JPH0918004A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH0918004A
JPH0918004A JP8083021A JP8302196A JPH0918004A JP H0918004 A JPH0918004 A JP H0918004A JP 8083021 A JP8083021 A JP 8083021A JP 8302196 A JP8302196 A JP 8302196A JP H0918004 A JPH0918004 A JP H0918004A
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terminal
semiconductor switch
potential
integrated circuit
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Udo John
ジョン ウド
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S G S THOMSON MICROELECTRON GmbH
SGS THOMSON MICROELECTRONICS
STMicroelectronics GmbH
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S G S THOMSON MICROELECTRON GmbH
SGS THOMSON MICROELECTRONICS
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/08Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage
    • H03K17/082Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage by feedback from the output to the control circuit
    • H03K17/0822Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage by feedback from the output to the control circuit in field-effect transistor switches
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K17/6871Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor
    • H03K17/6874Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor in a symmetrical configuration

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  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は半導体集積回路に利用できるもので
あり、それにより半導体集積回路の出力端子で最も低く
到達できるポテンシャルを増加することなく、寄生効果
に対する効率的な保護を提供することにある。 【構成】 半導体集積回路が第1の切り換えトランジス
タ(ST1)及び逆分極の第2の切り換えトランジスタ
との直列連結から接地端子(GND)に連結されている
出力端子(OUT)から構成され、前記それぞれの切り
換えトランジスタは寄生トランジスタを(PT1、PT
2)をもつ。第2の半導体切り換え手段(ST2)は導
電状態であるのかないのかどうかは、ゲート(G2)及
び第2の半導体切り換え手段(ST2)のソース(S
2)の間に連結されているレジスタを通る電流の流れに
よる。そして順番に出力端子(OUT)に存するポテン
シャルに相当するポテンシャルは基準ポテンシャル(R
P)にたとえられるという手段によりコンパレータ回路
(COM)のアウトプット信号により決定されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は可変半導体スイッチ手段
から成る半導体集積回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路は半導体スイッチ手段に
加えて、普通、制御回路を構成するたくさんの付加的回
路成分から成り、トランジスタは一般に半導体スイッチ
手段に使用する。例えば半導体回路の特定の作動状態の
もとで、ダイオード及びトランジスタのような寄生装置
の形態をもたらし、異なった導電率タイプの半導体接合
をもつPNPトランジスタ或いはVDMOS(垂直2重
拡散MOSの略)トランジスタは、半導体回路の誤った
作動をもたらす導電状態に到達する。
【0003】半導体集積回路の場合、望ましくない寄生
効果の結果に対しては対策を講じることが基本的に知ら
れている。EP 0 409 158 A1号には、例
えば自動車の表示灯のように付けたり消したりとロード
