JP2002502548A - Rf放電励起による超音波及び亜音波レーザ - Google Patents

Rf放電励起による超音波及び亜音波レーザ

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JP2002502548A JP51361597A JP51361597A JP2002502548A JP 2002502548 A JP2002502548 A JP 2002502548A JP 51361597 A JP51361597 A JP 51361597A JP 51361597 A JP51361597 A JP 51361597A JP 2002502548 A JP2002502548 A JP 2002502548A
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Abstract

(57)【要約】 音波または超音波/亜音波移行気体流の区域における無線周波数(RF)放電励起を利用した気体レーザが開示される。レーザは各種の気体及び気体の混合物を活性媒体として用い、RF放電励起を利用する前に気体状媒体のRFまたはUVプレイオン化を行う。気体はレシーバ(3a)内に供給され、その下流側に活性気体状流を高い亜音速または超音速に加速して、活性気体媒体の集中的な動力学的冷却を行う超音波ノズル(1)が配置されている。気体はRF放電励起によって、超音波ノズルの臨界区域(1b)またはそれより下流側で励起される。RF放電及び励起は、ノズルの超音波区域内に配置された光学的な共振器領域(23)内でも発生可能である。本発明は高品質の出力ビームで、2.03mkmから10.6mkmの波長を有し、コンパクト、効率的且つ超強力で、連続的または疑似連続的なパルスレーザシステムを提供する。本発明のレーザ装置は、科学、商業、成層空間及び自由空間での用途に適用できる。

Description

【発明の詳細な説明】 RF放電励起による超音波及び亜音波レーザ 技術分野 本発明は、軽量で非常に効率的な上、小型、軽量且つ閉鎖式である気体系を生 成するために、気体状活性媒体、ノズル、RF放電領域、レーザ活性領域、光学 的共振器及びディフューザを有した超音波及び亜音波レーザに関する。本発明の レーザは、音波/亜音波または超音波/亜音波気体流の区域内で非平衡プラズマ を発生させるのに無線周波数(RF)励起を用いる。高周波放電励起は、超音波 ノズルの臨界区域内あるいは臨界区域の下流で発生可能であり、また超音波ノズ ルのプレ(前)臨界区域内において、気体状活性媒体のRF、電場あるいはUV によるプレ(前)イオン化によって強めることができる。発明の背景 既知の気体レーザシステムでは、トランスファーフローもしくは軸流内におけ るDCまたはAC電極間での電気放電を用いている。しかしながら、速い亜音速 流特に超音速流内におけるDCまたはAC電極の利用は、不安定で一様でないプ ラズマ放電を発生させる。こうした一様でない放電は、気体流の空気力学的な不 安定を引き起こす。波衝撃と乱流によって特徴付けられるこの不安定は、流れの 静圧とDCまたはAC電極間における放電領域の容積に比例する。こうした制限 が、安定で、一様な、連続したプラズマの生成を妨げている。さらに、AC/D C放電は気体流に対して空気力学的な抵抗を発生させるため、より高いパワーの 気体ポンプが必要となる。既知の気体レーザで発生している超音波及び亜音波流 の空気力学的な不安定は、波衝撃に関連して上昇した温度の領 域だけでなく、乱流に関連した温度脈動の領域を生成する。かかる要因が、レー ザ反転分布、レーザ効率及び共振器領域内における流れの光学的品質の減少をも たらす原因となっている。 グローDCまたはAC放電を利用した気体媒体励起も周知である。しかし、こ れらのレーザ設計は他の基本的な問題を有している。アークプラズマ領域あるい は火花放電の不安定を呈する領域が、レーザ気体の高い原子温度を生ぜしめるた め、レーザ気体はレーザ発振の活性度をもたらすのに必要なレーザ反転分布を持 ち得なくなり、光学的品質に崩壊を引き起こす。さらに、そのような火花放電の 不安定は、気体活性媒体の化学成分の崩壊に至ることもある。RFグロー放電に 比べて、DCまたはACグロー放電は、同じ容積の安定な非平衡プラズマに対す るエネルギー寄与が低い。RF周波数及びRFプラズマの種類(アルファ又はガ ンマ)に依存するが、励起の必要条件であるRF密度は一般に立方cm当たり1 0から100ワットの範囲である。同等な気体条件におけるDC及びACグロー 放電の場合、最大可能な密度の範囲は立方cm当たりわずか1から5ワットで、 その範囲を超えると火花放電プラズマの不安定が生じてしまう。 RF及びDC/ACプラズマ構造の両特性間には、原理的な相違も存在する。 DCまたはAC放電は、陽極と陰極間における電子とイオンの直接的な流れに基 づいている。RFあるいは高周波放電励起は、RF電極に位置した電子の境界の 高周波振動と、衝突メカニズムによる高周波イオン化に助長された、RF電極間 におけるイオンの「陽光柱」及び負の電子の誘導とに基づいている。これは、例 えばCO2分子のCO分子とO原子とへの解離に基づき、DC及びAC放電がレ ーザ気体媒体の化学的安定を瓦解する可能性がはるかに大きいことを意味する。 それ故に、RF放電の方がDC/AC型の放電より以下の点で優れている:レー ザ気体の化学的安定;プラズマの容積に対するエネルギー寄与;活性媒体 の光学的品質;及び気体媒体の流れを与えるのに必要な気体ポンプのパワーレベ ル。発明の要旨 本発明は、無線周波数(RF)放電励起を利用し、活性媒体の気体状流を用い る超音波または亜音波レーザを提供するものである。本レーザは、冷却部を介し てレシーバ区域内へ気体状媒体を導入する気体供給ラインを備えている。気体は 使用する特定種類の気体に応じ、予め決められた圧力でレーザに供給し得る。気 体は供給ライン、冷却部及びレシーバ区域を遅い超音波速度で通過する。 レシーバ区域の下流側に超音波ノズルが配置され、超音波ノズルは光学的な共 振器領域に開口すると共に、局部的な励起区域を含んでいる。光学的な共振器領 域の下流側に、超音波ノズルの横断面全体にわたって超音波または亜音波の気体 媒体流を減速させるディフューザが配置されている。本発明のレーザは、古典的 な二次元のノズル内部を有する。 本発明のレーザ装置は、簡単な設計と比較的低いエネルギー供給を維持しつつ 極めて効率的なレーザを形成するために、レーザ発生の高出力電力化と気体状活 性媒体の非常に効率的な使用をもたらす。本レーザでは、気体状活性媒体の音波 /亜音波流または超音波/亜音波流の区域内に位置した大きい面積の方形でフラ ットなRF電極間におけるRF放電励起との組み合わせで、各種の気体あるいは 気体の混合物を使用可能である。本発明のレーザは、光学的な共振器領域内でレ ーザ発振の活性度を発生するのに必要な高い反転分布を達成するために、高レベ ル状態の原子、分子またはイオンのイオン化及び電子励起によって非平衡な「ア ルファ」もしくは「ガンマ」プラズマを生成する無線周波数(RF)放電を用い る。本レーザは開ループまたは閉ループどちらの系でも適用できるが、閉ループ 系のレーザの方が循環気体を低い静温度に維持する能 力が高められる。 本発明のレーザは、気体状活性媒体の音波/亜音波(M=1/M<1)流また は超音波/亜音波(M>1/M<1)流の区域内に位置した幅広で線形状のRF 電極間に高周波放電領域を有する。無線周波数(RF)放電は、平面状の電極間 にイオンと電子のほぼ一様な分布を生成する。無線周波数(RF)放電領域はR F電極間に位置し、超音波ノズルの臨界区域内あるいは超音波ノズルの超音波区 域内で臨界区域の下流側に配置することもできる。レーザの励起領域は、活性媒 体または気体の圧力に応じ放電領域に比べもっと広い領域を有してもよく、光学 的な共振器領域の開始地点に至るまでのノズルの臨界及び超音波両区域内に形成 されてもよい。あるいは、RF電極と放電領域の配置を、光学的な共振器領域と 同じ広がりにすることもできる。 光学的な共振器領域内に、レーザ活性領域が位置する。この領域内を共振器ビ ームの各相が横切ることによって、そこで生じている最大レベルのレーザ反転( 反転分布)が活用され、共振陽子の増幅が発生される。本発明のRF励起によっ て発生されたレーザは、2.03mkmから10.6mkmの範囲内の波長を有する。 