な現象となった。
方式では図９に示すように放電管の長さを５５cmから４
０cmに短くすると、レーザ出力、発振効率共実線から点
線の曲線へと低下した。またガス流量を低下させると同
様な現象となった。
【０００７】一般にレーザ出力はＣＯ2分子が上位順位
から基底順位に遷移するときのエネルギーであるため、
逆に言えばＣＯ2分子が１秒間に上位順位に励起される
数でレーザ出力は定まる。そして、ＣＯ2分子が励起さ
れるのは確率であり、同じ注入電力で放電している１０
cmの放電区間と５５cmの放電区間では、同じＣＯ2分子
数が流れていれば励起される確率は５５cmが大きくな
り、当然出力も大きくなる。そのため１０cmの放電区間
で同一の出力を得るには分子の数を多くするため、ガス
流を大きくする必要がある。
から基底順位に遷移するときのエネルギーであるため、
逆に言えばＣＯ2分子が１秒間に上位順位に励起される
数でレーザ出力は定まる。そして、ＣＯ2分子が励起さ
れるのは確率であり、同じ注入電力で放電している１０
cmの放電区間と５５cmの放電区間では、同じＣＯ2分子
数が流れていれば励起される確率は５５cmが大きくな
り、当然出力も大きくなる。そのため１０cmの放電区間
で同一の出力を得るには分子の数を多くするため、ガス
流を大きくする必要がある。
【０００８】また、ＣＯ2分子はＮ2分子との衝突により
上位順位に励起されるため、完全に衝突するまでに約２
msが必要で、励起ガスを完全に使いきり出力を得るには
放電管はガス流速により２ms相当の長さが必要になる。
そのため、放電管の長さを短くするかまたはガス流を大
きくすると励起ガスが光軸から排出されてしまうのでレ
ーザ出力、発振効率が共に低下すると考えている。
上位順位に励起されるため、完全に衝突するまでに約２
msが必要で、励起ガスを完全に使いきり出力を得るには
放電管はガス流速により２ms相当の長さが必要になる。
そのため、放電管の長さを短くするかまたはガス流を大
きくすると励起ガスが光軸から排出されてしまうのでレ
ーザ出力、発振効率が共に低下すると考えている。
【０００９】これを防止するため、特開平４−１４２７
２号ではマイクロ波放電部下端からガス流れの下流側に
レーザガスの励起寿命と平均ガス流速とによって定まる
所定長さ分放電管長を延長することが提案されている。
しかし、これでは放電空間に対して著しく大きい放電管
長が必要となり、マイクロ波励起ガスレーザ発振装置の
構成では発振効率を高くしたければ、小型化できないと
いう問題点があった。
２号ではマイクロ波放電部下端からガス流れの下流側に
レーザガスの励起寿命と平均ガス流速とによって定まる
所定長さ分放電管長を延長することが提案されている。
しかし、これでは放電空間に対して著しく大きい放電管
長が必要となり、マイクロ波励起ガスレーザ発振装置の
構成では発振効率を高くしたければ、小型化できないと
いう問題点があった。
【００１０】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、発振効率を高く、かつ小型化できるマイク
ロ波励起ガスレーザ発振装置を提供することを目的とす
るものである。
れたもので、発振効率を高く、かつ小型化できるマイク
ロ波励起ガスレーザ発振装置を提供することを目的とす
るものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は電界の振動方向が異なるマイクロ波により
光軸外で放電励起したレーザガスを冷却効果が図れる金
属等で構成された共振器に導き、レーザ出力を取り出す
構成としたものである。
に、本発明は電界の振動方向が異なるマイクロ波により
光軸外で放電励起したレーザガスを冷却効果が図れる金
属等で構成された共振器に導き、レーザ出力を取り出す
構成としたものである。
【００１２】
【作用】上記構成によれば、光軸外で均一に励起された
レーザガスを共振器内に導入し、励起レーザガスの流速
を低下できるので、レーザ出力の発振効率を向上し、小
型／大出力化を達成することが可能になる。
レーザガスを共振器内に導入し、励起レーザガスの流速
を低下できるので、レーザ出力の発振効率を向上し、小
型／大出力化を達成することが可能になる。
【００１３】
【実施例】以下本発明の第１実施例について、図１〜図
４を参照しながら説明する。なお、従来と同一のものま
たは同等の部分には同一の記号を付け説明は省略する。
４を参照しながら説明する。なお、従来と同一のものま
たは同等の部分には同一の記号を付け説明は省略する。
【００１４】図１は本発明の実施例による炭酸ガスレー
ザ発振装置の概略構成図である。１は光軸上にある金属
レーザ管、２は前記金属レーザ管を冷却する冷却部、３
は光軸外に設置されている電界の振動方向が異なるマイ
クロ波を発生するマイクロ波放電部である。図２に金属
レーザ管１の長さを４０cmとした場合の、注入電力に対
するレーザ出力、発振効率の特性図を示すが、従来の５
５cm放電管の場合と同一の特性が得られた。図１中の矢
印Ｇで示すのが励起ガスの流れであり、光軸外で放電さ
せているため、光軸にはいるまでの若干の損失がある
が、マイクロ波放電部３でレーザガスが均一に励起され
ていることと、マイクロ波放電部３は内部にマイクロ波