する集積された電気半導体スイッチ手段が記載されてい
る。この半導体のスイッチ手段の適切なスイッチ素子
は、切り換えられるロードに連結されているコレクタを
もつ二極トランジスタである。この二極トランジスタの
コレクタと集積回路の基板との間には、切り換えられる
ロードの端子が2極トランジスタに連結されず、自動車
のバッテリーの正のポテンシャルでなく負のポテンシャ
ルをもつ、例えバッテリーの良くない分極をもつ場合、
導電状態の到達する寄生ダイオードが形成されている。
そのような寄生ダイオードの導電状態は、スイッチ手段
の良くない電気的作動をもたさすだけでなく、半導体集
積回路の破壊をももたらす。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この最後のことを保護
するため、スイッチ手段はそのインプットの一つをもつ
コンパレータを与えており、そのインプットは二極回路
のコレクタに連結され、他のインプットは基準ポテンシ
ャルソースに連結されている。又、アウトプットは二極
トランジスタのベースに連結されており、このベースは
二極トランジスタに対して切り換え制御信号を受信す
る。ポテンシャルがロードに適用されている場合、二極
トランジスタのコレクタ電圧は、基準ポテンシャルに比
例してかなり降下し、二極トランジスタは逆に、コンパ
レータのアウトプット信号を通り導電状態にある。二極
トランジスタのコレクタでそのとき生じる飽和電圧のた
めに、望ましくない導電状態に対して寄生ダイオードを
保護するポテンシャルにセットされる。
【0005】上述の半導体のスイッチ手段において、そ
れを通してこの半導体回路の出力端子は低い或いは高い
ポテンシャルに切り換えられ、そこへ生じる寄生効果に
より、結果的には出力端子で望ましい特殊のポテンシャ
ルには到達しない。
【0006】そのような半導体回路の出力端子は、例え
ば母線に連結されており、それを通してそのような或い
は類似である多数の半導体集積回路が内部連結されてい
る。母線から送信されたデータパルスに従って、特定の
半導体回路の出力端子では、ある特定の瞬間、第1に例
えば論理値1に相当する高いポテンシャル、或いは第2
に例えば論理値0に相当する低いポテンシャルをもつこ
とが可能となる。その低いポテンシャルは普通、接地ポ
テンシャルである。もし、例えば半導体回路を考慮した
場合、半導体回路の接地端子と基準或いは接地ポテンシ
ャルの間の連結が中断されるならば、このことにより出
力端子に連結されている切り換えトランジスタの寄生ト
ランジスタは導電するようになり、それから表面的な接
地ポテンシャルよりもかなり高い正のポテンシャルが出
力端子に適用されるといった効果をもつようになる。そ
のとき母線はもはや、低いポテンシャルとデータの偽
造、そして不規則に連結された半導体回路を含む全シス
テムの機能的妨害が結果として生じさせる位置にない。
【0007】共通の母線に連結された出力端子をもつ様
々な半導体回路は普通、共通の地表線に連結されている
接地端子をもつ。全システムの異なる半導体集積回路間
の空間的距離(例えば自動車の電子工学分野においてか
なり大きい)のために、様々な半導体集積回路の接地端
子間に現れる電圧降下と共に相当なラインレジスタンス
は、様々な半導体集積回路の接地ポテンシャルにおいて
かなりの違いを生じる結果をもたらす。その結果とし
て、特定の半導体集積回路の出力端子は母線から特定の
半導体回路の接地ポテンシャルよりもかなり低い接地ポ
テンシャルへ適用される。この場合も又、出力端子に連
結されている切り換えトランジスタの寄生トランジスタ
は導電状態となり、母線に連結されている他の半導体集
積回路に対して、とても高い接地ポテンシャルに出力端
子と母線をもたらす。
【0008】出力端子と半導体集積回路の切り換えトラ
ンジスタ間にブロッキングダイオードを直列に連結さ
せ、出力端子が半導体集積回路の接地ポテンシャルと比
較してとても低いポテンシャルをとるとき、上記ブロッ
キングダイオードはブロック状態にすることにより、こ
の問題を解消するための試みが既に成されている。半導
体スイッチ手段の寄生トランジスタが出力端子で、とて
も低いポテンシャルのため導電状態に切り換えられると
き、半導体スイッチ手段はそれ自体導電していないが、
出力端子からの電流の流れは寄生トランジスタによりブ
ロックされている。
【0009】しかしながら、この解決には以下の不利な
点を含んでいる。つまり電圧を切り換えるダイオードに
少なくとも対応する電圧降下が出力端子と半導体スイッ
チ手段との間に何時でも存在してしまう。その結果、出
力端子におけるポテンシャルは半導体スイッチ手段の導
電状態のとき、望んだ低い値、例えば1V以下にも適合
されない。しかしながら、できる限り大きなSN比を得
るためにできる限り低いポテンシャルにすることは可能
である。
【0010】本発明はかかる事情により成されたもので
あり、本発明は従来タイプの半導体集積回路に利用でき
るものであり、それにより半導体集積回路の出力端子で
最も低く到達できるポテンシャルを増加することなく、
寄生効果に対する効率的な保護を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】これは本発明の以下の特