また、気体状媒体のプレイオン化は、励起領域における気体状活性媒体のイオ ン化及び電子励起に必要な高周波プラズマの発生を促進するために、ノズル前方 のレシーバ区域内またはノズルの臨界区域内で行い得る。このようなプレイオン 化は、気体状媒体がそこを通過するプレイオン化用RFグリッドによって発生さ せ得る。あるいは、RFまたはACプラズマと同じく、紫外線管球またはその他 の紫外線源を用いてプレイオン化を行ってもよい。気体状媒体のプレイオン化は 、光イオン化気体または蒸気の一部を気体状活性媒体へ付加することによってさ らに高めることができる。 レシーバ区域の下流側でその端部に、超音波ノズルが配置されている。 二次元の超音波ノズルは、ノズル内における気体の断熱膨張を可能とする熱力学 的パラメータの一様な横断方向の分布を有する静かな超音波/亜音波流を保証す るのに最適な対数関数状輪郭を有している。超音波ノズルは光学的な共振器領域 内に開口しており、ノズルの超音波区域内で平行な超音波/亜音波流を保証する ための小さい拡開角度を有している。ノズルの超音波区域は、ノズルの臨界区域 と下流側のディフューザとの間の間隔内に位置する。 レーザヘッドは、2カ所つまりレシーバの上流側とディフューザの下流側でレ ーザの気体流を冷却するための2つの冷却部と一体化可能である。またレーザヘ ッドは、RF共振器及びRF電力増幅器とも一体化可能である。 以上の結果本発明のレーザは小型、軽量、極めて強力且つ効率的で、高速と一 定の低温をレーザ本体の内部全体を通じ組み合わせることによって、気体媒体の 化学的劣化を利点を生かしつつ、閉ループの気体媒体系を用いることができる。 最後に要約すれば、本発明は無線周波数(RF)放電レーザであって、(a) 入口冷却部と流通連通した入口レシーバ、(b)前記入口冷却部を介して前記入 口レシーバに入り、前記レーザを縦方向に通過する気体媒体、(c)前記入口冷 却部と流通連通し、その下流側に位置したプレイオン化体、(d)前記入口レシ ーバと流通連通し、その下流側に位置した超音波ノズル、(e)前記通過する気 体媒体の両側にそれぞれ配置され、前記入口レシーバと流通連通し且つその下流 側に位置した第1及び第2のRF電極、(f)前記第1及び第2のRF電極を前 記気体媒体から絶縁する第1及び第2の誘電体板、(g)前記超音波ノズル内の 光学的共振器、(h)前記超音波ノズルと流通連通し、その下流側に位置したデ ィフューザ、(i)前記ディフューザと流通連通し、その下流側に位置した出口 レシーバ、及び(j)前記光学的共振器を透過するレー ザビームを備えたレーザを提供する。図面の簡単な説明 同じ番号は同じ部品を示している添付の図面に沿った以下の説明を参照するこ とで、本発明はより明瞭に理解されるであろう。図面中 図1Aは、レシーバ区域の端部にプレイオン化用RF固体電極部を有し、ノズ ルの臨界区域内にRF放電励起領域を有する本発明のレーザの斜視図; 図1Bは図1Aのレーザの側断面図; 図1Cは図1Aのレーザの中央部分の平断面図; 図2Aは、レシーバ区域の端部にプレイオン化用固体RF電極部を有し、ノズ ルの臨界区域の下流側で光学的共振器領域の上流側にRF放電励起領域を有する 本発明のレーザの斜視図; 図2Bは図2Aのレーザの側断面図; 図2Cは図2Aのレーザの中央部分の平断面図; 図3Aは、ノズルの臨界区域内にプレイオン化用固体RF電極部を有し、光学 的共振器領域内にそれと同じ広がりでRF放電励起領域を有する本発明のレーザ の斜視図; 図3Bは図3Aのレーザの側断面図; 図3Cは図3Aのレーザの中央部分の平断面図; 図4Aは、レシーバ区域の端部にプレイオン化用UV管球を有し、光学的共振 器領域内にそれと同じ広がりでRF放電励起領域を有する本発明のレーザの斜視 図; 図4Bは図4Aのレーザの側断面図; 図4Cは図4Aのレーザの中央部分の平断面図; 図5は図1Aのレーザ内部及びレーザ用活性気体媒体通路の実測概略側面図; 図6AはRF平面電極の側面図; 図6BはRF平面電極の正面図; 図6CはRF平面電極の底面図; 図6DはRF平面電極の斜視図; 図7Aはプレイオン化グリッドの正面図; 図7Bはプレイオン化グリッドの一部の斜視図; 図8Aは追加の光学的接続を備えた円筒状テレスコープ式共振器の斜視図; 図8Bは図8Aの共振器の平面図; 図8Cは図8Aの共振器の側面図; 図9Aは円筒状テレスコープ式共振器の斜視図; 図9Bは図9Aの共振器の平面図; 図9Cは図9Aの共振器の側面図; 図10は図1,2,3,4のレーザのRF電極の電気的接続の概略図で、RF 共振器がRF電極と一体化され、RF電源に接続されている;及び 図11はRF共振器の接続の概略図で、図1,2,3,4のレーザの電極がR F電力増幅器と一体化され、DC電源及びコントローラに電気的に接続されてい る。好ましい実施例の詳細な説明 まず、本明細書の全体を通じて、以下の定義が適用される。超音波/亜音波ノ ズル1については、「二次元ノズル」ともよく称される。ここで二次元とは、ノ ズル1の輪郭が2つの軸、つまりX(長さ)とY(高さ)に依拠することを意味 する。またこのノズルは、フラットノズルと呼ばれることもある。ノズルの臨界 部1bを生成するための図5の1dにおけるY軸方向の狭まりが、そこを通って 流れる気体の断熱膨張を引 き起こす。超音波ノズル1内における膨張係数Aは、A=H/hで定義される。 但しここで、Hは共振器領域内における気体流の高さ、hは誘電体板4a、4b 間の距離である。信号モードビームTEM00とは、標準ガウス曲線の強度プロッ トを有する最低次横波モードを意味する。 以下、いくつかの実施例を提示し説明する。これら実施例は、図1A−1C、 図2A−2C、図3A−3C及び図4A−4Cにそれぞれ示された実施例である 。図1A−1Cの実施例は、レシーバ3a内にプレイオン化用グリッド6、また 超音波ノズルの臨界区域1b内にRF電極4a、4bを備えている。図2A−2 Cの実施例は、電極4a、4bが臨界区域1bの後方で、共振器キャビティ23 (図5)の前方には位置されている点を除き、図1Aの実施例と同じである。図 3A−3Cの実施例は、超音波ノズルの臨界区域1b内にプレイオン化用グリッ ド6を備え、共振器キャビティ23内に電極4a、4bが配置されている。最後 に図4A−4Cの実施例は、プレイオン化用のUV管球29を備え、共振器キャ ビティ23内に電極4a、4bが配置されている。 本発明のレーザは、下記の気体状活性媒体を用いることができる a:CO2:N2:He; b:CO:N2:He; c:Xe:Ar:He; d:Xe:Kr:He; e:He:Ne; 気体状活性媒体“a”と“b”の場合、RF放電レーザは分子の高振動及び回 転状態でのイオン化と電子励起に基づいた分子遷移を利用している。この場合、 RF放電レーザは分子型で、振動遷移に基づき“a”では9.6mkmから10.6mkmの 波長、“b”ではほぼ5mkmの波長のレーザ赤外放射を発生する。一酸化炭素の 分子は、電子遷移を利用したほぼ0.5mkmの関連波長を有する可視領域での放射( 緑光)を発生可能である。気体状活性媒体“c”、“d”及び“e”の場合、R F放電レーザは原子遷移を利用しており、“c”では2.03mkmの波長、また “e”ではほぼ0.63mkmの可視波長のレーザ放射を発生する。 図1A、2A、3A及び4Aに示すように、活性気体媒体は、気体を所定の圧 力下でレーザの内部へ至りそこを通過するように強制的に送り込む気体タービン 18によって系内に導入される。気体タービン18はレーザ本体と一体化も可能 であるし、もしくはレーザと別にし、わずか約0.7kWのパワーを有するコンパク トなターボ流ブロワーを用い、そのブロワーを接続ホースでレーザ本体に接続す ることも可能である。気体媒体は一般に100と1000torr間の範囲の静圧を呈する が、それより著しく高いこともある。気体は、入口冷却部17aであるレーザ本 体への導入地点から下流へ、入口レシーバ3a、ノズル1、ディフューザ2,出 口レシーバ3b、及び出口冷却部17bを順次通って循環する。これら各区域の 断面配置が、図5に示してある。系を通過した気体は図1A、2A、3A及び4 Aに示したように再循環してもよいし、あるいは冷却部を用いずに、気体タンク (図示せず)からレシーバ区域3aへとレーザ本体にその都度新たに導入しても よい。 図1A−1Cに示したレーザの実施例の気体室領域は、次のものを具備してい る:入口冷却部17a;図1Bに示す45度の偏向器39aを備えた入口レシー バ3a;プレイオン化用グリッド6;それぞれ上方及び下方の無線周波数(RF )電極4aと4b;それぞれ上方及び下方の誘電体板20aと20b;超音波ノ ズル1の臨界区域1bと一致した放電領域21;反転分布がそこで成長する励起 領域22;光学的な共振器領域(キャビティ)23;共振器鏡5c、5f及び5 d;反転分布がそこで最大になるレーザ活性領域24;ディフューザ2;45度 の偏向器39bを備えた出口レシーバ3b;及び出口冷却部17b。 