が伝送されているが、ケースはアース電位であり絶縁距
離等の考慮はなく光軸上の金属レーザ管１のごく近傍に
設置でき、前述のレーザ発振のメカニズムで説明したよ
うにＮ2からＣＯ2への励起に時間がかかることと、かつ
放電空間が短いため損失としては無視できる程度であっ
た。また、金属レーザ管１を冷却部２で冷却することで
励起ガスを冷却でき、安定してガス流速を低下させ、金
属レーザ管１の長さを短くでき、光共振器４としての安
定性が著しく向上できた。
ザ発振装置の概略構成図である。１は光軸上にある金属
レーザ管、２は前記金属レーザ管を冷却する冷却部、３
は光軸外に設置されている電界の振動方向が異なるマイ
クロ波を発生するマイクロ波放電部である。図２に金属
レーザ管１の長さを４０cmとした場合の、注入電力に対
するレーザ出力、発振効率の特性図を示すが、従来の５
５cm放電管の場合と同一の特性が得られた。図１中の矢
印Ｇで示すのが励起ガスの流れであり、光軸外で放電さ
せているため、光軸にはいるまでの若干の損失がある
が、マイクロ波放電部３でレーザガスが均一に励起され
ていることと、マイクロ波放電部３は内部にマイクロ波
が伝送されているが、ケースはアース電位であり絶縁距
離等の考慮はなく光軸上の金属レーザ管１のごく近傍に
設置でき、前述のレーザ発振のメカニズムで説明したよ
うにＮ2からＣＯ2への励起に時間がかかることと、かつ
放電空間が短いため損失としては無視できる程度であっ
た。また、金属レーザ管１を冷却部２で冷却することで
励起ガスを冷却でき、安定してガス流速を低下させ、金
属レーザ管１の長さを短くでき、光共振器４としての安
定性が著しく向上できた。
【００１５】さらに、本構成とすればビーム品質は劣化
するが金属レーザ管１の長さはレーザ管の太さを大きく
すれば、さらにガス流速が遅くなるため一層短くでき
る。
するが金属レーザ管１の長さはレーザ管の太さを大きく
すれば、さらにガス流速が遅くなるため一層短くでき
る。
【００１６】また図１では金属レーザ管に一つのガス導
入口しか記載していないが金属レーザ管１に複数のマイ
クロ波放電部を設け、金属レーザ管１に複数の導入口か
ら励起ガスを供給すれば同一レーザ管長で容易に大出力
化が図れるものである。
入口しか記載していないが金属レーザ管１に複数のマイ
クロ波放電部を設け、金属レーザ管１に複数の導入口か
ら励起ガスを供給すれば同一レーザ管長で容易に大出力
化が図れるものである。
【００１７】図３は本発明の第２実施例によるマイクロ
波励起ガスレーザ発振装置の概略構成図である。３は第
１実施例と同様に光軸外に設けられ電界の振動方向が互
いに異なるマイクロ波を発生するマイクロ波放電部、５
はアルミニウム、銅などの金属チャンバー、６は前記金
属チャンバー５を冷却する冷却部、７，７′は光共振器
を構成するレーザ光を反射する反射鏡、８は出力鏡、な
お、複数のマイクロ波放電部３から均一に励起されたレ
ーザガスが金属チャンバー５へ導入される。この冷却部
６で冷却される金属チャンバー５内は大きな空間である
ので励起ガスは低速で流れ効率よく安定してレーザ出力
が取り出せる。９は光共振器で、不安定型にすれば共振
器内エネルギーを低くできるので出力鏡のエネルギー耐
量を考慮すること無く大出力化が可能になる。
波励起ガスレーザ発振装置の概略構成図である。３は第
１実施例と同様に光軸外に設けられ電界の振動方向が互
いに異なるマイクロ波を発生するマイクロ波放電部、５
はアルミニウム、銅などの金属チャンバー、６は前記金
属チャンバー５を冷却する冷却部、７，７′は光共振器
を構成するレーザ光を反射する反射鏡、８は出力鏡、な
お、複数のマイクロ波放電部３から均一に励起されたレ
ーザガスが金属チャンバー５へ導入される。この冷却部
６で冷却される金属チャンバー５内は大きな空間である
ので励起ガスは低速で流れ効率よく安定してレーザ出力
が取り出せる。９は光共振器で、不安定型にすれば共振
器内エネルギーを低くできるので出力鏡のエネルギー耐
量を考慮すること無く大出力化が可能になる。
【００１８】図４は本発明の第３実施例によるマイクロ
波励起ガスレーザ発振装置の概略構成図である。３は第
１、第２実施例と同様に光軸外に設けられ電界の振動方
向が互いに異なるマイクロ波を発生するマイクロ波放電
部、１０は光共振器で、金属で構成される光増幅器１１
および前記光増幅器１１を冷却する冷却部１２を有す
る。１３は光増幅器１１の両端に設けられる反射鏡であ
る。１４は前記光共振器１０の外部から基準レーザ光１
５を照射する基準ガスレーザ発振器である。複数のマイ
クロ波放電部３から均一に励起されたレーザガスが光増
幅器１１へ導入される。そして、冷却部１２で冷却され
る光増幅器１１は大きな空間であるので励起ガスは低速
で流れる。ここで外部から基準ガスレーザ発振器１４で
基準レーザ光１５を照射されると光増幅器１１で増幅さ
れレーザ出力１６として出力される。大出力レーザの場
合内部エネルギーとビーム品質が問題となるが本構成と
すれば均一なレーザガスを増幅源とするため基準ガスレ
ーザ発振器１４から出力されるビーム品質が維持され、
大きな出力が安定して発生できる。
波励起ガスレーザ発振装置の概略構成図である。３は第
１、第２実施例と同様に光軸外に設けられ電界の振動方