徴からなる半導体集積回路により達成される。 a) 電源電圧ポテンシャルを供給するための電源電圧
端子、基準ポテンシャルを供給するための接地端子、そ
して出力端子; b) 上記接地端子に連結されている最初の導電率タイ
プの基盤; c) 接地端子の側に配置され、制御できる第1の半導
体スイッチ手段と出力端子の側に配置され、制御できる
第2の半導体スイッチ手段を含んでいる上記出力端子と
上記接地端子との間に与えられる直列連結。又、上記半
導体スイッチ手段それぞれは第1のメインパス電極、第
2のメインパス電極そして制御電極をもち、基盤と第1
の導電率タイプに反して第2の導電率タイプのドープさ
れた(doped)範囲との間でpn接合に形成されて
いる寄生基盤ダイオードを含んでいるそれぞれは、pn
接合無しに特定の半導体スイッチ手段の第1のメインパ
ス電極に連結されており、第1のメインパス電極が、電
源電圧から見られるように基盤ダイオードの閾電圧を切
り換えることによって、ポテンシャル閾値を越えている
電気ポテンシャルをもつとき導電している。; d) 共通の回路接続点に互いに連結されている2つの
半導体スイッチ手段の第1のメインパス電極、接地端子
に連結されている第1の半導体スイッチ手段の第2のメ
インパス電極、そして出力端子に連結されている第2の
半導体スイッチ手段の第2のメインパス電極; e) 制御電極に内部連結している電気レジスタと第2
の半導体スイッチ手段の第2のメインパス電極、そして
そのようなレジスタではそこを通って最小の電流が流れ
るとき、電圧降下が第2の半導体スイッチ手段が導電状
態に切り換えられるという効果と共に上記レジスタに発
生する。 f) 第1の半導体スイッチ手段が導電状態に切り換え
られるとき、上記レジスタを通る少なくとも上記最小の
電流を導電する制御回路、そして電源電圧ポテンシャル
から見られるように即時の基準ポテンシャルを越えてブ
ロックしている閾値を出力端子ポテンシャルは越してお
り、レジスタを通って上記最小の電流の流れをブロック
している。
【0012】本発明の原理は第2の半導体スイッチ手段
が第1の半導体スイッチ手段と直列に連結されているこ
とにある。しかし第1の半導体スイッチ手段の端子の分
極と反対の端子の分極が現れる。そのために、電気レジ
スタは出力端子に連結されている第2の半導体スイッチ
手段のメインパス端子と制御端子の間に連結されてい
る。このレジスタを通る最小の電流をあらかじめ決めて
おく場合、電圧降下の原因によりレジスタを横切り第2
の半導体スイッチ手段が導電状態に切り換えられるとい
う結果となる。第2の半導体スイッチ手段が、第1の半
導体スイッチ手段の分極と反対の第1の半導体スイッチ
手段での分極をもつと共に、第1の半導体スイッチ手段
と直列に連結されているという事実により、第2の半導
体スイッチ手段の寄生トランジスタは半導体回路の出力
端子でポテンシャルにおける効果をもたない。信号イン
プットをもつ制御回路は共通の回路接続点に連結され、
上記電気レジスタに連結されている信号アウトプット
は、第1の半導体回路が導電状態に切り換えられるとき
第2の半導体スイッチ手段が作動中、十分高い電流をレ
ジスタに流すよう注意している。半導体回路に欠陥があ
る場合、第2の半導体スイッチ手段が明確に非導電状態
のままでレジスタを通り流れる電流はない。半導体集積
回路が作動しているとき、出力端子でのポテンシャルが
2つの半導体スイッチ手段の寄生トランジスタの導電状
態に到達できる範囲に到達しているかどうか閾値検出器
回路は永続的にモニターしている。閾値検出器回路が出
力端子でポテンシャル値を検出するとすぐに、第2の半
導体スイッチ手段を導電状態に切り換えるとき、最小の
電流はもはやレジスタを通り流れないといった影響をこ
の回路は及ぼす。又そのために、第2の半導体スイッチ
回路は非導電状態に切り換えられる。
【0013】本発明による手段では出力端子と直列に連
結されている半導体スイッチ手段の寄生効果は、出力端
子でポテンシャルにおける効果をもつことができず、そ
して第1の半導体スイッチ手段が導電状態にあるとき出
力端子に適用される最も低いポテンシャルは、従来の保
護回路で発生するようにダイオード電圧降下により増加
されない。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の実施例を図面を参照して
説明する。又、図1に示されている本発明の実施例を詳
細に説明する前に、本発明により克服した問題を図2及
び図3を参照して説明する。図2の概要回路図には、電
源電圧ポテンシャルの供給のために電源電圧端子Vsを
もつ半導体集積回路の部分及び制御信号に対する入力端
子IN、そして母線(図示せず)への連結が与えられて
いる出力端子OUTが示されている。この回路は更に、
接地ポテンシャルの供給のための接地端子GNDから成
っている。OUT及びGNDとの間には、接地端子側に
切り換えトランジスタの直列連結が与えられ、出力端子
側には第1のダイオードD1が与えられている。電源電
圧端子Vsはそこへ連結されている電源電圧線をもち、
それは第2のダイオードD2から成り、図2に詳細に示
されていない半導体集積回路の回路配置に連結されてい
る。