冷却部17aへの入口は、気体タービン18及び供給ライン15と流れ連通し ている。レシーバ区域3a内における気体の静圧の範囲は、一般に約100から 1000torrである。レシーバ区域3a内の気体の 圧力は、使われる気体状活性媒体の種類及びレーザを発生させる活性による気体 の消費に依存している。その圧力はまた、レーザ放射の出力電力、RF電極間の ギャップサイズ、及びRF励起の電力と周波数にも依存している。 図2A及び図3Aに示した別の実施例のレーザ装置は、光学領域における気体 流について、約0.1Mから5M(但しMは音速)の一般的な速度範囲を有してい る。レシーバ区域3a内における絶対圧の範囲は、一般に100torrと5000 torrの間を取り得る。正確な仕様は上記と同じく、使われる気体媒体及びレーザ に要求される出力電力に依存する。超音波ノズル1cの前方で高い絶対圧力とす れば、排気系を用いずにレーザを作動させ、ディフューザ2における超音波/亜 音波流の減速後、気体をそのまま大気へ放出させることができる。さらに、図2 A及び図3Aにそれぞれ示したように、励起領域22、放電領域21及び共振器 領域23を組み合わせたり、放電領域22を光学的共振器23より先行させるこ とは、気体流の速度、レーザの動力学、遷移の種類、気体流の静圧に関連したイ オン化の速度及び寿命、その他の因子によって決定される。 図4に示した実施例のレーザは、光学的な共振器領域23における気体流につ いて、約0.1Mから1Mの一般的な速度範囲を有することができ。レシーバ区域 3a内におけるレーザ気体の絶対圧の範囲は、一般に50torrと200torrの間 を取り得る。図4Cに示すように、光学的共振器23はRF放電領域21と同じ 広がりを有する。最大レベルは中央部に存在するという反転分布の特長を生かし 、鏡5c、5dはレーザビームの各相13を気体流10と直角方向に共振させ、 それによってレーザ活性媒体の共振遷移に対する陽子の増幅を発生させる。鏡の うちの1つ、つまり図4Aの5fが透過性とされ、レーザビームの各相を共振器 23の透明な窓5fを通って出射可能とし、出力レーザビーム14 として使えるようにしている。 図1A及び図1Bに戻って再び参照すれば、レシーバ区域3aの下流側で超音 波ノズル1bの前方に、プレイオン化用グリッド6が配置されている。あるいは これに代えて、RFプラズマ自体からの紫外放射や図4Aに示したUV管球29 等の紫外線源を用い、プレイオン化を行ってもよい。RF放電領域21の前方ま たはその内部でプレイオン化を行うことで、励起プラズマの点弧が強められ、ま た系内の高コストである高周波エネルギーの利用度が高められる。RFグリッド 6またはUV管球29を用いた活性媒体のプレイオン化により、RF放電領域2 1において見いだされる誘電体板20aと20b間のギャップにおける非平衡プ ラズマの一様な励起が達成される。 図7Aに示したプレイオン化用グリッド6は、図では明瞭化のため拡大して示 してある小平面部6cを有する2つの金属固体部6aと6bから構成されている 。平面部6c間のギャップは、一般に3−4mmである。上方と下方の平面部6 c間に、低電流の「アルファ」RFプラズマがRF電源8bによって生成される 。金属のプレイオン化用平面部6cはアルミニウムで構成され、硬被覆の陽極酸 化膜AlO3によって保護されている。RFプレイオン化用グリッド6は低パワ ーのRF源8bか、あるいは図1Bに示すように主RF電源8Aの岐路に電気的 に接続されている。 図4A、4B及び4Cに示すように、気体状媒体9のプレイオン化は、円筒状 の反射面31によって上方から部分的に取り囲まれたUV管球29によって行っ てもよい。気体供給ライン15からの気体流9は、冷却部17aを通ってレシー バ3aに入る。気体タービン18によって所定の圧力下で送り込まれた気体は、 それぞれ上方及び下方の平面状誘電体板20aと20b間に形成されたRF放電 領域21の励起領域22へ入る前に、UV管球29を通過する。図4Aのレーザ におけるUV光イオ ン化は、ノズル1の臨界区域1bの前方に配置されている。図4Aは、ノズルの 膨張係数がA=1の場合に、電極4aと4b間のRF放電領域21内で音波/亜 音波気体流が生じるレーザを示している。 上記のレーザ設計はすべて、RF電極4aと4bの絶縁のために必要な大寸法 の誘電体板20aと20bを除き、アルミニウムまたはアルミニウム合金からな る内壁50を有する。アルミニウムまたはアルミニウム合金膜(内壁)50は非 導電膜の全動力学内面を有し、ほぼ0.0025インチ以上の厚さを有する。アルミニ ウムの表面上に積層される非導電材は、硬被覆の陽極酸化で生成可能なAlO3 で構成し得る。また非導電膜は、レーザ内壁50のアルミニウム部の内面上に直 接、低級の亜硝酸ニッケルをメッキすることによっても生成できる。さらにレー ザ本体は、機械加工可能なセラミックスのような誘電体材料から作製することも できる。 レシーバ区域3aの端部でプレイオン化用グリッド6の下流側に、図5の二次 元の超音波ノズル1が配置されている。ノズル1は次の3つの部分で構成されて いる:亜音速区域1a、臨界区域1b及び超音波区域1c。ノズル1は、光学的 な共振器領域23内で一様な事実上超音速または亜音速の流れを保証するために 、気体流のX軸に沿って最小の長さと、なめらかで最適な空気力学的形状を有す るように設計されている。ノズル1の超音波区域1cは、ノズルの臨界区域1b に始まって光学的な共振器領域23内に開口する最適な対数関数状の輪郭を有す る。共振器領域23内のノズル1の超音波区域1cにおける気体流の速度範囲は 、使われる活性媒体及びノズルの亜音波区域1aと超音波区域1c間における気 体の静圧の勾配に依存するが、0.1Mの亜音速から5M(M=音速)である。超 音波ノズルの膨張係数A=H/hは、1(図4に示した場合)から30の範囲を 取り得る。ノズルの臨界区域1bの高さ“h”つまり両誘電体板間の距離は、4 mmと40mmの間の範囲を取り得る。 共振器領域23内における気体流の高さ“H”も、4mmから40mmまでの範囲を 取り得る。ノズル1あるいはレシーバ3a、3bの断面幅は、10cmと100cmの間 の範囲を取り得る。一般的な幅は約35cmである。放電領域21によって決まる、 X軸方向の気体流に沿ったRF電極4aと4bの長さは、約2cmから約15cmとし 得る。一般的な長さは約4cmである。 臨界区域1bに始まってディフューザ2の前方にまで延びるノズルの対数関数 状輪郭の超音波区域1cは、図5に示すように、光学的な共振器領域23内で約 0.5度の小さい広がり角度を有する。このノズルの壁の対数関数状輪郭によって 形成される小さい拡開角度は、壁上で増大する境界粘性膜の厚さを補償するため と、ノズルの臨界区域1bとそれより下流側のディフューザ2間における静かで 且つ平行な超音波または亜音波流を補償するために必要なものである。最適な拡 開角度は、超音波区域1cにおける気体媒体の速度と、気体流の静圧及びその温 度とに依存する。ノズルの臨界区域1bを通過し、鏡5c、5dが配置されてい る下流側の光学的な共振器領域23内へと向かう、図1Aと図2Aに示したプレ イオン化されるレーザ気体流9とRF励起後の気体流11は、実質上波衝撃のな い静かな超音波または亜音波流である。共振器領域23内での気体流11は、静 圧及びその高さと幅方向の速度などの熱力学的パラメータについて、一様な横断 方向分布を有する。 ノズル1の超音波区域1cは、気体状活性媒体の集中的な断熱膨張を引き起こ して、超音波気体媒体に極めて低い静気体温度をもたらす他、気体媒体の原子及 び分子の比較的低いエネルギー状態の分布を減少させる。超音波区域1c内にお ける超音波流の静気体温度の範囲は気体流の速度(0.1Mから5Mの間)に依存 し、一般に50から285絶対温度(K)の間である。マッハ=2の速度を呈す る一般的な超音波流の場合、静温度は165Kである。この超音波流の低い静温 度は、分子の比較的 低いエネルギー状態の分布を減少させ、レーザ反転、活性媒体の増幅係数、出力 電力及びレーザの全体的効率を増大せしめる共に、無線周波数(RF)放電励起 によって生成される非平衡プラズマの完全利用を促進させる。