向が互いに異なるマイクロ波を発生するマイクロ波放電
部、１０は光共振器で、金属で構成される光増幅器１１
および前記光増幅器１１を冷却する冷却部１２を有す
る。１３は光増幅器１１の両端に設けられる反射鏡であ
る。１４は前記光共振器１０の外部から基準レーザ光１
５を照射する基準ガスレーザ発振器である。複数のマイ
クロ波放電部３から均一に励起されたレーザガスが光増
幅器１１へ導入される。そして、冷却部１２で冷却され
る光増幅器１１は大きな空間であるので励起ガスは低速
で流れる。ここで外部から基準ガスレーザ発振器１４で
基準レーザ光１５を照射されると光増幅器１１で増幅さ
れレーザ出力１６として出力される。大出力レーザの場
合内部エネルギーとビーム品質が問題となるが本構成と
すれば均一なレーザガスを増幅源とするため基準ガスレ
ーザ発振器１４から出力されるビーム品質が維持され、
大きな出力が安定して発生できる。
【００１９】このように、各実施例によれば、光軸外で
均一に励起されたレーザガスを共振器内に導入し、励起
レーザガス流速を低下できるので、レーザ出力の発振効
率を向上し、小型／大出力化を達成することが可能にな
る。
均一に励起されたレーザガスを共振器内に導入し、励起
レーザガス流速を低下できるので、レーザ出力の発振効
率を向上し、小型／大出力化を達成することが可能にな
る。
【００２０】
【発明の効果】以上の実施例の説明から明らかなように
本発明によれば、電界の振動方向が異なるマイクロ波に
より光軸外で均一に励起されたレーザガスを冷却効果が
図れる金属等で構成された共振器に導くことで、励起レ
ーザガスの流速を低下でき、レーザ出力の発振効率を向
上し、小型／大出力化を達成することが可能になる。
本発明によれば、電界の振動方向が異なるマイクロ波に
より光軸外で均一に励起されたレーザガスを冷却効果が
図れる金属等で構成された共振器に導くことで、励起レ
ーザガスの流速を低下でき、レーザ出力の発振効率を向
上し、小型／大出力化を達成することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のマイクロ波励起ガスレーザ発振装置の
第１実施例の概略構成図
第１実施例の概略構成図
【図２】第１実施例によるマイクロ波注入電力に対する
レーザ出力、発振効率の特性図
レーザ出力、発振効率の特性図
【図３】本発明の第２実施例の概略構成図
【図４】本発明の第３実施例の概略構成図
【図５】従来の高周波放電での放電状態図
【図６】電界の振動方向が異なるマイクロ波を発生する
マイクロ波放電部の概略構成図
マイクロ波放電部の概略構成図
【図７】従来のマイクロ波励起ガスレーザ発振装置の概
略構成図
略構成図
【図８】従来のマイクロ波注入電力に対するレーザ出
力、発振効率の特性図
力、発振効率の特性図
【図９】放電管長を変化させた場合のマイクロ波注入電
力に対するレーザ出力、発振効率の特性図
力に対するレーザ出力、発振効率の特性図
１ 金属レーザ管 ２，６，１２ 冷却部 ３ マイクロ波放電部 ４，９，１０ 光共振器 ５ 金属チャンバー １１ 光増幅器
Claims (3)
- 【請求項１】 電界の振動方向が異なるマイクロ波によ
りレーザガスを光軸外で放電励起する１ヶ以上のマイク
ロ波放電部と、前記レーザガスを循環するブロワー部
と、前記放電励起されたレーザガスを１ヶ以上の接続口
より導入する光軸と同軸に配置されたアルミニウム、銅
などの金属からなる１ヶ以上の金属レーザ管と、前記金
属レーザ管の外部を冷却する冷却部と、前記金属レーザ
管内で励起されたレーザガスを共振させてレーザビーム
を発生させる光共振器とを具備したマイクロ波励起ガス
レーザ発振装置。 - 【請求項２】 電界の振動方向が異なるマイクロ波によ
りレーザガスを光軸外で放電励起する１ヶ以上のマイク
ロ波放電部と、前記レーザガスを循環するブロワー部
と、前記放電励起されたレーザガスを１ヶ以上の接続口
より導入するアルミニウム、銅などの金属からなるチャ
ンバー部と、前記チャンバー部の外部を冷却する冷却部
と、前記チャンバー部内で励起されたレーザガスを共振
させてレーザビームを発生させる光共振器とを具備した
マイクロ波励起ガスレーザ発振装置。 - 【請求項３】 基準レーザ光を発生する基準ガスレーザ
発振器と、前記基準ガスレーザ発振器の出力を増幅する
光共振器と、レーザガスを高速で循環させるブロワー部
と、前記循環するレーザガスを電界の振動方向が異なる
マイクロ波で光軸外で放電励起する１ヶ以上のマイクロ
波放電部とを有し、前記光共振器には励起したレーザガ
スを導入、排出する各１ヶ以上の接続口を有し、前記基
準レーザ光に対する入射口と出射口に反射鏡を具備した
アルミニウム、銅などの金属からなる光増幅器と、前記
光増幅器を冷却する冷却部とを具備したマイクロ波励起
ガスレーザ発振装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16041295A JP3427573B2 (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | マイクロ波励起ガスレーザ発振装置 |