【0015】図2の回路実施例において、切り換えトラ
ンジスタSTはVDMOS(垂直2重拡散MOSの略)
トランジスタである。入力端子INを通し供給される制
御信号により、切り換えトランジスタSTは導電状態或
いは非導電状態のどちらかに切り換えられ、そのために
接地ポテンシャル或いは電源電圧ポテンシャルの範囲内
のポテンシャル或いはフラクション(fractio
n)のいずれかが、出力端子OUTに発生する。切り換
えトランジスタSTは、出力端子OUTに向けられたド
レーン端子D及び接地端子GNDに向けられたソース端
子S、そして入力端子INに向けられたゲート端子Gか
ら構成されている。図2に示されている回路では、Vs
に適用されている電源電圧ソースは接地端子GNDに関
して正のポテンシャルをもっている。
【0016】図3は、VDMOSトランジスタをもつ半
導体集積回路の概略断面の部分を示している。P導電
率の基盤11はその上に与えられているN導電率のエ
ピタキシャル(epitaxial)層13をもってい
る。基盤11から離れたその表面には中に拡散されてい
るN導電率タイプの4つの領域、即ちドレーン領域1
5、ソース領域17、19そして領域21がある。ソー
ス領域17及び19はP導電率の拡散領域23に固定さ
れている。基盤11とエピタキシャル層13の間の移行
領域にはN導電率の直埋層25がある。ドレーン領域
15及び直埋層25はN導電率の中間拡散領域27に
より互いに連結されている。直埋層25の両側にはP
導電率のそれぞれの絶縁拡散29及び31が与えられて
いる。基盤11から遠いエピタキシャル層13の表面
は、ドレーン領域15を含むドレーン電極35および拡
散領域23同様ソース領域17、19を含むソース電極
37、さらに上記N領域21を含む付加的電極39に
対する開極が与えられている絶縁層33で覆われてい
る。絶縁層33に近隣のエピタキシャル層13の表面部
分において、ソース領域17及び19と拡散領域23の
外側に配置されているエピタキシアル層13との間に、
拡散領域23の狭い側方部分41及び43だけがそれぞ
れ配置されている。これらの側方部分41及び43上
に、ゲート電極45、47がそれぞれに対して1個与え
られており、それは絶縁層33によりエピタキシャル層
13の表面と隔離されている。適当なソース−ゲート電
圧を適用すると、ポテンシャルが側方部分41及び43
の表面部分に逆転層を生じるゲート電極45、47が存
在し、それは電流の矢印Ιにより示されているように、
側方部分41、43を通りソース領域17、19から直
埋層25及びドレーン電極35への電流の流れを可能に
する。拡散領域23及びエピタキシャル層13の間のP
N半導体接合は図3に破線で示されているソース−ドレ
ーンダイオードを形成する。直埋層25及び基盤11の
間に基盤ダイオードSDが形成され、それはまた破線で
示されている。ドレーン電極35が、少なくとも基盤ダ
イオードSDのスイッチを入れた閾電圧により基盤11
に適用されているポテンシャルより低いポテンシャルを
もつとき、基盤ダイオードSDは導電している。
【0017】N拡散領域が電極に接触しているとき、電
極39に接触しているN領域21はVDMOSトラン
ジスタの絶縁拡散29及び31の外側に配置されてお
り、基盤ダイオードSDは図3では破線でPTとして示
されている寄生NPNトランジスタの部分となる。PT
のエミッタはドレーン領域15により構成され、上記遠
くの領域21及び基盤11は上記寄生トランジスタPT
のベースとして作動する。
【0018】出力端子OUTとドレーン電極35が基盤
ダイオードSDが導電している範囲にある基盤ポテンシ
ャル以下のポテンシャルをもつとき、この寄生トランジ
スタPTは導電しており、そのため遠くの電極39のポ
テンシャルは出力端子OUTを通して連結されている。
出力端子OUTはもつべきポテンシャルを維持する位置
にはない。
【0019】DMOS電界効果トランジスタ及び寄生効
果における付加的情報は、マックグロウヒル ブック
カンパニ−のパオロアントネッティによる「電力集積回
路:フィシックス、デザインアンドアプリケーション」
の3.8〜3.13頁及び4.19〜4.21頁で見る
ことができる。
【0020】例を図2に再び示す。上に示されている回
路構成要素に加えて、この図は破線の連結と共に図3の
連結ではっきりされた寄生トランジスタPTを示してお
り、基盤ダイオードによるベース−エミッタ間のパス構
成とダイオードD2のカソード側のN拡散領域にアクセ
スしているコレクタをもつ。最初に、出力端子OUTが
ダイオードD1によるものでなく、切り換えトランジス
タSTのドレーン端子に連結されていると仮定すると
き、少なくとも基盤ダイオードSDの前方の閾電圧によ
り、接地端子GNDに適用される接地ポテンシャル以上
の負であるポテンシャルを出力端子OUTがもつとき、
寄生トランジスタPTは導電である。その結果として、
ダイオードD2が導電のとき電源電圧端子Vsのポテン
シャル範囲にあるダイオードD2のカソード側のポテン
シャルは、寄生トランジスタPTから切り換えトランジ
スタSTのドレーン端子Dへ、そして出力端子OUTへ
連結されている。OUTに連結されている母線は、もは
や望ましい低いポテンシャルをもてず、母線に連結され