超音波ノズル区域 1c内における気体流の動的冷却によってもたらされる極めて低い原子温度の生 成は、レーザが最大可能なレーザエネルギー及びレーザ系の効率を発生するのを 可能とする。CO2レーザの場合には、20−30%の効率レベルにまで到達し 得る。COレーザの場合、効率は20%に到達し得る。また高速の亜音波あるい は超音波流によって生成される気体媒体の低い静温度は、分子の化学的劣化を防 止すると共に、閉鎖式のレーザ系における気体媒体の継続した長期間の再循環及 び再使用を可能とする。さらに、プラズマ放電領域は気体媒体の温度を高めるが 、気体流の速度と冷却部17a、17bのために、全体の温度は比較的低くとど まり、気体媒体の化学的劣化を防止する。このことは、本発明のレーザが気体媒 体の補給を必要とせずに、気体を再循環させる閉鎖式の気体系を利用可能にする という点で、極めて有利である。 本発明のレーザの出力電力は、前記した活性媒体について数キロワットの範囲 を達成でき、レーザ放射の最大可能内部共振強度、RFプラズマの容積、RF励 起の周波数、発生の時間及び共振器鏡の加熱によって制限される最大レベルにま でさらに増大できる。さらに、本発明のレーザ内部の最適な空気力学的形状によ り、レイノルズ数(気体の無次元パラメータ)がRe<10000の臨界レベルより低 いとき、共振器領域23内で疑似層流状の超音波または亜音波流が発生する。こ の波衝撃や乱流を含まないなめらかな疑似層流が高い光学的品質、つまり出力レ ーザビームの光学的品質をもたらす。 図1A、2A、3A及び4Aの各実施例に示した誘電体板20aと20bは、 金属製のRF電極4aと4bを、放電領域21及び気体流室か ら絶縁し、プラズマ活性領域において金属表面とレーザ気体が直接接触するのを 防ぐために使われている。また、RF電極を誘電絶縁することでRF放電が安定 化され、放電領域における「ホットスポット(過熱点)」及び火花放電の発生が 防止されている。誘電絶縁板20aと20bは、機械加工可能な非導電性セラミ ック、ガラスまたは雲母で構成されている。 図1Bに示すように、レシーバ区域3aの下流側で超音波ノズルの臨界区域1 b内に無線周波数(RF)放電領域21が位置しており、臨界区域1bは図5に より分かりやすく示してある。RF放電領域21は、2つの誘電絶縁された平面 状RF電極4aと4b間に生成される。RF境界電子振動によって作られる非平 衡プラズマは、プレイオン化された音波/亜音波気体流であって、この実施例で は図5の超音波ノズル1の臨界区域1b内に位置した区域を占める。 図5に示した放電領域21が励起領域22の最初の部分を形成し、それによっ て光学的な共振器領域23の前方あるいはそれと一致した位置に高周波の放電励 起を発生せしめる。臨界区域1bより下流側における活性レーザ媒体10の超音 波または亜音波流は、高周波電源8に接続された絶縁RF電極4aと4b間を通 過する。気体状媒体はRFグリッド6または図4AのUV管球29によってプレ イオン化されており、RFグリッド6は図3Aの実施例では、ノズルの短縮され た臨界区域1b内に配置されている。 図5において、放電領域21を含み放電領域21の下流側にある程度の距離だ け延びた励起領域22は、光学的な立ち上がり時間として定義される反転分布が そこで成長する区域である。この区域は、図1C及び図2Cに示した光学的な共 振器鏡5cと5dが配置された光学的な共振器領域23の直前に位置している。 励起領域22の一部と光学的な共振器領域23のすべてとを含む超音波ノズル1 の一部として定義される領 域全体が、レーザ活性領域24である。この領域は、そこで超音波流の静温度が 最大レベルに達すると共に、共振遷移に対する最大の陽子増幅が起きる区域であ る。レーザエネルギーの生成に必要な反転分布は、特に図1A及び図4Aに示す ようにRF電極4aと4bが超音波ノズルの臨界区域内に配置されている場合、 レーザ活性領域24内で最大レベルに達する。 誘電体板20aと20bは、RF電極4aと4bの金属表面を絶縁してイオン 化状態の気体流と接触しないようにすると共に、RF放電を放電領域21のギャ ップ内に安定して閉じ込め、電源8aのプラズマに対する最大可能なエネルギー 寄与を高めるために使われている。誘電体板20aと20bの厚さは、RFモー ドの種類及び絶縁材の誘電率に依存する。低電流の「アルファ」モードの場合、 セラミック板の一般的な厚さは約3‐15mmで、高電流の「ガンマ」モードの場合 における厚さは約0.5‐2.5mmの範囲である。本発明のレーザは、10MHz以上の RF電力励起周波数を用いている。 図1A及び図4Aに示した超音波ノズルの臨界区域1b内に、それぞれ上方及 び下方の平面状RF電極4aと4bが配置され、これらRF電極4aと4bは放 電領域21内のプラズマから両電極を保護するための誘電絶縁板20aと20b を備えている。電極4aと4bは、プレイオン化された気体流10のイオン化及 び電子励起のための安定したRF放電を発生する。RF電極の一方4aは、RF 共振器として作用する図10に示したコイル32に接続されている。他方のRF 電極4bは、電気的に接地されている。無線周波数発生器(RF電源)8が、放 電領域21内に高周波プラズマを発生させ、さらにプレイオン化されている気体 状レーザ媒体10を励起して、分子または原子のより高いエネルギー状態を分布 させるためのRFエネルギーを電極4aに供給する。この高エネルギー状態の分 布が、レーザ発振の活性度に必要な適切なレーザ反転 を引き起こす。平面状のRF電極4aと4bは、銀メッキを施した真鍮またはア ルミニウムで構成されている。図6A、6B、6C及び6Dに示した金属製のR F電極4aは、内部が蒸留水で冷却される。あるいはこれに代えて、本発明で用 いる電極は、小さい複数対の電極で構成されるように分割も可能である。気体流 の軸方向に沿った電極区域の好ましい長さは約4cmであるが、それぞれ上方及 び下方の電極4aと4bを例えば2対の電極に分離し、これら2対の電極の長さ (気体流の軸方向に沿った長さ)を2cmとすることもできる。このような分離 は、レーザ態様の動力学、使われる気体媒体、あるいはその他特別な必要条件に よって必要になることがある。 図1Bにおいて、2つの誘電体板20aと20bが、それぞれ上方及び下方の 金属製RF電極4aと4bの周囲を覆っている。誘電板20aと20bの厚さは 、RF電極4aと4b間のギャップ(放電領域)21より大とすべきである。金 属製のレーザ本体(内壁)50に対するインピーダンスを増大する一方、放電ギ ャップ21に対するインピーダンスを減少させるためには、RF電極4aと4b をレーザ本体50に対して広く誘電もしくは空気絶縁する必要がある。RF電極 間の一般的な整合インピーダンスは約50オームである。両RF電極4a、4b とレーザ本体50間の一般的な距離は、放電ギャップ21の高さの少なくとも5 倍より大きくすべきである。 上方及び下方の直線状電極4aと4bは、プレイオン化された気体状媒体の流 れ10に対して直角方向を向いており、無線周波数発生器(RF電源)8からエ ネルギーを供給されている。これらの電極4aと4bが、図5に示したような放 電領域21内におけるレーザ気体の励起のための高周波プラズマを生成する。図 10は、RF共振器32と一体化されたRF電極4aの概略配線図を示している 。また図10には、それら共振器と電極がRF放電の発生に必要なRF電源8に 接続されているこ とも示してある。RF電源8とRF共振器32との間の接続は、テフロン(登録 商標)製の同軸ケーブルからなるRFケーブル33によって行われる。 図11は、代替のRF電源8aと8bを備えたレーザ電極4aの概略図を表し ており、ここではレーザヘッドがRF共振器32及びRF電力増幅器8aと一体 化されている。共振器32と電力増幅器8aを1つのユニットに一体化すること で、図10に構成要素33として示したように、電源8とRF共振器32の間を 太い高電力用の同軸ケーブル33で接続する必要がなくなる。図11の実施例で は、DC同軸ケーブル34で電源部8bがRF電力増幅器8aに接続される。D C電源を含む電源部8bは、制御回路36も有している。制御回路36はRF電 力増幅器8aと、低電圧用DC同軸ケーブル37を介して接続されている。他方 のRF電極4bは電気的に接地されている。 図3A、3B及び3Cに示したレーザ装置は、1つの上方RF電極4aと1つ の下方電極4bを用いている。