| DE19625603A DE19625603C2 (de) | 1995-06-27 | 1996-06-26 | Gaslaser zur Abgabe eines Laserstrahls aufgrund der Anregung von Gas mittels Mikrowellen |
| US08/669,806 US5706305A (en) | 1995-06-27 | 1996-06-27 | Gas laser oscillating apparatus for discharging laser beam by exciting gas with microwave |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16041295A JP3427573B2 (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | マイクロ波励起ガスレーザ発振装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0918073A true JPH0918073A (ja) | 1997-01-17 |
| JP3427573B2 JP3427573B2 (ja) | 2003-07-22 |
Family
ID=15714381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16041295A Expired - Fee Related JP3427573B2 (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | マイクロ波励起ガスレーザ発振装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5706305A (ja) |
| JP (1) | JP3427573B2 (ja) |
| DE (1) | DE19625603C2 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6804285B2 (en) * | 1998-10-29 | 2004-10-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Gas supply path structure for a gas laser |
| US6951627B2 (en) * | 2002-04-26 | 2005-10-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of drilling holes with precision laser micromachining |
| US6898358B2 (en) | 2002-05-31 | 2005-05-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Adjustable photonic crystal and method of adjusting the index of refraction of photonic crystals to reversibly tune transmissions within the bandgap |
| US7880117B2 (en) | 2002-12-24 | 2011-02-01 | Panasonic Corporation | Method and apparatus of drilling high density submicron cavities using parallel laser beams |
| EP2565998A1 (en) * | 2011-09-05 | 2013-03-06 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Gas ring laser device |
| EP2564970B1 (en) | 2011-09-05 | 2015-08-26 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking device for marking an object with marking light with different light modules employing different marking technologies |
| DK2565993T3 (da) | 2011-09-05 | 2014-02-10 | Alltec Angewandte Laserlicht Technologie Gmbh | Laserindretning og fremgangsmåde til frembringelse af laserlys |
| DK2565996T3 (da) | 2011-09-05 | 2014-01-13 | Alltec Angewandte Laserlicht Technologie Gmbh | Laserindretning med en laserenhed og en fluidbeholder til en køleindretning af laserenheden |