ている他の集積回路の故障或いは全システムの故障を引
き起こす。
【0021】既に上文(課題を解決するための手段)で
述べた提案によると、ダイオードD1はOUTとSTの
間に配置されている。OUTのポテンシャルがかなり低
くなるとき、このダイオードはブロックし、そのときP
Tを通る電流の流れを妨げる。そのため、後に出力端子
OUTを通してコレクタに適用される正のポテンシャル
を切り換えることができない。
【0022】STが導電状態のとき、OUTとSTのド
レーン端子の間に存するという前述の不利点がこれには
含まれている。その結果出力端子OUTでのポテンシャ
ルは1Vより低くなり得ない。様々な集積回路が互いに
より距離を離れたとき、前述の接地線レジスタのために
互いにおそらく約2V異なる接地ポテンシャルをもつた
め、付加ポテンシャルがOUTに連結されている母線で
十分安全なSN比を得るためにはとても高い電圧降下に
よりダイオードD1を通って引き起こされるOUTで増
加する。
【0023】図1に示した回路配置である本発明の実施
例は上述の問題を解消する。図1に示した本発明の実施
例では、接地端子側で第1の切り換えトランジスタST
1及び出力端子側での第2の切り換えトランジスタST
2の直列連結が出力端子OUTと接地端子GNDの間に
与えられている。ST1及びST2の2つのトランジス
タはそれぞれVDMOSトランジスタにより構成されて
いる。ST2はST1端子の分極と反対であるその端子
の分極と共に直列連結に挿入されている。そういう訳
で、両方の切り換えトランジスタST1及びST2のド
レーン端子D1及びD2は互いに連結され、ST1のソ
ース端子S1はGNDに連結され、ST2のソース端子
S2はOUTに連結されている。ゲート端子G1はST
1に対する切り換え制御信号が与えられている入力端子
INに連結されている。ST2のゲート端子G2とソー
ス端子S2の間の最小の電流の流れと共にST2の閾電
圧に切り換えているソース−ゲートの過度状態であるレ
ジスタRで作られるST2の実用的実施例では約1.5
Vである電圧降下である。図には切り換えトランジスタ
の両方が示され、その固有のソース−ドレーンダイオー
ドSDD1及びSDD2はそれぞれVDMOSトランジ
スタに平行に連結されているダイオードのように作動す
る。ST2端子で選択された分極のため、SDD2は図
2のダイオードD1と同じ分極をもつ。
【0024】切り換えトランジスタST1及びST2は
寄生トランジスタPT1及びPT2をもち、それらはそ
れぞれ図2及び図3で示されている。ST1の分極とは
反対のST2の分極のために寄生トランジスタPT2の
コレクタ側からST2のドレーン端子D2へ連結されて
いるポテンシャルは、出力端子OUTのポテンシャルに
効果は現れない。
【0025】図1に示される回路は、更にドレーン端子
D1及びD2共通の回路点Pに連結されている反転入力
をもつと共に、基準ポテンシャルソースRPに連結され
ている逆インプットをもつコンパレータCOMを構成し
ている。図1により回路配置は更に入力端子INに連結
されているあるインプットAと、コンパレータCOMの
アウトプットに連結されているもう一つのインプットB
をもつNANDゲート回路を構成している。NANDの
アウトプットはMOSトランジスタとして設計されてお
り、ST2のゲート端子G2に連結されているドレーン
端子D3をもつ切り換えトランジスタST3のゲート端
子G3に連結されている。ST3のソース端子S3はダ
イオードD2から電源電圧端子に連結されている。
【0026】コンパレータCOMは、ドレーン端子D1
及びD2に存するポテンシャルが基準ポテンシャルRP
より低くなるとき、あらかじめ定められたアウトプット
信号をアウトプットで伝える。つまり、出力端子OUT
でのポテンシャルがあらかじめ定められたポテンシャル
値より低くなるときはいつでも、コンパレータCOMは
そのような状態を示すアウトプット信号を伝える。
【0027】レジスタRのレジスタンスはそのように選
択され、切り換えトランジスタST3が導電状態である
とき、ST2を導電状態にするようなRを通る電圧降下
を伴い、電流はRを通り流れる。コンパレータCOM、
NANDゲート回路及び切り換えスイッチトランジスタ
ST3は、信号インプットを形成するコンパレータCO
Mの反転+入力及び信号アウトプットを形成する切り換
えトランジスタST3のドレーン端子と共に制御回路を
構成している。制御回路の信号インプットは回路点Pに
連結され、信号アウトプットはレジスタRに連結されて
いる。
【0028】以下により、図1に示される回路の作動形
態を説明する。接地ポテンシャルに関して、電源電圧端
子Vsに適用されている正のポテンシャルで見ると、接
地端子GNDは0Vのポテンシャルをもつはずであるこ
とが想定される。
【0029】論理値0での制御信号が入力端子INに存
するとき、ST1は非導電状態にある。その結果、レジ
スタRから供給される電流はなく、同様にST2も非導
電状態となっている。ST1及びST2の非導電状態の
ために、接地ターミナルGNDに存するポテンシャルは
出力端子OUTに連結されない。2つのソース−ドレー
ンダイオードSDD1及びSDD2は本質的に切り換え