RF放電領域21内にそれと一致して、円筒状の テレスコープ式共振器5c、5d及び5fが配置されており、そこでレーザビー ムの各相13が共振し、超音波または亜音波活性気体媒体11における最大のレ ーザ反転分布を利用してエネルギー付与される。本発明のレーザシステムでは、 図9A−9Cに示したような光学的な円筒状テレスコープ式共振器、あるいは図 8A−8Cに示したような追加の光学的接続を備えた円筒状テレスコープ式共振 器を用いることができる。出力鏡5dがわずかに透過性とされ、出力ビーム14 が光学的な共振器領域23を出射して利用できるようになっている。 図4A、4B及び4Cに示したレーザ装置は、超音波ノズルの膨張係数A=1 を有する気体流の音波または亜音波速度で動作可能である。放電領域21、励起 領域22及び光学的な共振器領域23は同じ広がりを有している。上記した2種 類の円筒状テレスコープ式共振器を用い、単 一モードビームTEM00を出力ビームの最小拡開角度で発生させることができる 。プレイオン化は、ノズル1の上流側でその近くに配置された、図4Aに示すU V管球29によって与えられる。この実施例におけるディフューザ2は超音波域 にあり、図1Aで用いている中央要素2cを省くことができる。 図2、3及び4に示したレーザモデルは、活性レーザ媒体がレーザ放射の短い 波長で典型的な短いイオン化、励起時間及び/又はレーザ反転分布の短い寿命時 間を有するときに、状況に応じ最適に選択することができる。またこれらの実施 例は、100torr以上の圧力を有するCO2レーザあるいはレーザが亜音波の気 体流速度で動作する場合など、レーザがノズルの超音波区域1cにおける超音波 /亜音波流の高い静圧を利用するときに用いてもよい。 本発明のレーザでは、図1A、2A、3A及び4Aに示し且つ図8A−8C及 び図9A−9Cに表したような不安定で光学的に非対称の円筒状テレスコープ式 共振器を用いることができる。第1の種類は、図8A−8Cに示したような追加 の光学的接続を備えた円筒状テレスコープ式共振器である。この共振器は3つの 光学的に相関関係にある円筒状の最大反射鏡で構成されている:それらの第1が 扁平鏡5a、第2がX軸に沿った円筒状の凹面鏡5c、第3がX軸に沿った円筒 状の凸面鏡5dである。これら3つの鏡はすべて、中心単一モードビームTEM00 の増幅を行うようにお互に光学的に相関されている。追加の光学的要素5aが 、不安定な共振器によってTEM00モードのより対称的なガウス分布を生成可能 としている。各鏡の寸法及びその半径の幾何学的関係は、テレスコープ式ミラー 構成に関する周知の諸式に従っている。出力レーザビーム14は出力鏡5dの側 方を通過し、レーザ共振器のキャビティを大気から密封するために使われている 絶対透過型の透明窓5fを通って共振器の外へ出る。 第2の種類の共振器は、図9A−9Cに示したような非対称の円筒状テレスコ ープ式共振器で、テレスコープ式相関関係にある2つの最大反射鏡で構成されて いる:それらの一方がX軸に沿った円筒状の凹面鏡5c、他方がX軸に沿った円 筒状の凸面鏡5dである。この共振器の原理は、図8A−8C共振器と同様であ る。またこの共振器は、単一モードビームTEM00の高純度レーザを提供するこ とができる。 図8A−8C及び図9A−9Cに示した本発明における共振器の利点は、レー ザビームが共振器内部で最小数の相13を有することである。これは、その結果 出力レーザビーム14が最小の光学的収差を有するようになるため重要な観点で ある。また本発明における共振器は、中心単一モードビームTEM00の増幅だけ を利用している。 図8A及び図9Aに示した各共振器23の別の利点は、それら共振器が技術的 に単純で、補正が容易であり、しかも熱変形に関連した問題を伴わないことであ る。これは、共振器鏡5cと5dの大きい表面上で、電力密度が一様に分布され ていることに基づいている。それが可能なのは、本発明における光学的共振器が 出力レーザビームを単一モードビームTEM00として高い光学的品質で与えられ るからである。各鏡の寸法は、光学的な共振器領域23内における気体流の高さ よりわずかに大きい各鏡のY軸方向高さを有する光学的な共振器領域23の寸法 に従って設定される。 超音波ノズル1の下流側に、超音波ディフューザ2が配置されている。図1B 、2B及び3Bに最も明瞭に示してあるように、ディフューザ2は次の2つの部 品で構成されている:超音波ディフューザ(区域)2aと亜音波ディフューザ( 区域)2b。本発明におけるディフューザ2は超音波流を2段衝撃減速する中央 要素2cも有しており、1段は超音波区域2a内で行われ、もう1段は亜音波領 域2b内におけるそこでは亜音波流の減速である。 ディフューザ2を出た出力気体流12は出口レシーバ3bと冷却部17bを通 過し、戻りライン16に入った後、入口冷却部17a、気体タービン18及び供 給ライン15へと再循環される。両冷却部17aと17bはそこを通して水を循 環させる標準型の熱交換器で、水はほぼ20℃の温度に保たれる。 図4A−4Cに示した実施例においては、ノズル1の下流側に亜音波ディフュ ーザ2が配置されている。図4Bに最も明瞭に示してあるように、ディフューザ 2は亜音波部2bだけで構成されており、中央要素2cは省かれている。ディフ ューザの出口は他の構成要素に対して、前記の実施例で説明したのと同じ気体連 通及び流路構成を有している。 超音波及び亜音波ディフューザは、気体流中の絶対圧を効率的に用いるのに最 適な寸法及び形状を有している。各図面(図1A−3C)に示した本発明におけ る2段衝撃ディフューザの一般的な効率は、古典的な理想値にかなり近い。約マ ッハ=2の気体速度の場合、効率は約90%である。これは、本発明のレーザで の波動損が非常に低いことを意味する。気体流内における運動エネルギーの粘性 損は、ノズル1内の気体のマッハ速度と絶対圧に依存する。約マッハ=2の速度 とレシーバにおける200torrの絶対圧とを有する典型的な気体流の場合、運動 エネルギーの損失は約40%である。これは上記と合わせ、レーザにおける気体 流中の運動エネルギーの総損失が約50%であることを意味している。このよう に運動エネルギーの損失が50%である本設計は、入口レシーバ3a内に戻し注 入される戻りライン内にある気体の圧力を増加させるのに必要なエネルギーが減 少するという有利な結果を有する。運動エネルギーが50%減少であれば、すな わち入口レシーバ3aにおいて必要な絶対圧が200torrから100torrに減れ ば、気体タービン18が入口レシーバ3a内で必要な200torrに圧力を上げる ために要するエネルギーが比較的少なくて済む。従って、ディフューザ2とレー ザ 装置全体の空気力学的効率に直接関連した、戻しライン中の気体タービン18の パワー及び寸法もそれに応じて減ることが明らかである。出力電力が1.5kWtの典 型的なCO2レーザの場合、戻し気体タービンはわずか2‐3kWtの電力要求量を有 していればよい。 図4に提示した音波/亜音波レーザ装置の場合、亜音波ディフューザ2bの一 般的な効率は約96%である。これは、運動エネルギーの空気力学的損失の面か ら見れば、亜音波気体流を用いる方がより有利なことを意味する。しかしRF励 起レーザの電気光学的効率は、共振器領域23内におけるレーザ気体の温度が高 いほど増大する関係にあるので、結果的には小さくなる。CO2型を用いた超音 波及び亜音波レーザ装置の全体的効率は約15%である。 本発明のレーザにおけるディフューザ2の使用は、成層圏や自由空間など低圧 の外部環境下でレーザが動作する場合のような状況では必ずしも必要ない。本発 明のレーザの全体寸法は極めてコンパクトである。両冷却部を備えたレーザヘッ ドの長さ寸法は、RF電源を含めずに30cmから100cmの範囲である。レーザヘッ ドの幅は、5から20cmの間の付設高さを含め30cmから70cmの範囲である。レーザ の重量はほぼ45kgとなり得る。本発明のレーザの出力電力の範囲は、必要な 電力及びその他の実施仕様に依存するが、1kWと20kWの間のレーザ放射が可能で ある。例 1 図4Aのレーザ本体設計を用いて、レーザを作製した。用いた気体は、窒素と ヘリウムを混合した一酸化炭素であった。レーザ本体内の気体の静圧はほぼ90to rrであった。気体媒体の速度はほぼ0.2Mであった。誘電体板は両者の間にほぼ1 .8cmのギャップを有し、電極間のスペースはほぼ2.2cmであった。電極は励起領 域内でガンマプラズマを発生 した。気体流の軸方向に沿った電極の長さは、ほぼ4cmであった。電極の幅はほ ぼ35cmであった。ノズルの超音波区域の拡開角度はほぼ0.5度であった。