| ES2544269T3 (es) | 2011-09-05 | 2015-08-28 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Aparato de marcado con una pluralidad de láseres de gas con tubos de resonancia y medios de deflexión ajustables individualmente |
| ES2544034T3 (es) | 2011-09-05 | 2015-08-27 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Aparato de marcado con al menos un láser de gas y un termodisipador |
| EP2565995B1 (en) | 2011-09-05 | 2013-12-18 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Gas laser device with gas reservoir |
| EP2564972B1 (en) | 2011-09-05 | 2015-08-26 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with a plurality of lasers, deflection means and telescopic means for each laser beam |
| EP2565673B1 (en) | 2011-09-05 | 2013-11-13 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Device and method for marking of an object by means of a laser beam |
| ES2530070T3 (es) | 2011-09-05 | 2015-02-26 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Aparato de marcado con una pluralidad de láseres y conjuntos ajustables individualmente de medios de desviación |
| EP2564973B1 (en) | 2011-09-05 | 2014-12-10 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with a plurality of lasers and a combining deflection device |
| EP2564971B1 (en) | 2011-09-05 | 2015-08-26 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with a plurality of laser and a set of deflecting means |
| EP2565994B1 (en) | 2011-09-05 | 2014-02-12 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Laser device and method for marking an object |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01262681A (ja) * | 1988-04-14 | 1989-10-19 | Toshiba Corp | マイクロ波レーザ装置 |
| JPH03111577A (ja) * | 1989-09-26 | 1991-05-13 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | マイクロ波プラズマ発生装置およびそれを利用するダイヤモンド膜の製造方法 |
| JPH0414272A (ja) * | 1990-05-02 | 1992-01-20 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | レーザー発振装置 |
| JPH04321289A (ja) * | 1991-04-22 | 1992-11-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 気体レーザ装置 |
| JPH05251803A (ja) * | 1992-03-04 | 1993-09-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | レーザ発振装置 |
| JPH06164042A (ja) * | 1992-09-14 | 1994-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガスレーザ発振装置 |