トランジスタST1及びST2に存し、それぞれのうち
少なくとも1つは出力端子OUTでのポテンシャルにか
かわりなくブロックされる。アウトでの出力端子ポテン
シャルがGNDでの接地ポテンシャルに関して正である
とき、SDD1はブロックする。SDD1が導電で出力
端子ポテンシャルが、ある値以下まで降下する場合、S
DD2はブロックする。OUTとGNDとの間の導電連
結の欠如により、GNDでのアウトプットポテンシャル
は母線から母線システムの他のコンポーネントにより供
給されるポテンシャルによってのみ決定される。
【0030】入力端子INがトランジスタST1を導電
状態に切り換える高いポテンシャル値の論理信号1を供
給することにおいて、電圧分割点を与える2つの切り換
えトランジスタST1及びST2の間の導電接続点で適
用されているポテンシャルをもつ出力端子OUTは、基
準ポテンシャルRPより高いポテンシャルを引き起こ
す。これらの状況下で、コンパレータCOMはアウトプ
ット信号として論理値1を伝える。それから、論理値1
はNANDの2つのインプットA及びBに存し、そのた
め論理値0はNANDのアウトプットから切り換えトラ
ンジスタST3に供給される。ST3もまた導電状態に
ある。その結果、切り換えトランジスタST2を同様に
導電状態に切り換えるために十分な電圧降下に導くレジ
スタRを電流が流れる。2つの切り換えトランジスタS
T1及びST2から成るOUTとGNDとの間の直列連
結は導電状態にあり、接地端子GNDに存する接地ポテ
ンシャルは出力端子OUTに供給される。本質的に切り
換えトランジスタST1及びST2を含んでいるソース
−ドレーンダイオードSDD1及びSDD2は、ST1
に関してST2の逆分極のため、逆分極と直列で連結さ
れそれぞれは導電切り換えトランジスタST1及びST
2により短絡され、そしてそれぞれは効果をもたない。
【0031】ST2、ST3及びRを構成する保護回路
の保護が必要である事に対して、以下の3つのケースに
よりはっきりするだろう。 1. 半導体集積回路における機能的破壊。 2. GNDポテンシャル破壊。 3. 半導体回路の接地ポテンシャルに関してとても低
い出力端子ポテンシャル。
【0032】ケース1に関して 半導体集積回路に関して機能面における物質的破壊の場
合、ST3は非導電であり、そのため切り換えトランジ
スタST2での切り換えに適用される電流はレジスタR
を流れない。OUTとGNDとの間の連結はブロックさ
れたままである。
【0033】ケース2に関して 例えば半導体集積回路の接地端子を導く接地に欠点があ
るため、GNDポテンシャル破壊が生じる場合、半導体
集積回路の接地ポテンシャルが浮動状態、例えば不明瞭
な状態となる。出力端子OUTに存するポテンシャル
は、半導体集積回路の浮動接地ポテンシャルに関して、
とても低いので連結接続点Pでの部分的ポテンシャルは
基準ポテンシャルより低くなる。NANDのアウトプッ
トでの論理値1及びST3のブロックを伴いながら、論
理値0はコンパレータCOMのアウトプットで現れる。
レジスタRを流れる電流はそれにより阻止され、ST2
を非導電状態にする。寄生トランジスタPT2に対して
コレクタを形成しているN導電領域を構成しているカソ
ード側D2における正のポテンシャル或いは半導体集積
回路の他の回路構成は、例えST2の基盤ダイオードS
D2と寄生トランジスタPT2が導電であっても、ST
2のブロックのために出力端子OUTに連結され得な
い。ST2の逆分極SDD2からOUTに到達しない。
【0034】ケース3に関して 母線から半導体集積回路の出力端子OUTへ連結された
もう一つの半導体集積回路のそれぞれの接地ポテンシャ
ルよりも高いそれぞれの接地ポテンシャルをもつ半導体
集積回路の場合、例えば2つの半導体集積回路に内部連
結している接地線での上述の電圧降下のために、ポテン
シャルは半導体集積回路の接地端子GNDでのそれぞれ
の接地ポテンシャルより低い出力端子に適用されること
も起こる。この場合も又連結接続点Pでの部分的なポテ
ンシャルはケース2と同じ結果で、基準ポテンシャルR
Pの値以下に降下する。ST3及びST2はスイッチオ
フされ、SDD2はブロックし、そして端子GNDでの
それぞれの接地ポテンシャル、寄生トランジスタPT1
そして/或いは寄生トランジスタPT2からドレーン端
子D1、D2に到達する正のポテンシャル両方とも出力
端子OUTに達することができない。
【0035】上述した実施例では、その中にVDMOS
トランジスタの寄生効果に対して保護が達せられてい
る。しかしながらそのような寄生効果が他のトランジス
タタイプ、例えば二極のNPNトランジスタにおいても
起こる。本発明による回路は、このような場合にも保護
を与える。
【0036】図1による実施例には、電源電圧が半導体
集積回路の接地ポテンシャルに関して肯定的である場合
が述べられている。本発明による保護方法も又、逆分極
が使用されるとき、例えば接地ポテンシャルに関して否
定的電源電圧が使用されるとき適用できる。その場合、
切り換えトランジスタST1〜ST2が使用され、その
導電タイプはST1に関して逆分極で連結されているS
T2と共に、図1に与えられる切り換えトランジスタの
それとは逆となる。
【0037】本出願による保護回路は、特に自動車の電
子工学に適用できる。自動車の電子工学に関して存する
悪い状況下で、GND或いは接地の阻止のような問題が
簡単に起こる。同じ母線システムに配置されている集積
回路間に存する大きい距離のためにそれぞれの半導体集
積回路から離れた距離を保たれているそれぞれの接地ポ
テンシャルの共通の違いは、自動車の電子工学の分野で
は重要である。
【0038】
【発明の効果】本発明の回路はEMI保護(電気磁気の
干渉に対しての保護)として利点を示している。正方向
での両方の干渉パルスの場合、半導体集積回路のそれぞ
れの接地ポテンシャルにおいて効果をもち、外側から特
定の半導体集積回路の出力端子OUTに達する負の干渉
パルスの場合、本発明による保護的作用が効果的とな
る。本発明による回路も又、バッテリーの誤って分極し
た連結に対して保護が与えられ、その中で接地端子GN
Dに適用されているポテンシャルよりもかなり低いポテ
ンシャルが出力端子OUTに到達する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体集積回路の実施例の概要回
路図を示す。
【図2】従来の回路部分を概要表示したものである。
【図3】半導体集積回路においての寄生効果を解明する
ため示したものである。
【符号の説明】
11、 基盤 13、 エピタキシアル層 15、 ドレーン領域 17、 ソース領域 23、 拡散領域 25、 直埋層 35、 ドレーン電極 37、 ソース電極 45、47 ゲート電極

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 a) 電源電圧ポテンシャルを供給する
    ための電源電圧端子(Vs),基準ポテンシャルを供給
    するための接地端子(GND)及び出力端子(OUT)
    を備えており; b) 前記接地端子(GND)に連結されている第1の
    導電率タイプの基盤を備えており; c) 前記出力端子(OUT)と前記接地端子(GN
    D)との間に与えられ、前記接地端子側に配置されてい
    る制御可能な第1の半導体スイッチ手段(ST1)及び
    前記出力端子側に配置されている制御可能な第2の半導
    体スイッチ手段(ST2)を含んでいる直列連結であ
    り、前記第1及び第2の半導体スイッチ手段は、それぞ
    れ第1のメインパス電極(D1、D2),第2のメイン
    パス電極(S1、S2)及び制御電極(G1、G2)を
    具備し、又それぞれ基盤(11)と前記第1の導電率タ
    イプと逆の第2の導電率タイプのドープされている(d
    oped)領域(25)との間のpn接合により形成さ
    れている寄生的な基盤ダイオード(SD)を含んでお
    り、又それぞれpn接合以外は特定の半導体スイッチ手
    段の前記第1のメインパス電極(D1、D2)に連結さ
    れており、前記第1のメインパス電極(D1、D2)が
    電源電圧ポテンシャルから見られるように前記基盤ダイ
    オード(SD)のスイッチング・オン閾電圧によって少
    なくともポテンシャル閾値を越え瞬間的な基準ポテンシ
    ャルを越す電気的ポテンシャルをもつときも含んでお
    り; d) 前記第1及び第2の半導体スイッチ手段(ST1
    及びST2)の第1のメインパス電極(D1、D2)は
    互いに連結され、前記第1の半導体スイッチ手段(ST
    1)の第2のメインパス電極(S1)は前記接地端子
    (GND)に連結され、前記第2の半導体スイッチ手段
    (ST2)の第2のメインパス電極(S2)は前記出力
    端子(OUT)に連結されており; e) 制御電極(G2)を内部連結している電気的レジ
    スタ(R)及び前記第2の半導体スイッチ手段(ST
    2)の第2のメインパス電極(S2)、又レジスタンス
    がそこを通る最小の電流が流れるとき前記第2の半導体
    スイッチ手段(ST2)が導電状態に切り換えられると
    共に、電圧降下が前記レジスタ(R)で生じるようにな
    っており; f) 前記第1の半導体スイッチ手段(ST1)が導電
    状態にあるとき、制御回路(COM、NAND、ST
    3)は前記レジスタ(R)を通り少なくとも前記最小の
    電流で導電しており、又前記出力端子のポテンシャルは
    電源電圧ポテンシャルから見られるように瞬間的な基準
    ポテンシャルを越えてブロックしている閾値まで広がる
    ようになっている;ことを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 前記制御回路(COM、NAND、ST
    3)が、前記ブロックしている閾値に到達することを検
    出する閾検出回路を備えている請求項1に記載の半導体
    集積回路。
  3. 【請求項3】 前記第1の半導体スイッチ手段(ST
    1)が第1のVDMOSトランジスタにより構成され、
    前記第2の半導体スイッチ手段(ST2)が第2のVD
    MOSトランジスタにより構成され、前記第1のメイン
    パス電極がドレーン電極(D1、D2),ソース電極
    (S1、S2)による第2のメインパス電極及びゲート
    電極(G1、G2)による制御電極により構成されてい
    る請求項1又は2に記載の半導体集積回路。
  4. 【請求項4】 前記第1及び第2のVDMOSトランジ
    スタ(ST1、ST2)がそれぞれPチャンネルVDM
    OSトランジスタにより構成されており、電源電圧ポテ
    ンシャルは基準ポテンシャルに関して正であり、結合さ
    れている前記第1及び第2のVDMOSトランジスタの
    ドレーン電極(D1、D2)が前記基盤ダイオード(S
    D)のスイッチング・オン閾電圧によって少なくとも瞬
    間的な基準ポテンシャルよりも低いポテンシャルにある
    とき、寄生的な前記基盤ダイオード(SD)は導電して
    おり、そしてその中で前記閾検出回路(COM)は、前
    記出力端子のポテンシャルが想定した量を越えて瞬間的
    な基準ポテンシャルより低い閾値以下に降下するとき、
    前記レジスタ(R)を通る最小の電流の流れをブロック
    するようになっている請求項3に記載の半導体集積回
    路。
  5. 【請求項5】 前記第1の半導体スイッチ手段(ST
    1)が第1のNPNトランジスタにより構成され、前記
    第2の半導体スイッチ手段(ST2)が第2のNPNト
    ランジスタにより構成されており、前記第1のメインパ
    ス電極(D1、D2)がそれぞれのコレクタ,前記第2
    のメインパス電極(S1、S2)がそれぞれのエミッ
    タ,前記制御電極(G1、G2)がそれぞれのベース電
    極により構成されている請求項1に記載の半導体集積回
    路。
  6. 【請求項6】 前記出力端子(OUT)が母線ターミナ
    ルにより構成されている請求項1乃至5のいずれか1つ
    に記載の半導体集積回路。
  7. 【請求項7】 前記制御回路が;制御端子(G3)が与
    えられ、前記電源電圧端子(Vs)と前記第2の半導体
    スイッチ手段(ST2)の制御端子(G2)との間に連
    結されているそのメインパス(S−D)をもつ第3の半
    導体スイッチ手段(ST3)と;反転入力(−)及び非
    反転入力(+)が与えられ、ブロックしている閾値を決
    めている基準ポテンシャルソース(RP)に連結されて
    いる反転入力(−)をもち、前記第1及び第2の半導体
    スイッチ手段(ST1、ST2)の間の連結接続点
    (P)に連結されている非反転入力(+)をもち、更に
    前記第3の半導体スイッチ手段(ST3)の制御端子
    (G3)に連結されているアウトプットをもっているコ
    ンパレータ回路(COM)と;から構成されており、前
    記連結接続点(P)が少なくとも基準ポテンシャルに降
    下したとき、前記コンパレータ回路(COM)のアウト
    プット信号により前記第3の半導体スイッチ手段(ST
    3)が非導電状態に切り換えられるようになっている請
    求項1乃至6のいずれか1つに記載の半導体集積回路。
  8. 【請求項8】 2つのインプット(A、B)をもつNA
    NDゲート回路が前記コンパレータ回路(COM)のア
    ウトプットと前記第3の半導体スイッチ手段(ST3)
    の制御端子(G3)との間に配置されており、一方のイ
    ンプット(B)が前記コンパレータ回路(COM)のア
    ウトプットに連結され、他方のインプット(A)が前記
    第1の半導体スイッチ手段(ST1)に対して切り換え
    制御信号が与えられている半導体集積回路の入力端子
    (IN)に連結され、アウトプットが前記第3のスイッ
    チ手段(ST3)の制御インプット(G3)に連結され
    ている請求項7に記載の半導体集積回路。
  9. 【請求項9】 前記第3の半導体スイッチ手段(ST
    3)が、前記電源電圧端子(Vs)に連結されているソ
    ース(S3),前記第2の半導体スイッチ手段(ST
    2)の制御端子(G2)に対するドレーン(D3)及び
    前記NANDゲート回路のアウトプットに対するゲート
    (G3)をもつMOSトランジスタにより構成されてい
    る請求項7又は8に記載の半導体集積回路。
  10. 【請求項10】 前記第3の半導体スイッチ手段(ST
    3)が、前記電源電圧端子(Vs)に連結されたコレク
    タ,前記第2の半導体スイッチ手段(ST2)の制御端
    子(G2)に対するエミッタ及び前記NANDゲート回
    路のアウトプットに対するベースをもつNPNトランジ
    スタにより構成されている請求項5乃至8のいずれか1
    つに記載の半導体集積回路。
  11. 【請求項11】 前記MOSトランジスタのソース(S
    3)或いは前記NPNトランジスタのコレクタが、それ
    ぞれ前記電源電圧端子(Vs)に連結されているアノー
    ド側をもつダイオード(D2)のカソード側に連結され
    ている請求項9又は10に記載の半導体集積回路。
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