このレ ーザでは、図8Aに示したような不安定で円筒状のテレスコープ式光学的共振器 を用いた。電極は13.56MHzのRF電力励起周波数、ほぼ0.7kVの電圧で、7.5kW R MSの平均電力を放出した。平均のレーザ出力電力はほぼ1500Wで、3kWまでのパ ルス状電力も発生可能であった。RF電極間で測定されたインピーダンスはほぼ 50オームで、プラズマの単位容積当たりの電力密度は約35Wで、立方cm当た り50Wまでであった。この電力密度は周波数に依存し、本例での周波数は13.5 MHzであった。なお本例のレーザでは、例えば27.12MHz、40.68MHz、81.36MHzな ど、特定の用途で必要となるその他の励起周波数を用いることもできる。81.36M Hzより高い周波数の場合、同じ容積のプラズマに対するRF電力の寄与は4.5倍 増大する。出力電力は平均でほぼ5kWになる一方、気体媒体流の速度も平均で、 4.5倍増大しほぼ0.9Mになるはずである。本実施例の閉鎖式気体循環は、パワー がわずか約0.7kWのコンパクトなターボ流ブロワー(タービン)を用い、これを フレキシブルなホースでレーザに接続する(つまりタービンはレーザ本体と分離 し独立している)ことで可能である。レーザ自体の全体寸法はわずかに大きくな るが、タービンをレーザ本体と一体化することもできる。 以上の詳細な説明は主として発明の理解を明瞭とすることを目的に記述したも のであり、以上の開示から当業者にとっては各種の変形が自明であり、また発明 の精神もしくは添付した請求の範囲に記載の範囲を逸脱することなく成し得るた め、上記の説明は不用な制限を与えるものと解されるべきでない。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.無線周波数(RF)放電レーザであって、 (a)入口冷却部と流通連通した入口レシーバ、 (b)前記入口冷却部を介して前記入口レシーバに入り、前記レーザを縦方向 に通過する気体媒体、 (c)前記入口冷却部と流通連通し、その下流側に位置したプレイオン化体、 (d)前記入口レシーバと流通連通し、その下流側に位置した超音波ノズル、 (e)前記通過する気体媒体の両側にそれぞれ配置され、前記入口レシーバと 流通連通し且つその下流側に位置した第1及び第2のRF電極、 (f)前記第1及び第2のRF電極を前記気体媒体から絶縁する第1及び第2 の誘電体板、 (g)前記超音波ノズル内の光学的共振器、 (h)前記超音波ノズルと流通連通し、その下流側に位置したディフューザ、 (i)前記ディフューザと流通連通し、その下流側に位置した出口レシーバ、 及び (j)前記光学的共振器を透過するレーザビーム、 を備えたレーザ。 2.前記入口レシーバがタービンと流通連通している請求の範囲第1項のレー ザ。 3.前記入口レシーバが気体タンクと流通連通している請求の範囲第1のレー ザ。 4.前記プレイオン化体が金属製のプレイオン化グリッドから成る請求の範囲 第1項のレーザ。 5.前記プレイオン化グリッドがRF電源に接続されている請求の範囲第4項 のレーザ。 6.前記プレイオン化体が少なくとも1つの紫外線源から成る請求の範囲第1 項のレーザ。 7.前記超音波ノズルが前記光学的共振器内で約0.5度の拡開角度を持つ対数 関数状輪郭を有する請求の範囲第1項のレーザ。 8.前記誘電体板が前記RF電極の表面積よりも大きい表面積を有する請求の 範囲第1項のレーザ。 9.前記誘電体板が0.5mmと3.0mmの間の厚さを有する請求の範囲第1項のレー ザ。 10.前記タービンの下流側に位置してそれと流通連通すると共に、前記入口 レシーバと流通連通した入口冷却部をさらに備えている請求の範囲第2項のレー ザ。 11.前記超音波ノズルが亜音波区域、臨界区域及び超音波区域から構成され ている請求の範囲第1項のレーザ。 12.前記電極が前記ノズルの臨界区域と同じ広がりを有する請求の範囲第1 1項のレーザ。 13.前記電極が前記ノズルの超音波区域と同じ広がりを有する請求の範囲第 11項のレーザ。 14.前記超音波ノズルの臨界区域の高さが約4mmから約40mmである請求の 範囲第11項のレーザ。 15.前記電極が前記光学的共振器と同じ広がりを有する請求の範囲第1項の レーザ。 16.前記出口レシーバに隣接し且つそれと流通連通する出口冷却部をさらに 備えており、前記タービンが前記気体媒体を前記出口冷却部から前記入口冷却部 へ循環させる請求の範囲第10項のレーザ。 17.前記入口レシーバと流通連通した入口冷却部をさらに備えてい る請求の範囲第1項のレーザ。 18.前記出口レシーバに隣接し且つそれと流通連通する出口冷却部をさらに 備えている請求の範囲第1項のレーザ。 19.前記入口レシーバ内に約45度の角度で延びた偏向器をさらに備えてい る請求の範囲第1項のレーザ。 20.前記出口レシーバ内に約45度の角度で延びた偏向器をさらに備えてい る請求の範囲第1項のレーザ。 21.前記気体媒体が二酸化炭素、窒素及びヘリウムまたはこれらの混合物の 少なくとも一部から成る請求の範囲第1項のレーザ。 22.前記気体媒体が一酸化炭素、ヘリウム、窒素またはこれらの混合物の少 なくとも一部から成る請求の範囲第1項のレーザ。 23.前記気体媒体がキセノン、アルゴン、ヘリウムまたはこれらの混合物の 少なくとも一部から成る請求の範囲第1項のレーザ。 24.前記気体媒体がキセノン、クリプトン、ヘリウムまたはこれらの混合物 の少なくとも一部から成る請求の範囲第1項のレーザ。 25.前記プレイオン化グリッドが、約3から4mmの距離だけ相互に隔たった 複数の区分を有する対向した金属製のRF電極で構成されている請求の範囲第4 項のレーザ。 26.前記ディフューザが前記気体流を上方及び下方の排気路へと分割する中 央要素をさらに備えている請求の範囲第1項のレーザ。 27.前記レーザがアルミニウムから成る内部本体を有する請求の範囲第1項 のレーザ。 28.前記アルミニウム製内部本体が硬被覆の陽極化膜を有する請求の範囲第 27項のレーザ。 29.前記RF電極が銀メッキ真鍮から成る請求の範囲第1項のレーザ。 30.前記誘電体板が機械加工可能な非導電性セラミックから成る請 求の範囲第1項のレーザ。 31.前記第1のRF電極がRF共振器に電気接続され、前記RF共振器がR F電源に電気接続されている請求の範囲第1項のレーザ。 32.前記第2のRF電極が電気的に接地されている請求の範囲第1項のレー ザ。 33.前記光学的共振器が光学的な円筒状テレスコープ式共振器で構成されて いる請求の範囲第1項のレーザ。 34.前記光学的共振器が追加の光学的接続を備えたを光学的な円筒状テレス コープ式共振器で構成されている請求の範囲第1項のレーザ。 35.前記テレスコープ式共振器が、光学的関係で配置された1つの円筒状凹 面鏡と1つの円筒状凸面出力鏡をさらに備えている請求の範囲第33項のレーザ 。 36.追加の光学的接続を備えたを前記テレスコープ式共振器が、すべて相互 に光学的関係で配置された扁平鏡、円筒状凹面鏡及び円筒状凸面出力鏡をさらに 備えている請求の範囲第34項のレーザ。 37.前記凹面及び凸面両鏡が円形輪郭を有している請求の範囲第35項のレ ーザ。 38.前記凹面及び凸面両鏡が放物線状輪郭を有している請求の範囲第35項 のレーザ。 39.前記凹面及び凸面両鏡が円形輪郭を有している請求の範囲第36項のレ ーザ。 40.前記凹面及び凸面両鏡が放物線状輪郭を有している請求の範囲第36項 のレーザ。 41.前記光学的共振器は、前記レーザビームが通過する光学的に透過性の出 力放射窓によって密封されている請求の範囲第33項のレーザ。 42.前記光学的共振器は、前記レーザビームが通過する光学的に透過性の出 力放射窓によって密封されている請求の範囲第34項のレーザ。 43.無線周波数放電レーザであって、 (a)入口冷却部、 (b)前記入口冷却部と流通連通し、約45度の角度で傾斜した偏向器を有す る入口レシーバ、 (c)前記入口冷却部を介して前記入口レシーバに入り、前記レーザを縦方向 に通過する気体媒体、 (d)前記入口レシーバと流通連通し、その下流側に位置したプレイオン化体 、 (e)前記入口レシーバと流通連通し且つその下流側に位置した超音波ノズル で、臨界区域と超音波区域を有しており、該臨界区域が前記入口レシーバに直接 隣接しているノズル、 (f)前記通過する気体媒体の両側にそれぞれ配置され、前記入口レシーバと 流通連通し且つその下流側に位置した第1及び第2の無線周波数(RF)電極、 (g)前記第1及び第2のRF電極を前記気体媒体から絶縁する第1及び第2 の誘電体板、 (h)前記超音波ノズルの超音波区域内の光学的共振器、 (i)前記超音波ノズルと流通連通し、その下流側に位置した超音波ディフュ ーザ、 (j)前記ディフューザと流通連通し且つその下流側に位置し、約45度の偏 向器を有するた出口レシーバ、 (k)前記出口レシーバと流通連通し、それに隣接する出口冷却部、及び (l)前記光学的共振器を透過して前記レーザの外へ出るレーザビーム、 を備えたレーザ。 44.前記プレイオン化体がプレイオン化グリッドから成る請求の範 囲第43項のレーザ。 45.前記プレイオン化グリッドが2つの無線周波数(RF)電極を含む請求 の範囲第44項のレーザ。 46.前記プレイオン化体が紫外線放射源を含む請求の範囲第43項のレーザ 。 47.前記無線周波数(RF)電極が相互に離間した対向する平面状RF電極 から成る請求の範囲第43項のレーザ。 48.前記RF電極が前記ノズルの臨界区域内に配置されている請求の範囲第 43項のレーザ。 49.前記RF電極が前記光学的共振器内に配置されている請求の範囲第43 項のレーザ。 50.前記RF電極が前記ノズルの臨界区域の下流側で、前記光学的共振器の 上流側に配置されている請求の範囲第43項のレーザ。 51.前記RF電極が水冷される請求の範囲第43項のレーザ。 52.前記紫外線放射源が1つの紫外線管球から成る請求の範囲第46項のレ ーザ。 53.前記プレイオン化体が前記レシーバの下流側に配置されている請求の範 囲第43項のレーザ。 54.前記プレイオン化体が前記ノズルの臨界区域内に配置されている請求の 範囲第43項のレーザ。 55.前記超音波ディフューザが上方排気チャネルと下方排気チャネルを形成 する中央要素を有している請求の範囲第43項のレーザ。 56.前記第1のRF電極がRF共振器と一体化され、これら第1のRF電極 と共振器が同軸RFケーブルによってRF電源に電気的に接続されている請求の 範囲第43項のレーザ。 57.前記第1のRF電極がRF共振器及びRF電力増幅器と一体化され、該 RF電力増幅器がDC電源と電源コントローラに電気的に接続 されている請求の範囲第43項のレーザ。 58.前記第2のRF電極が電気的に接地されている請求の範囲第43項のレ ーザ。 59.前記気体媒体が前記光学的共振器内で約0.1マッハから約5マッハの速 度を有する請求の範囲第43項のレーザ。 60.前記入口レシーバ内の気体圧が約50torrから約5000torrである請求の範 囲第43項のレーザ。 61.前記超音波ノズルが1から20の範囲の膨張係数を有する請求の範囲第 43項のレーザ。 62.前記RF電極内のRFプラズマが「アルファ」モードである請求の範囲 第43項のレーザ。 63.前記RF電極内のRFプラズマが「ガンマ」モードである請求の範囲第 43項のレーザ。 64.前記超音波ノズルの臨界区域が4から40mmの間の高さを有する請求の 範囲第43項のレーザ。 65.前記RF電極が約2から15cmの気体流長さを有する請求の範囲第43 項のレーザ。 66.前記レーザの内部にAlO3が積層されている請求の範囲第43項のレ ーザ。 67.前記レーザの内部に低級亜燐酸ニッケルが積層されている請求の範囲第 43項のレーザ。 68.前記レーザの内部に非導電性セラミックが積層されている請求の範囲第 43項のレーザ。 69.前記プレイオン化グリッドが、約3から4mmの間隔で相互に隔たった複 数の対向した平面状区分を有している請求の範囲第44項のレーザ。 70.前記第1及び第2の電極が少なくとも1対の離間して対向する 電極で構成され、該少なくとも1対の電極の各々が前記通過する気体媒体の周囲 に対向する関係で配置されている請求の範囲第43項のレーザ。 71.前記入口レシーバがタービンと流体連通している請求の範囲第43項の レーザ。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6636545B2 (en) 1996-09-26 2003-10-21 Alexander V. Krasnov Supersonic and subsonic laser with radio frequency excitation
US6198762B1 (en) * 1996-09-26 2001-03-06 Yuri Krasnov Supersonic and subsonic laser with RF discharge excitation
US5911832A (en) * 1996-10-10 1999-06-15 Eaton Corporation Plasma immersion implantation with pulsed anode
US6804285B2 (en) * 1998-10-29 2004-10-12 Canon Kabushiki Kaisha Gas supply path structure for a gas laser
US6377600B1 (en) 1999-06-03 2002-04-23 Trw Inc. Iodine monochloride/molecular iodine as the iodine source for COIL systems
US7154931B2 (en) * 2004-06-22 2006-12-26 Ksy Corporation Laser with Brayton cycle outlet pump
US20090285727A1 (en) * 2006-11-14 2009-11-19 Uri Levy Illumination unit for liquid disinfection systems
US8414779B2 (en) * 2006-11-14 2013-04-09 Atlantium Technologies Ltd. Method and apparatus for liquid disinfection using light transparent conduit
CN103922437B (zh) * 2006-11-14 2016-08-17 安特兰德技术有限公司 使用光透射导管进行液体消毒的方法和设备
KR101805372B1 (ko) * 2008-11-10 2017-12-07 코넬 유니버시티 자가-발전형 압전-표면 탄성파 장치 및 방법
WO2015149076A2 (en) * 2014-03-28 2015-10-01 Krasnov Alexander V Gas flow laser
US10619518B2 (en) * 2016-08-15 2020-04-14 Rolls-Royce North American Technologies Inc. Exhaust system with directed energy beam interference avoidance system
US11095088B1 (en) 2018-02-21 2021-08-17 Zoyka Llc Multi-pass coaxial molecular gas laser

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US29103A (en) * 1860-07-10 Lathe
US3543179A (en) * 1967-02-01 1970-11-24 Avco Corp Nitrogen laser action with supersonic flow
US3621461A (en) * 1969-09-09 1971-11-16 Us Army Self-pumped electroadiabatic laser
US3694770A (en) * 1970-12-18 1972-09-26 United Aircraft Corp Liquid fuel gas dynamic mixing laser
US3681710A (en) * 1971-05-21 1972-08-01 United Aircraft Corp Gas laser
US3748594A (en) * 1972-06-22 1973-07-24 Avco Corp Radio frequency electrically excited flowing gas laser
US4064465A (en) * 1973-05-30 1977-12-20 Westinghouse Electric Corporation Laser cavities with gas flow through the electrodes
US3946332A (en) * 1974-06-13 1976-03-23 Samis Michael A High power density continuous wave plasma glow jet laser system
FR2632462B1 (fr) * 1975-02-18 1992-01-03 Comp Generale Electricite Dispositif laser a flux gazeux
US4005374A (en) * 1975-03-31 1977-01-25 Xonics, Inc. Pulsed gas laser with low-inductance flow-through electrodes
US3998393A (en) * 1976-01-20 1976-12-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Supersonic diffuser
DE2608305C3 (de) * 1976-02-28 1981-03-26 Deutsche Aerospace AG, 80804 München Verfahren zum Anregen eines gasdynamischen Co↓2-Lasers bei hohen Stagnationstemperaturen und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens
US4136317A (en) * 1977-04-13 1979-01-23 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy 14 And 16 micron, optically pumped, gas dynamic CO2 laser
US4200819A (en) * 1977-09-21 1980-04-29 The Boeing Company Unitary supersonic electrical discharge laser nozzle-channel
US4206429A (en) * 1977-09-23 1980-06-03 United Technologies Corporation Gas dynamic mixing laser
US4194169A (en) * 1977-11-25 1980-03-18 Calspan Corporation Molecular laser operating on fundamental and overtone bands
US4237428A (en) * 1978-09-01 1980-12-02 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy 15.9 Micron acetylene laser
US4251781A (en) * 1979-01-22 1981-02-17 Hughes Aircraft Company Electric discharge-excited flowing gas laser with discharge confinement shield
DE3218875C2 (de) * 1981-06-11 1984-07-26 Messerschmitt-Bölkow-Blohm GmbH, 8000 München Gasdynamischer Laser
US4457000A (en) * 1982-03-03 1984-06-26 Rockwell International Corporation Shock wave suppressing flow plate for pulsed lasers
US4598406A (en) * 1985-01-18 1986-07-01 Texas Instruments Incorporated Pressure-wave cycled, repetitively pulsed gas laser
US4686681A (en) * 1985-08-01 1987-08-11 Hughes Aircraft Company Continuous wave-mid-infrared gas laser utilizing RF excitation
US4805182A (en) * 1986-04-30 1989-02-14 Synrad, Inc. RF-excited, all-metal gas laser
EP0294488B1 (en) * 1986-12-22 1993-03-24 Fanuc Ltd. High-frequency discharge-excited laser unit
JPH0787255B2 (ja) * 1986-12-23 1995-09-20 フアナツク株式会社 高周波放電励起レ−ザ装置
SU1674299A1 (ru) * 1987-01-28 1991-08-30 Научно-исследовательский центр по технологическим лазерам АН СССР Лазер на 3Р - 3 S-переходах неона
DE3884790T2 (de) * 1987-07-17 1994-01-27 Fanuc Ltd Durch hf-entladung angeregter laser.
US4837772A (en) * 1987-08-14 1989-06-06 Synrad, Inc. Electrically self-oscillating, rf-excited gas laser
JP2509638B2 (ja) * 1987-10-29 1996-06-26 ファナック株式会社 高周波放電励起レ―ザ装置
JP2644315B2 (ja) * 1989-01-23 1997-08-25 ファナック株式会社 高周波放電励起レーザ装置
DE3914923A1 (de) * 1989-05-06 1990-11-08 Heraeus Holding Entladungsvorrichtung
US5153892A (en) * 1990-01-24 1992-10-06 Hitachi, Ltd. High-pressure gas laser apparatus and method of laser processing
US5008894A (en) * 1990-03-30 1991-04-16 Synrad, Incorporated Drive system for RF-excited gas lasers
DE4028053C2 (de) * 1990-09-05 1994-08-18 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Gasdynamischer CO-Laser
DE4028054C2 (de) * 1990-09-05 2001-05-31 Deutsch Zentr Luft & Raumfahrt Gasdynamischer CO-Laser
DE4102123A1 (de) * 1991-01-25 1992-08-06 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Laengsgestroemter gaslaser
KR950013054B1 (ko) * 1991-04-23 1995-10-24 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤 방전여기가스레이저장치
JP2758730B2 (ja) * 1991-04-25 1998-05-28 三菱電機株式会社 放電励起パルスレーザ発振装置
US5313487A (en) * 1991-05-23 1994-05-17 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Discharge excitation gas laser apparatus

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Publication number Publication date
DE69633292D1 (de) 2004-10-07
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