| JP3052635B2 (ja) * | 1993-02-16 | 2000-06-19 | トヨタ自動車株式会社 | 粒子分散型表示装置 |
| JPH06291397A (ja) * | 1993-04-06 | 1994-10-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガスレーザ発振装置 |
| US5606571A (en) * | 1994-03-23 | 1997-02-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Microwave powered gas laser apparatus |
-
1995
- 1995-06-27 JP JP16041295A patent/JP3427573B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-06-26 DE DE19625603A patent/DE19625603C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-27 US US08/669,806 patent/US5706305A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5706305A (en) | 1998-01-06 |
| DE19625603A1 (de) | 1997-01-02 |
| JP3427573B2 (ja) | 2003-07-22 |
| DE19625603C2 (de) | 2001-10-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3427573B2 (ja) | マイクロ波励起ガスレーザ発振装置 | |
| US6636545B2 (en) | Supersonic and subsonic laser with radio frequency excitation | |
| WO1994007286A1 (en) | Scalable and stable, cw photolytic atomic iodine laser | |
| US4004249A (en) | Optical waveguide laser pumped by guided electromagnetic wave | |
| JP2002502548A (ja) | Ｒｆ放電励起による超音波及び亜音波レーザ | |
| US7817699B2 (en) | High-power, high-throughput microwave discharge singlet oxygen generator for advanced electrical oxygen-iodine lasers | |
| US4056789A (en) | Electric discharge gas dynamic laser | |
| US4237428A (en) | 15.9 Micron acetylene laser | |
| RU2812411C1 (ru) | Аксиально-потоковый газовый лазер с комбинационным возбуждением | |
| RU2354019C1 (ru) | Активная среда для электроразрядного со-лазера или усилителя и способ ее накачки | |
| JPH02129979A (ja) | マイクロ波レーザ装置 | |
| JP3221347B2 (ja) | ガスレーザ発振装置 | |
| JPH10190102A (ja) | 気体レーザーの放電励起方法及び気体レーザー装置 | |
| JP2989296B2 (ja) | レーザーガスのマイクロ波放電励起方法 | |
| JP3281823B2 (ja) | レーザガスのマイクロ波放電励起方法 | |
| JP2871217B2 (ja) | マイクロ波励起気体レーザー装置 | |
| JPH02129976A (ja) | マイクロ波レーザ装置 | |
| JP3429601B2 (ja) | ガスレーザ発振装置 | |
| JPH0278285A (ja) | マイクロ波レーザ装置 | |
| JPH1126841A (ja) | レーザ発振方法およびレーザ発振装置 | |
| JPH0936465A (ja) | 気体レーザーのマイクロ波放電励起方法及びマイクロ波気体レーザー装置 | |
| JPH02129980A (ja) | マイクロ波レーザ装置 | |
| JP2000138406A (ja) | マイクロ波ガスレーザ装置 | |
| Chang et al. | Compact high-efficiency CO2 slab waveguide lasers with segmented RF excitation | |
| JP2003086867A (ja) | ガスレーザ装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |